JP2009172524A - Apparatus for discharging liquid droplet, method for arranging liquid material, apparatus and method for manufacturing color filter and apparatus and method for manufacturing electro-optical apparatus - Google Patents

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an apparatus for discharging a liquid droplet in which a suitable head gap can be kept even when positions of the surface of a base material vary owing to undulation or uneven thickness and to provide a method for arranging a liquid material, an apparatus and a method for manufacturing a color filter and an apparatus and a method for manufacturing an electro-optical apparatus. <P>SOLUTION: The apparatus for discharging the liquid droplet includes: a head unit having a discharge head for discharging the liquid material; a main scanning mechanism for relatively moving the discharge head and the base material, on which the discharged liquid material is landed, to a main scanning direction; a head raising/lowering mechanism for moving the head unit to such a direction that the head gap is increased or decreased; a gap sensor for measuring the head gap; and a gap adjusting means for adjusting the head gap by driving the head raising/lowering mechanism according to the result measured by the gap sensor. The gap sensor is moved to the main scanning direction relatively to the base material while being almost integrated with the head unit. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、液状体を吐出する液滴吐出ヘッドを備える液滴吐出装置、及び基材上に液状体を配置する液状体の配置方法、並びにカラーフィルタを構成する材料を含む液状体を吐出する液滴吐出ヘッドを備えるカラーフィルタの製造装置、基板上にカラーフィルタを構成する材料を含む液状体を配置するカラーフィルタの製造方法、基板上に電気光学装置を構成する材料を含む液状体を配置する電気光学装置の製造装置、及び電気光学装置の製造方法に関する。   The present invention relates to a droplet discharge device including a droplet discharge head for discharging a liquid material, a liquid material arranging method for arranging a liquid material on a substrate, and a liquid material containing a material constituting a color filter. Color filter manufacturing apparatus including a droplet discharge head, color filter manufacturing method for arranging a liquid material containing a material constituting a color filter on a substrate, and a liquid material containing a material constituting an electro-optical device on a substrate The present invention relates to an electro-optical device manufacturing apparatus, and an electro-optical device manufacturing method.

従来から、カラー液晶装置のカラーフィルタ膜などの機能膜を形成する技術として、液状体を液滴として吐出する液滴吐出ヘッドを有する液滴吐出装置を用いて、機能膜の材料を含む液状体の液滴を吐出して基板上の任意の位置に着弾させることで、当該位置に液状体を配置し、配置した液状体を乾燥させて機能膜を形成する技術が知られている。このような膜形成に用いられる液滴吐出装置の液滴吐出ヘッドは、その吐出ノズルから微小な液滴を選択的に吐出して位置精度良く着弾させることができるため、精密な平面形状及び膜厚を有する膜を形成することができる。   Conventionally, as a technique for forming a functional film such as a color filter film of a color liquid crystal device, a liquid material containing a functional film material using a droplet discharge device having a droplet discharge head for discharging the liquid material as droplets A technique is known in which a liquid material is disposed at an arbitrary position on a substrate by ejecting the liquid droplets to place a liquid material at the position, and the disposed liquid material is dried to form a functional film. Since the droplet discharge head of the droplet discharge apparatus used for forming such a film can selectively discharge minute droplets from the discharge nozzle and land with high positional accuracy, the precise planar shape and film A film having a thickness can be formed.

しかし、吐出された液状体の液滴は、全てが必ずしも所定の飛行経路を辿らないことに起因して、着弾位置がずれる液滴が発生するため、形成される膜の精度が損なわれる場合があった。飛行経路のずれの影響を緩和するためには、飛行距離を短くする、すなわち、液滴吐出ヘッドから基板までの距離（以降、「ヘッドギャップ」と表記する。）を小さくすることが有効である。しかし、ヘッドギャップを小さくすると、液滴吐出ヘッドと基板とが接触する可能性が増大するなどの課題が生ずるため、ヘッドギャップをより正確に維持することが必要となる。
特許文献１には、正確な形状のダミー基板を用いて、予め正確にヘッドギャップを合わせこむことができるカラーフィルタ製造装置および方法が開示されている。 However, since the discharged liquid droplets do not always follow a predetermined flight path, droplets whose landing positions are shifted are generated, and the accuracy of the formed film may be impaired. there were. In order to mitigate the influence of the deviation of the flight path, it is effective to shorten the flight distance, that is, to reduce the distance from the droplet discharge head to the substrate (hereinafter referred to as “head gap”). . However, if the head gap is reduced, problems such as an increased possibility of contact between the droplet discharge head and the substrate occur, and it is necessary to maintain the head gap more accurately.
Patent Document 1 discloses a color filter manufacturing apparatus and method capable of accurately aligning a head gap in advance using a dummy substrate having an accurate shape.

