JP2009543863A - 改良触媒組成物を用いた直接エポキシ化方法 - Google Patents

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Abstract

チタンまたはバナジウムゼオライト、パラジウムおよび鉛を含む触媒の存在下で、オレフィン、水素および酸素を反応させることを含むエポキシドの製造方法。この方法では、オレフィンの水素化により生成されるアルカン副生成物を著しく低減する。

Description

本発明は、触媒の存在下でオレフィン、水素および酸素を反応させることを含む、エポキシ化方法に関する。この触媒は、チタンまたはバナジウムゼオライト、パラジウムおよび鉛を含む。驚くべきことに、本方法は、鉛を含まない同様の触媒系と比べて、オレフィンの水素化によって形成される望ましくないアルカン副生成物に対する選択性が低い。
エポキシドを調製する多くの異なる方法が開発されている。一般に、エポキシドは触媒存在下でオレフィンを酸化剤と反応させることによって生成される。プロピレンおよびエチルベンゼンヒドロペルオキシドまたはtert−ブチルヒドロペルオキシドなどの有機ヒドロペルオキシド酸化剤からの酸化プロピレンの生成は、工業的に実施されている技術である。この方法は、可溶化モリブデン触媒(米国特許第3,351,635号参照)の存在下で行うか、または不均一チタニア担持シリカ触媒(米国特許第4,367,342号参照)の存在下で行われる。別の商業的に実施されている技術は、エチレンを銀触媒上で酸素と反応させることによりエチレンオキシドにする、直接エポキシ化である。残念ながら、高級オレフィンの商業的エポキシ化において、銀触媒が有用であることは立証されていない。
酸素およびアルキルヒドロペルオキシドに加えて、エポキシドの生成に有用な他の酸化剤は、過酸化水素である。例えば、米国特許第4,833,260号、4,859,785号および4,937,216号は、チタンケイ酸塩触媒の存在下における、過酸化水素を用いたオレフィンのエポキシ化を開示している。
多くの最新の研究は、酸素および水素を用いたオレフィンの直接エポキシ化において実施されている。この方法では、酸素および水素がその場で反応して酸化剤を生成すると考えられている。高級オレフィンの直接エポキシ化で用いる多くの異なる触媒が提案されている。通常、触媒は、チタノシリケートに担持されている貴金属を含む。例えば、日本特許出願公開4-352771号は、結晶性チタノシリケート上のパラジウムなどの第VIII族金属を含む触媒を使用する、プロピレン、酸素および水素からのプロピレンオキシドの生成について開示している。第VIII族金属は、その場での酸化剤である過酸化水素を生成する酸素および水素の反応を促進させると考えられている。米国特許第5,859,265号は、Ru、Rh、Pd、Os、IrおよびPtから選択される白金族金属が、チタンまたはバナジウムシリカライトに担持された触媒を開示している。他の直接エポキシ化触媒の例には、金担持チタノシリケート、例えば、PCT国際出願WO98/00413号参照がある。
上述した直接エポキシ化触媒の1つの欠点は、エポキシド生成物の開環により形成されるグリコールもしくはグリコールエーテル、またはオレフィンの水素化により形成されるアルカン副生成物などの選択していない副生成物を生成しやすいことである。米国特許第6,008,388号は、水酸化アンモニウムなどの窒素化合物を反応混合物に添加することによって、貴金属で修飾したチタンゼオライト触媒の存在下におけるオレフィン、酸素および水素の反応に対する選択性を向上させた、直接エポキシ化方法について記述している。米国特許第6,399,794号は、開環した副生成物の生成を低減させるための、重炭酸アンモニウム修飾剤の使用を教示している。米国特許第6,005,123号は、プロパンの生成を低減させるための、トリフェニルホスフィンまたはベンゾチオフェンなどのリン、硫黄、セレンまたはヒ素系修飾剤の使用を教示している。
