JP2009238709A - 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法および装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】有機化合物を含む発光層を有する積層体である有機EL素子の製造方法であって、有機機能層となる有機材料が含まれるインクを、インクジェット装置により平板印刷版面にパターン塗布する塗布工程(S−11)と、前記平板印刷版上に塗布されたインクの溶媒を除去し、インクの粘度を調整する粘度調整工程(S−12)と、前記平板印刷版面上の粘度調整されたインクを転写体に転写する第1の転写工程(S−13)と、前記転写体に転写されたインクを基板に転写する第2の転写工程(S−14)とを含む。
【選択図】図1
Description
インクジェット装置を用いる場合には、粘度の低いインクを用いるのが通常であり、このような低粘度インクでは弾性ブランケット(転写体)にインクが高精度に転写されないので、紫外線を照射することで硬化するUVインクを用い、平板印刷版面にUVインクをパターン塗布した後にUV(紫外線)又は電子線を照射することでUVインクを半乾燥させてから、インクを弾性ブランケット(転写体)に転写させる方法が提案されている。
1.本発明の有機EL素子の製造方法
本発明の有機EL素子の製造方法(以下、本明細書において「本発明の製造方法」という場合がある)は、図1に示すように、少なくとも陽極と、陰極と、前記陽極および前記陰極の間に挟まれ、有機化合物を含む発光層とをそれぞれ成膜して有機EL素子を製造する方法であって、有機機能層(本実施の形態では発光層)となる有機材料が含まれるインクを、インクジェット装置により平板印刷版面にパターン塗布する塗布工程(S−11)と、前記平板印刷版面上に塗布されたインクの溶媒の一部を除去し、インクの粘度を調整する粘度調整工程(S−12)と、前記平板印刷版面上の粘度調整されたインクを転写体に転写する第1の転写工程(S−13)と、前記転写体に転写されたインクを基板に転写する第2の転写工程(S−14)とを含むものである。
以下の説明では、本発明の製造方法を用いて発光層120を成膜する場合について説明するが、例えば正孔注入層112、正孔輸送層113、電子輸送層133および電子注入層132が有機化合物を含む有機機能層であって、塗布法で成膜可能であれば、これらの層も本発明の製造方法を用いて成膜することができる。
<第1工程(塗布工程):有機EL材料を含むインクをパターン塗布する工程(S−11)>
図3−1に示すように、印刷用フレーム11上に載置された印刷版定盤12に設けられた平板印刷版13の平板印刷版面(以下「版面」という)13aには、インクジェット装置ヘッド30の吐出ノズルからインク液滴31が吐出され、所定パターンを以て塗布インク32が塗布されている。インクジェット装置ヘッド30は、走査方向に垂直な方向に所定の間隔をあけて配置される複数の吐出ノズルを有し、走査方向に所定の速度で進みつつ、各吐出ノズルからそれぞれインク液滴31を吐出する。したがって本実施の形態では、版面13aを平面視したときに、各塗布インク32がマトリクス状にそれぞれ所定の間隔をあけて塗布される。なお本実施の形態では、一種類のインクをインクジェット装置ヘッド30から吐出している。すなわち支持基板101上に作製される複数の有機EL素子100の各発光層120は、互いに同じ組成であって、同じ色の光を発する。
ここで、インクジェット装置ヘッド30は、数十ピコリットル程度のインクを数m/sの速度で吐出する。
インクの組成としては、例えば有機機能層(本実施形態では発光層120)となる有機材料(ポリマー)が、好ましくは0.1重量%以上5重量%未満であり、さらに好ましくは1重量%以上5重量%未満であり、溶媒の含有量が、好ましくは95重量%以上99.9重量%未満であり、さらに好ましくは95重量%以上99重量%未満である。有機機能層(本実施形態では発光層120)となる有機材料(ポリマー)としては、後述の発光材料などが用いられる。インクジェット装置ヘッド30から吐出される前のインクとしては、粘度が1〜20mPa・sのものが好ましく、また表面張力が20〜70mN/mのものが好ましい。
版面13a上に塗布された塗布インク32は、乾燥手段により溶媒の一部が除去されて、粘度が調整される。所定の膜厚に乾燥された調整インク33は、転写体20に搬送される。粘度を調整する乾燥手段としては、例えば赤外線ランプ、ヒータ等の加熱手段を挙げることができる。本工程ではインクに含まれる溶媒の含有量が50〜60重量%程度になるまで溶媒を除去するのが好ましい。なお、図3−2に示す調整インク33の厚みは、本来溶媒が除去されて薄くなっているが、理解の容易のために実際の膜厚よりも厚く図示している。