特開平９−４９９２０号公報JP-A-9-49920

しかしながら、基板には、厚さの「むら」や、「うねり」などが存在する可能性がある。基板を載置するテーブルの載置面にも「うねり」が存在する可能性がある。また、製造の効率化や装置の大型化のために基板が大型化する傾向があり、大型化に伴って、厚さの「むら」や、「うねり」が大きくなる傾向がある。ヘッドギャップを小さくすることで、厚さの「むら」や、「うねり」などの大きさが、ヘッドギャップに対して相対的に大きくなるため、厚さの「むら」や、「うねり」などによってヘッドギャップが変動したような影響を与えるという課題があった。このような課題は、特許文献１に開示された装置や方法では対処することができない課題である。
さらに、製造の効率化のために大型化された基板を無駄なく使用するために、同一の基板に、互いに大きさや必要な着弾位置精度が異なる複数種類の装置を形成する場合がある。このような場合には、必要な着弾位置精度が高い装置に合わせたヘッドギャップを採用すると、必要な着弾位置精度が低い装置の部分は、過度に小さいヘッドギャップで製造するために、製造の効率が損なわれるという課題があった。必要な着弾位置精度が低い装置に合わせたヘッドギャップを採用すると、必要な着弾位置精度が高い装置の部分は、大きいヘッドギャップで製造するために増加する可能性がある着弾位置誤差の影響によって、必要な着弾位置精度が必ずしも確保できないという課題があった。 However, there is a possibility that “unevenness” or “undulation” of the thickness exists on the substrate. There is a possibility that “undulation” may also exist on the mounting surface of the table on which the substrate is mounted. In addition, there is a tendency for the substrate to increase in size for manufacturing efficiency and device enlargement, and as the size increases, the “unevenness” and “swell” of the thickness tend to increase. By reducing the head gap, the thickness of “thickness” and “waviness” becomes larger relative to the head gap, so depending on the “thickness” and “waviness” of the thickness. There was a problem that the head gap was affected. Such a problem cannot be dealt with by the apparatus and method disclosed in Patent Document 1.
Furthermore, in order to use a large substrate for efficiency in manufacturing without waste, a plurality of types of apparatuses having different sizes and required landing position accuracy may be formed on the same substrate. In such a case, if a head gap suitable for a device with high required landing position accuracy is adopted, parts of the device with low required landing position accuracy are manufactured with an excessively small head gap. There was a problem that would be damaged. By adopting a head gap tailored to a device with low required landing position accuracy, the portion of the device with high required landing position accuracy is due to the impact of landing position errors that may increase to produce with a large head gap, There was a problem that required landing position accuracy could not always be ensured.

本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.

［適用例１］本適用例にかかる液滴吐出装置は、液状体を吐出する１以上の吐出ヘッドを有する１以上のヘッドユニットと、前記吐出ヘッドと吐出された液状体を着弾させる基材とを主走査方向に相対移動させる主走査機構と、を備えた液滴吐出装置であって、前記基材と、前記１以上のヘッドユニットのそれぞれのヘッドユニットにおける前記吐出ヘッドと、の互いの離接方向の距離であるヘッドギャップの増減方向に、前記ヘッドユニットを個別に移動させるヘッド昇降機構と、前記ヘッドギャップを測定するギャップセンサと、前記ギャップセンサの測定結果に応じて、前記ヘッド昇降機構によって前記ヘッドユニットを移動させることによって、前記ヘッドギャップを調整するギャップ調整手段と、を備え、前記ギャップセンサは、前記主走査方向において、前記基材に対して、前記ヘッドユニットと略一体に相対移動させられることを特徴とする。   Application Example 1 A droplet discharge apparatus according to this application example includes one or more head units having one or more discharge heads for discharging a liquid material, and a base material on which the discharge head and the discharged liquid material are landed. A main-scanning mechanism that relatively moves the main-scanning direction in the main-scanning direction, wherein the base material and the discharge heads in the respective head units of the one or more head units are separated from each other. A head lifting mechanism for individually moving the head unit in a head gap increasing / decreasing direction that is a distance in the contact direction, a gap sensor for measuring the head gap, and the head lifting mechanism according to the measurement result of the gap sensor. A gap adjusting means for adjusting the head gap by moving the head unit by the gap sensor, In serial main scanning direction, relative to said base member, characterized in that it is moved relative to the head unit substantially integral.

この液滴吐出装置によれば、基材に対して、ヘッドユニットと略一体に相対移動させられるギャップセンサによって測定されたヘッドギャップに応じて、ヘッドギャップが調整される。これにより、液状体を配置するそれぞれの領域ごとに、実際のヘッドギャップに即したヘッドギャップの調整が実施できる。したがって、うねりや厚さのむらなどに起因する基材の面の位置の変動があっても、当該変動に追従するように吐出ヘッドの位置を調整することで、適切なヘッドギャップを維持することができる。   According to this droplet discharge device, the head gap is adjusted in accordance with the head gap measured by the gap sensor that is relatively moved relative to the base member substantially integrally with the head unit. As a result, the head gap can be adjusted in accordance with the actual head gap for each region where the liquid material is disposed. Therefore, even if there is a variation in the position of the substrate surface due to waviness or unevenness in thickness, an appropriate head gap can be maintained by adjusting the position of the ejection head so as to follow the variation. it can.

