JP2009535666A - パルス動作uv及び可視ラマンレーザシステム - Google Patents
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Abstract
Description
上層大気内の原子ナトリウム励起で発生する、ナトリウムビーコンは適応光学系に対する「案内星」として用いることができ、したがって先端レーザベース防衛システム用途で非常に注目されている。この目的には、波長が589.1nmのナトリウムD2吸収線に同調させた高パワーのCW源または擬似CW源が必要である。
サブ200nmレーザ光源は半導体工業における計測用途に非常に重要である。集積回路の最小寸法が縮小するにつれて、リソグラフィに用いられる光の波長が短くなる。したがって、マスク及びウエハの検査に、また光学素子の作成にも、同じかまたは同様のDUV光波長が必要になる。現在用いられている、固体レーザ源、高調波変換及びOPOに基づくシステムは一般に、非常に低い繰返しレートで作動し、非常に大きくて扱いにくく、複雑で、高価であり、頻繁で煩雑なメンテナンスが必要である。
198.7nm光出力を発生させるためのレーザシステム10の別の実施形態が図8に示される。本実施形態において、パルス光源102は1041nmYbドープMOPAである。この光源102は、中間の1096.7nm(一次)ストークス光及び1158.7nm(二次)ストークス光(14.63THzステップ)を経て1228.2nm三次ストークス光の出力波長λ1出力を発生する、ラマン波長変換器106をポンピングする。高調波発生器110は4つの変換段、すなわち、3つのLBO結晶110A,110B,110C及び1つのCLBO(ホウ酸セシウムリチウム(CsLiB6O10))結晶110Dを有する。2つのLBO結晶110A及び110Bは周波数逓倍すなわちSHGによってラマン変換器出力の二次高調波(614.1nm)及び四次高調波(307.05nm)を順次に発生させるために用いられる。第3のLBO結晶110Cは、SFM(和周波混合)により、第1のLBO結晶110Aの出力における残留(10〜90%,好ましくは50%)1228.2nm光を第2のLBO結晶110Bの出力からの四次高調波(307.05nm)と混合して、245.64nm(1228.2nmの五次高調波)の光出力を発生する。第2の高パワー増幅段102Bが1041nmの第2の出力の発生のためにMOPAに付加され(2つの個別高パワー段を有する理由は、それぞれの高パワー段のピークパワーを増幅器ファイバに対する非線形歪及び損傷の閾値より低い値に保つことである)、この1041nm光はCLBO結晶110Dで245.64nm光と混合されて、SFMにより、最終的に198.7nmの出力波長λ出力が発生される。表IIIは実施例3のレーザシステム10に用いられる結晶のパラメータの摘要を与える。
図9のレーザシステム10は図8のレーザシステムと同様である。図9のレーザシステム10は同じパルス光源102及び、最初の結晶110A及び最後の結晶110Dに波長λ1出力が1228.2nmの光出力を供給する、ラマン変換器106を備える。しかし、ラマン変換器の1228.2nmの三次高調波(409.4nm)光出力はLBO結晶110Bにおける二次高調波(614.1nm)光と原1228.2nm光を混合するSFMによって発生され、1228.2nmの五次高調波(245.64nm)光は、ここでは、CLBO結晶110Cにおける二次高調波(614.1nm)光と三次高調波(409.4nm)光を混合するSFMによって発生される。第2及び第3の変換段における結晶110B及び110Cの実効非線形係数がより高いこと及び第2変換段への(すなわちLBO結晶110Bへの)入力により高いパワーを利用できることから(それぞれの数値は図9に示される)、本実施形態のレーザシステム10に対する(数値モデルで予測される)総合変換効率は図8のレーザシステムの総合変換効率よりさらに高く(2.1%をこえ)、高調波変換器110の第4変換段(CLBO結晶110D)の出力において少なくとも3Wの198.7nmDUV光が得られるはずである。表IVは実施例4のレーザシステム10に用いられる結晶のパラメータの摘要を与える。
193nmレーザシステム10の一実施形態が図10に示される。本実施形態のレーザシステム10は1つの親発振器及び前置増幅器並びに2つの高パワー光増幅器を有するパルス光源102を備える。さらに詳しくは、1049.5nmYbドープ前置増幅器の出力が分割され、2つの高パワー増幅器で個々に増幅される。第1の増幅器1051は1169nmの二次ストークス光信号を発生するラマン変換器1061をポンピングし、第2の増幅器1052は1106nmの一次ストークス光信号を発生する別のラマン変換器1062をポンピングする。この場合、構成にはいくつかの変形が可能であり、例えば、一次及び二次のストークス光波長において同時に、当然より低いパワーで、光出力を発生するように単ラマン変換器を構成することができる。図示される構成において、第1のラマン変換器1061に対して二次及び中間次のストークス光のための最終出力波長へのシード光供給に同じ挟線幅1106nm光源を用いることができる。1169nm光の二次高調波(584.5nm)光が第1のLBO結晶110Aで周波数逓倍(SHG)によって発生され、三次高調波(389.7nm)光が第2のLBO結晶110BでSFMによって発生される。二次及び三次の高調波光はCLBO結晶110CでSFMにより混合されて、233.8nmの五次高調波光が発生される。最後に、233.8nm光は別のCLBO結晶110Dで第2のラマン変換器1062の出力(1106nm)光と混合されて、193nm光出力が発生される。