次いで、図3−2に示すように、調整インク33を転写体20に転写する。本工程では、調整された圧力で調整インク33を押圧することにより、転写されたインクの表面を平坦化する。転写体20は、可動架台21と、この可動架台21に設けられた転写胴23と、この転写胴23に巻きまわされたブランケット22とから構成されている。本実施の形態では、転写体20が調整インク33を押圧するときの圧力を制御することにより、ブランケット22に転写されるインクの膜厚を一定にするようにしている。
その後、図3−3に示すように、ブランケット22に転写された転写インク34を、基板用定盤14に設けられた基板15上に転写して、所定パターンのインク層を形成する。なお本工程でインクが転写される基板15には、陽極などが予め形成されており、これらの層の表面上にインクが転写される。次に形成されたインク層を放置する、または前述した乾燥手段などによってインク層に含まれる溶媒を除去し、発光層35を形成する。
また複数の種類のインク(例えばRインク、Gインク、Bインク)を塗布する場合には、第1の転写工程(本実施の形態では第3工程)と第2の転写工程(本実施の形態では第4工程)とでは、複数の種類のインクを一括して転写することが好ましい。具体的にはまず第1工程で複数の種類のインク(例えばRインク、Gインク、Bインク)を版面13aに塗布し、第2工程(S−12)で、塗布された全ての種類のインクの粘度調整を行い、第3工程(S−13)で、全ての種類のインクを一括してブランケット22に転写し、さらに第4工程(S−14)で全ての種類のインクを一括して基板15上に転写してもよい。
また、インクとして熱硬化性を示す溶液を用いてもよい。当該インクとしては、例えば熱硬化性を示す架橋剤をインクに添加してもよく、また主に有機機能層となる有機材料に、熱硬化性を示す材料を用いてもよい。熱硬化性を示すインクを用いた場合、第2工程(S−12)で、インクの溶媒の一部を除去するとともに、加熱することによってインクの粘度を調整することができる。このような熱硬化性を示すインクを用いることによって、たとえば発光層を不溶化させることができ、該発光層上に塗布法によって新たな層を成膜するときに発光層が溶解して膜厚が減少することを防ぐことができる。
(1)インクジェット法とオフセット印刷法とを併用する結果、インクジェット装置のみの成膜に比べて膜厚の均一化を図ることができる。これは、インクジェット工程後の塗布インク32を所定の粘度に調整して調整インク33とした後、ブランケット22への転写時の制御圧力により平坦化することができることとなり、従来のインクジェット法よりも膜厚の均一性が向上することとなる。
(6)また、紫外線を照射することなく発光層を成膜することができるので、発光層の特性が劣化することを防いで、高特性な発光層を実現することができる。
なお、この有機EL素子の製造装置は、多関節ロボットを備えた一連の製造工程により有機EL素子を製造する製造ラインにおいて、有機EL素子の発光層を形成する例えばチャンバ内に設けられるものである。
次に、本発明の製造方法により製造し得る有機EL素子の実施形態について、より具体的に説明する。なお、本発明の製造方法が下記の有機EL素子に限定されるわけではない。
a)陽極/正孔輸送層/発光層/陰極
b)陽極/発光層/電子輸送層/陰極
c)陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極
d)陽極/電荷注入層/発光層/陰極
e)陽極/発光層/電荷注入層/陰極
f)陽極/電荷注入層/発光層/電荷注入層/陰極
g)陽極/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/陰極
h)陽極/正孔輸送層/発光層/電荷注入層/陰極
i)陽極/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/電荷注入層/陰極
j)陽極/電荷注入層/発光層/電荷輸送層/陰極
k)陽極/発光層/電子輸送層/電荷注入層/陰極
l)陽極/電荷注入層/発光層/電子輸送層/電荷注入層/陰極
m)陽極/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/電荷輸送層/陰極
n)陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電荷注入層/陰極
o)陽極/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電荷注入層/陰極
(ここで、記号「/」は、記号「/」を挟んで記載される2つの層が隣接して積層されていることを示す。以下同じ。)
2層の発光層を有する有機EL素子としては、具体的には、
p)陽極/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電荷注入層/電極/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電荷注入層/陰極
