JP2009260165A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009260165A JP2009260165A JP2008109997A JP2008109997A JP2009260165A JP 2009260165 A JP2009260165 A JP 2009260165A JP 2008109997 A JP2008109997 A JP 2008109997A JP 2008109997 A JP2008109997 A JP 2008109997A JP 2009260165 A JP2009260165 A JP 2009260165A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- semiconductor
- insulating film
- wiring
- semiconductor device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 270
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 250
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 75
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 53
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 33
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 abstract description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 abstract 3
- 239000012212 insulator Substances 0.000 abstract 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 33
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 33
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 29
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 29
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 29
- JHJNPOSPVGRIAN-SFHVURJKSA-N n-[3-[(1s)-1-[[6-(3,4-dimethoxyphenyl)pyrazin-2-yl]amino]ethyl]phenyl]-5-methylpyridine-3-carboxamide Chemical compound C1=C(OC)C(OC)=CC=C1C1=CN=CC(N[C@@H](C)C=2C=C(NC(=O)C=3C=C(C)C=NC=3)C=CC=2)=N1 JHJNPOSPVGRIAN-SFHVURJKSA-N 0.000 description 28
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 25
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 20
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 20
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 18
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 18
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 14
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 14
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 14
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 11
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 11
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 9
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 9
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 9
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 5
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 3
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L24/82—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected by forming build-up interconnects at chip-level, e.g. for high density interconnects [HDI]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
- H01L21/56—Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
- H01L21/568—Temporary substrate used as encapsulation process aid
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/04105—Bonding areas formed on an encapsulation of the semiconductor or solid-state body, e.g. bonding areas on chip-scale packages
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
- H01L2224/12105—Bump connectors formed on an encapsulation of the semiconductor or solid-state body, e.g. bumps on chip-scale packages
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/18—High density interconnect [HDI] connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/19—Manufacturing methods of high density interconnect preforms
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/18—High density interconnect [HDI] connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/23—Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process