［適用例２］上記適用例にかかる液滴吐出装置において、前記基材における前記液状体を着弾させる連続した領域であるサブ配置領域を含む配置領域に対応して規定された前記ヘッドギャップである基準ヘッドギャップを取得する基準ヘッドギャップ取得手段をさらに備え、前記ギャップ調整手段は、前記配置領域に対応して、前記ヘッドギャップが前記配置領域に対応する前記基準ヘッドギャップとなるように、前記ヘッドギャップを調整することが好ましい。   Application Example 2 In the liquid droplet ejection apparatus according to the application example, the head gap is defined corresponding to an arrangement area including a sub arrangement area that is a continuous area on which the liquid material is landed on the base material. Reference head gap acquisition means for acquiring a reference head gap is further provided, and the gap adjustment means corresponds to the arrangement area, and the head gap is set to the reference head gap corresponding to the arrangement area. It is preferable to adjust the gap.

この液滴吐出装置によれば、基準ヘッドギャップ取得手段によって配置領域に対応して規定された基準ヘッドギャップが取得され、ギャップ調整手段によって、ヘッド昇降機構を用いてヘッドユニットが昇降されることで、ヘッドギャップが配置領域に対応する基準ヘッドギャップに調整される。これにより、それぞれの配置領域において、配置領域に対応して規定された基準ヘッドギャップで吐出を実施することが可能となる。このため、それぞれの配置領域に適合したヘッドギャップで吐出を実施することができる。例えば、必要な着弾位置精度が高い配置領域では、狭いヘッドギャップで吐出を実施することによって、高い着弾位置精度を維持し、必要な着弾位置精度が低い配置領域では、低い着弾位置精度であれば確保できる広いヘッドギャップで吐出を実施することによって、効率良く液状体を配置することができる。このように、過度に小さいヘッドギャップで製造するために、製造の効率が損なわれたり、大きいヘッドギャップで製造するために増加する可能性がある着弾位置誤差の影響によって、必要な着弾位置精度が確保できなくなったりすることを抑制することができる。   According to this droplet discharge device, the reference head gap defined corresponding to the arrangement region is acquired by the reference head gap acquisition unit, and the head unit is moved up and down by the gap adjustment unit using the head lifting mechanism. The head gap is adjusted to the reference head gap corresponding to the arrangement region. Thereby, in each arrangement area, it is possible to perform ejection with a reference head gap defined corresponding to the arrangement area. For this reason, it is possible to perform ejection with a head gap suitable for each arrangement region. For example, in a placement area where the required landing position accuracy is high, by performing ejection with a narrow head gap, high landing position accuracy is maintained, and in a placement area where the required landing position accuracy is low, if low landing position accuracy is By discharging with a wide head gap that can be secured, the liquid material can be arranged efficiently. In this way, the required landing position accuracy is reduced due to the impact of landing position errors, which may reduce manufacturing efficiency due to excessively small head gaps, or increase due to large head gaps. It can be suppressed that it cannot be secured.

［適用例３］上記適用例にかかる液滴吐出装置において、前記ギャップセンサは、前記主走査方向における、前記ヘッドユニットの両側にそれぞれ設けられていることが好ましい。   Application Example 3 In the liquid droplet ejection apparatus according to the application example, it is preferable that the gap sensor is provided on each side of the head unit in the main scanning direction.

この液滴吐出装置によれば、ギャップセンサは、ヘッドユニットの両側にそれぞれ設けられていることから、ヘッドユニットに対して基材が主走査方向のいずれの方から相対移動してきても、基材は最初にギャップセンサに対向した後にヘッドユニットに対向するため、吐出ヘッドからの吐出に先んじて、ギャップセンサによってヘッドギャップを測定することができる。   According to this droplet discharge device, since the gap sensor is provided on each side of the head unit, the base material can be moved even if the base material moves relative to the head unit from either side of the main scanning direction. Since the head unit first faces the gap sensor and then faces the head unit, the head gap can be measured by the gap sensor prior to ejection from the ejection head.

［適用例４］上記適用例にかかる液滴吐出装置において、前記基準ヘッドギャップは、前記配置領域に含まれる前記サブ配置領域の大きさに応じて規定されることが好ましい。   Application Example 4 In the liquid droplet ejection apparatus according to the application example, it is preferable that the reference head gap is defined according to the size of the sub arrangement area included in the arrangement area.

この液滴吐出装置によれば、液状体を着弾させる連続した領域であるサブ配置領域の大きさに対応して、基準ヘッドギャップが規定される。
サブ配置領域は、液状体を着弾させる連続した領域であるため、同じサブ配置領域内に着弾すれば、着弾位置がずれることによる不具合は実質的に発生しない。したがって、サブ配置領域が大きければ、着弾位置精度の規格を緩くすることができる。サブ配置領域の大きさによって基準ヘッドギャップを規定することで、必要な着弾位置精度に応じた適切なヘッドギャップで液状体の吐出を実施することができる。 According to this droplet discharge device, the reference head gap is defined in accordance with the size of the sub-arrangement region that is a continuous region on which the liquid material is landed.
Since the sub-arrangement region is a continuous region where the liquid material is landed, there is substantially no problem due to the landing position being shifted when landing in the same sub-arrangement region. Therefore, if the sub arrangement area is large, the standard of landing position accuracy can be relaxed. By defining the reference head gap according to the size of the sub-arrangement region, the liquid material can be discharged with an appropriate head gap according to the required landing position accuracy.

