JP2009205023A - 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 - Google Patents
露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】第1方向に沿って配置された一対の保持部10R,10Lのうち少なくとも一方が上下動可能な保持部対10を前記第1方向と交差する第2方向に複数有し、該保持部対を介して保持したマスクMを前記第2方向へ移動させるマスクステージMSTと、前記第1方向に配列された複数の投影光学モジュールを有し、前記マスクステージが移動させる前記マスクに設けられたパターンの像を前記投影光学モジュールを介して投影する投影光学ユニットとを備える。
【選択図】図2
Description
Claims (14)
- 第1方向に沿って配置された一対の保持部のうち少なくとも一方が上下動可能な保持部対を前記第1方向と交差する第2方向に複数有し、該保持部対を介して保持したマスクを前記第2方向へ移動させるマスクステージと、
前記第1方向に配列された複数の投影光学モジュールを有し、前記マスクステージが移動させる前記マスクに設けられたパターンの像を前記投影光学モジュールを介して投影する投影光学ユニットと、
を備えたことを特徴とする露光装置。 - 前記投影光学ユニットは、前記第2方向に所定間隔で複数配置され、
複数の前記保持部対のうち隣り合う保持部対の前記第2方向における間隔は、前記所定間隔の整数分の一に等しいことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 前記マスクステージは、前記マスクを保持するマスクホルダを介して該マスクを保持することを特徴とする請求項1または2に記載の露光装置。
- 前記マスクステージによって保持された前記マスクの高さを検出する高さセンサと、
前記高さセンサの検出結果に基づいて前記保持部を上下動させる上下駆動部と、
を備えたことを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記高さセンサは、前記投影光学ユニット近傍の前記第1方向に沿った複数の位置における前記マスクの高さを検出することを特徴とする請求項4に記載の露光装置。
- 前記保持部の上下動位置に関する制御情報を記憶した記憶部と、
前記制御情報に基づいて前記保持部を上下動させる上下駆動部と、
を備えたことを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の露光装置。 - 感光基板を保持する基板保持機構と、
前記上下駆動部による前記保持部の上下動位置に対応して前記基板保持機構を駆動し、前記感光基板の高さおよび傾斜の少なくとも一方を調整する基板調整機構と、
を備え、
前記投影光学ユニットは、前記基板調整機構が調整した前記感光基板に前記パターンの像を投影することを特徴とする請求項4〜6のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記マスクステージは、前記マスクの前記第2方向における前部および後部を支持する支持部を有することを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に記載の露光装置。
- マスクの第1方向における両端部を、該第1方向と交差する第2方向の複数の保持位置で前記第1方向に沿って保持する保持工程と、
前記保持工程によって保持された前記マスクを前記第2方向へ移動させる走査工程と、
前記保持位置ごとに前記両端部の少なくとも一方を上下動させて前記マスクの高さを調整する調整工程と、
前記走査工程によって移動され、前記調整工程によって高さ調整された前記マスクに設けられたパターンの像を、前記第1方向に配列された複数の投影光学モジュールを有する投影光学ユニットを介して投影する投影工程と、
を含むことを特徴とする露光方法。 - 前記投影工程は、前記第2方向に所定間隔で配置された複数の前記投影光学ユニットを介して前記パターンの像を投影し、
前記保持工程は、前記所定間隔の整数分の一に等しい間隔で設けられた前記複数の保持位置で前記マスクの前記第1方向における両端部を保持することを特徴とする請求項9に記載の露光方法。 - 前記保持工程によって保持された前記マスクの高さを検出する検出工程を含み、
前記調整工程は、前記検出工程の検出結果に基づいて前記マスクの高さを調整することを特徴とする請求項9または10に記載の露光方法。 - 前記両端部の上下動位置に関する制御情報を記憶する記憶工程を含み、
前記調整工程は、前記制御情報に基づいて前記マスクの高さを調整することを特徴とする請求項9または10に記載の露光方法。 - 感光基板を保持する基板保持工程と、
前記調整工程の調整結果に対応して前記感光基板の高さおよび傾斜の少なくとも一方を調整する基板調整工程と、
を含み、
前記投影工程は、前記基板調整工程によって調整された前記感光基板に前記パターンの像を投影することを特徴とする請求項9〜12のいずれか一項に記載の露光方法。 - 請求項1〜8のいずれか一項に記載の露光装置または請求項9〜13のいずれか一項に記載の露光方法を用いて、前記マスクに設けられたパターンの像を感光基板に転写する露光工程と、
前記パターンの像が転写された前記感光基板を現像し、前記パターンの像に対応する形状の転写パターン層を前記感光基板上に生成する現像工程と、
前記転写パターン層を介して前記感光基板を加工する加工工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
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JP2013125790A (ja) * | 2011-12-13 | 2013-06-24 | Canon Inc | 保持装置、露光装置、およびデバイス製造方法 |
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