- H01L2224/24—Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process of an individual high density interconnect connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32135—Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
- H01L2224/32145—Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32225—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73267—Layer and HDI connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/82—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected by forming build-up interconnects at chip-level, e.g. for high density interconnects [HDI]
- H01L2224/82009—Pre-treatment of the connector or the bonding area
- H01L2224/8203—Reshaping, e.g. forming vias
- H01L2224/82035—Reshaping, e.g. forming vias by heating means
- H01L2224/82039—Reshaping, e.g. forming vias by heating means using a laser
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/91—Methods for connecting semiconductor or solid state bodies including different methods provided for in two or more of groups H01L2224/80 - H01L2224/90
- H01L2224/92—Specific sequence of method steps
- H01L2224/921—Connecting a surface with connectors of different types
- H01L2224/9212—Sequential connecting processes
- H01L2224/92142—Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector
- H01L2224/92144—Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector the second connecting process involving a build-up interconnect
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/91—Methods for connecting semiconductor or solid state bodies including different methods provided for in two or more of groups H01L2224/80 - H01L2224/90
- H01L2224/92—Specific sequence of method steps
- H01L2224/922—Connecting different surfaces of the semiconductor or solid-state body with connectors of different types
- H01L2224/9222—Sequential connecting processes
- H01L2224/92242—Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector
- H01L2224/92244—Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector the second connecting process involving a build-up interconnect
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01006—Carbon [C]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01013—Aluminum [Al]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01029—Copper [Cu]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01033—Arsenic [As]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01078—Platinum [Pt]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/14—Integrated circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/153—Connection portion
- H01L2924/1531—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
- H01L2924/15311—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/153—Connection portion
- H01L2924/1532—Connection portion the connection portion being formed on the die mounting surface of the substrate
- H01L2924/1533—Connection portion the connection portion being formed on the die mounting surface of the substrate the connection portion being formed both on the die mounting surface of the substrate and outside the die mounting surface of the substrate
- H01L2924/15331—Connection portion the connection portion being formed on the die mounting surface of the substrate the connection portion being formed both on the die mounting surface of the substrate and outside the die mounting surface of the substrate being a ball array, e.g. BGA
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/19—Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/1901—Structure
- H01L2924/1904—Component type
