JP2009505124A - 像投影システム、特に、マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズ - Google Patents
像投影システム、特に、マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズ Download PDFInfo
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Abstract
Description
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- 像投影システム、特に、マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズであって、
特定の動作波長において1.6より大きい屈折率nを有する立方結晶材料を含む少なくとも1つの光学要素(100)と、
前記屈折率nより小さい像側開口数NAとを有し、
前記屈折率nと前記像投影システムの前記開口数NAとの差(n−NA)が、大きくても0.2である像投影システム。 - 像投影システム、特に、マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズであって、
特定の動作波長において屈折率nを有する立方結晶材料を含む少なくとも1つの光学要素(100)と、
少なくとも1.5の像側開口数NAとを有し、
前記屈折率nと前記像投影システムの前記開口数NAとの差(n−NA)が、大きくても0.2である像投影システム。 - 像投影システム、特に、マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズであって、
特定の動作波長において屈折率nを有する立方結晶材料を含み、かつ、平坦光射出表面を有する少なくとも1つの光学要素(100)と、
前記屈折率nより小さい像側開口数NAとを有し、
前記屈折率nと前記像投影システムの前記開口数NAとの差(n−NA)が、大きくても0.2である像投影システム。 - 前記屈折率nと前記開口数NAとの差(n−NA)が、0.05〜0.20の範囲に、好ましくは、0.05〜0.15の範囲に、特別な選好によっては、0.05〜0.10の範囲にあることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の像投影システム。
- 前記立方結晶材料が酸化物を含むことを特徴とする前記請求項のいずれか一項に記載の像投影システム。
- 前記立方結晶材料が、サファイア(Al2O3)を含み、かつ酸化カリウム又は酸化カルシウムを含むことを特徴とする請求項5に記載の像投影システム。
- 前記立方結晶材料が、7Al2O3・12CaO、Al2O3・K2O、Al2O3・3CaO、Al2O3・SiO2KO、Al2O3・SiO22K、Al2O3・3CaO6H2Oを含有するグループから選択される少なくとも1つの材料を含むことを特徴とする前記請求項のいずれか一項に記載の像投影システム。
- 前記立方結晶材料が、酸化カルシウム、酸化ナトリウム、酸化シリコンを含むことを特徴とする前記請求項のいずれか一項に記載の像投影システム。
- 前記立方結晶材料が、CaNa2SiO4及びCaNa4Si3O9を含有するグループから選択される少なくとも1つの材料を含むことを特徴とする前記請求項のいずれか一項に記載の像投影システム。
- 前記立方結晶材料が、Sr(NO3)2、MgONa2O・SiO2、Ca(NO3)2を含有するグループから選択される少なくとも1つの材料を含むことを特徴とする前記請求項のいずれか一項に記載の像投影システム。
- 前記光学要素(100)が、前記像投影システムの像側に対して最後の位置に配置される屈折力を有するレンズであることを特徴とする前記請求項のいずれか一項に記載の像投影システム。
- 前記光学要素(100)が、屈折力を有する第1部分要素(10)と実質的に全く屈折力を持たない第2部分要素(20)からなることを特徴とする前記請求項のいずれか一項に記載の像投影システム。
- 前記第1部分要素(10)が、実質的に平凸状のレンズであることを特徴とする請求項12に記載の像投影システム。
- 前記第2部分要素(20)が、平行平面板であることを特徴とする請求項12又は13に記載の像投影システム。
- 前記立方結晶材料が、前記第1部分要素(10)内に存在し、一方、実質的に屈折力の無い状態の前記第2部分要素(20)が、前記第1部分要素(10)内の材料より大きな屈折率を有する第2材料を含むことを特徴とする請求項12から14のいずれか一項に記載の像投影システム。
- 前記第2材料が、マグネシウム・スピネル(MgAl2O4)、イットリウム・アルミニウム・ガーネット(Y3Al5O12)、酸化マグネシウム(MgO)、スカンジウム・アルミニウム・ガーネット(Sc3Al5O12)を含有するグループから選択されることを特徴とする請求項15に記載の像投影システム。
- 前記第2部分要素(20)が、1つの要素軸を有し、かつ、同じ結晶学的カットであり、かつ、その向きが前記要素軸の周りで互いに対して回転した状態で配列される少なくとも2つのコンポーネント部を有することを特徴とする請求項12から16のいずれか一項に記載の像投影システム。
- 前記第1コンポーネント部(21)と前記第2コンポーネント部(22)が、それぞれ、結晶学的(111)カットであり、かつ、その向きが前記要素軸の周りで互いに対して60°+k×120°(k=0,1,2,…)だけ回転した状態で配列されることを特徴とする請求項17に記載の像投影システム。
- 前記第1コンポーネント部と前記第2コンポーネント部が、それぞれ、結晶学的(100)カットであり、かつ、その向きが前記要素軸の周りで互いに対して45°+l×90°(l=0,1,2,…)だけ回転した状態で配列されることを特徴とする請求項17に記載の像投影システム。
- 前記第2部分要素が、1つの要素軸と少なくとも4つのコンポーネント部(21〜24)を有し、第1コンポーネント部(21)と第2コンポーネント部(22)が、それぞれ、結晶学的(111)カットであり、かつ、その向きが前記要素軸の周りで互いに対して60°+k×120°(k=0,1,2,…)だけ回転した状態で配列され、第3コンポーネント部(23)と第4コンポーネント部(24)が、それぞれ、結晶学的(100)カットであり、かつ、その向きが前記要素軸の周りで互いに対して45°+l×90°(l=0,1,2,…)だけ回転した状態で配列されることを特徴とする請求項12から19のいずれか一項に記載の像投影システム。
- 前記動作波長が、250nmより短い、好ましくは、200nmより短い、特別な選好によっては、160nmより短いことを特徴とする前記請求項のいずれか一項に記載の像投影システム。
- 前記請求項のいずれか一項に記載の、像投影システムである投影対物レンズを有するマイクロリソグラフィ投影露光装置。
- 微細構造コンポーネントをマイクロリソグラフィにより製造する方法であって、
光感応性材料のコーティングが、少なくとも一部の上に堆積される基板(206)を設けるステップと、
その像が形成される構造を保持するマスク(204)を設けるステップと、
請求項22に記載の投影露光装置(200)を用意するステップと、
前記投影露光装置(200)によって、前記コーティング・エリア上に前記マスク(204)の少なくとも一部を投影するステップとを有する方法。 - 請求項23に記載の方法によって生産される微細構造コンポーネント。
- マイクロリソグラフィ投影露光装置(200)の投影対物レンズ内の光学要素(100)を製造するための原料としての材料であって、7Al2O3・12CaO、Al2O3・K2O、Al2O3・3CaO、Al2O3・SiO2KO、Al2O3・SiO22K、Al2O3・3CaO6H2O、CaNa2SiO4、CaNa4Si3O9、Sr(NO3)2、MgONa2O・SiO2、Ca(NO3)2を含有するグループから選択される、材料の使用法。
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