どの化学方法とも同様に、エポキシ化方法および触媒のさらなる改良を達成することが望ましい。本発明者らは、エポキシ化触媒を生成するための効果的で便利な方法およびオレフィンのエポキシ化におけるその使用を見出した。
本発明は、チタンまたはバナジウムゼオライト、パラジウムおよび鉛を含む触媒の存在下で、オレフィン、酸素および水素を反応させることを含む、オレフィンのエポキシ化方法である。驚くべきことに、この方法は、オレフィンの水素化により生成されるアルカン副生成物を著しく減らす。
本発明の方法は、チタンまたはバナジウムゼオライト、パラジウムおよび鉛を含む触媒を用いる。チタンまたはバナジウムゼオライトは、モレキュラーシーブの格子骨格内のケイ素原子の一部がチタンまたはバナジウム原子で置換された種類のゼオライト物質を含む。こうした物質およびその製造は、当技術分野でよく知られている。例えば、米国特許第4,410,501号および4,666,692号を参照されたい。
適切なチタンまたはバナジウムゼオライトは、骨格内に置換したチタンまたはバナジウム原子を含む多孔質のモレキュラーシーブ構造を有する結晶性物質である。使用するチタンまたはバナジウムゼオライトの選択は、エポキシ化するオレフィンの大きさおよび形を含む、多くの因子によるであろう。例えば、オレフィンが、エチレン、プロピレン、または1−ブテンなどの低級脂肪族オレフィンである場合、チタンシリカライトなどの比較的小さい孔のチタンまたはバナジウムゼオライトを使用することが好ましい。オレフィンがプロピレンの場合、TS−1チタンシリカライトの使用が特に有利である。シクロヘキサンなどの大きいオレフィンの場合、ゼオライトβと同形の構造を有するゼオライトなどの大きな孔のチタンまたはバナジウムゼオライトが好ましいことがある。
特に好ましいチタンまたはバナジウムゼオライトとしては、一般にチタンシリカライトと呼ばれる種類のモレキュラーシーブ、特に、「TS−1」(ZSM−5アルミノシリケートゼオライトと類似したMFIトポロジーを有する)、「TS−2」(ZSM−11アルミノシリケートゼオライトと類似したMELトポロジーを有する)および「TS−3」(ベルギー特許第1,001,038号に記載)が挙げられる。ゼオライトβ、モルデナイド、ZSM−48およびZSM−12、MCM−41と同形の骨格構造を有するチタン含有モレキュラーシーブも使用に適している。チタンゼオライトは、格子骨格内に、チタン、ケイ素および酸素以外の元素を含まないことが好ましいが、少量のホウ素、鉄、アルミニウム、ナトリウム、カリウム、銅などが存在してもよい。
好ましいチタンゼオライトは、一般に次の実験式、xTiO2(1−x)SiO2(xは0.0001および0.5000の間である)に相当する組成を有する。より好ましくは、xの値は0.01〜0.125である。ゼオライトの格子骨格内のSi:Tiのモル比は、有利には、9.5:1〜99:1(最も好ましくは、9.5:1〜60:1)である。比較的にチタンに富んだゼオライトの使用も望ましい。
本発明の方法で使用される触媒は、場合により担体を含む。担体は、好ましくは多孔質物質である。担体は当技術分野でよく知られている。例えば、担体としては、無機酸化物、クレー、炭素および有機ポリマー樹脂でよい。好ましい無機酸化物は、第2、3、4、5、6、13、または14族元素の酸化物挙げられる。特に好ましい無機酸化物担体としては、シリカ、アルミナ、シリカ−アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化モリブデン、酸化タングステン、非晶質チタニア−シリカ、非晶質ジルコニア−シリカ、非晶質ニオビア−シリカなど挙げられる。担体は、ゼオライトでよいが、チタンまたはバナジウムゼオライトではない。好ましい有機ポリマー樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−ジビニルベンゼンコポリマー、橋かけポリエチレンイミンおよびポリベンズイミジゾール挙げられる。適切な担体としては、ポリエチレンイミン−シリカなど、無機酸化物担体にグラフトされた有機ポリマー樹脂も挙げられる。好ましい担体は炭素も含む。特に好ましい担体としては、炭素、シリカ、シリカ−アルミナ、チタニア、ジルコニアおよびニオビアが挙げられる。