193nmレーザシステム10の別の実施形態が図11に示される。本実施形態のレーザシステム10においては、λp=1041nmで動作しているYbドープファイバMOPA102がこの波長のパルス光をラマン変換器106に供給する。次いでラマン変換器106は波長λpの光をλ1出力=1158nmの二次ストークス光に変換する。高調波発生器110は4つの非線形結晶−それぞれ、SHG及びSFMにより波長1158nm光の二次、三次、五次及び六次の高調波光を発生する、LBO110A,LBO110B,BBO110C及びCLBO110D−を有する。最終出力の六次高調波光の波長はλ出力=193nmである。非線形変換パラメータの計算値が表VIに示される。この表からわかるように、BBO結晶110Cの動作にはかなりの複屈折ウォークオフがともない、このため、用いられるパワーレベルに依存して、長さが短い結晶または(楕円の長軸がウォークオフ方向に沿う)楕円ビーム集束を用いるか、あるいはこれらのいずれをも用いることが必要になり得る。表VIは実施例6のレーザシステム10に用いられる結晶のパラメータの摘要を与える。
図12に示される本実施形態において、2つのパルス動作ファイバベースMOPA源−913nm(Ndイオンに対するいわゆる3準位遷移)で動作するNdドープMOPA1021及び1081nmで動作するYbドープMOPA1022−が用いられる。NdドープMOPA1021は952nm(シリカファイバにおける913nmポンプ光に対する一次ストークス光波長)の第1の出力を発生するラマン変換器106をポンピングする。高調波発生器110は3つの非線形結晶を有する。初めの2つの結晶110A及び110BはいずれもLBOであり、それぞれ、ラマン変換器の952nm出力の二次(476nm)及び四次(238nm)の高調波光を発生する。第3の結晶110CはCLBOであり、238nm光と1081nm光の和周波混合を行って195.1nmの最終出力光を発生する。非線形変換パラメータ計算値が表VIIに提示される。本例示実施形態は、通常の1064nmの4準位遷移動作より達成が困難である、3準位遷移で動作するNdドープファイバMOPAシステムを用いるが、非線形結晶を3つしか用いず、それぞれが全てノンクリティカル位相整合(NCPM)条件またはそれに近い条件で動作するという点でかなりの利点を有する。
102 パルス光源
102' 親発振器パルス光源
104 パルス光
105 光増幅器
106 ラマン波長変換器
106' ラマン変換光ファイバ
108 第1のパルス光出力信号
110 高調波変換器
110A,110B 非線形結晶
112,114 シード光源
Claims (13)
- レーザシステムにおいて、
原波長を中心とする光スペクトルを有するパルス光を発生するパルス光源、
前記パルス光源に結合された非線形ラマン変換ファイバであって、前記パルス光は前記非線形ラマン変換ファイバを通過し、多段誘導ラマン散乱過程によって、最終次数ストークス光に相当し、前記原波長より長い第1の出力波長を中心とする光スペクトルを有する、第1のパルス光出力に変換されるものである非線形ラマン変換ファイバ、及び
前記非線形ラマン変換ファイバに動作可能な態様で結合された高調波発生器であって、150〜775nmの範囲内におかれた最終出力波長の光出力を前記高調波発生器が発生するように、前記第1のパルス光出力を受け取り、前記受け取られた第1のパルス光出力をより高い光周波数に変換するための高調波発生器、
を備えることを特徴とするレーザシステム。 - 前記パルス光源によって供給されるパワーの大部分が前記非線形ラマン変換ファイバを一回通過するだけで前記最終次ストークス光のパワー出力に変換されることを特徴とする請求項1に記載のレーザシステム。
- 前記パルス光源が0.1〜100nsのパルス幅及び1:2〜1:1000のデューティサイクルを有することを特徴とする請求項1に記載のレーザシステム。
- 前記非線形ラマン変換ファイバが、ファイバ長にわたって一様な色分散を有し、前記色分散が前記原波長、前記出力波長及び複数の中間次数ストークス光の全ての波長に対して常分散であるような、単一の非線形ファイバを含むことを特徴とする請求項1に記載のレーザシステム。
- 前記非線形ラマン変換ファイバが、前記原波長の特定の(N+1)次ストークス光に対する閾値が決して優越されないような損失を与える、前記特定の(N+1)次ストークス光に相当する波長帯の波長選択性減衰コンポーネントを含み、前記多段ラマン変換がN次ストークス光で終結することを特徴とする請求項1に記載のレーザシステム。
- ラマン変換効率を高めるためにラマン変換を「シード」するため、前記パルス光源からの前記パルス光、前記中間次数ストークス光の内の1つ、いくつかまたは全て及び前記出力波長とともに伝搬する、少量のCW光またはパルス光を前記非線形ラマン変換ファイバに注入するためのシードポンプをさらに備えることを特徴とする請求項1に記載のレーザシステム。
- ピークパルスパワーを高め、設定するために前記パルス光を増幅するための、前記非線形ラマン変換ファイバと前記パルス光源の中間に結合された高パワー光ファイバ増幅器をさらに備え、前記高パワー光ファイバ増幅器が、イッテルビウム、エルビウム及びツリウムからなる群から選ばれる少なくとも1つの希土類ドーパント材がドープされた光ファイバを有することを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 波長変換及び波長変換のための多段誘導ラマン散乱の制御のための方法において、前記方法が、
原波長を中心とする光スペクトルを有するパルス光を発生する工程であって、前記パルス光はパルス幅及びピークパルスパワーを有するものである工程、
前記パルス光を、前記原波長の原パワーを多段誘導ラマン散乱過程によって前記原波長より長い出力波長のパワー出力に変換するために非線形ラマン変換ファイバに結合し、前記非線形ラマン変換ファイバを通して伝搬させる工程であって、前記非線形ラマン変換ファイバはファイバ長及び分散パラメータを有するものである工程、