［適用例５］上記適用例にかかる液滴吐出装置において、前記基準ヘッドギャップは、前記配置領域における前記液状体を配置する位置の許容誤差の大きさに応じて規定されることが好ましい。   Application Example 5 In the liquid droplet ejection apparatus according to the application example described above, it is preferable that the reference head gap is defined according to a tolerance of a position where the liquid material is arranged in the arrangement region.

この液滴吐出装置によれば、配置領域における液状体を配置する位置の許容誤差の大きさに対応して、基準ヘッドギャップが規定される。
液状体を配置する位置の許容誤差が大きければ、着弾位置精度の規格を緩くすることができる。液状体を配置する位置の許容誤差の大きさによって基準ヘッドギャップを規定することで、必要な着弾位置精度に応じた適切なヘッドギャップで液状体の吐出を実施することができる。 According to this droplet discharge device, the reference head gap is defined in accordance with the allowable error of the position where the liquid material is arranged in the arrangement region.
If the tolerance of the position where the liquid material is arranged is large, the standard of landing position accuracy can be relaxed. By defining the reference head gap according to the tolerance of the position where the liquid material is arranged, the liquid material can be discharged with an appropriate head gap according to the required landing position accuracy.

［適用例６］上記適用例にかかる液滴吐出装置において、前記吐出ヘッドが前記液状体を吐出する吐出タイミングを調整する吐出タイミング調整手段をさらに備え、前記吐出タイミング調整手段は、前記基準ヘッドギャップに対応して前記吐出タイミングを変動させることによって、前記吐出タイミングを調整することが好ましい。   Application Example 6 In the droplet discharge device according to the application example described above, the droplet discharge apparatus further includes discharge timing adjustment means for adjusting discharge timing at which the discharge head discharges the liquid material, and the discharge timing adjustment means includes the reference head gap. It is preferable to adjust the discharge timing by changing the discharge timing in response to the above.

この液滴吐出装置によれば、吐出タイミング調整手段が基準ヘッドギャップに対応して吐出タイミングを変動させることによって、吐出タイミングを調整する。
ヘッドギャップが変わることによって、吐出された液状体が着弾するまでの主走査方向の移動距離が変化する。したがって、ヘッドギャップが異なると、同一の着弾位置に対して、吐出するべきタイミングが異なる。ヘッドギャップは、基準ヘッドギャップとなるように調整されるため、基準ヘッドギャップに対応して吐出タイミングを調整することで、着弾させるべき位置に対して適切な吐出タイミングで液状体を吐出させることができる。 According to this droplet discharge device, the discharge timing adjusting unit adjusts the discharge timing by changing the discharge timing in accordance with the reference head gap.
By changing the head gap, the moving distance in the main scanning direction until the discharged liquid material lands changes. Therefore, when the head gap is different, the timing at which ejection is performed differs for the same landing position. Since the head gap is adjusted to be the reference head gap, the liquid material can be discharged at an appropriate discharge timing with respect to the position to be landed by adjusting the discharge timing corresponding to the reference head gap. it can.

［適用例７］本適用例にかかる液状体の配置方法は、液状体を吐出する１以上の吐出ヘッドを有する１以上のヘッドユニットのそれぞれのヘッドユニットと、吐出された前記液状体を着弾させる基材と、を主走査方向に相対移動させると共に、前記吐出ヘッドから前記液状体を吐出させることによって、前記基材上に前記液状体を配置する液状体の配置方法であって、前記基材と、前記ヘッドユニットにおける前記吐出ヘッドと、の互いの離接方向の距離であるヘッドギャップを測定するギャップ測定工程と、前記ヘッドユニットを移動させることによって、前記ヘッドギャップが所定のヘッドギャップとなるように、前記ヘッドギャップを調整するギャップ調整工程と、前記基材と、前記ヘッドユニットと、を主走査方向に相対移動させると共に、前記吐出ヘッドから前記液状体を吐出させる吐出工程と、を有し、前記ギャップ測定工程及び前記ギャップ調整工程を、前記吐出工程に先んじて開始すると共に、略並行して実施することを特徴とする。   [Application Example 7] The liquid material arranging method according to this application example is such that each of the head units of one or more head units having one or more discharge heads for discharging the liquid material and the discharged liquid material are landed. The liquid material is disposed on the base material by causing the liquid material to move relative to the base material in the main scanning direction and discharging the liquid material from the discharge head. And a gap measuring step for measuring a head gap, which is a distance in the direction of separation from the ejection head in the head unit, and the head gap becomes a predetermined head gap by moving the head unit. As described above, the gap adjustment step for adjusting the head gap, the base material, and the head unit are relatively moved in the main scanning direction. Both of which include a discharge step of discharging the liquid material from the discharge head, and the gap measurement step and the gap adjustment step are started prior to the discharge step and are performed substantially in parallel. And

この液状体の配置方法によれば、吐出工程に先んじて開始すると共に、略並行して実施するギャップ測定工程において測定されたヘッドギャップに応じて、吐出工程に先んじて開始すると共に、略並行して実施するギャップ調整工程において、ヘッドギャップが調整される。これにより、それぞれの配置領域ごとに、実際のヘッドギャップに即したヘッドギャップの調整が実施できる。したがって、うねりや厚さのむらなどに起因する基材の面の位置の変動があっても、当該変動に追従するように吐出ヘッドの位置を調整することで、適切なヘッドギャップを維持することができる。   According to this liquid material arrangement method, the process starts before the discharge process and starts before the discharge process according to the head gap measured in the gap measurement process performed substantially in parallel. The head gap is adjusted in the gap adjustment step performed in the above. Thereby, the head gap can be adjusted in accordance with the actual head gap for each arrangement region. Therefore, even if there is a variation in the position of the substrate surface due to waviness or unevenness in thickness, an appropriate head gap can be maintained by adjusting the position of the ejection head so as to follow the variation. it can.

