JP2006195353A - 露光装置及び表示デバイスの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 マスクMと感光性基板Pとを走査方向に同期移動させて、投影光学系PL1〜PL11を介してマスクのパターンを感光性基板上に露光する露光装置EXにおいて、投影光学系の光軸方向における該投影光学系に対する感光性基板の位置を検出する複数の位置検出手段50,52と、複数の位置検出手段により検出された感光性基板の検出結果に基づいて面傾斜を算出する面傾斜算出手段CONTと、面傾斜算出手段により算出された面傾斜と投影光学系を介して感光性基板に投影されるマスクのパターンの像面との相対位置を補正する相対位置補正手段PSTとを備え、複数の位置検出手段は、感光性基板を露光する露光開始前に、基板の平面内の複数の異なる位置においてそれそれ計測を行い、相対位置補正手段は、復数の計測結果に基づいて相対位置を補正する。
【選択図】 図2
Description
Claims (11)
- マスクと外径が500mmよりも大きい感光性基板とを走査方向に同期移動させて、投影光学系を介して前記マスクのパターンを前記感光性基板上に露光する露光装置において、
前記投影光学系の光軸方向における該投影光学系に対する前記感光性基板の位置を検出する複数の位置検出手段と、
前記複数の位置検出手段により検出された前記感光性基板の検出結果に基づいて面傾斜を算出する面傾斜算出手段と、
前記面傾斜算出手段により算出された面傾斜と前記投影光学系を介して前記感光性基板に投影される前記マスクのパターンの像面との相対位置を補正する相対位置補正手段とを備え、
前記複数の位置検出手段は、前記感光性基板を露光する露光開始前に、前記基板の平面内の複数の異なる位置においてそれぞれ計測を行い、
前記相対位置補正手段は、前記復数の計測結果に基づいて前記相対位置を補正することを特徴とする露光装置。 - 前記複数の位置検出手段は、前記走査方向に前記基板を移動させた際の複数の異なる位置においてそれぞれ計測することを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 前記相対位置補正手段は、前記複数の位置検出手段を用いて露光開始前に予め検出した所定の位置における前記感光性基板の少なくとも3点の位置の検出結果に基づき前記面傾斜算出手段により第1の面傾斜を算出し、該算出された第1の面傾斜に基づいて前記相対位置を補正することを特徴とする請求項1または請求項2記載の露光装置。
- 前記面傾斜算出手段は、前記マスクに対する前記感光性基板の前記投影光学系の光軸と交差する方向の位置を検出する検出位置での前記検出手段の検出結果に基づいて、前記第1の面傾斜を算出することを特徴とする請求項3記載の露光装置。
- 前記投影光学系は、相互に前記走査方向に離れた位置に第1投影光学ユニットと第2投影光学ユニットとを備え、
前記位置検出手段は、前記第1投影光学ユニットと前記第2投影光学ユニットとを前記走査方向に挟み込む位置関係に第1検出手段と第2検出手段とを備えることを特徴とする請求項1乃至請求項4の何れか一項に記載の露光装置。 - 前記第1検出手段及び第2検出手段の少なくとも一方は、前記走査方向に交差する方向に配列された複数の位置検出点を有することを特徴とする請求項5記載の露光装置。
- 前記相対位置補正手段は、前記第1検出手段及び前記第2検出手段の少なくとも一方で前記感光性基板を検出した際に、該検出した前記感光性基板の前記投影光学系の光軸方向の位置を前記第1の面傾斜に加味して前記相対位置を補正することを特徴とする請求項5または請求項6記載の露光装置。
- マスクと外径が500mmよりも大きい感光性基板とを走査方向に同期移動させて、投影光学系を介して前記マスクのパターンを前記感光性基板上に露光する露光装置において、
前記投影光学系の光軸方向における該投影光学系に対する前記感光性基板の位置を検出する複数の位置検出手段と、
前記複数の位置検出手段により検出された前記感光性基板の検出結果に基づいて面傾斜を算出する面傾斜算出手段と、
前記面傾斜算出手段により算出された面傾斜と前記投影光学系を介して前記感光性基板に投影される前記マスクのパターンの像面との相対位置を補正する相対位置補正手段とを備え、
前記相対位置補正手段は、前記感光基板の処理群であるロットの先頭の少なくとも1枚に対し、前記複数の位置検出手段を用いて所定の位置における前記感光性基板の少なくとも3点の位置を予め検出し、該検出した結果に基づき前記面傾斜算出手段により第1の面傾斜を算出し、該第1の面傾斜を記憶するとともに該記憶された第1の面傾斜に基づいて該相対位置を補正し、
前記複数の位置検出手段のうち直線状に並ばない少なくとも3点の検出点により前記感光性基板の位置を検出した後、該検出した位置に基づき、前記面傾斜算出手段により第2の面傾斜を算出し、該第2の面傾斜に基づいて前記相対位置を補正することを特徴とする露光装置。 - 前記相対位置補正手段は、露光開始後に前記面傾斜算出手段により検出された前記第3の面傾斜に基づいて前記相対位置を補正することを特徴とする請求項8記載の露光装置。
- 前記相対位置補正手段は、前記マスク又は前記感光性基板を載置したテーブルの少なくとも一方を傾斜させて面傾斜を制御することを特徴とする請求項1乃至請求項9の何れか一項に記載の露光装置。
- マスクのパターンを外径が500mmよりも大きい感光性基板上に露光する露光工程と、前記露光工程により露光された前記感光性基板を現像する現像工程とを含むことを特徴とする表示デバイスの製造方法において、
前記露光工程は、請求項1乃至請求項10の何れか一項に記載の露光装置を用いて前記マスクのパターンを前記感光性基板上に露光する工程を含むことを特徴とする表示デバイスの製造方法。
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009150901A1 (ja) * | 2008-06-09 | 2009-12-17 | シャープ株式会社 | 露光装置および露光方法 |
WO2010016550A1 (ja) * | 2008-08-07 | 2010-02-11 | 株式会社ニコン | 基板処理方法、基板処理装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
JP2010217389A (ja) * | 2009-03-16 | 2010-09-30 | Nikon Corp | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
JP5692076B2 (ja) * | 2009-08-26 | 2015-04-01 | 株式会社ニコン | 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
JP2017530410A (ja) * | 2014-09-28 | 2017-10-12 | シャンハイ マイクロ エレクトロニクス イクイプメント(グループ)カンパニー リミティド | 露光装置、並びに焦点外れ及び傾斜誤差の補正方法 |
JP2020052075A (ja) * | 2018-09-21 | 2020-04-02 | 株式会社Screenホールディングス | 描画装置および描画方法 |