担体の表面積は、好ましくは約1〜約700m2/g、最も好ましくは約10〜約500m2/gの範囲である。担体の細孔容積は、好ましくは約0.1〜約4.0mL/g、より好ましくは約0.5〜約3.5mL/g、最も好ましくは約0.8〜約3.0mL/gの範囲である。担体の平均粒径は、好ましくは約0.1〜約500μm、より好ましくは約1〜約200μm、最も好ましくは約10〜約100μmの範囲である。平均細孔径は、通常、約10〜約1000Å、好ましくは約20〜約500Å、最も好ましくは約50〜約350Åの範囲である。
本発明の方法で使用する触媒は、パラジウムおよび鉛も含む。パラジウムおよび鉛は、様々な方法で触媒に添加してもよい。(1)パラジウムおよび鉛の両方をチタンまたはバナジウムゼオライトに担持させてもよく、(2)パラジウムおよび鉛の両方を担体に担持させ、それからチタンまたはバナジウムゼオライトと混合して触媒を形成させてもよく、(3)パラジウムをチタンまたはバナジウムゼオライトに組み込み、鉛を担体に担持させ、それから混合して触媒を形成してもよく、(4)鉛をチタンまたはバナジウムゼオライトに組み込み、パラジウムを担体に担持させ、それから混合して触媒を形成してもよく、(5)パラジウムをチタンまたはバナジウムゼオライトに組み込み、それから不溶性鉛塩と混合して触媒を形成してもよい。
触媒に存在するパラジウムの通常量は、約0.01〜20重量%、好ましくは0.01〜5重量%の範囲であろう。触媒にパラジウムを組み込む方法は、特に重要とは考えられていない。例えば、含浸によってパラジウムをチタンもしくはバナジウムゼオライトまたは触媒に担持させてもよく、または、例えば、パラジウムテトラアミンクロライドとのイオン交換によって、チタンもしくはバナジウムゼオライトまたは触媒に担持させてもよい。
パラジウム源として使用するパラジウム化合物の選択については、特に制限はない。例えば、適切な化合物としては、パラジウムの硝酸塩、硫酸塩、ハロゲン化物(例えば、塩化物、臭化物)、カルボン酸塩(例えば、酢酸塩)およびアミン錯体が挙げられる。同様に、パラジウムの酸化状態も重要とは考えられていない。パラジウムは、酸化状態0〜+4のいずれか、またはこうした酸化状態のいずれの組合せをとってもよい。所望の酸化状態または酸化状態の組合せを得るためには、触媒に添加した後に、パラジウム化合物を完全にまたは部分的に予備還元してもよい。しかしながら、まったく予備還元することなく十分な触媒性能を得ることができる。パラジウムの活性状態を得るために、触媒は、窒素、真空、水素、または空気中で熱処理などの前処理を行ってもよい。
本発明の方法で使用する触媒は鉛も含む。触媒に存在する鉛の通常量は、約0.001〜10重量%、好ましくは0.001〜2重量%の範囲である。好ましくは、触媒中のパラジウムと鉛の重量比は1〜100の範囲である。触媒中の鉛源として使用する鉛化合物の選択は重要でないが、適切な化合物としては、鉛のカルボン酸塩(例えば、酢酸塩)、ハロゲン化物(例えば、塩化物、臭化物、ヨウ化物)、硝酸塩、シアン化物および硫化物が挙げられる。パラジウム添加の前、最中、または後に、鉛をチタンまたはバナジウムゼオライトに添加してよく、パラジウムを導入すると同時に鉛助触媒を加えることが好ましい。鉛を触媒に組み込むための任意の適切な方法が使用できる。パラジウム添加と同様に、含浸によって鉛をチタンまたはバナジウムゼオライトもしくは触媒に担持させてもよい。鉛の組み込みには、インシピエントウェットネス法も使用できる。
触媒は、金、白金、銀およびロジウムを含む他の貴金属をさらに含んでよい。特に、金が好ましい。触媒中の追加の貴金属の通常量は、約0.01〜10重量%、好ましくは、0.01〜2重量%の範囲である。触媒中の貴金属源として使用する貴金属化合物の選択は重要でないが、適切な化合物としては、貴金属のハロゲン化物(例えば、塩化物、臭化物、ヨウ化物)、酸化物、シアン化物および硫化物と、場合により塩基で処理した四塩化金酸などのより複雑な種類も挙げられる。パラジウム添加の前、最中、または後に、貴金属をチタンまたはバナジウムゼオライトまたは担体に添加してよい。金を触媒に組み込むための任意の適切な方法が使用できる。パラジウム添加と同様に、含浸、インシピエントウェットネス法によって、または析出沈殿法によって、金をゼオライトに担持させることができる(金化合物について米国特許第5,623,090号に記載)。