［適用例８］上記適用例にかかる液状体の配置方法において、前記基材における前記液状体を着弾させる連続した領域であるサブ配置領域を含む配置領域に対応して規定された前記ヘッドギャップである、基準ヘッドギャップを取得する基準ヘッドギャップ取得工程をさらに有し、前記ギャップ調整工程においては、前記ギャップ測定工程における測定結果に応じて前記ヘッドギャップを調整することによって、前記ヘッドギャップを前記基準ヘッドギャップに調整することが好ましい。   Application Example 8 In the liquid material arranging method according to the application example, the head gap defined in correspondence with an arrangement region including a sub-arrangement region that is a continuous region on which the liquid material is landed on the base material. A reference head gap acquisition step for acquiring a reference head gap is further provided, and in the gap adjustment step, the head gap is adjusted to the reference by adjusting the head gap according to a measurement result in the gap measurement step. It is preferable to adjust the head gap.

この液状体の配置方法によれば、基準ヘッドギャップ取得工程において配置領域に対応して規定された基準ヘッドギャップが取得され、ギャップ調整工程において、ヘッドギャップが配置領域に対応する基準ヘッドギャップに調整される。これにより、それぞれの配置領域において、配置領域に対応して規定された基準ヘッドギャップで吐出を実施することが可能となる。このため、それぞれの配置領域に適合したヘッドギャップで吐出を実施することができる。例えば、必要な着弾位置精度が高い配置領域では、狭いヘッドギャップで吐出を実施することによって、高い着弾位置精度を維持し、必要な着弾位置精度が低い配置領域では、低い着弾位置精度であれば確保できる広いヘッドギャップで吐出を実施することによって、効率良く液状体を配置することができる。このように、過度に小さいヘッドギャップで製造するために、製造の効率が損なわれたり、大きいヘッドギャップで製造するために増加する可能性がある着弾位置誤差の影響によって、必要な着弾位置精度が確保できなくなったりすることを抑制することができる。   According to this liquid arrangement method, the reference head gap defined corresponding to the arrangement region is acquired in the reference head gap acquisition step, and the head gap is adjusted to the reference head gap corresponding to the arrangement region in the gap adjustment step. Is done. Thereby, in each arrangement area, it is possible to perform ejection with a reference head gap defined corresponding to the arrangement area. For this reason, it is possible to perform ejection with a head gap suitable for each arrangement region. For example, in a placement area where the required landing position accuracy is high, by performing ejection with a narrow head gap, high landing position accuracy is maintained, and in a placement area where the required landing position accuracy is low, if low landing position accuracy is By discharging with a wide head gap that can be secured, the liquid material can be arranged efficiently. In this way, the required landing position accuracy is reduced due to the impact of landing position errors, which may reduce manufacturing efficiency due to excessively small head gaps, or increase due to large head gaps. It can be suppressed that it cannot be secured.

［適用例９］上記適用例にかかる液状体の配置方法において、前記基準ヘッドギャップ取得工程は、前記基準ヘッドギャップを、前記配置領域に含まれる前記サブ配置領域の大きさに対応して規定する基準ギャップ規定工程を含むことが好ましい。   Application Example 9 In the liquid material arranging method according to the application example, the reference head gap obtaining step defines the reference head gap corresponding to the size of the sub arrangement area included in the arrangement area. Preferably, a reference gap defining step is included.

この液状体の配置方法によれば、基準ギャップ規定工程において、液状体を着弾させる連続した領域であるサブ配置領域の大きさに対応して、基準ヘッドギャップが規定される。
サブ配置領域は、液状体を着弾させる連続した領域であるため、同じサブ配置領域内に着弾すれば、着弾位置がずれることによる不具合は実質的に発生しない。したがって、サブ配置領域が大きければ、着弾位置精度の規格を緩くすることができる。サブ配置領域の大きさによって基準ヘッドギャップを規定することで、必要な着弾位置精度に応じた適切なヘッドギャップで液状体の吐出を実施することができる。 According to this liquid material arranging method, in the reference gap defining step, the reference head gap is defined in accordance with the size of the sub-arrangement region that is a continuous region on which the liquid material is landed.
Since the sub-arrangement region is a continuous region where the liquid material is landed, there is substantially no problem due to the landing position being shifted when landing in the same sub-arrangement region. Therefore, if the sub arrangement area is large, the standard of landing position accuracy can be relaxed. By defining the reference head gap according to the size of the sub-arrangement region, the liquid material can be discharged with an appropriate head gap according to the required landing position accuracy.