- H01L2924/19041—Component type being a capacitor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/19—Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/191—Disposition
- H01L2924/19101—Disposition of discrete passive components
- H01L2924/19105—Disposition of discrete passive components in a side-by-side arrangement on a common die mounting substrate
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
【解決手段】 下層絶縁膜1の上面中央部に第1の半導体構成体2aがフェースダウン方式で搭載されている。第1の半導体構成体2a上には第2の半導体構成体2bがフェースアップ方式で搭載されている。第1、第2の半導体構成体2a、2bの周囲における下層絶縁膜1の上面には絶縁層32が設けられている。第2の半導体構成体2bおよび絶縁層32上には上層絶縁膜33が設けられている。この場合、下層絶縁膜1、絶縁層32および上層絶縁膜33からなる絶縁材内に第1、第2の半導体構成体2a、2bを積層して埋め込んでいるので、1つの半導体構成体を埋め込む場合と比較して、実装密度を大きくすることができる。
【選択図】 図1
Description
請求項2に記載の発明に係る半導体装置は、請求項1に記載の発明において、前記第1の半導体構成体は前記下層絶縁膜上に接着層を介して接着されていることを特徴とするものである。
請求項3に記載の発明に係る半導体装置は、請求項1に記載の発明において、前記第2の半導体構成体は前記第1の半導体構成体上に接着層を介して接着されていることを特徴とするものである。
請求項4に記載の発明に係る半導体装置は、請求項1に記載の発明において、前記第2の半導体構成体は前記上層絶縁膜下に接着層を介して接着されていることを特徴とするものである。
請求項5に記載の発明に係る半導体装置は、請求項1に記載の発明において、前記第1、第2の半導体構成体の平面サイズおよび厚さが同じであることを特徴とするものである。
請求項6に記載の発明に係る半導体装置は、請求項5に記載の発明において、前記第1、第2の半導体構成体は、前記半導体基板上に形成される絶縁層および導電層の順序が同一で、層の数が同一であることを特徴とするものである。
請求項7に記載の発明に係る半導体装置は、請求項1に記載の発明において、前記下層配線と前記上層配線とは前記絶縁層に設けられた貫通孔内に設けられた上下導通部を介して接続されていることを特徴とするものである。
請求項8に記載の発明に係る半導体装置は、請求項1に記載の発明において、前記絶縁層は下層絶縁層と上層絶縁層とからなり、前記下層絶縁層と前記上層絶縁層との間に、中間下層配線、中間上層配線およびそれらを接続する上下導通部を有する回路基板が設けられ、前記下層配線は前記中間下層配線に接続され、前記上層配線は前記中間上層配線に接続されていることを特徴とするものである。
請求項9に記載の発明に係る半導体装置は、請求項1に記載の発明において、前記下層配線を含む前記下層絶縁膜下に、前記下層配線の接続パッド部に対応する部分に開口部を有する下層オーバーコート膜が設けられていることを特徴とするものである。
請求項10に記載の発明に係る半導体装置は、請求項9に記載の発明において、前記下層オーバーコート膜の開口部内およびその下方に半田ボールが前記下層配線の接続パッド部に接続されて設けられていることを特徴とするものである。
請求項11に記載の発明に係る半導体装置は、請求項1に記載の発明において、前記絶縁層内において前記下層絶縁膜と前記上層絶縁膜との間に電子部品が前記下層配線または前記上層配線に接続されて設けられていることを特徴とするものである。
請求項12に記載の発明に係る半導体装置は、請求項11に記載の発明において、前記電子部品の厚さは前記第1、第2の半導体構成体の合計厚さと同様であることを特徴とするものである。
請求項13に記載の発明に係る半導体装置は、請求項1に記載の発明において、前記下層配線および前記上層配線は多層構造を有することを特徴とするものである。
請求項14に記載の発明に係る半導体装置は、請求項1に記載の発明において、前記半導体構成体は、前記半導体基板下における前記外部接続用電極間に設けられた封止膜を有することを特徴とするものである。
請求項15に記載の発明に係る半導体装置は、請求項1に記載の発明において、前記半導体構成体は、前記半導体基板下における前記外部接続用電極間に設けられた接着層を有することを特徴とするものである。
図1はこの発明の第1実施形態としての半導体装置の断面図を示す。この半導体装置はエポキシ系樹脂、ポリイミド系樹脂、ガラス布基材エポキシ樹脂等からなる平面方形状の下層絶縁膜1を備えている。下層絶縁膜1の上面中央部には第1の半導体構成体2aがエポキシ系樹脂等からなる下層接着層3を介してフェースダウン方式で搭載されている。この場合、下層絶縁膜1の平面サイズは第1の半導体構成体2aの平面サイズよりも大きくなっている。
図12はこの発明の第2実施形態としての半導体装置の断面図を示す。この半導体装置において、図1に示す半導体装置と大きく異なる点は、上下導通部42を有せず、その代わりに、第1、第2の半導体構成体2a、2bの周囲に方形枠状で両面配線構造の回路基板71を配置した点である。
図14はこの発明の第3実施形態としての半導体装置の断面図を示す。この半導体装置において、図1に示す半導体装置と大きく異なる点は、絶縁層32内において第1、第2の半導体構成体2a、2bの横に第3の半導体構成体(電子部品)2cを配置した点である。この場合、第3の半導体構成体2cにおいて、第1、第2の半導体構成体2a、2bと大きく異なる点は、シリコン基板5cの厚さが第1、第2の半導体構成体2a、2bのシリコン基板5a、5bの厚さよりも厚くなっている点である。
図16はこの発明の第4実施形態としての半導体装置の断面図を示す。この半導体装置において、図14に示す半導体装置と異なる点は、絶縁層32内において第1、第2の半導体構成体2a、2bの横に、第3の半導体構成体2cの代わりに、コンデンサや抵抗等からなるチップ部品(電子部品)91を配置した点である。
図18はこの発明の第5実施形態としての半導体装置の断面図を示す。この半導体装置において、図1に示す半導体装置と大きく異なる点は、下層配線および上層配線を2層配線構造とした点である。すなわち、第1の下層絶縁膜1Aの下面に設けられた第1の下層配線22Aの一端部は、第1の下層絶縁膜1Aおよび下層接着層3に設けられた開口部21Aを介して第1の半導体構成体2aの柱状電極13aに接続されている。
図19はこの発明の第6実施形態としての半導体装置の断面図を示す。この半導体装置において、図1に示す半導体装置と異なる点は、第1、第2の半導体構成体2a、2bが封止膜14a、14bを備えていない点である。したがって、この場合、第1の半導体構成体2aの配線10aおよび柱状電極13aを含む保護膜8aの下面は下層接着層3を介して下層絶縁膜1の上面中央部に接着されている。そして、下層配線22の一端部は、下層絶縁膜1および下層接着層3の開口部21を介して第1の半導体構成体2aの柱状電極13aに接続されている。
図20はこの発明の第7実施形態としての半導体装置の断面図を示す。この半導体装置において、図19に示す半導体装置と異なる点は、第1、第2の半導体構成体2a、2bがさらに柱状電極13a、13bを備えていない点である。したがって、この場合、第1の半導体構成体2aの配線10aを含む保護膜8aの下面は下層接着層3を介して下層絶縁膜1の上面中央部に接着されている。そして、下層配線22の一端部は、下層絶縁膜22および下層接着層3の開口部21を介して第1の半導体構成体2aの配線10aの接続パッド部(外部接続用電極)に接続されている。