パラジウム、任意選択の貴金属および鉛を組み込んだ後、触媒を分離する。適切な触媒分離法は、濾過および洗浄、回転蒸発などを含む。エポキシ化に使用する前に、通常、触媒を約50℃を超える温度で乾燥する。乾燥温度は、好ましくは約50℃〜約200℃である。触媒は、さらにバインダーなどを含んでよく、エポキシ化に使用する前に、成型、噴霧乾燥、所望の形に成形または押し出してよい。
触媒を形成した後、場合により、触媒を窒素、ヘリウム、真空、水素、酸素、空気などのガス中で熱処理してもよい。熱処理温度は、通常、約20℃〜約800℃である。酸素含有ガスの存在下で、約200℃〜650℃の温度で触媒を熱処理し、場合により、水素含有ガスの存在下で、約20℃〜600℃の温度で、担持触媒を還元することが好ましい。
本発明のエポキシ化方法は、触媒の存在化で、オレフィン、酸素および水素を接触させることを含む。適切なオレフィンには、少なくとも1つの炭素−炭素二重結合および通常、2〜60個の炭素原子を有するいずれのオレフィンも含まれる。好ましくは、オレフィンは、2〜30個の炭素原子の非環式アルケンである。本発明の方法は、C2〜C6のオレフィンのエポキシ化に特に適している。例えば、ジエンまたはトリエン中のように、1つを超える二重結合が存在してもよい。オレフィンは炭化水素(すなわち、炭素原子および水素原子だけを含む)でよく、または、ハロゲン化物、カルボキシル、ヒドロキシル、エーテル、カルボニル、シアノ、もしくはニトロ基などの官能基を含んでもよい。本発明の方法は、プロピレンを酸化プロピレンに転換するのに特に有用である。
酸素および水素もエポキシ化方法に必要である。いずれの酸素および水素源も適しているが、分子状酸素および分子状水素が好ましい。
本発明によるエポキシ化は、所望のオレフィンエポキシ化を達成するために有効な温度、好ましくは、0〜250℃、より好ましくは20〜100℃の温度範囲で実施される。水素と酸素のモル比は、通常、H2:O2=1:10〜5:1の範囲で変えることができるが、1:5〜2:1で特に好都合である。酸素とオレフィンのモル比は通常2:1〜1:20であり、好ましくは、1:1〜1:10である。キャリアガスもエポキシ化方法で使用してもよい。キャリアガスとして、任意の所望の不活性ガスを使用することができる。オレフィンとキャリアガスのモル比は、通常100:1〜1:10、特に20:1〜1:10の範囲である。
不活性キャリアガスとしては、窒素および二酸化炭素に加えて、ヘリウム、ネオンおよびアルゴンなどの希ガスが適している。炭素原子1〜8個、特に1〜6個、好ましくは1〜4個の飽和炭化水素、例えば、メタン、エタン、プロパンおよびn−ブタンも適している。窒素および飽和C1〜C4炭化水素が、好ましい不活性キャリアガスである。列挙した不活性キャリアガスの混合物も使用できる。
特にプロピレンのエポキシ化では、適切な過剰量のキャリアガスの存在下で、プロピレン、プロパン(メタン)、水素および酸素の混合物の爆発限界を安全に回避し、したがって、反応器内または供給および排出ラインでも爆発性混合物が形成しないように、プロパンまたはメタンを供給できる。
使用する触媒の量は、チタンゼオライトに含有されるチタンと、単位時間当たりに供給されるオレフィンとのモル比に基づいて決定できる。通常、1時間当たり0.0001〜0.1のチタン/オレフィンモル供給比を提供するのに十分な触媒が存在する。
反応させるオレフィンによって、本発明によるエポキシ化は、液相、気相または超臨界相中で実施できる。液体反応媒体を使用する場合、触媒は、懸濁液または固定床の形態が好ましい。本方法は、連続フロー、セミバッチまたはバッチ操作モードを使用して実施できる。