前記非線形ラマン変換ファイバの1回通過における前記出力波長の最終次ストークス光のパワー出力への前記原パワーの変換を最大化するために、前記パルス幅、前記ピークパルスパワー、前記ファイバ長及び前記分散パラメータを設定する工程、及び
少なくとも1つの高調波発生器に、前記高調波発生器が150〜775nmの範囲内におかれた最終出力波長の光出力を発生するように、前記ラマン変換ファイバによって供給される前記光をより高い光周波数に変換するために前記光を結合する工程、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記設定する工程が非線形ファイバセグメントの直列接続を提供する工程を含み、前記非線形ファイバセグメントのそれぞれは、特定のファイバセグメントを通過している入力波長、出力波長及び中間次数ストークス光波長の特定の組合せに対して常色分散を有し、前記組合せの前記波長のそれぞれにおける前記色分散の値が4光波混合によって生じるスペクトル拡幅を含む変換効率に有害な非線形光効果を最小限に抑えるための要件及びいずれの2つの連続する変換次数(波長)に対してもパルスウォークオフを最小限に抑えるための要件によって決定され、前記ファイバセグメントのそれぞれがファイバセグメント長を有し、前記ファイバセグメント長が、特定のセグメントで発生されて前記特定のセグメントを通過する次数のストークス光に前記誘導ラマン散乱の閾値が優越されるように、該セグメントに入る初めの次数のストークス光のピークパルスパワー及び、該ファイバセグメントのラマン利得、減衰及び実効面積から決定され、最終ファイバセグメント長がN次ストークス光閾値に優越するには十分であるが、(N+1)次ストークス光閾値に優越するに十分ではなく、この結果、前記原パワーの大部分がN次ストークス光に変換されることを特徴とする請求項8に記載の方法。
- レーザシステムにおいて、
光を発生する光源であって、可視スペクトル範囲で動作するファイバレーザまたはファイバ増幅器を有する光源、及び
150〜400nmの範囲内におかれた最終出力波長の光出力を発生するように、前記光源によって供給される前記光を受け取るため及び前記受け取られた光をより高い光周波数に変換するために前記光源に動作可能な態様で結合された周波数変換器、
を備えることを特徴とするレーザシステム。 - 前記レーザシステムが、(i)前記光源が可視光源によってポンピングされる、(ii)光パラメトリック発振器(OPO)を備えていない、(iii)前記光源が10Wをこえる光パワーを供給する、(iv)前記ファイバレーザまたはファイバ増幅器が可調である、(v)前記光源がパルス光源であり、前記周波数変換器に供給される前記光がパルス光である、(vi)前記パルス光源が0.1〜100nsのパルス幅及び1:2〜1:1000のデューティサイクルを有する、(vii)前記パルス光源が前記原波長を同調するための波長可変レーザを有し、前記原波長の前記同調が前記最終出力波長の微調を提供する、(viii)前記周波数変換器が多くとも2つの非線形変換結晶を有する、(ix)前記レーザシステムが親発振器-パワー増幅器(MOPA)であるパルス光源を備え、前記ピークパルスパワーを高め、設定するために前記パルス光を増幅するための高パワー光ファイバ増幅器をさらに備え、前記高パワー光ファイバ増幅器が、サマリウム、ジスプロシウム、ユーロピウム及び/またはプラセオジムからなる群から選ばれる少なくとも1つの希土類ドーパント材がドープされた光ファイバを含む、の内の少なくとも1つを満たすことを特徴とする請求項10に記載のレーザシステム。
- 前記ファイバレーザまたはファイバ増幅器がSm,Eu,Dy,Prから選ばれる少なくとも1つのドーパントがドープされたシリカベースファイバを有することを特徴とする請求項10に記載のレーザシステム。
- 前記ファイバレーザまたはファイバ増幅器が、(i)375nm〜478nmの範囲にあるポンプ波長を供給する光源及び(ii)少なくとも1つの青色ブロードエリアレーザの内の少なくとも1つによってポンピングされることを特徴とする請求項12に記載のレーザシステム。
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Cited By (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010232650A (ja) * | 2009-03-04 | 2010-10-14 | Omron Corp | レーザ光源装置、レーザ加工装置、レーザ光源装置の制御装置、およびレーザ光源装置の制御方法 |
JP2011151223A (ja) * | 2010-01-22 | 2011-08-04 | Nikon Corp | レーザ装置 |
JP2012243789A (ja) * | 2011-05-16 | 2012-12-10 | Miyachi Technos Corp | ファイバレーザ加工装置及びレーザ加工方法 |
JP2013131724A (ja) * | 2011-12-22 | 2013-07-04 | Gigaphoton Inc | レーザ装置 |
JP2014049641A (ja) * | 2012-08-31 | 2014-03-17 | Sumitomo Electric Ind Ltd | レーザ光源 |
JP2014089474A (ja) * | 2014-01-14 | 2014-05-15 | Nikon Corp | レーザ装置 |
JP2014532894A (ja) * | 2011-10-19 | 2014-12-08 | オーエフエス ファイテル,エルエルシー | カスケード・ラマン・レージング・システム |