［適用例１０］上記適用例にかかる液状体の配置方法において、前記基準ヘッドギャップ取得工程は、前記基準ヘッドギャップを、前記配置領域における前記液状体を配置する位置の許容誤差の大きさに対応して規定する基準ギャップ規定工程を含むことが好ましい。   Application Example 10 In the liquid material arranging method according to the application example, the reference head gap acquisition step corresponds to a size of an allowable error of a position where the liquid material is arranged in the arrangement region. It is preferable to include a reference gap defining step.

この液状体の配置方法によれば、基準ギャップ規定工程において、配置領域における液状体を配置する位置の許容誤差の大きさに対応して、基準ヘッドギャップが規定される。
液状体を配置する位置の許容誤差が大きければ、着弾位置精度の規格を緩くすることができる。液状体を配置する位置の許容誤差の大きさによって基準ヘッドギャップを規定することで、必要な着弾位置精度に応じた適切なヘッドギャップで液状体の吐出を実施することができる。 According to this liquid material arrangement method, in the reference gap defining step, the reference head gap is defined in accordance with the tolerance of the position where the liquid material is arranged in the arrangement region.
If the tolerance of the position where the liquid material is arranged is large, the standard of landing position accuracy can be relaxed. By defining the reference head gap according to the tolerance of the position where the liquid material is arranged, the liquid material can be discharged with an appropriate head gap according to the required landing position accuracy.

［適用例１１］上記適用例にかかる液状体の配置方法において、前記基準ヘッドギャップに対応して、前記吐出ヘッドが前記液状体を吐出する吐出タイミングを変動させることによって、前記吐出タイミングを調整する吐出タイミング調整工程をさらに有することが好ましい。   Application Example 11 In the liquid material arranging method according to the application example, the discharge timing is adjusted by changing the discharge timing at which the discharge head discharges the liquid material corresponding to the reference head gap. It is preferable to further include a discharge timing adjustment step.

この液状体の配置方法によれば、吐出タイミング調整工程において、基準ヘッドギャップに対応して吐出タイミングを変動させることによって、吐出タイミングが調整される。ヘッドギャップが変わることによって、吐出された液状体が着弾するまでの主走査方向の移動距離が変化する。したがって、ヘッドギャップが異なると、同一の着弾位置に対して、吐出するべきタイミングが異なる。ヘッドギャップは、基準ヘッドギャップとなるように調整されるため、基準ヘッドギャップに対応して吐出タイミングを調整することで、着弾させるべき位置に対して適切な吐出タイミングで液状体を吐出させることができる。   According to this liquid material arrangement method, the ejection timing is adjusted by changing the ejection timing in accordance with the reference head gap in the ejection timing adjustment step. By changing the head gap, the moving distance in the main scanning direction until the discharged liquid material lands changes. Therefore, when the head gap is different, the timing at which ejection is performed differs for the same landing position. Since the head gap is adjusted to be the reference head gap, the liquid material can be discharged at an appropriate discharge timing with respect to the position to be landed by adjusting the discharge timing corresponding to the reference head gap. it can.

［適用例１２］本適用例にかかるカラーフィルタの製造装置は、カラーフィルタの色要素膜を構成する材料を含む液状体を吐出する１以上の吐出ヘッドを有する１以上のヘッドユニットのそれぞれのヘッドユニットと、前記吐出ヘッドと吐出された液状体を着弾させるマザー基板とを主走査方向に相対移動させる主走査機構と、を備えたカラーフィルタの製造装置であって、前記マザー基板と、前記ヘッドユニットにおける前記吐出ヘッドと、の互いの離接方向の距離であるヘッドギャップの増減方向に、前記ヘッドユニットを個別に移動させるヘッド昇降機構と、前記ヘッドギャップを測定するギャップセンサと、前記ギャップセンサの測定結果に応じて、前記ヘッド昇降機構によって前記ヘッドユニットを移動させることによって、前記ヘッドギャップを調整するギャップ調整手段と、を備え、前記ギャップセンサは、前記主走査方向において、前記マザー基板に対して、前記ヘッドユニットと略一体に相対移動させられることを特徴とする。   Application Example 12 In the color filter manufacturing apparatus according to this application example, each head of one or more head units having one or more ejection heads that eject a liquid material containing a material constituting the color element film of the color filter. A color filter manufacturing apparatus comprising: a unit; and a main scanning mechanism that relatively moves the ejection head and a mother substrate on which the ejected liquid material is landed in a main scanning direction, wherein the mother substrate and the head A head lifting mechanism for individually moving the head unit in the direction of increase / decrease of the head gap, which is a distance between the ejection head and the discharge head in the unit, a gap sensor for measuring the head gap, and the gap sensor By moving the head unit by the head lifting mechanism according to the measurement result of Comprising a gap adjusting means for adjusting the Ddogyappu, wherein the gap sensor, in the main scanning direction, relative to the mother board, characterized in that it is moved relative to the head unit substantially integral.