図21はこの発明の第8実施形態としての半導体装置の断面図を示す。この半導体装置において、図20に示す半導体装置と異なる点は、第1の半導体構成体2aの配線10aを含む保護膜8aの下面および第2の半導体構成体2bの配線10bを含む保護膜8bの上面にポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂等の絶縁材からなる静電気防止用保護膜93a、93bを設けた点である。
2a 第1の半導体構成体
2b 第1の半導体構成体
3 下層接着層
4 中間接着層
5a、5b シリコン基板
6a、6b 接続パッド
7a、7b 絶縁膜
8a、8b 保護膜
10a、10b 配線
13a、13b 柱状電極
14a、14b 封止膜
22 下層配線
25 下層オーバーコート膜
27 半田ボール
31 上層接着層
32 絶縁層
33 上層絶縁膜
35 上層配線
41 貫通孔
42 上下導通部
Claims (15)
- 半導体基板および該半導体基板下に設けられた複数の外部接続用電極を有する第1の半導体構成体と、前記第1の半導体構成体上に設けられ、半導体基板および該半導体基板上に設けられた複数の外部接続用電極を有する第2の半導体構成体と、前記第1の半導体構成体下およびその周囲に設けられた下層絶縁膜と、前記下層絶縁膜下に前記第1の半導体構成体の外部接続用電極に接続されて設けられた下層配線と、前記第1、第2の半導体構成体の周囲における前記下層絶縁膜上に設けられた絶縁層と、前記第2の半導体構成体および前記絶縁層上に設けられた上層絶縁膜と、前記上層絶縁膜上に前記第2の半導体構成体の外部接続用電極に接続されて設けられた上層配線とを備えていることを特徴とする半導体装置。
- 請求項1に記載の発明において、前記第1の半導体構成体は前記下層絶縁膜上に接着層を介して接着されていることを特徴とする半導体装置。
- 請求項1に記載の発明において、前記第2の半導体構成体は前記第1の半導体構成体上に接着層を介して接着されていることを特徴とする半導体装置。
- 請求項1に記載の発明において、前記第2の半導体構成体は前記上層絶縁膜下に接着層を介して接着されていることを特徴とする半導体装置。
- 請求項1に記載の発明において、前記第1、第2の半導体構成体の平面サイズおよび厚さが同じであることを特徴とする半導体装置。
- 請求項5に記載の発明において、前記第1、第2の半導体構成体は、前記半導体基板上に形成される絶縁層および導電層の順序が同一で、層の数が同一であることを特徴とする半導体装置。
- 請求項1に記載の発明において、前記下層配線と前記上層配線とは前記絶縁層に設けられた貫通孔内に設けられた上下導通部を介して接続されていることを特徴とする半導体装置。
- 請求項1に記載の発明において、前記絶縁層は下層絶縁層と上層絶縁層とからなり、前記下層絶縁層と前記上層絶縁層との間に、中間下層配線、中間上層配線およびそれらを接続する上下導通部を有する回路基板が設けられ、前記下層配線は前記中間下層配線に接続され、前記上層配線は前記中間上層配線に接続されていることを特徴とする半導体装置。
- 請求項1に記載の発明において、前記下層配線を含む前記下層絶縁膜下に、前記下層配線の接続パッド部に対応する部分に開口部を有する下層オーバーコート膜が設けられていることを特徴とする半導体装置。
- 請求項9に記載の発明において、前記下層オーバーコート膜の開口部内およびその下方に半田ボールが前記下層配線の接続パッド部に接続されて設けられていることを特徴とする半導体装置。
- 請求項1に記載の発明において、前記絶縁層内において前記下層絶縁膜と前記上層絶縁膜との間に電子部品が前記下層配線または前記上層配線に接続されて設けられていることを特徴とする半導体装置。
- 請求項11に記載の発明において、前記電子部品の厚さは前記第1、第2の半導体構成体の合計厚さと同様であることを特徴とする半導体装置。
- 請求項1に記載の発明において、前記下層配線および前記上層配線は多層構造を有することを特徴とする半導体装置。
- 請求項1に記載の発明において、前記半導体構成体は、前記半導体基板下における前記外部接続用電極間に設けられた封止膜を有することを特徴とする半導体装置。
- 請求項1に記載の発明において、前記半導体構成体は、前記半導体基板下における前記外部接続用電極間に設けられた接着層を有することを特徴とする半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008109997A JP2009260165A (ja) | 2008-04-21 | 2008-04-21 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008109997A JP2009260165A (ja) | 2008-04-21 | 2008-04-21 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009260165A true JP2009260165A (ja) | 2009-11-05 |
Family
ID=41387193
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008109997A Pending JP2009260165A (ja) | 2008-04-21 | 2008-04-21 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2009260165A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013069808A (ja) * | 2011-09-21 | 2013-04-18 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 半導体パッケージ及びその製造方法 |
JP2013537368A (ja) * | 2010-09-21 | 2013-09-30 | ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | PoP−mWLPとしての多機能センサ |
JP2015192143A (ja) * | 2014-03-27 | 2015-11-02 | インテル アイピー コーポレイション | スタックされた電子コンポーネントを含む電子アセンブリ |
US11515261B2 (en) | 2020-09-21 | 2022-11-29 | Apple Inc. | Multiple component integration in fanout package with different back side metallization and thicknesses |
US11552053B2 (en) | 2020-06-25 | 2023-01-10 | Apple Inc. | Miniaturization of optical sensor modules through wirebonded ball stacks |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000277682A (ja) * | 1999-03-25 | 2000-10-06 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 半導体装置及びその製造方法と半導体装置の実装構造 |
JP2004071998A (ja) * | 2002-08-09 | 2004-03-04 | Casio Comput Co Ltd | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2004095836A (ja) * | 2002-08-30 | 2004-03-25 | Casio Comput Co Ltd | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2004165190A (ja) * | 2002-11-08 | 2004-06-10 | Oki Electric Ind Co Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