エポキシ化を液相(または超臨界相、または未臨界相)中で実施する場合は、1〜100barの圧力で、1種以上の溶媒の存在下で作業することが有利である。適切な溶媒としては、アルコール、エーテル、エステルおよびケトンなどの含酸素炭化水素、トルエンおよびヘキサンなどの芳香族および脂肪族炭化水素、液体CO2(超臨界または未臨界状態)ならびに水などが挙げられるがこれに限られない、反応条件で液体であるいずれの化学物質も含まれる。好ましい溶媒としては、水、液体CO2およびアルコール、エーテル、エステル、ケトンなど、またはそれらの混合物などの含酸素炭化水素が挙げられる。好ましい酸素化溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノールおよびtert−ブタノールなどの低級脂肪族C1〜C4アルコール、またはそれらの混合物ならびに水が挙げられる。フッ素化アルコールを使用できる。前述のアルコールの混合物を水とともに使用することが特に好ましい。
エポキシ化を液相(または超臨界相、または未臨界相)中で実施する場合、緩衝剤を使用することが有利である。通常、緩衝剤を溶媒に加えて緩衝液を形成する。緩衝液は反応中に使用して、エポキシ化中にグリコールまたはグリコールエーテルが形成されることを抑制する。緩衝剤は当技術分野でよく知られている。
本発明において有用な緩衝剤には、いずれの適切なオキソ酸塩も含まれ、混合物におけるその性質および割合は、その溶液のpHが3〜10、好ましくは4〜9、より好ましくは5〜7の範囲であればよい。適切なオキソ酸塩は、アニオンおよびカチオンを含む。塩のアニオン部分としては、リン酸塩、リン酸一水素塩、リン酸二水素塩、硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩(例えば、酢酸塩、フタル酸エステルなど)、クエン酸塩、ホウ酸塩、水酸化物、ケイ酸塩、アルミノシリケートなどのアニオンが挙げられる。塩のカチオン部分には、アンモニウム、アルキルアンモニウム(例えば、テトラアルキルアンモニウム、ピリジニウムなど)、アルカリ金属、アルカリ土類金属などのカチオンが含まれる。例としては、NH4、NBu4、NMe4、Li、Na、K、Cs、MgおよびCaカチオンが挙げられる。より好ましい緩衝剤としては、アルカリ金属リン酸塩およびリン酸アンモニウム緩衝剤が挙げられる。緩衝剤は、好ましくは1種を超える適切な塩の組合せを含むことができる。通常、溶媒中の緩衝剤の濃度は、約0.0001M〜約1M、好ましくは約0.001M〜約0.3Mである。本発明のおける有用な緩衝剤は、反応系にアンモニアガスを添加することも含んでよい。
以下の実施例は単に本発明を説明するものである。当業者は本発明の技術思想および特許請求の範囲内で、多様な変形形態があることを認識されるであろう。
比較例1:Pd/TS−1触媒の調製
噴霧乾燥したTS1(15.778ポンド、シリカバインダー20重量%、Ti2.1重量%、550℃で焼成)を50L混合タンク中の脱イオン水(17.89L)に加え、攪拌機により500rpmで攪拌する。3%水酸化アンモニウム水溶液を用いて、スラリーのpHを7.0になるまで調整し、硝酸テトラアミンパラジウム水溶液(Pd0.166ポンド、1Lに希釈)を液面下注入によって、攪拌しながら1分間以上かけて添加する。パラジウム添加の間、3%水酸化アンモニウム溶液を加えることによってスラリーのpHを7.0に維持する。パラジウム添加の後、水酸化アンモニウムでpHを7.5になるまで調整し、pHを7.4に維持しながらスラリーを30℃で60分間攪拌する。スラリーを濾過し、洗浄する(17Lの脱イオン水で3回)。次いで、一定重量が得られるまで固体を50℃で真空乾燥し、空気中300℃で1時間焼成し、その後、窒素中で1時間、4%のH2で処理して比較触媒1を生成する。比較触媒1は、パラジウム0.1重量%、チタン2.1重量%およびケイ素44重量%を含む。
実施例2:Pd−Pb/TS−1触媒の調整