このカラーフィルタの製造装置によれば、マザー基板に対して、ヘッドユニットと略一体に相対移動させられるギャップセンサによって測定されたヘッドギャップに応じて、ヘッドギャップが調整される。これにより、液状体を配置するそれぞれの領域ごとに、実際のヘッドギャップに即したヘッドギャップの調整が実施できる。したがって、マザー基板などのうねりや厚さのむらなどに起因するマザー基板の面の位置の変動があっても、当該変動に追従するように吐出ヘッドの位置を調整することで、適切なヘッドギャップを維持することができる。   According to the color filter manufacturing apparatus, the head gap is adjusted in accordance with the head gap measured by the gap sensor that is relatively moved relative to the mother substrate substantially integrally with the head unit. As a result, the head gap can be adjusted in accordance with the actual head gap for each region where the liquid material is disposed. Therefore, even if there is a variation in the position of the surface of the mother substrate due to waviness or thickness unevenness of the mother substrate, etc., by adjusting the position of the ejection head so as to follow the variation, an appropriate head gap can be obtained. Can be maintained.

［適用例１３］上記適用例にかかるカラーフィルタの製造装置において、前記色要素膜を形成するために前記液状体を着弾させる連続した領域である色要素領域を含むフィルタ領域に対応する前記ヘッドギャップである基準ヘッドギャップを取得する基準ヘッドギャップ取得手段をさらに備え、前記ギャップ調整手段は、前記フィルタ領域に対応して、前記ヘッドギャップが前記フィルタ領域に対応する前記基準ヘッドギャップとなるように、前記ヘッドギャップを調整することが好ましい。   Application Example 13 In the color filter manufacturing apparatus according to the application example, the head gap corresponding to a filter region including a color element region that is a continuous region on which the liquid material is landed to form the color element film. A reference head gap acquisition means for acquiring a reference head gap, wherein the gap adjustment means corresponds to the filter area so that the head gap becomes the reference head gap corresponding to the filter area. It is preferable to adjust the head gap.

このカラーフィルタの製造装置によれば、基準ヘッドギャップ取得手段によってフィルタ領域に対応して規定された基準ヘッドギャップが取得され、ギャップ調整手段によって、ヘッド昇降機構を用いてヘッドユニットが昇降されることで、ヘッドギャップがフィルタ領域に対応する基準ヘッドギャップに調整される。これにより、それぞれのフィルタ領域において、当該フィルタ領域に対応して規定された基準ヘッドギャップで吐出を実施することが可能となる。このため、それぞれのフィルタ領域に適合したヘッドギャップで吐出を実施することができる。例えば、必要な着弾位置精度が高いフィルタ領域では、狭いヘッドギャップで吐出を実施することによって、高い着弾位置精度を維持し、必要な着弾位置精度が低いフィルタ領域では、低い着弾位置精度であれば確保できる広いヘッドギャップで吐出を実施することによって、効率良く液状体を配置することができる。このように、過度に小さいヘッドギャップで製造するために、製造の効率が損なわれたり、大きいヘッドギャップで製造するために増加する可能性がある着弾位置誤差の影響によって、必要な着弾位置精度が確保できなくなったりすることを抑制することができる。   According to this color filter manufacturing apparatus, the reference head gap defined corresponding to the filter region is acquired by the reference head gap acquisition means, and the head unit is moved up and down by the gap adjustment means using the head lifting mechanism. Thus, the head gap is adjusted to the reference head gap corresponding to the filter region. As a result, in each filter region, it is possible to perform ejection with a reference head gap defined corresponding to the filter region. For this reason, it is possible to perform ejection with a head gap adapted to each filter region. For example, in the filter area where the required landing position accuracy is high, by performing discharge with a narrow head gap, the high landing position accuracy is maintained, and in the filter area where the required landing position accuracy is low, if the low landing position accuracy is By discharging with a wide head gap that can be secured, the liquid material can be arranged efficiently. In this way, the required landing position accuracy is reduced due to the impact of landing position errors, which may reduce manufacturing efficiency due to excessively small head gaps, or increase due to large head gaps. It can be suppressed that it cannot be secured.

［適用例１４］上記適用例にかかるカラーフィルタの製造装置において、前記ギャップセンサは、前記主走査方向における前記ヘッドユニットの両側にそれぞれ設けられていることが好ましい。   Application Example 14 In the color filter manufacturing apparatus according to the application example, it is preferable that the gap sensor is provided on each side of the head unit in the main scanning direction.

このカラーフィルタの製造装置によれば、ギャップセンサは、ヘッドユニットの両側にそれぞれ設けられていることから、ヘッドユニットに対してマザー基板が主走査方向のいずれの方から相対移動してきても、マザー基板は最初にギャップセンサに対向した後にヘッドユニットに対向するため、吐出ヘッドからの吐出に先んじて、ギャップセンサによってヘッドギャップを測定することができる。   According to this color filter manufacturing apparatus, the gap sensors are provided on both sides of the head unit. Therefore, even if the mother substrate moves relative to the head unit from either side in the main scanning direction, the mother sensor Since the substrate first faces the gap sensor and then faces the head unit, the head gap can be measured by the gap sensor prior to ejection from the ejection head.

［適用例１５］上記適用例にかかるカラーフィルタの製造装置において、前記基準ヘッドギャップは、前記フィルタ領域に含まれる前記色要素領域の大きさに応じて規定されることが好ましい。   Application Example 15 In the color filter manufacturing apparatus according to the application example, it is preferable that the reference head gap is defined according to the size of the color element area included in the filter area.

