JP2009270026A - 液晶組成物および液晶表示素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 第一成分として特に負に大きな誘電率異方性を有する特定の化合物、第二成分として小さな粘度を有する特定の二環化合物、第三成分として高い上限温度を有する特定の化合物、および第四成分として負に大きな誘電率異方性を有し、そして低い下限温度を有する特定の化合物含有し、そして負の誘電率異方性を有する液晶組成物、およびこの組成物を含有する液晶表示素子である。
【選択図】 なし
Description
ここで、R1、R2、R3およびR4は独立して、炭素数1から12のアルキル、炭素数1から12のアルコキシ、炭素数2から12のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数2から12のアルケニルであり;環Aおよび環Bは独立して、1,4−シクロへキシレンまたは1,4−フェニレンであり;Z1は、メチレンオキシまたはカルボニルオキシであり;Z2は、単結合、エチレン、ビニレン、メチレンオキシ、またはカルボニルオキシであり;mは1または2である。
1. 第一成分として式(1)で表される化合物の群から選択された少なくとも1つの化合物、および第二成分として式(2)で表される化合物の群から選択された少なくとも1つの化合物を含有し、そして負の誘電率異方性を有する液晶組成物。
ここで、R1、R2、R3およびR4は独立して、炭素数1から12のアルキル、炭素数1から12のアルコキシ、炭素数2から12のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数2から12のアルケニルであり;環Aおよび環Bは独立して、1,4−シクロへキシレンまたは1,4−フェニレンであり;Z1は、メチレンオキシまたはカルボニルオキシであり;Z2は、単結合、エチレン、ビニレン、メチレンオキシ、またはカルボニルオキシであり;mは1または2である。
ここで、R7は、炭素数2から12のアルケニルであり;R2は、炭素数1から12のアルキル、炭素数1から12のアルコキシ、炭素数2から12のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数2から12のアルケニルであり;Z1は、メチレンオキシまたはカルボニルオキシであり;mは1または2である。
ここで、R3およびR4は独立して、炭素数1から12のアルキル、炭素数1から12のアルコキシ、炭素数2から12のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数2から12のアルケニルである。
ここで、R3およびR4は独立して、炭素数1から12のアルキル、炭素数1から12のアルコキシ、炭素数2から12のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数2から12のアルケニルであり;環C、環Dおよび環Eは独立して、1,4−シクロへキシレン、1,4−フェニレン、2−フルオロ−1,4−フェニレンまたは2,5−ジフルオロ−1,4−フェニレンであり;Z2は、単結合、エチレン、ビニレン、メチレンオキシ、またはカルボニルオキシであり;nは1または2である。
ここで、R3およびR4は独立して、炭素数1から12のアルキル、炭素数1から12のアルコキシ、炭素数2から12のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数2から12のアルケニルである。
ここで、R5およびR6は独立して、炭素数1から12のアルキル、炭素数1から12のアルコキシ、炭素数2から12のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数2から12のアルケニルであり;環Aは、1,4−シクロへキシレンまたは1,4−フェニレンであり;Z3は、単結合、エチレン、メチレンオキシ、またはカルボニルオキシであり;pは1、2または3である。
ここで、R5およびR6は独立して、炭素数1から12のアルキル、炭素数1から12のアルコキシ、炭素数2から12のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数2から12のアルケニルである。
23. 式(1−1)で表される化合物。
ここで、R7は、炭素数2から12のアルケニルであり;R2は、炭素数1から12のアルキル、炭素数1から12のアルコキシ、炭素数2から12のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数2から12のアルケニルであり;Z1は、メチレンオキシまたはカルボニルオキシであり;mは1または2である。
以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例によっては制限されない。なお特に断りのない限り、「%」は「重量%」を意味する。