KR20150119040A (ko) * | 2013-02-13 | 2015-10-23 | 케이엘에이-텐코 코포레이션 | 193㎚ 레이저 및 검사 시스템 |
JP2015535927A (ja) * | 2012-09-11 | 2015-12-17 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | 固体照射光源及び検査システム |
KR20160018768A (ko) * | 2013-06-11 | 2016-02-17 | 케이엘에이-텐코 코포레이션 | 안정성이 향상된 cw duv 레이저 |
JP2016505211A (ja) * | 2012-07-12 | 2016-02-18 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | レーザのスペクトル帯域幅の低減 |
JP2017502531A (ja) * | 2014-01-06 | 2017-01-19 | アイピージー フォトニクス コーポレーション | 連続波方式および疑似連続波方式で動作する超高出力の単一モード緑色ファイバレーザ |
WO2017064789A1 (ja) * | 2015-10-15 | 2017-04-20 | 国立大学法人 東京大学 | 固体レーザシステムおよびエキシマレーザシステム |
JP2017532613A (ja) * | 2014-09-16 | 2017-11-02 | アイピージー フォトニクス コーポレーション | Rgbディスプレイのための広帯域赤色光発生器 |
JP2018150625A (ja) * | 2013-04-29 | 2018-09-27 | ヌブル インク | 三次元プリンティングのための装置、システムおよび方法 |
JP2019505844A (ja) * | 2016-01-22 | 2019-02-28 | セントレ ナシオナル デ ラ ルシェルシェ シエンティフィーク | 実質的に一定のエネルギーを有する多色光子ビームを発生させるための装置 |
JP2019194699A (ja) * | 2014-08-27 | 2019-11-07 | ヌブル インク | 可視ラマンレーザーを用いた材料加工のための用途、方法、及びシステム |
JP2021136439A (ja) * | 2020-02-21 | 2021-09-13 | トヨタ自動車株式会社 | 増幅ファイバ及びレーザ光出射装置 |
WO2023234322A1 (ja) * | 2022-06-01 | 2023-12-07 | 国立研究開発法人理化学研究所 | レーザ発振器およびレーザ発振方法 |
Families Citing this family (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102007058049A1 (de) * | 2007-11-30 | 2009-06-04 | Deutsche Telekom Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung eines Pumpspektrums |
CN102292672B (zh) * | 2009-01-23 | 2016-06-22 | 株式会社藤仓 | 光合波器以及光纤激光器 |
US8792157B2 (en) * | 2009-05-11 | 2014-07-29 | Ofs Fitel, Llc | Systems and methods for cascaded raman lasing at high power levels |
GB201001051D0 (en) * | 2010-01-22 | 2010-03-10 | Fianium Ltd | Optical sources |
EP2564477B8 (en) | 2010-04-21 | 2018-08-01 | IPG Photonics Corporation | Multiple wavelength raman laser |
US8873596B2 (en) | 2011-07-22 | 2014-10-28 | Kla-Tencor Corporation | Laser with high quality, stable output beam, and long life high conversion efficiency non-linear crystal |
US8817827B2 (en) * | 2011-08-17 | 2014-08-26 | Veralas, Inc. | Ultraviolet fiber laser system |
WO2013052711A2 (en) * | 2011-10-04 | 2013-04-11 | Cornell University | Fiber source of synchronized picosecond pulses for coherent raman microscopy and other applications |
GB2496214B (en) | 2011-11-01 | 2016-03-16 | Fianium Ltd | Amplifying optical device pumped or seeded with nonlinearly generated light |
GB2505409B (en) * | 2012-08-27 | 2016-08-03 | V-Gen Ltd | Generation of narrow line width high power optical pulses |