CN114096918A (zh) * | 2019-07-11 | 2022-02-25 | 维斯泰克公司 | 光刻***中的实时配准 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0689032A (ja) * | 1992-02-24 | 1994-03-29 | Klaus Schneider | フィルムとプリント回路基板の相互位置を調整する方法、並びに前記方法を実施するための装置 |
JPH0992593A (ja) * | 1995-09-21 | 1997-04-04 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
JPH10154659A (ja) * | 1996-10-07 | 1998-06-09 | Nikon Corp | リソグラフィーアライナー、製造装置、または検査装置用の焦点及びチルト調節システム |
JPH10223525A (ja) * | 1997-02-10 | 1998-08-21 | Nikon Corp | 露光装置のフォーカス制御方法 |
JPH10284393A (ja) * | 1997-04-04 | 1998-10-23 | Canon Inc | 露光装置およびデバイス製造方法 |
JP2000003871A (ja) * | 1999-06-14 | 2000-01-07 | Nikon Corp | 露光方法 |
JP2001183844A (ja) * | 1999-12-22 | 2001-07-06 | Sharp Corp | 露光方法 |
JP2002270498A (ja) * | 2001-03-14 | 2002-09-20 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法 |
JP2003347185A (ja) * | 2002-05-22 | 2003-12-05 | Nikon Corp | 露光方法及び露光装置、デバイス製造方法 |
-
2005
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Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0689032A (ja) * | 1992-02-24 | 1994-03-29 | Klaus Schneider | フィルムとプリント回路基板の相互位置を調整する方法、並びに前記方法を実施するための装置 |
JPH0992593A (ja) * | 1995-09-21 | 1997-04-04 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
JPH10154659A (ja) * | 1996-10-07 | 1998-06-09 | Nikon Corp | リソグラフィーアライナー、製造装置、または検査装置用の焦点及びチルト調節システム |
JPH10223525A (ja) * | 1997-02-10 | 1998-08-21 | Nikon Corp | 露光装置のフォーカス制御方法 |
JPH10284393A (ja) * | 1997-04-04 | 1998-10-23 | Canon Inc | 露光装置およびデバイス製造方法 |
JP2000003871A (ja) * | 1999-06-14 | 2000-01-07 | Nikon Corp | 露光方法 |
JP2001183844A (ja) * | 1999-12-22 | 2001-07-06 | Sharp Corp | 露光方法 |
JP2002270498A (ja) * | 2001-03-14 | 2002-09-20 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法 |
JP2003347185A (ja) * | 2002-05-22 | 2003-12-05 | Nikon Corp | 露光方法及び露光装置、デバイス製造方法 |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5404619B2 (ja) * | 2008-06-09 | 2014-02-05 | シャープ株式会社 | 露光装置 |
WO2009150901A1 (ja) * | 2008-06-09 | 2009-12-17 | シャープ株式会社 | 露光装置および露光方法 |
WO2010016550A1 (ja) * | 2008-08-07 | 2010-02-11 | 株式会社ニコン | 基板処理方法、基板処理装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
JP2010217389A (ja) * | 2009-03-16 | 2010-09-30 | Nikon Corp | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
KR102047505B1 (ko) * | 2009-08-26 | 2019-12-02 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 장치, 노광 방법 및 디바이스 제조 방법 |
JP5692076B2 (ja) * | 2009-08-26 | 2015-04-01 | 株式会社ニコン | 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
KR101769091B1 (ko) * | 2009-08-26 | 2017-08-30 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 장치, 노광 방법 및 디바이스 제조 방법 |
KR101925114B1 (ko) * | 2009-08-26 | 2018-12-05 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 장치, 노광 방법 및 디바이스 제조 방법 |
KR20180129989A (ko) | 2009-08-26 | 2018-12-05 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 장치, 노광 방법 및 디바이스 제조 방법 |
JP2017530410A (ja) * | 2014-09-28 | 2017-10-12 | シャンハイ マイクロ エレクトロニクス イクイプメント(グループ)カンパニー リミティド | 露光装置、並びに焦点外れ及び傾斜誤差の補正方法 |
US10197923B2 (en) | 2014-09-28 | 2019-02-05 | Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd. | Exposure device and out-of-focus and tilt error compensation method |
JP2020052075A (ja) * | 2018-09-21 | 2020-04-02 | 株式会社Screenホールディングス | 描画装置および描画方法 |
CN114096918A (zh) * | 2019-07-11 | 2022-02-25 | 维斯泰克公司 | 光刻***中的实时配准 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
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