測定装置は、DRX−500(ブルカーバイオスピン(株)社製)を用いた。測定は、実施例等で製造したサンプルを、CDCl3等のサンプルが可溶な重水素化溶媒に溶解し、室温で、500MHz、積算回数32回の条件で行った。なお、得られた核磁気共鳴スペクトルの説明において、sはシングレット、dはダブレット、tはトリプレット、qはカルテット、mはマルチプレット、brはブロードであることを意味する。また、化学シフトδ値のゼロ点の基準物質としてはテトラメチルシラン(TMS)を用いた。
測定装置は、島津製作所製のGC−14B型ガスクロマトグラフを用いた。カラムは、島津製作所製のキャピラリーカラムCBP1−M25−025(長さ25m、内径0.22mm、膜厚0.25μm);固定液相はジメチルポリシロキサン;無極性)を用いた。キャリアーガスとしてはヘリウムを用い、流量は1ml/分に調整した。試料気化室の温度を280℃、検出器(FID)部分の温度を300℃に設定した。
記録計としては島津製作所製のC−R6A型Chromatopac、またはその同等品を用いた。得られたガスクロマトグラムには、成分化合物に対応するピークの保持時間およびピークの面積値が示されている。
液晶性化合物の物性値を測定する試料としては、化合物そのものを試料とする場合、化合物を母液晶と混合して試料とする場合の2種類がある。
)/〈液晶性化合物の重量%〉
液晶性化合物と母液晶との割合がこの割合であっても、スメクチック相、または結晶が25℃で析出する場合には、液晶性化合物と母液晶との割合を10重量%:90重量%、5重量%:95重量%、1重量%:99重量%の順に変更をしていき、スメクチック相、または結晶が25℃で析出しなくなった組成で試料の物性値を測定しこの式にしたがって外挿値を求めて、これを液晶性化合物の物性値とする。
母液晶i:
〔液晶性化合物等の物性値の測定方法〕
物性値の測定は後述する方法で行った。これら測定方法の多くは、日本電子機械工業会規格(Standard of Electric Industries Association of Japan)EIAJ・ED−2521Aに記載された方法、またはこれを修飾した方法である。また、測定に用いたTN素子またはVA素子には、TFTを取り付けなかった。
以下(1)、および(2)の方法で測定を行った。
(1)偏光顕微鏡を備えた融点測定装置のホットプレート(メトラー社FP−52型ホットステージ)に化合物を置き、3℃/分の速度で加熱しながら相状態とその変化を偏光顕微鏡で観察し、相の種類を特定した。
(2)パーキンエルマー社製走査熱量計DSC−7システム、またはDiamond DSCシステムを用いて、3℃/分速度で昇降温し、試料の相変化に伴う吸熱ピーク、または発熱ピークの開始点を外挿により求め(on set)、転移温度を決定した。
1)誘電率(ε‖)の測定:よく洗浄したガラス基板にオクタデシルトリエトキシシラン(0.16mL)のエタノール(20mL)溶液を塗布した。ガラス基板をスピンナーで回転させたあと、150℃で1時間加熱した。2枚のガラス基板の間隔(セルギャップ)が4μmであるVA素子に試料を入れ、この素子を紫外線で硬化する接着剤で密閉した。この素子にサイン波(0.5V、1kHz)を印加し、2秒後に液晶分子の長軸方向における誘電率(ε‖)を測定した。
2)誘電率(ε⊥)の測定:よく洗浄したガラス基板にポリイミド溶液を塗布した。このガラス基板を焼成した後、得られた配向膜にラビング処理をした。2枚のガラス基板の間隔(セルギャップ)が9μmであり、ツイスト角が80度であるTN素子に試料を入れた。この素子にサイン波(0.5V、1kHz)を印加し、2秒後に液晶分子の短軸方向における誘電率(ε⊥)を測定した。
表3において、1,4−シクロヘキシレンに関する立体配置はトランスである。実施例において記号の後にあるかっこ内の番号は好ましい化合物の番号に対応する。(−)の記号はその他の液晶性化合物を意味する。液晶性化合物の割合(百分率)は、液晶組成物の全重量に基づいた重量百分率(重量%)であり、液晶組成物にはこの他に不純物が含有している。最後に、組成物の特性値をまとめた。
4’−エトキシ−2,3,2',3'−テトラフルオロ−4−(4’−ビニルビシクロヘキシル−4−イルメトキシ)−ビフェニル(a7)の合成
反応器へマグネシウム(Mg) 6.15gおよびテトラヒドロフラン(THF)50mlを加え、窒素雰囲気下、44℃で攪拌した。そこへTHF 130mlへ溶解した1−ブロモ−4−エトキシ−2,3−ジフルオロベンゼン(a1) 60.0gを38〜49℃の温度範囲で1時間かけて滴下した。得られた溶液を、THF 200mlとホウ酸トリメチル 39.5gの溶液中へ、−50〜−30℃の温度範囲で滴下した。得られた反応液を0℃に冷却した1N 塩酸 500mlおよび酢酸エチル 600mlの混合液へ注ぎ込み、その後静置して有機層と水層とに分離させて、有機層への抽出操作を行った。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮して残渣を得た。得られた残渣をヘプタンからの再結晶により精製し、乾燥させ、黄色の4−エトキシ−2,3−ジフルオロフェニルボロン酸(a2)41.6gを得た。