の層構成を有するものが挙げられる。
また3層以上の発光層を有する有機EL素子としては、具体的には、電極/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電荷注入層を一つの繰返し単位(以下において「繰返し単位A」という)として、
q)陽極/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電荷注入層/繰返し単位A/繰返し単位A・・・/陰極
と、2層以上の繰返し単位Aを含む層構成を有するものが挙げられる。
上記層構成pおよびqにおいて、陽極、電極、陰極、発光層以外の各層は必要に応じて省略することができる。
ここで、電極とは電界を印加することにより、正孔と電子を発生する層である。当該電極を構成する材料としては、例えば、酸化バナジウム、インジウムスズ酸化物(Indium Tin Oxide:略称ITO)、および酸化モリブデンなどが挙げられる。
積層する層の順番や数、および各層の厚さについては、発光効率や素子寿命を勘案して適宜用いることができる。
有機EL素子の陽極としては、透明又は半透明の電極を用いることが、陽極を通して発光する素子を構成しうるため好ましい。かかる透明電極又は半透明電極としては、電気伝導度の高い金属酸化物、金属硫化物や金属の薄膜を用いることができ、透過率が高いものが好適に利用でき、用いる有機層により適宜、選択して用いる。具体的には、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、ITO、インジウム亜鉛酸化物(Indium Zinc Oxide:略称IZO)、金、白金、銀、および銅などから成る薄膜が用いられ、これらの中でもITO、IZO、または酸化スズから成る薄膜が好適に用いられる。作製方法としては、真空蒸着法(電子ビーム蒸着法を含む)、スパッタリング法、イオンプレーティング法、メッキ法等が挙げられる。また、該陽極として、ポリアニリンもしくはその誘導体、ポリチオフェンもしくはその誘導体などの有機の透明導電膜を用いてもよい。
陽極には、光を反射させる材料を用いてもよく、該材料としては、仕事関数3.0eV以上の金属、金属酸化物、金属硫化物が好ましい。
正孔注入層は、陽極と正孔輸送層との間、又は陽極と発光層との間に設けることができる。
正孔注入層を形成する材料としては、フェニルアミン系、スターバースト型アミン系、フタロシアニン系、酸化バナジウム、酸化タンタル、酸化タングステン、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、酸化アルミニウム等の酸化物、アモルファスカーボン、ポリアニリン、ポリチオフェン誘導体等が挙げられる。
正孔輸送層の成膜の方法に制限はないが、高分子正孔注入材料では、溶液からの成膜による方法が例示される。
溶液からの成膜に用いる溶媒としては、正孔注入材料を溶解させるものであれば特に制限はない。該溶媒として、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン等の塩素系溶媒、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセルソルブアセテート等のエステル系溶媒、水が例示される。
溶液からの成膜方法としては、溶液からのスピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スリットコート法、キャピラリーコート法、スプレーコート法、ノズルコート法などのコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、反転印刷法、インクジェット法等の印刷法等の塗布法を用いることができ、特に本発明の有機EL素子の製造装置10によって成膜することが好ましい。
正孔輸送層を構成する材料としては、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体、ピラゾリン誘導体、アリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体、ポリアニリン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリアリールアミン若しくはその誘導体、ポリピロール若しくはその誘導体、ポリ(p−フェニレンビニレン)若しくはその誘導体、又はポリ(2,5−チエニレンビニレン)若しくはその誘導体などが例示される。
発光層は、有機化合物を含む。通常、主として蛍光又はりん光を発光する有機物(低分子化合物および高分子化合物)が含まれる。なお、さらにドーパント材料を含んでいてもよい。本発明において用いることができる発光層を形成する材料としては、例えば、以下の色素系材料、金属錯体系材料、高分子系材料、およびドーパント材料などが挙げられる。