触媒1(8.4g)および脱イオン水(25mL)を100mLの3口フラスコに入れる。次に、酢酸鉛溶液(Pb(OAc)20.08gを10mLの脱イオン水に溶かす)を攪拌しながらスラリーに加え、反応混合物を75℃〜82℃で加熱し(熱い油浴を使用)、45分間攪拌する。固体を濾過し、脱イオン水(各々20mL)で4回洗浄し、65℃で2時間、真空オーブンで乾燥し触媒2を生成する。触媒2は、パラジウム0.08重量%、鉛0.35重量%およびチタン2.0重量%を含有する。
実施例3:不溶性鉛塩
触媒3AはPbTiO3、アルファエイサーの製品である。
触媒3BはPbSO4、シグマ−アルドリッチの製品である。
触媒3CはPbZrO3、シグマ−アルドリッチの製品である。
触媒3DはPbNiO3、シグマ−アルドリッチの製品である。
実施例4:Pd−Pb担持触媒
触媒4AはPd−Pb/CaCO3、シグマ−アルドリッチの製品である。
触媒4BはPd−Pb/BaSO4、アルファエイサーの製品である。
実施例5:Pd−Au−Pb/TiO2触媒の調製
Pd−Au/TiO2(4.76g、実施例8Aの手順に従って製造)および脱イオン水(30mL)を100mLの3口フラスコに入れる。次に、酢酸鉛溶液(Pb(OAc)20.030gを15mLの脱イオン水に溶かす)を攪拌しながらスラリーに加え、反応混合物を75〜85℃に加熱し(熱い油浴を使用)、45分間攪拌した。固体を濾過し、脱イオン水(各々20mL)で4回洗浄し、65℃で2.4時間、真空オーブンで乾燥し触媒5を生成する。触媒5はパラジウム0.97重量%、金0.50重量%、鉛0.38重量%およびチタン58重量%を含有する。
実施例6:実施例1〜5の触媒を使用したエポキシ化反応
比較触媒1、ならびに触媒2、3A、3B、3C、3D、4A、4Bおよび5の性能を評価するために、酸素および水素を用いたプロピレンのエポキシ化を実施する。以下の手順を用いる。
600mLの圧力反応器および1.5Lの飽和器からなる反応装置系に、希水酸化アンモニウムでpH6に中和したメタノール(90g)および0.1Mリン酸二水素アンモニウム(30g)の混合溶液を満たす。次に、触媒または触媒の混合物(総量4.0g)を反応器に加え、スラリーを300psi(2068kPa)で60℃に加熱する。運転6Aは触媒1(4g)を使用する。運転6Bは触媒2(4g)を使用する。触媒6Cは触媒3A(0.1g)および触媒1(3.9g)の混合物を使用する。運転6Dは触媒3B(0.1g)および触媒1(3.9g)の混合物を使用する。運転6Eは触媒3C(0.1g)および触媒1(3.9g)の混合物を使用する。触媒6Fは触媒3D(0.1g)および触媒1(3.9g)の混合物を使用する。触媒6Gは触媒4A(0.05g)およびTS−1(3.95g)の混合物を使用する。運転6Hは触媒4B(0.2g)およびTS−1(3.8g)の混合物を使用する。運転6Iは触媒5(0.1g)およびTS−1(3.9g)の混合物を使用する。
窒素中で水素46cc/分、プロピレン277cc/分および5%酸素4318cc/分からなるガスフィードを、微細フリットを経由して、圧力反応器に導入する。出口ガスはオンラインGCにより分析し、液相中のPOおよび開環生成物は、反応終了時に分析する。反応は18時間実施するが、より長時間実施してもよい。GC分析の結果を用いて、表1に示した生産性および選択率を計算する。
比較例7:Pd−Au/TiO2触媒の調整
比較触媒7A:四塩化金酸ナトリウム水溶液(0.265g、金20.74重量%)および固体四塩化パラジウム酸二ナトリウム(0.275g)を脱イオン水(25g)に攪拌しながら加える。パラジウムおよび金化合物が溶解した後、アナターゼTiO2(10g、平均寸法1ミクロン、30m2/g)および重炭酸ナトリウム(0.25g)をパラジウム/金溶液に加える。次に、スラリーを23℃で24時間反応させ、濾過し、固体を脱イオン水で2回洗浄し、続いて空気中220℃で焼成する。次に、最終濾液が1ppmの塩化物を含むようになるまで、焼成した固体を脱イオン水で洗浄し、マッフル炉で空気中、10℃/分で110℃まで2時間加熱し、次に2℃/分で300℃まで4時間加熱することにより乾燥および焼成する。焼成した固体を石英管に移し、100℃で3時間、4vol.%の水素/窒素気流(100cc/時)で処理する。比較触媒7Aは、パラジウム0.9重量%、金0.55重量%およびチタン59重量%を含む。