反応器へ化合物(a2) 20.0g、4−ブロモ−2,3−ジフルオロフェノール(a3) 17.2g、炭酸ナトリウム 30.6g、炭素担持パラジウム(Pd/C) 0.54gおよび2−プロパノール(IPA)120mlを加え、環留下、10時間攪拌した。反応液を室温まで冷却後、0℃に冷却した1N 塩酸 500mlおよびトルエン 300mlの混合液へ注ぎ込み、その後静置して有機層と水層とに分離させて、有機層への抽出操作を行った。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮して残渣を得た。得られた残渣をヘプタンからの再結晶により精製し、乾燥させ、白色の4'−エトキシ−2,3,2',3'−テトラフルオロビフェニル−4−オール(a4)13.2gを得た。
反応器へ(4'−ビニルビシクロヘキシル−4−イル)−メタノール(a5) 20.0g、およびピリジン 100mlを加え、5℃で攪拌した。この溶液に、p−トルエンスルホニルクロリド(p−TsCl) 34.3gをトルエン 50mlに溶解した溶液を、滴下し、さらに室温で20時間攪拌した。得られた反応混合物を、0℃に冷却した水 200mlおよびトルエン 200mlの混合液へ注ぎ込み、その後静置して有機層と水層とに分離させて、有機層への抽出操作を行った。得られた有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮して残渣を得た。得られた残渣をシリカゲルを充填剤、トルエンを展開溶媒としたカラムクロマトグラフィーにて精製し、減圧下濃縮すること白色の4’−ビニルビシクロヘキシル−4−イルメチル トルエン−4−スルホン酸 (a6) 32.1gを得た。
なお、化合物(a5)は国際公開第2006/064853号パンフレットに記載されている方法などにより合成することができる。
反応器に化合物(a4) 4.0g、化合物(a6) 5.3g、水酸化カリウム(KOH) 1.2gおよびN,N−ジメチルホルムアミド(DMF) 30mlを加え、60℃で14時間、攪拌した。反応混合物を30℃まで冷却し、水 100mlとトルエン 100mlとを加え混合した。その後、静置して有機層と水層の2層に分離させて、有機層への抽出操作を行った。得られた有機層を分取して、水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。その後、減圧下、溶媒を留去し、得られた残渣をトルエンを展開溶媒、シリカゲルを充填剤として用いたカラムクロマトグラフィーによる分取操作で精製した。さらにソルミックスA−11とトルエンの混合溶媒(体積比 ソルミックスA−11:トルエン=1:2)からの再結晶により精製し、乾燥させ、4’−エトキシ−2,3,2',3'−テトラフルオロ−4−(4’−ビニルビシクロヘキシル−4−イルメトキシ)−ビフェニル(a7)2.5gを得た。
相転移温度 :Cr 131.5 N 230.1 Iso。
窒素雰囲気下、トルエン 200mlへ化合物(a8) 12.0g、イミダゾール 7.6gおよびトリフェニルホスフィン(Ph3P) 29.2gを加え、5℃で攪拌した。そこへヨウ素 27.2gを10分割して、5〜10℃の温度範囲で加え、さらに3時間攪拌し、GC分析により反応が終了していることを確認した。得られた反応混合物を濾過により析出物を取り除き、得られた濾液から減圧下、溶媒を留去した。得られた残渣をヘプタンを展開溶媒、シリカゲルを充填剤として用いたカラムクロマトグラフィーによる分取操作で精製し、乾燥させ、1−ヨードメチル−トランス−4−ビニルシクロヘキサン(a9)15.2gを得た。
なお、化合物(a8)は国際公開第2006/064853号パンフレットに記載されている方法などにより合成することができる。
窒素雰囲気下、DMF 20mlに化合物(a4) 4.4g、および炭酸ナトリウム 3.2gを加え、80℃で攪拌した。そこへ化合物(a9) 3.8gを加え、80℃で、1時間攪拌した。得られた反応混合物を30℃まで冷却し、トルエン 30ml、および水 30mlを加え混合した。その後、静置して有機層と水層の2層に分離させて、有機層への抽出操作を行った。得られた有機層を分取して、食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。その後、減圧下、溶媒を留去し、得られた残渣をヘプタンとトルエンの混合溶媒(体積比 ヘプタン:トルエン=4:1)を展開溶媒、シリカゲルを充填剤として用いたカラムクロマトグラフィーによる分取操作で精製した。さらにソルミックスA−11とヘプタンの混合溶媒(体積比 ソルミックスA−11:ヘプタン=1:2)からの再結晶により精製し、乾燥させ、4'−エトキシ−2,3,2',3'−テトラフルオロ−4−(トランス−4−ビニルシクロヘキシルメトキシ)−ビフェニル(a10)1.8gを得た。
相転移温度 :Cr (66.4 N) 104.8 Iso
特開2007−2132号公報に開示された組成物の中から実施例12を選んだ。根拠は、この組成物が化合物(1)および化合物(3)を含有しているからである。この組成物の成分および特性は下記のとおりである。25℃における応答時間についての記載がなかったため、本組成物を調製し、上述した方法により測定した。