EP2929602A4 (en) * | 2012-12-07 | 2016-12-21 | Foro Energy Inc | HIGH PERFORMANCE LASERS AND ENVIRONMENTS WITH WAVE LENGTH CONVERSIONS AND WAVELENGTH ADJUSTMENTS |
US8929406B2 (en) | 2013-01-24 | 2015-01-06 | Kla-Tencor Corporation | 193NM laser and inspection system |
CN103091934B (zh) * | 2013-02-05 | 2015-02-11 | 西安邮电大学 | 增益平坦的拉曼光纤波长转换耦合器及方法 |
US9608399B2 (en) | 2013-03-18 | 2017-03-28 | Kla-Tencor Corporation | 193 nm laser and an inspection system using a 193 nm laser |
US9515452B2 (en) | 2013-05-10 | 2016-12-06 | Ludwig-Maximilians-Universität München | Coherent dynamically controllable narrow band light source |
TWI623784B (zh) * | 2013-09-09 | 2018-05-11 | 克萊譚克公司 | 固態照明源及檢查系統 |
US9804101B2 (en) | 2014-03-20 | 2017-10-31 | Kla-Tencor Corporation | System and method for reducing the bandwidth of a laser and an inspection system and method using a laser |
JP6667533B2 (ja) * | 2014-09-16 | 2020-03-18 | アイピージー フォトニクス コーポレーション | プロジェクターシステムの照射のためのrgbレーザー源 |
US9419407B2 (en) | 2014-09-25 | 2016-08-16 | Kla-Tencor Corporation | Laser assembly and inspection system using monolithic bandwidth narrowing apparatus |
US9748729B2 (en) | 2014-10-03 | 2017-08-29 | Kla-Tencor Corporation | 183NM laser and inspection system |
CN107735914B (zh) | 2015-07-14 | 2020-06-26 | 极光先进雷射株式会社 | 准分子激光装置 |
US10175555B2 (en) | 2017-01-03 | 2019-01-08 | KLA—Tencor Corporation | 183 nm CW laser and inspection system |
US11262640B2 (en) | 2017-03-10 | 2022-03-01 | University Of Houston System | Nonlinear optical material |
CN108195820A (zh) * | 2018-01-26 | 2018-06-22 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 高温熔体无容器凝固实时拉曼分析装置 |
CN113491043B (zh) | 2019-04-02 | 2023-04-14 | 上海禾赛科技有限公司 | 用于激光雷达的激光*** |
EP3869636B1 (en) * | 2020-02-21 | 2024-03-13 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Amplification fiber and laser beam emitting apparatus |
GB2598775A (en) * | 2020-09-14 | 2022-03-16 | Coherent Scotland Ltd | 780 nm ultrashort-pulsed fiber laser |
GB2598774A (en) * | 2020-09-14 | 2022-03-16 | Coherent Scotland Ltd | Apparatus and method for generating 780 nm ultrashort-pulsed laser radiation |
CN112362635A (zh) * | 2020-11-02 | 2021-02-12 | 公安部第三研究所 | 一种基于紫外拉曼光谱分析的远距离物质检测装置 |
CN112649415B (zh) * | 2020-12-11 | 2022-04-22 | 华南理工大学 | 三光束自同步高速扫频光纤激光拉曼扫描成像***及方法 |
CN116435860B (zh) * | 2023-03-17 | 2024-05-03 | 山东大学 | 一种adp深紫外倍频器及深紫外宽波段倍频可调谐激光器 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56148360A (en) * | 1980-04-17 | 1981-11-17 | Kogyo Gijutsuin | Irradiator for laser for medical treatment |