色素系材料としては、例えば、シクロペンダミン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体化合物、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、ピロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマーなどが挙げられる。
金属錯体系材料としては、例えば、イリジウム錯体、白金錯体等の三重項励起状態からの発光を有する金属錯体、アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾリル亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、ユーロピウム錯体など、中心金属に、Al、Zn、Beなど又はTb、Eu、Dyなどの希土類金属を有し、配位子にオキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造などを有する金属錯体などを挙げることができる。
高分子系材料としては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、上記色素体や金属錯体系発光材料を高分子化したものなどが挙げられる。
上記発光性材料のうち、青色に発光する材料としては、ジスチリルアリーレン誘導体、オキサジアゾール誘導体、およびそれらの重合体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などを挙げることができる。なかでも高分子材料のポリビニルカルバゾール誘導体、ポリパラフェニレン誘導体やポリフルオレン誘導体などが好ましい。
また、緑色に発光する材料としては、キナクリドン誘導体、クマリン誘導体、およびそれらの重合体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などを挙げることができる。なかでも高分子材料のポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などが好ましい。
また、赤色に発光する材料としては、クマリン誘導体、チオフェン環化合物、およびそれらの重合体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリフルオレン誘導体などを挙げることが出来る。なかでも高分子材料のポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリフルオレン誘導体などが好ましい。
発光層中に発光効率の向上や発光波長を変化させるなどの目的で、ドーパントを添加することができる。このようなドーパントとしては、例えば、ペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾロン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾンなどを挙げることができる。なお、このような発光層の厚さは、通常約20〜2000Åである。
有機物を含む発光層の成膜方法としては、前述したように、有機発光材料を含むインクを、インクジェット法とオフセット印刷法とを併用した印刷法を用いる本発明の有機EL素子の製造装置10によって成膜することが好ましい。
電子輸送層を構成する材料としては、公知のものが使用でき、オキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタン若しくはその誘導体、ベンゾキノン若しくはその誘導体、ナフトキノン若しくはその誘導体、アントラキノン若しくはその誘導体、テトラシアノアンスラキノジメタン若しくはその誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレン若しくはその誘導体、ジフェノキノン誘導体、又は8−ヒドロキシキノリン若しくはその誘導体の金属錯体、ポリキノリン若しくはその誘導体、ポリキノキサリン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体等が例示される。
電子注入層としては、発光層の種類に応じて、アルカリ金属やアルカリ土類金属、或いは前記金属を1種類以上含む合金、或いは前記金属の酸化物、ハロゲン化物および炭酸化物、或いは前記物質の混合物などが挙げられる。アルカリ金属又はその酸化物、ハロゲン化物、炭酸化物の例としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、酸化リチウム、フッ化リチウム、酸化ナトリウム、フッ化ナトリウム、酸化カリウム、フッ化カリウム、酸化ルビジウム、フッ化ルビジウム、酸化セシウム、フッ化セシウム、炭酸リチウム等が挙げられる。また、アルカリ土類金属又はその酸化物、ハロゲン化物、炭酸化物の例としては、マグネシウム、カルシウム、バリウム、ストロンチウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、酸化カルシウム、フッ化カルシウム、酸化バリウム、フッ化バリウム、酸化ストロンチウム、フッ化ストロンチウム、炭酸マグネシウム等が挙げられる。電子注入層は、2層以上を積層したものであってもよい。具体的には、LiF/Caなどが挙げられる。電子注入層は、蒸着法、スパッタリング法、印刷法等により形成される。電子注入層の膜厚としては、1nm〜1μm程度が好ましい。