3−HB(F)−3 (−) 2%
3−HHB(2F)−1 (3) 3%
3−HHB(2F)−2 (3) 4%
3−HHB(F)−O2 (3) 3%
3−HBB(F)−O2 (3) 3%
3−HH1OB(2F)−O2 (3) 3%
3−HxB(2F,3F)−1 (−) 8%
3−H2XB(2F,3F)−O1 (−) 12%
3−H1OB(2F,3F)B(2F,3F)−O2 (1) 2%
3−HO1(2F,3F)B(2F,3F)−O2 (−) 2%
3−HXB(2CF3)B(2F,3F)−O1 (−) 1%
3−HXB(2F)B(2F,3F)−O1 (−) 3%
3−HxB(F)B(2F,3F)−O1 (−) 6%
3−H2xB(2F,3F)B(2F,3F)−1 (−) 4%
3−HB2B(2CF2H,3F)B−O2 (−) 1%
3−HB1OB(2CF2H,3F)B−O2 (−) 2%
5−HBO1B(2CF2H,3F)B−1 (−) 1%
3−HXB(2F,3F)B−O2 (−) 1%
3−HxB(2F,3F)B−O1 (−) 1%
3−HHxB(2F,3F)−O1 (−) 4%
3−HH2XB(2F,3F)−1 (−) 6%
3−HB(2F,3F)XB(2F,3F)−1 (−) 4%
3−HB2XB(2F,3F)−O1 (−) 10%
3−HB2xB(2F,3F)−O2 (−) 10%
3−HB(2F,3F)2xB(2F,3F)−O1 (−) 4%
NI=100.0℃;Tc≦−20℃;Δn=0.109;η=50.0mPa・s;Δε=−4.3;τ=25.3ms
実施例3の組成物は、比較例1のそれと比較して、小さな粘度および小さな応答時間を有する。
3−HH1OB(2F,3F)B(2F,3F)−O4 (1) 4%
5−HH1OB(2F,3F)B(2F,3F)−O4 (1) 3%
3−HHEB(2F,3F)B(2F,3F)−O4 (1) 3%
5−HHEB(2F,3F)B(2F,3F)−O2 (1) 3%
3−HEB(2F,3F)B(2F,3F)−O2 (1) 6%
5−HEB(2F,3F)B(2F,3F)−O2 (1) 4%
V−H1OB(2F,3F)B(2F,3F)−O4 (1−1−3) 3%
V−HH−3 (2−1−1) 42%
1V−HH−3 (2−1−1) 6%
7−HB−1 (2−2−1) 4%
V2−BB−1 (2−3−1) 6%
3−HB(2F,3F)−O2 (4−1−1) 8%
5−HB(2F,3F)−O2 (4−1−1) 8%
NI=74.4℃;Tc≦−20℃;Δn=0.086;η=17.6mPa・s;Δε=−3.3;Vth=2.16V;τ=7.2ms;VHR−1=99.1%;VHR−2=98.2%;VHR−3=98.2%.
実施例4の組成物は、比較例1のそれと比較して、小さな粘度および小さな応答時間を有する。
3−HH1OB(2F,3F)B(2F,3F)−O4 (1) 3%
5−HH1OB(2F,3F)B(2F,3F)−O4 (1) 3%
3−H1OB(2F,3F)B(2F,3F)−O4 (1) 4%
5−H1OB(2F,3F)B(2F,3F)−O4 (1) 3%
V−HH1OB(2F,3F)B(2F,3F)−O4 (1−1−1) 3%
V−HH−3 (2−1−1) 31%
3−HB−O2 (2−2−1) 4%
V−HHB−1 (3−1−1) 9%
3−BB(F)B−2V (3−3−1) 3%
V−HB(2F,3F)−O2 (4−1−1) 8%
V−HB(2F,3F)−O4 (4−1−1) 10%
3−H2B(2F,3F)−O2 (4−2−1) 5%
V−HHB(2F,3F)−O2 (4−4−1) 7%
V−HHB(2F,3F)−O4 (4−4−1) 7%
NI=76.6℃;Tc≦−20℃;Δn=0.093;η=24.5mPa・s;Δε=−3.0;Vth=2.29V;τ=8.9ms;VHR−1=99.1%;VHR−2=98.3%;VHR−3=98.2%.
実施例5の組成物は、比較例1のそれと比較して、小さな粘度および小さな応答時間を有する。
3−HHEB(2F,3F)B(2F,3F)−O4 (1) 4%
5−HHEB(2F,3F)B(2F,3F)−O2 (1) 3%
3−HEB(2F,3F)B(2F,3F)−O4 (1) 5%
5−HEB(2F,3F)B(2F,3F)−O2 (1) 4%
V−HH−3 (2−1−1) 28%
V−HH−5 (2−1−1) 7%
3−HHB−1 (3−1−1) 6%
2−BB(F)B−3 (3−3−1) 4%
3−HHEH−3 (3−8) 3%
3−HHEH−5 (3−8) 3%
V−HHB(2F,3F)−O2 (4−4−1) 10%
V−HHB(2F,3F)−O4 (4−4−1) 10%
2−HBB(2F,3F)−O2 (4−6−1) 5%
3−HBB(2F,3F)−O2 (4−6−1) 8%
NI=87.3℃;Tc≦−20℃;Δn=0.098;η=25.6mPa・s;Δε=−2.9;Vth=2.38V;τ=9.2ms;VHR−1=99.2%;VHR−2=98.0%;VHR−3=98.3%.