-
2008
- 2008-04-21 JP JP2008109997A patent/JP2009260165A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000277682A (ja) * | 1999-03-25 | 2000-10-06 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 半導体装置及びその製造方法と半導体装置の実装構造 |
JP2004071998A (ja) * | 2002-08-09 | 2004-03-04 | Casio Comput Co Ltd | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2004095836A (ja) * | 2002-08-30 | 2004-03-25 | Casio Comput Co Ltd | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2004165190A (ja) * | 2002-11-08 | 2004-06-10 | Oki Electric Ind Co Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013537368A (ja) * | 2010-09-21 | 2013-09-30 | ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | PoP−mWLPとしての多機能センサ |
US8987921B2 (en) | 2010-09-21 | 2015-03-24 | Robert Bosch Gmbh | Multifunction sensor as PoP microwave PCB |
JP2013069808A (ja) * | 2011-09-21 | 2013-04-18 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 半導体パッケージ及びその製造方法 |
US9041211B2 (en) | 2011-09-21 | 2015-05-26 | Shinko Electric Industries Co., Ltd. | Semiconductor package and method for manufacturing the semiconductor package embedded with semiconductor chip |
JP2015192143A (ja) * | 2014-03-27 | 2015-11-02 | インテル アイピー コーポレイション | スタックされた電子コンポーネントを含む電子アセンブリ |
US11552053B2 (en) | 2020-06-25 | 2023-01-10 | Apple Inc. | Miniaturization of optical sensor modules through wirebonded ball stacks |
US11515261B2 (en) | 2020-09-21 | 2022-11-29 | Apple Inc. | Multiple component integration in fanout package with different back side metallization and thicknesses |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4752825B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP4840373B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP4592751B2 (ja) | プリント配線基板の製造方法 | |
JP4171499B2 (ja) | 電子装置用基板およびその製造方法、並びに電子装置およびその製造方法 | |
JP2009043857A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
KR20130014379A (ko) | 반도체장치, 이 반도체장치를 수직으로 적층한 반도체 모듈 구조 및 그 제조방법 | |
JP2008226945A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
TWI390696B (zh) | 半導體裝置及其製造方法 | |
TWI384595B (zh) | 半導體裝置及其製造方法 | |
JP2017034059A (ja) | プリント配線板、半導体パッケージおよびプリント配線板の製造方法 | |
TWI611523B (zh) | 半導體封裝件之製法 | |
JP2009260165A (ja) | 半導体装置 | |
US7843071B2 (en) | Semiconductor device including wiring and manufacturing method thereof | |
US8062927B2 (en) | Wiring board and method of manufacturing the same, and electronic component device using the wiring board and method of manufacturing the same | |
JP2011155313A (ja) | 半導体装置 | |
JP5042762B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP2009043858A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP4913372B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP5393649B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP5053003B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP6034664B2 (ja) | 半導体装置、半導体積層モジュール構造、積層モジュール構造、及びこれらの製造方法 | |
KR101195463B1 (ko) | 반도체 패키지 및 그 형성방법 | |
JP2005235881A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
KR20120008952A (ko) | 칩 패키지용 면상 부재 및 이를 이용한 칩 패키지 및 칩 패키지용 면상 부재 제조 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110329 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20111115 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120327 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121225 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20130416 |