JPH0661590A (ja) * | 1991-03-27 | 1994-03-04 | Rikagaku Kenkyusho | レーザー波長変換方法及びこれを用いた同位体分離方法 |
JP2002118315A (ja) * | 2000-05-23 | 2002-04-19 | Imra America Inc | モジュール式、高エネルギ、広波長可変性、超高速、ファイバ光源 |
JP2003080604A (ja) * | 2001-09-10 | 2003-03-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 積層造形装置 |
JP2003515957A (ja) * | 1999-12-03 | 2003-05-07 | キネティック リミテッド | レーザー効果及びレーザー装置 |
JP2004054050A (ja) * | 2002-07-22 | 2004-02-19 | Toshiba Corp | タッチパネルおよびこのタッチパネルを備えた携帯情報端末 |
JP2004527001A (ja) * | 2001-04-11 | 2004-09-02 | ユニバーシティ、オブ、サウサンプトン | 光パルス光源および光パルスを生成するための方法 |
JP2005114317A (ja) * | 2003-10-10 | 2005-04-28 | Taikisha Ltd | 陰陽圧切換式換気設備 |
WO2006032105A1 (en) * | 2004-09-23 | 2006-03-30 | Lighthouse Technologies Pty Ltd | A selectable multiwavelength laser for outputting visible light |
JP2008532323A (ja) * | 2005-03-04 | 2008-08-14 | コーニング インコーポレイテッド | パルスカスケードラマンレーザ |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6498801B1 (en) * | 1999-08-05 | 2002-12-24 | Alexander E. Dudelzak | Solid state laser for microlithography |
CA2400174A1 (en) * | 2000-02-28 | 2001-09-07 | Jds Uniphase Corporation | Cascaded raman resonator with seed source |
JP2002273581A (ja) * | 2001-03-16 | 2002-09-25 | Japan Atom Energy Res Inst | 短パルス波長可変ラマンレーザーによる物質の加工方法 |
JP4113035B2 (ja) * | 2003-04-25 | 2008-07-02 | 株式会社ニデック | 医療用レーザ装置 |
US20050078714A1 (en) * | 2003-10-08 | 2005-04-14 | Hiroshi Komine | High power fiber laser with eye safe wavelengths |
US7120175B2 (en) * | 2004-01-20 | 2006-10-10 | Northrop Grumman Corporation | Scalable harmonic laser source and method |
JP2006189587A (ja) * | 2005-01-05 | 2006-07-20 | Nidek Co Ltd | 医療用レーザ装置 |
-
2007
- 2007-04-26 WO PCT/US2007/010208 patent/WO2007127356A2/en active Application Filing
- 2007-04-26 JP JP2009507817A patent/JP5269764B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2007-04-26 EP EP07776322A patent/EP2013951A4/en not_active Withdrawn
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56148360A (en) * | 1980-04-17 | 1981-11-17 | Kogyo Gijutsuin | Irradiator for laser for medical treatment |
JPH0661590A (ja) * | 1991-03-27 | 1994-03-04 | Rikagaku Kenkyusho | レーザー波長変換方法及びこれを用いた同位体分離方法 |
JP2003515957A (ja) * | 1999-12-03 | 2003-05-07 | キネティック リミテッド | レーザー効果及びレーザー装置 |
JP2002118315A (ja) * | 2000-05-23 | 2002-04-19 | Imra America Inc | モジュール式、高エネルギ、広波長可変性、超高速、ファイバ光源 |
JP2004527001A (ja) * | 2001-04-11 | 2004-09-02 | ユニバーシティ、オブ、サウサンプトン | 光パルス光源および光パルスを生成するための方法 |
JP2003080604A (ja) * | 2001-09-10 | 2003-03-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 積層造形装置 |