3−H1OB(2F,3F)B(2F,3F)−O4 (1) 4%
V−HHEB(2F,3F)B(2F,3F)−O4 (1−1−2) 5%
V−HEB(2F,3F)B(2F,3F)−O4 (1−1−4) 5%
2−HH−3 (2−1−1) 7%
3−HH−O1 (2−1−1) 5%
V−HH−3 (2−1−1) 30%
1V−HBB−2 (3−2−1) 3%
3−HHEBH−5 (3−4−1) 3%
3−HB(F)BH−5 (3−6−1) 3%
3−H1OB(2F,3F)−O2 (4−3−1) 7%
3−H1OB(2F,3F)−O4 (4−3−1) 7%
5−H1OB(2F,3F)−O2 (4−3−1) 6%
3−HH1OB(2F,3F)−O2 (4−5−1) 8%
3−HH1OB(2F,3F)−O2 (4−5−1) 7%
NI=72.1℃;Tc≦−20℃;Δn=0.98;η=24.1mPa・s;Δε=−3.2;Vth=2.19V;τ=8.9ms;VHR−1=99.1%;VHR−2=98.1%;VHR−3=98.0%.
3−H1OB(2F,3F)B(2F,3F)−O4 (1) 3%
5−H1OB(2F,3F)B(2F,3F)−O4 (1) 3%
5−HH1OB(2F,3F)B(2F,3F)−O4 (1) 3%
V−HH−3 (2−1−1) 25%
1V−HH−3 (2−1−1) 7%
5−BB−1 (2−3−1) 3%
V2−BB(F)B−3 (3−3−1) 3%
3−HBBH−5 (3−5−1) 3%
5−HBB(F)B−3 (3−7−1) 6%
V−HB(2F,3F)−O2 (4−1−1) 10%
V−HB(2F,3F)−O4 (4−1−1) 10%
5−BB(2F,3F)−O2 (4−7) 5%
3−HBB(2F,3F)−O2 (4−6−1) 10%
5−HBB(2F,3F)−O2 (4−6−1) 9%
NI=82.2℃;Tc≦−20℃;Δn=0.113;η=25.7mPa・s;Δε=−2.9;Vth=2.31V;τ=9.1ms;VHR−1=99.1%;VHR−2=98.2%;VHR−3=98.1%.
3−H1OB(2F,3F)B(2F,3F)−O4 (1) 3%
5−H1OB(2F,3F)B(2F,3F)−O4 (1) 3%
2−HH−3 (2−1−1) 28%
3−HH−O1 (2−1−1) 13%
3−HB−O2 (2−2−1) 8%
V−HHB(2F,3F)−O2 (4−4−1) 10%
3−HBB(2F,3F)−O2 (4−6−1) 11%
5−HBB(2F,3F)−O2 (4−6−1) 11%
3−HH2B(2F,3F)−O2 (4−8) 9%
1O1−HBBH−5 (−) 4%
NI=90.0℃;Tc≦−20℃;Δn=0.093;η=21.8mPa・s;Δε=−2.8;Vth=2.44V;τ=8.2ms;VHR−1=99.1%;VHR−2=98.2%;VHR−3=98.1%.