有機EL素子100で用いる陰極111の材料としては、仕事関数の小さく発光層への電子注入が容易な材料かつ/もしくは電気伝導度が高い材料かつ/もしくは可視光反射率の高い材料が好ましい。金属では、アルカリ金属やアルカリ土類金属、遷移金属やIII−B族金属を用いることができる。例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、アルミニウム、スカンジウム、バナジウム、亜鉛、イットリウム、インジウム、セリウム、サマリウム、ユーロピウム、テルビウム、イッテルビウムなどの金属、又は上記金属のうち2つ以上の合金、又はそれらのうち1つ以上と、金、銀、白金、銅、マンガン、チタン、コバルト、ニッケル、タングステン、錫のうち1つ以上との合金、又はグラファイト若しくはグラファイト層間化合物等が用いられる。合金の例としては、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金、インジウム−銀合金、リチウム−アルミニウム合金、リチウム−マグネシウム合金、リチウム−インジウム合金、カルシウム−アルミニウム合金などが挙げられる。また、陰極として透明導電性電極を用いることができ、例えば導電性金属酸化物や導電性有機物などを用いることができる。具体的には、導電性金属酸化物として酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、ITO、IZO、導電性有機物としてポリアニリンもしくはその誘導体、ポリチオフェンもしくはその誘導体などの有機の透明導電膜を用いてもよい。なお、陰極を2層以上の積層構造としてもよい。なお、電子注入層が陰極として用いられる場合もある。
本実施の形態の有機EL素子を面状光源として用いる場合には、例えば面状の陽極と陰極とを積層方向の一方から見て重なり合うように配置すればよい。またセグメント表示装置の光源としてパターン状に発光する有機EL素子を構成するには、光を通す窓がパターン状に形成されたマスクを前記面状光源の表面に設置する方法、消光すべき部位の有機物層を極端に厚く形成して実質的に非発光とする方法、陽極および陰極のうちの少なくともいずれか一方の電極をパターン状に形成する方法がある。これらの方法でパターン状に発光する有機EL素子を形成するとともに、いくつかの電極に対して選択的に電圧を印加できるように配線を施すことによって、数字や文字、簡単な記号などを表示可能なセグメントタイプ表示装置を実現することができる。ドットマトリックス表示装置の光源とするためには、陽極と陰極とをそれぞれストライプ状に形成して、積層方向の一方からみて互いに直交するように配置すればよい。部分カラー表示、マルチカラー表示が可能なドットマトリックス表示装置を実現するためには、発光色の異なる複数の種類の発光材料を塗り分ける方法、並びにカラーフィルターおよび蛍光変換フィルターなどを用いる方法を用いればよい。ドットマトリックス表示装置は、パッシブ駆動してもよく、TFTなどと組み合わせてアクティブ駆動してもよい。これらの表示装置は、コンピュータ、テレビ、携帯端末、携帯電話、カーナビゲーション、ビデオカメラのビューファインダーなどの表示装置として用いることができる。
11 印刷用フレーム
12 印刷版定盤
13 平板印刷版
13a 平板印刷版面(版面)
14 基板用定盤
15 基板
20 転写体
21 可動架台
22 ブランケット
23 転写胴
30 インクジェット装置ヘッド
31 インク液滴
32 塗布インク
33 調整インク
34 転写インク
35 発光層
41 第1の転写部
42 第2の転写部
101 支持基板
111 陽極
112 正孔注入層
113 正孔輸送層
120 発光層
131 陰極
132 電子注入層
133 電子輸送層
Claims (14)
- 少なくとも陽極と、陰極と、前記陽極および前記陰極の間に挟まれ、有機化合物を含む有機機能層とをそれぞれ成膜して有機エレクトロルミネッセンス素子を製造する方法であって、
前記有機機能層となる有機材料が含まれるインクを、インクジェット装置により平板印刷版面にパターン塗布する塗布工程と、
前記平板印刷版面上に塗布されたインクの溶媒の一部を除去し、インクの粘度を調整する粘度調整工程と、
前記平板印刷版面上の粘度調整されたインクを転写体に転写する第1の転写工程と、