JP2004054050A (ja) * | 2002-07-22 | 2004-02-19 | Toshiba Corp | タッチパネルおよびこのタッチパネルを備えた携帯情報端末 |
JP2005114317A (ja) * | 2003-10-10 | 2005-04-28 | Taikisha Ltd | 陰陽圧切換式換気設備 |
WO2006032105A1 (en) * | 2004-09-23 | 2006-03-30 | Lighthouse Technologies Pty Ltd | A selectable multiwavelength laser for outputting visible light |
JP2008532323A (ja) * | 2005-03-04 | 2008-08-14 | コーニング インコーポレイテッド | パルスカスケードラマンレーザ |
Cited By (35)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010232650A (ja) * | 2009-03-04 | 2010-10-14 | Omron Corp | レーザ光源装置、レーザ加工装置、レーザ光源装置の制御装置、およびレーザ光源装置の制御方法 |
JP2011151223A (ja) * | 2010-01-22 | 2011-08-04 | Nikon Corp | レーザ装置 |
JP2012243789A (ja) * | 2011-05-16 | 2012-12-10 | Miyachi Technos Corp | ファイバレーザ加工装置及びレーザ加工方法 |
JP2014532894A (ja) * | 2011-10-19 | 2014-12-08 | オーエフエス ファイテル,エルエルシー | カスケード・ラマン・レージング・システム |
JP2017045075A (ja) * | 2011-10-19 | 2017-03-02 | オーエフエス ファイテル,エルエルシー | カスケード・ラマン・レージング・システム |
JP2013131724A (ja) * | 2011-12-22 | 2013-07-04 | Gigaphoton Inc | レーザ装置 |
JP2016505211A (ja) * | 2012-07-12 | 2016-02-18 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | レーザのスペクトル帯域幅の低減 |
JP2018152603A (ja) * | 2012-07-12 | 2018-09-27 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | レーザのスペクトル帯域幅の低減 |
JP2014049641A (ja) * | 2012-08-31 | 2014-03-17 | Sumitomo Electric Ind Ltd | レーザ光源 |
JP2015535927A (ja) * | 2012-09-11 | 2015-12-17 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | 固体照射光源及び検査システム |
KR102038737B1 (ko) * | 2013-02-13 | 2019-11-26 | 케이엘에이 코포레이션 | 193㎚ 레이저 및 검사 시스템 |
KR20150119040A (ko) * | 2013-02-13 | 2015-10-23 | 케이엘에이-텐코 코포레이션 | 193㎚ 레이저 및 검사 시스템 |
JP2016508627A (ja) * | 2013-02-13 | 2016-03-22 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | 193nmレーザー及び検査システム |
KR102157013B1 (ko) * | 2013-02-13 | 2020-09-16 | 케이엘에이 코포레이션 | 193㎚ 레이저 및 검사 시스템 |
KR20190122892A (ko) * | 2013-02-13 | 2019-10-30 | 케이엘에이 코포레이션 | 193㎚ 레이저 및 검사 시스템 |
JP2019082716A (ja) * | 2013-02-13 | 2019-05-30 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | 検査システム |
JP7075274B2 (ja) | 2013-04-29 | 2022-05-25 | ヌブル インク | 三次元プリンティングのための装置、システムおよび方法 |
JP2018150625A (ja) * | 2013-04-29 | 2018-09-27 | ヌブル インク | 三次元プリンティングのための装置、システムおよび方法 |
KR102257267B1 (ko) | 2013-06-11 | 2021-05-26 | 케이엘에이 코포레이션 | 안정성이 향상된 cw duv 레이저 |
KR20160018768A (ko) * | 2013-06-11 | 2016-02-17 | 케이엘에이-텐코 코포레이션 | 안정성이 향상된 cw duv 레이저 |
KR20200062371A (ko) * | 2013-06-11 | 2020-06-03 | 케이엘에이 코포레이션 | 안정성이 향상된 cw duv 레이저 |
KR102117566B1 (ko) * | 2013-06-11 | 2020-06-01 | 케이엘에이 코포레이션 | 안정성이 향상된 cw duv 레이저 |