Claims (23)
- 第一成分として式(1)で表される化合物の群から選択された少なくとも1つの化合物、および第二成分として式(2)で表される化合物の群から選択された少なくとも1つの化合物を含有し、そして負の誘電率異方性を有する液晶組成物。
ここで、R1、R2、R3およびR4は独立して、炭素数1から12のアルキル、炭素数1から12のアルコキシ、炭素数2から12のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数2から12のアルケニルであり;環Aおよび環Bは独立して、1,4−シクロへキシレンまたは1,4−フェニレンであり;Z1は、メチレンオキシまたはカルボニルオキシであり;Z2は、単結合、エチレン、ビニレン、メチレンオキシ、またはカルボニルオキシであり;mは1または2である。 - 第二成分が式(2−1)で表される化合物の群から選択された少なくとも1つの化合物である請求項3に記載の液晶組成物。
- 第二成分が、式(2−1)で表される化合物の群から選択された少なくとも1つの化合物、および式(2−3)で表される化合物の群から選択された少なくとも1つの化合物の混合物である請求項3に記載の液晶組成物。
- 液晶組成物の全重量に基づいて、第一成分の割合が5重量%から40重量%の範囲であり、そして第二成分の割合が25重量%から70重量%の範囲である請求項1から5のいずれか1項に記載の液晶組成物。
- 第三成分として式(3)で表される化合物の群から選択された少なくとも1つの化合物をさらに含有する、請求項1から6のいずれか1項に記載の液晶組成物。
ここで、R3およびR4は独立して、炭素数1から12のアルキル、炭素数1から12のアルコキシ、炭素数2から12のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数2から12のアルケニルであり;環C、環Dおよび環Eは独立して、1,4−シクロへキシレン、1,4−フェニレン、2−フルオロ−1,4−フェニレン、または2,5−ジフルオロ−1,4−フェニレンであり;Z2は、単結合、エチレン、ビニレン、メチレンオキシ、またはカルボニルオキシであり;nは1または2である。 - 第三成分が、式(3−1)で表される化合物の群から選択された少なくとも1つの化合物である請求項8に記載の液晶組成物。
- 第三成分が、式(3−3)で表される化合物の群から選択された少なくとも1つの化合物である請求項8に記載の液晶組成物。
- 第三成分が、式(3−1)で表される化合物の群から選択された少なくとも1つの化合物、および式(3−3)で表される化合物の群から選択された少なくとも1つの化合物の混合物である請求項8に記載の液晶組成物。
- 液晶組成物の全重量に基づいて、第三成分の割合が5重量%から30重量%の範囲である請求項7から11のいずれか1項に記載の液晶組成物。
- 第四成分が式(4−1)で表される化合物の群から選択された少なくとも1つの化合物である請求項14に記載の液晶組成物。
- 第四成分が、式(4−1)で表される化合物の群から選択された少なくとも1つの化合物、および式(4−4)で表される化合物の群から選択された少なくとも1つの化合物の混合物である請求項14に記載の液晶組成物。
- 第四成分が、式(4−1)で表される化合物の群から選択された少なくとも1つの化合物、および式(4−6)で表される化合物の群から選択された少なくとも1つの化合物の混合物である請求項14に記載の液晶組成物。
- 第四成分が、式(4−1)で表される化合物の群から選択された少なくとも1つの化合物、式(4−4)で表される化合物の群から選択された少なくとも1つの化合物、および式(4−6)で表される化合物の群から選択された少なくとも1つの化合物の混合物である請求項14に記載の液晶組成物。
- 液晶組成物の全重量に基づいて、第四成分の割合が5重量%から60重量%の範囲である請求項13から18のいずれか1項に記載の液晶組成物。
- ネマチック相の上限温度が70℃以上であり、波長589nmにおける光学異方性(25℃)が0.08以上であり、そして周波数1kHzにおける誘電率異方性(25℃)が−2以下である請求項1から19のいずれか1項に記載の液晶組成物。
- 請求項1から20のいずれか1項に記載の液晶組成物を含有する液晶表示素子。
- 液晶表示素子の動作モードが、VAモード、IPSモードまたはPSAモードであり、液晶表示素子の駆動方式がアクティブマトリックス方式である請求項21に記載の液晶表示素子。
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Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010095506A1 (ja) * | 2009-02-19 | 2010-08-26 | チッソ株式会社 | テトラヒドロピランおよび2,2',3,3'-テトラフルオロビフェニルを有する4環液晶性化合物、液晶組成物および液晶表示素子 |
JP2010270074A (ja) * | 2009-05-22 | 2010-12-02 | Dic Corp | フルオロベンゼン誘導体及びこの化合物を含有する液晶組成物 |
JP2011144274A (ja) * | 2010-01-15 | 2011-07-28 | Jnc Corp | 液晶組成物および液晶表示素子 |
WO2011152494A1 (ja) * | 2010-06-03 | 2011-12-08 | Jnc株式会社 | 液晶組成物および液晶表示素子 |
WO2012046590A1 (ja) | 2010-10-04 | 2012-04-12 | Jnc株式会社 | 液晶組成物および液晶表示素子 |
JP2012513482A (ja) * | 2008-12-22 | 2012-06-14 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 液晶ディスプレイ |
US8361344B2 (en) | 2009-10-26 | 2013-01-29 | Jnc Corporation | Liquid crystal composition and liquid crystal display device |
JP2014038313A (ja) * | 2012-08-20 | 2014-02-27 | Beijing Boe Optoelectronics Technology Co Ltd | 液晶ディスプレイパネル及びその製造方法、並びに液晶表示装置 |
WO2014126129A1 (ja) * | 2013-02-15 | 2014-08-21 | Dic株式会社 | 液晶組成物及びそれを使用した液晶表示素子 |
US8821993B2 (en) | 2010-10-20 | 2014-09-02 | Jnc Corporation | Liquid crystal composition and liquid crystal display device |