比較触媒7B:四塩化金酸ナトリウム水溶液(0.265g、金20.74重量%)および固体四塩化パラジウム酸二ナトリウム(0.275g)を脱イオン水(25g)に攪拌しながら加える。パラジウムおよび金化合物が溶解した後、噴霧乾燥したアナターゼTiO2(10g、平均寸法35ミクロン、40m2/g、700℃で焼成)および重炭酸ナトリウム(0.26g)をパラジウム/金溶液に加える。次に、スラリーを40℃で4時間反応させ、濾過し、固体を脱イオン水(30g)で洗浄し、続いて、マッフル炉で空気中、10℃/分で110℃まで6時間加熱し、次に2℃/分で300℃まで4時間加熱することにより焼成する。焼成した固体を脱イオン水(30g、6回)で洗浄し、真空オーブンで50℃で乾燥し、石英管に移し、100℃で3時間、4vol.%の水素/窒素気流(100cc/時)で処理し、1時間窒素でパージする。比較触媒7Bは、パラジウム0.95重量%、金0.6重量%およびチタン58重量%を含む。
実施例8:Pd−Au−Pb/TiO2触媒の調整
触媒8A:四塩化金酸ナトリウム水溶液(0.265g、金20.74重量%)および固体四塩化パラジウム酸二ナトリウム(0.275g)を脱イオン水(25g)に攪拌しながら加える。パラジウムおよび金化合物が溶解した後、アナターゼTiO2(10g、平均寸法1ミクロン、87m2/g)および重炭酸ナトリウム(0.65g)をパラジウム/金溶液に加えると、pHが6.3になる。固体の重炭酸ナトリウム(各々0.25g)を2個加えることによって、pHを7に調整する。次に、スラリーを40℃で4時間反応させ、濾過し、固体を脱イオン水(30g)で洗浄し、続いて、マッフル炉で空気中、10℃/分で110℃まで6時間加熱し、次に2℃/分で300℃まで4時間加熱することにより焼成する。焼成した固体を脱イオン水(30g、6回)で洗浄し、真空オーブンにて50℃で乾燥し、石英管に移し、100℃で1時間、4vol.%の水素/窒素気流(100cc/時)で処理し、1時間窒素でパージする。
固体Pd−Au/TiO2(4.67g)を脱イオン水(30g)中でスラリーにし、酢酸鉛(0.03g)を15gの脱イオン水に溶解した溶液を、スラリーに加える。得られたスラリーを、75〜85℃で45分間攪拌し、濾過し、脱イオン水(20g、4回)で洗浄し、65℃で2.4時間真空オーブンにて乾燥する。触媒8Aは、パラジウム0.95重量%、金0.5重量%および鉛0.4重量%を含む。
触媒8B:四塩化金酸ナトリウム水溶液(0.795g、金20.74重量%)および固体四塩化パラジウム酸二ナトリウム(0.825g)を脱イオン水(120g)に攪拌しながら加える。パラジウムおよび金化合物が溶解した後、噴霧乾燥したアナターゼTiO2(30g、平均寸法35ミクロン、43m2/g、700℃で焼成)をパラジウム/金溶液に加え、続いて酢酸鉛(0.22g)を加える。固体の重炭酸ナトリウム(必要量4.75g)を加えることによって、pHを7.02に調整する。次に、スラリーを40℃で4時間反応させ、濾過し、固体を脱イオン水(100g、2回)で洗浄し、続いて、マッフル炉で空気中、10℃/分で110℃まで6時間加熱し、次に2℃/分で300℃まで4時間加熱することにより焼成する。焼成した固体を脱イオン水(100g、6回)で洗浄し、真空オーブンにて50℃で一晩乾燥し、石英管に移し、100℃で1時間、4vol.%の水素/窒素気流(100cc/時)で処理する。触媒8Bは、パラジウム0.95重量%、金0.45重量%および鉛0.32重量%を含む。
実施例9:実施例7〜8の触媒を使用したエポキシ化反応
比較触媒7Aおよび7B、ならびに触媒8Aおよび8Bの性能を評価するために、酸素および窒素を用いたプロピレンのエポキシ化を実施した。以下の手順を用いる。