JP2017502531A (ja) * | 2014-01-06 | 2017-01-19 | アイピージー フォトニクス コーポレーション | 連続波方式および疑似連続波方式で動作する超高出力の単一モード緑色ファイバレーザ |
JP2014089474A (ja) * | 2014-01-14 | 2014-05-15 | Nikon Corp | レーザ装置 |
JP2019194699A (ja) * | 2014-08-27 | 2019-11-07 | ヌブル インク | 可視ラマンレーザーを用いた材料加工のための用途、方法、及びシステム |
JP2017532613A (ja) * | 2014-09-16 | 2017-11-02 | アイピージー フォトニクス コーポレーション | Rgbディスプレイのための広帯域赤色光発生器 |
CN111929963A (zh) * | 2014-09-16 | 2020-11-13 | Ipg光子公司 | 用于rbg显示的宽带红光发生器 |
US10095084B2 (en) | 2015-10-15 | 2018-10-09 | The University Of Tokyo | Solid-state laser system and excimer laser system |
WO2017064789A1 (ja) * | 2015-10-15 | 2017-04-20 | 国立大学法人 東京大学 | 固体レーザシステムおよびエキシマレーザシステム |
JPWO2017064789A1 (ja) * | 2015-10-15 | 2018-08-02 | 国立大学法人 東京大学 | 固体レーザシステムおよびエキシマレーザシステム |
JP2019505844A (ja) * | 2016-01-22 | 2019-02-28 | セントレ ナシオナル デ ラ ルシェルシェ シエンティフィーク | 実質的に一定のエネルギーを有する多色光子ビームを発生させるための装置 |
JP7092434B2 (ja) | 2016-01-22 | 2022-06-28 | セントレ ナシオナル デ ラ ルシェルシェ シエンティフィーク | 実質的に一定のエネルギーを有する多色光子ビームを発生させるための装置 |
JP2021136439A (ja) * | 2020-02-21 | 2021-09-13 | トヨタ自動車株式会社 | 増幅ファイバ及びレーザ光出射装置 |
JP7414744B2 (ja) | 2020-02-21 | 2024-01-16 | トヨタ自動車株式会社 | 増幅ファイバ及びレーザ光出射装置 |
WO2023234322A1 (ja) * | 2022-06-01 | 2023-12-07 | 国立研究開発法人理化学研究所 | レーザ発振器およびレーザ発振方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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WO2007127356A2 (en) | 2007-11-08 |
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---|---|---|
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US9429813B2 (en) | Deep ultraviolet laser generation device and light source device | |
Kieleck et al. | OP-GaAs OPO pumped by 2µm Q-switched lasers: Tm; Ho: silica fiber laser and Ho: YAG laser | |
US20070237191A1 (en) | Devices for high power, high-repetition rate, broadly tunable coherent radiation, and its applications | |
Dai et al. | High-peak-power narrowband eye-safe intracavity Raman laser | |
JP2013201328A (ja) | ファイバ増幅装置とそのスペクトル幅を調整する方法及び該ファイバ増幅装置を備えるレーザ加工システムとその光損失を低減する方法 | |
Urata et al. | Deep UV light generation by a fiber/bulk hybrid amplifier at 199 nm | |
Kliner et al. | Efficient UV and visible generation using a pulsed, Yb-doped fiber amplifier | |
Kliner et al. | Efficient visible and UV generation by frequency conversion of a mode-filtered fiber amplifier | |
Akulov et al. | Tuning and doubling of the generation frequency of fiber lasers | |
Oku et al. | High power all-fiber picosecond laser system for UV light generation | |
Di Teodoro et al. | High-peak-power pulsed fiber sources |
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