CN108239538A (zh) * | 2016-12-23 | 2018-07-03 | 江苏和成显示科技有限公司 | 一种介电各向异性为负的液晶组合物及其应用 |
JP2019501239A (ja) * | 2015-11-19 | 2019-01-17 | ジアンスー ヘチェン ディスプレイ テクノロジー カンパニー リミテッド | 液晶組成物およびそのディスプレイデバイス |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5526762B2 (ja) * | 2009-02-17 | 2014-06-18 | Jnc株式会社 | 誘電率異方性が負の液晶性化合物、これを用いた液晶組成物および液晶表示素子 |
JP5515505B2 (ja) * | 2009-08-12 | 2014-06-11 | Jnc株式会社 | 液晶組成物および液晶表示素子 |
TWI506124B (zh) | 2010-05-28 | 2015-11-01 | Jnc Corp | 液晶組成物以及液晶顯示元件 |
WO2012066933A1 (ja) * | 2010-11-15 | 2012-05-24 | Jnc株式会社 | 液晶組成物および液晶表示素子 |
JP2014516366A (ja) * | 2011-03-29 | 2014-07-10 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 液晶媒体 |
CN106318405B (zh) * | 2013-07-31 | 2022-02-18 | 江苏和成显示科技有限公司 | 液晶组合物及其应用 |
CN104342167B (zh) * | 2013-08-02 | 2016-12-28 | 江苏和成显示科技股份有限公司 | 聚合性液晶组合物及其显示器件 |
CN104342170B (zh) * | 2013-08-02 | 2016-12-28 | 江苏和成显示科技股份有限公司 | 聚合性液晶组合物及其显示器件 |
CN104371740B (zh) * | 2013-08-14 | 2017-03-01 | 江苏和成显示科技股份有限公司 | 液晶组合物及其应用 |
CN104371741B (zh) * | 2013-08-16 | 2016-12-28 | 江苏和成显示科技股份有限公司 | 液晶组合物及其应用 |
CN104419427B (zh) * | 2013-08-20 | 2016-12-28 | 江苏和成显示科技股份有限公司 | 液晶组合物及其应用 |
CN103540324B (zh) * | 2013-09-05 | 2015-05-20 | 烟台万润精细化工股份有限公司 | 一种乙烯基环己基甲醚类液晶化合物及其制备方法 |
CN106753425B (zh) * | 2015-11-19 | 2018-09-28 | 江苏和成显示科技有限公司 | 液晶组合物及其显示器件 |
CN106753426B (zh) * | 2015-11-19 | 2018-12-18 | 江苏和成显示科技有限公司 | 液晶组合物及其显示器件 |
CN106753427B (zh) * | 2015-11-19 | 2018-12-18 | 江苏和成显示科技有限公司 | 液晶组合物及其显示器件 |
CN107619668B (zh) * | 2016-07-15 | 2020-02-21 | 北京八亿时空液晶科技股份有限公司 | 一种含有多氟联苯液晶化合物的液晶组合物及其应用 |
CN107815322B (zh) * | 2016-09-14 | 2021-01-26 | 江苏和成显示科技有限公司 | 液晶化合物、液晶组合物及显示器件 |
CN108611103B (zh) * | 2016-12-09 | 2021-08-20 | 江苏和成显示科技有限公司 | 一种包含可聚合化合物的液晶组合物及其应用 |
CN108239548B (zh) * | 2016-12-23 | 2021-07-13 | 江苏和成显示科技有限公司 | 电压稳定性高,频率依赖性好的液晶组合物及其显示器件 |
CN107794055A (zh) * | 2017-11-06 | 2018-03-13 | 晶美晟光电材料(南京)有限公司 | 一种负型液晶混合物及其应用 |
WO2021253625A1 (zh) * | 2020-06-16 | 2021-12-23 | 石家庄诚志永华显示材料有限公司 | 一种负性液晶组合物、液晶显示元件或液晶显示器 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02503441A (ja) * | 1988-03-10 | 1990-10-18 | メルク・パテント・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | ジフルオロベンゼン誘導体 |
WO1998023564A1 (fr) * | 1996-11-28 | 1998-06-04 | Chisso Corporation | Derives de benzene a substitution de fluor, composition a cristaux liquides et element d'affichage a cristaux liquides |
JPH11116512A (ja) * | 1987-09-09 | 1999-04-27 | Merck Patent Gmbh | フツ素化オリゴフエニル化合物および液晶材料におけるそれらの使用 |
JP2002509900A (ja) * | 1998-04-01 | 2002-04-02 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング | ビニレンおよびエチル化合物 |
JP2002193853A (ja) * | 2000-12-19 | 2002-07-10 | Merck Patent Gmbh | 負のdc異方性の四環式化合物および液晶媒体 |
JP2007002132A (ja) * | 2005-06-24 | 2007-01-11 | Chisso Corp | 液晶組成物および液晶表示素子 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1081123B1 (en) * | 1999-08-31 | 2004-03-03 | Chisso Corporation | 2,3-Difluorophenyl derivative having negative dielectric anisotropy, liquid crystal composition, and liquid crystal display device |
-
2008
- 2008-05-08 JP JP2008122422A patent/JP5359016B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2009