300ccのステンレススチールの反応器に、触媒(0.07g)およびTS1粉末(0.63g、Ti2重量%)、緩衝剤(13g、0.1Mリン酸アンモニウム水、pH=6)およびメタノール(100g)を満たす。反応器を、水素2%、酸素4%、プロピレン5%、メタン0.5%および残部窒素(容量%)からなる300psig(2068kPa)のフィードで満たす。反応器にフィードガスを1600cc/分で連続的に通した状態で、背圧調整装置を介して、反応器の圧力を300psig(2068kPa)に維持する(23℃、1気圧で測定)。運転中反応器中の溶媒レベルを一定に保つために、酸素、窒素およびプロピレンフィードを、反応器の前にある、1.5Lのメタノールを含む2Lのステンレススチール容器(飽和器)に通す。反応器を1500rpmで攪拌する。反応混合物を60℃で加熱し、毎時に、ガス状排出物をオンラインGCで分析し、18時間の運転の後、液体をオフラインGCで分析する。プロピレンの水素化によって生成するプロパンに加えて、酸化プロピレン(「PO」)、ならびにプロピレングリコール(「PG」)およびプロピレングリコールメチルエーテル(「PM」)を含む、酸化プロピレンおよび同等のもの(「POE」)が、反応中に生成する。GC分析の結果は、表2に示した生産性と選択性を計算するために使用する。
Figure 2009543863
Figure 2009543863

Claims (19)

  1. チタンまたはバナジウムゼオライト、パラジウムおよび鉛を含む触媒の存在下で、オレフィン、水素および酸素を反応させることを含むエポキシドの製造方法。
  2. 前記チタンまたはバナジウムゼオライトがチタンシリカライトである、請求項1に記載の方法。
  3. 前記触媒がパラジウム0.01〜10重量%および鉛0.001〜2重量%を含む、請求項1に記載の方法。
  4. 前記オレフィンがC2〜C6オレフィンである、請求項1に記載の方法。
  5. 前記オレフィンがプロピレンである、請求項1に記載の方法。
  6. 前記反応をアルコール、エーテル、エステル、ケトン、水、液体CO2およびそれらの混合物からなる群から選択される溶媒の存在下で行う、請求項1に記載の方法。
  7. 前記触媒がパラジウムおよび鉛をチタンまたはバナジウムゼオライトに担持させたものを含む、請求項1に記載の方法。
  8. 前記触媒がパラジウム、鉛および追加の貴金属をチタンまたはバナジウムゼオライトに担持させたものを含む、請求項7に記載の方法。
  9. 前記貴金属が金である、請求項8に記載の方法。
  10. 前記パラジウムおよび鉛が担体に担持されている、請求項1に記載の方法。
  11. 前記担体が炭素、チタニア、ジルコニア、ニオビア、シリカ、アルミナ、シリカ−アルミナ、酸化タンタル、酸化モリブデン、酸化タングステン、チタニア−シリカ、ジルコニア−シリカ、ニオビア−シリカおよびそれらの混合物からなる群から選択される、請求項10に記載の方法。
  12. チタンまたはバナジウムゼオライト、ならびにパラジウム、鉛および担体を含む担持触媒の存在下で、プロピレン、水素および酸素を反応させることを含む、酸化プロピレンの製造方法。
  13. 前記チタンまたはバナジウムゼオライトがチタンシリカライトである、請求項12に記載の方法。
  14. 前記担持触媒がパラジウム0.01〜10重量%および鉛0.001〜2重量%を含む、請求項12に記載の方法。
  15. 前記担体が炭素、チタニア、ジルコニア、ニオビア、シリカ、アルミナ、シリカ−アルミナ、酸化タンタル、酸化モリブデン、酸化タングステン、チタニア−シリカ、ジルコニア−シリカ、ニオビア−シリカおよびそれらの混合物からなる群から選択される、請求項12に記載の方法。
  16. 前記担持触媒がパラジウム、鉛および追加の貴金属ならびに担体を含む、請求項12に記載の方法。
  17. 前記貴金属が金である、請求項16に記載の方法。
  18. 前記反応をアルコール、エーテル、エステル、ケトン、水、液体CO2およびそれらの混合物からなる群から選択される溶媒の存在下で行う、請求項12に記載の方法。
  19. 前記反応を緩衝剤の存在下で行う、請求項18に記載の方法。
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