JP2009224377A - 基板処理方法及び基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ウエハWと紫外線照射手段70とを相対的に平行移動及び水平回転させて紫外線照射手段から照射される紫外線によってウエハの表面を露光処理する基板処理方法(装置)において、紫外線照射手段は、該紫外線照射手段とウエハとの相対移動方向に沿う紫外線ランプ71を具備し、ウエハと紫外線照射手段の平行移動に伴って移動する光センサ63によって紫外線照射手段の紫外線ランプが照射する紫外線の照度分布を測定し、その測定された情報に基づいてウエハの紫外線ランプの照射領域に対する移動量及び水平回転を制御する。これにより、ウエハ上に照射される紫外線の照度分布を均一にすることができる。
【選択図】 図6
Description
32 紫外線照射処理装置(基板処理装置)
62 チャック(基板保持体)
63 光センサ(照度測定手段)
65 移動機構
66 モータ(回転機構)
70 紫外線照射手段(光照射手段)
71 紫外線ランプ(光照射体)
200 制御部(制御手段)
Claims (6)
- 被処理基板と光照射手段とを相対的に平行移動及び水平回転させて光照射手段から照射される光によって被処理基板の表面を露光処理する基板処理方法であって、
上記光照射手段は、該光照射手段と上記被処理基板との相対移動方向に沿う光照射体を具備し、
上記被処理基板と光照射手段の平行移動に伴って移動する照度測定手段によって光照射手段の光照射体が照射する光の照度を測定し、その測定された情報に基づいて被処理基板の光照射手段の照射領域に対する移動量及び水平回転を制御する、ことを特徴とする基板処理方法。 - 請求項1記載の基板処理方法において、
上記照度測定手段によって測定された光照射体の照度が正常の場合は、被処理基板を光照射体の直下に移動した後、被処理基板を水平回転しつつ光照射体から光を照射し、
上記照度測定手段によって測定された光照射体の照度が低下している場合は、上記光照射体の照度領域外の被処理基板の周縁部を照度の低下していない照度領域内まで移動した状態で、被処理基板を水平回転しつつ光照射体から光を照射し、その後、被処理基板を光照射体の直下に移動した後、被処理基板を水平回転しつつ光照射体から光を照射する、
ことを特徴とする基板処理方法。 - 請求項1又は2記載の基板処理方法において、
上記光照射手段は、該光照射手段と被処理基板との相対移動方向に沿う互いに平行な複数の光照射体を具備している、ことを特徴とする基板処理方法。 - 被処理基板と光照射手段とを相対的に平行移動及び水平回転させて光照射手段から照射される光によって被処理基板の表面を露光処理する基板処理装置であって、
上記被処理基板を水平状態に保持する基板保持体と、
上記基板保持体と光照射手段との相対移動方向に沿って設けられ、基板保持体に保持された被処理基板に向かって光を照射する光照射体を具備する光照射手段と、
上記基板保持体と光照射手段とを相対的に平行移動する移動機構と、
上記基板保持体と光照射手段とを相対的に水平回転する回転機構と、
上記基板保持体に設けられ、この基板保持体と上記光照射手段が相対的に平行移動した際に、上記光照射体の照度を測定する照度測定手段と、
上記照度測定手段の測定情報に基づいて上記被処理基板の上記光照射手段の照射領域に対する移動量及び水平回転を制御する制御手段と、
を具備することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項4記載の基板処理装置において、
上記制御手段は、
上記照度測定手段によって測定された光照射体の照度が正常の場合は、被処理基板を光照射体の直下に移動した後、被処理基板を水平回転しつつ光照射体から光を照射し、
上記照度測定手段によって測定された光照射体の照度が低下している場合は、上記光照射体の照度領域外の被処理基板の周縁部を照度の低下していない照度領域内まで移動した状態で、被処理基板を水平回転しつつ光照射体から光を照射し、その後、被処理基板を光照射体の直下に移動した後、被処理基板を水平回転しつつ光照射体から光を照射する、
ことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項4又は5記載の基板処理装置において、
上記光照射手段は、該光照射手段と被処理基板との相対移動方向に沿う互いに平行な複数の光照射体を具備している、ことを特徴とする基板処理装置。
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