- 2009-05-07 US US12/437,212 patent/US7851032B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11116512A (ja) * | 1987-09-09 | 1999-04-27 | Merck Patent Gmbh | フツ素化オリゴフエニル化合物および液晶材料におけるそれらの使用 |
JPH02503441A (ja) * | 1988-03-10 | 1990-10-18 | メルク・パテント・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | ジフルオロベンゼン誘導体 |
WO1998023564A1 (fr) * | 1996-11-28 | 1998-06-04 | Chisso Corporation | Derives de benzene a substitution de fluor, composition a cristaux liquides et element d'affichage a cristaux liquides |
JP2002509900A (ja) * | 1998-04-01 | 2002-04-02 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング | ビニレンおよびエチル化合物 |
JP2002193853A (ja) * | 2000-12-19 | 2002-07-10 | Merck Patent Gmbh | 負のdc異方性の四環式化合物および液晶媒体 |
JP2007002132A (ja) * | 2005-06-24 | 2007-01-11 | Chisso Corp | 液晶組成物および液晶表示素子 |
Cited By (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015061916A (ja) * | 2008-12-22 | 2015-04-02 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングMerck Patent Gesellschaft mit beschraenkter Haftung | 液晶ディスプレイ |
US9090823B2 (en) | 2008-12-22 | 2015-07-28 | Merck Patent Gmbh | Liquid crystal display |
JP2012513482A (ja) * | 2008-12-22 | 2012-06-14 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 液晶ディスプレイ |
WO2010095506A1 (ja) * | 2009-02-19 | 2010-08-26 | チッソ株式会社 | テトラヒドロピランおよび2,2',3,3'-テトラフルオロビフェニルを有する4環液晶性化合物、液晶組成物および液晶表示素子 |
JP2010270074A (ja) * | 2009-05-22 | 2010-12-02 | Dic Corp | フルオロベンゼン誘導体及びこの化合物を含有する液晶組成物 |
US8361344B2 (en) | 2009-10-26 | 2013-01-29 | Jnc Corporation | Liquid crystal composition and liquid crystal display device |
JP2011144274A (ja) * | 2010-01-15 | 2011-07-28 | Jnc Corp | 液晶組成物および液晶表示素子 |
JP5861633B2 (ja) * | 2010-06-03 | 2016-02-16 | Jnc株式会社 | 液晶組成物および液晶表示素子 |
US8932484B2 (en) | 2010-06-03 | 2015-01-13 | Jnc Corporation | Liquid crystal composition and liquid crystal display device |
JPWO2011152494A1 (ja) * | 2010-06-03 | 2013-08-01 | Jnc株式会社 | 液晶組成物および液晶表示素子 |
WO2011152494A1 (ja) * | 2010-06-03 | 2011-12-08 | Jnc株式会社 | 液晶組成物および液晶表示素子 |
US8808814B2 (en) | 2010-10-04 | 2014-08-19 | Jnc Corporation | Liquid crystal composition and liquid crystal display device |
WO2012046590A1 (ja) | 2010-10-04 | 2012-04-12 | Jnc株式会社 | 液晶組成物および液晶表示素子 |
US8821993B2 (en) | 2010-10-20 | 2014-09-02 | Jnc Corporation | Liquid crystal composition and liquid crystal display device |
JP2014038313A (ja) * | 2012-08-20 | 2014-02-27 | Beijing Boe Optoelectronics Technology Co Ltd | 液晶ディスプレイパネル及びその製造方法、並びに液晶表示装置 |
WO2014126129A1 (ja) * | 2013-02-15 | 2014-08-21 | Dic株式会社 | 液晶組成物及びそれを使用した液晶表示素子 |
JPWO2014126129A1 (ja) * | 2013-02-15 | 2017-02-02 | Dic株式会社 | 液晶組成物及びそれを使用した液晶表示素子 |
JP2019501239A (ja) * | 2015-11-19 | 2019-01-17 | ジアンスー ヘチェン ディスプレイ テクノロジー カンパニー リミテッド | 液晶組成物およびそのディスプレイデバイス |
US10920146B2 (en) | 2015-11-19 | 2021-02-16 | Jiangsu Hecheng Display Technology Co., Ltd. | Liquid crystal composition and display device thereof |
CN108239538A (zh) * | 2016-12-23 | 2018-07-03 | 江苏和成显示科技有限公司 | 一种介电各向异性为负的液晶组合物及其应用 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7851032B2 (en) | 2010-12-14 |
JP5359016B2 (ja) | 2013-12-04 |
US20090278089A1 (en) | 2009-11-12 |
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