前記転写体に転写されたインクを基板に転写する第2の転写工程とを含むことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 - 請求項1において、
前記インクにおける溶媒の含有量が、95重量%以上99.9重量%以下であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 - 請求項1又は2において、
前記粘度調整工程では、前記インクを加熱することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 - 請求項1乃至3のいずれか一つにおいて、
前記有機材料が有機高分子材料であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 - 請求項1乃至4のいずれか一つにおいて、
前記平板印刷版面にパターン塗布される前記インクが、熱硬化性を示し、
前記粘度調整工程では、インクの溶媒の一部を除去するとともに、加熱することによってインクの粘度を調整することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 - 請求項1乃至5のいずれか一つにおいて、
前記第1の転写工程又は前記第2の転写工程では、調整された圧力でインクを押圧することにより、転写されるインクの表面を平坦化することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 - 請求項1乃至6のいずれか一つにおいて、
前記有機機能層が、発光層であり、
前記塗布工程では、互いに異なる色で発光する複数の種類の有機材料が少なくとも1種ずつ含まれる複数の種類のインクを、各々パターン塗布し、
前記第1の転写工程と前記第2の転写工程とでは、前記複数の種類のインクを一括して転写することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 - 請求項1乃至7のいずれか一つにおいて、
前記塗布工程の後に、前記平板印刷版面上の塗布部分を検査する検査工程と、
前記検査工程で塗布不良部分が発見されると、前記平板印刷版面上の塗布不良部分をインクジェット装置で再塗布し補修する工程とを有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 - 少なくとも陽極と、陰極と、前記陽極および前記陰極の間に挟まれ、有機化合物を含む有機機能層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子における有機機能層を成膜する製造装置であって、
インクジェット装置を有し、前記有機機能層となる有機材料が含まれるインクを、前記インクジェット装置により平板印刷版面にパターン塗布する塗布部と、
前記平板印刷版面上に塗布されたインクの溶媒の一部を除去してインクの粘度を調整する粘度調整部と、
前記平板印刷版面上の粘度調整されたインクを転写体に転写する第1の転写部と、
前記転写体に転写したインクを基板に転写する第2の転写部とを含むことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。 - 請求項9において、
前記粘度調整部が、前記インクを加熱することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。 - 請求項9又は10において、
前記有機材料が有機高分子材料であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。 - 請求項9乃至11のいずれか一つにおいて、
前記第1の転写部又は前記第2の転写部が、調整された圧力でインクを押圧することにより転写されたインクの表面を平坦化することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。 - 請求項9乃至12のいずれか一つにおいて、
前記塗布部が、互いに異なる色で発光する複数の種類の有機材料をそれぞれ少なくとも1種ずつ含む複数の種類のインクを、各々パターン塗布し、
第1の転写部と前記第2の転写部とが、前記複数の種類のインクを一括して転写することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。 - 請求項9乃至13のいずれか一つにおいて、
前記平板印刷版面上の塗布部分を検査する検査部をさらに有し、
前記検査部の検査により塗布不良部分が発見されると、前記平板印刷版面上の塗布不良部分を前記インクジェット装置で再塗布し補修することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。
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