このカラーフィルタの製造装置によれば、液状体を着弾させる連続した領域である色要素領域の大きさに対応して、基準ヘッドギャップが規定される。
色要素領域は、液状体を着弾させる連続した領域であるため、同じ色要素領域内に着弾すれば、着弾位置がずれることによる不具合は実質的に発生しない。したがって、色要素領域が大きければ、着弾位置精度の規格を緩くすることができる。色要素領域の大きさによって基準ヘッドギャップを規定することで、必要な着弾位置精度に応じた適切なヘッドギャップで液状体の吐出を実施することができる。 According to this color filter manufacturing apparatus, the reference head gap is defined in accordance with the size of the color element area, which is a continuous area on which the liquid material is landed.
Since the color element region is a continuous region in which the liquid material is landed, if the landed within the same color element region, there is substantially no problem due to the landing position being shifted. Therefore, if the color element area is large, the standard of landing position accuracy can be relaxed. By defining the reference head gap according to the size of the color element region, it is possible to discharge the liquid material with an appropriate head gap according to the required landing position accuracy.

［適用例１６］上記適用例にかかるカラーフィルタの製造装置において、前記基準ヘッドギャップは、前記フィルタ領域における前記液状体を配置する位置の許容誤差の大きさに応じて規定されることが好ましい。   Application Example 16 In the color filter manufacturing apparatus according to the application example described above, it is preferable that the reference head gap is defined in accordance with a tolerance of a position where the liquid material is disposed in the filter region.

このカラーフィルタの製造装置によれば、フィルタ領域における液状体を配置する位置の許容誤差の大きさに対応して、基準ヘッドギャップが規定される。
液状体を配置する位置の許容誤差が大きければ、着弾位置精度の規格を緩くすることができる。液状体を配置する位置の許容誤差の大きさによって基準ヘッドギャップを規定することで、必要な着弾位置精度に応じた適切なヘッドギャップで液状体の吐出を実施することができる。 According to this color filter manufacturing apparatus, the reference head gap is defined in accordance with the allowable error of the position where the liquid material is arranged in the filter region.
If the tolerance of the position where the liquid material is arranged is large, the standard of landing position accuracy can be relaxed. By defining the reference head gap according to the tolerance of the position where the liquid material is arranged, the liquid material can be discharged with an appropriate head gap according to the required landing position accuracy.

［適用例１７］上記適用例にかかるカラーフィルタの製造装置において、前記吐出ヘッドが前記液状体を吐出する吐出タイミングを調整する吐出タイミング調整手段をさらに備え、前記吐出タイミング調整手段は、前記基準ヘッドギャップに対応して前記吐出タイミングを変動させることによって、前記吐出タイミングを調整することが好ましい。   Application Example 17 In the color filter manufacturing apparatus according to the above application example, the discharge head further includes discharge timing adjustment means for adjusting discharge timing at which the liquid material is discharged, and the discharge timing adjustment means includes the reference head. It is preferable that the discharge timing is adjusted by changing the discharge timing corresponding to the gap.

このカラーフィルタの製造装置によれば、吐出タイミング調整手段が基準ヘッドギャップに対応して吐出タイミングを変動させることによって、吐出タイミングを調整する。
ヘッドギャップが変わることによって、吐出された液状体が着弾するまでの主走査方向の移動距離が変化する。したがって、ヘッドギャップが異なると、同一の着弾位置に対して、吐出するべきタイミングが異なる。ヘッドギャップは、基準ヘッドギャップとなるように調整されるため、基準ヘッドギャップに対応して吐出タイミングを調整することで、着弾させるべき位置に対して適切な吐出タイミングで液状体を吐出させることができる。 According to this color filter manufacturing apparatus, the discharge timing adjusting means adjusts the discharge timing by changing the discharge timing in accordance with the reference head gap.
By changing the head gap, the moving distance in the main scanning direction until the discharged liquid material lands changes. Therefore, when the head gap is different, the timing at which ejection is performed differs for the same landing position. Since the head gap is adjusted to be the reference head gap, the liquid material can be discharged at an appropriate discharge timing with respect to the position to be landed by adjusting the discharge timing corresponding to the reference head gap. it can.

［適用例１８］本適用例にかかるカラーフィルタの製造方法は、上記適用例にかかる液滴吐出装置、又は上記適用例にかかる液状体の配置方法を用いて、カラーフィルタを構成する色要素膜の材料を含む液状体を、前記カラーフィルタを形成するためのマザー基板における前記色要素膜を形成する領域に配置することを特徴とする。   Application Example 18 A color filter manufacturing method according to this application example is a color element film that constitutes a color filter using the droplet discharge device according to the application example or the liquid material arranging method according to the application example. The liquid material containing the material is arranged in a region where the color element film is formed on the mother substrate for forming the color filter.

このカラーフィルタの製造方法によれば、うねりや厚さのむらなどに起因する基材の面の位置の変動があっても、当該変動に追従するように吐出ヘッドの位置を調整することで、適切なヘッドギャップを維持することができると共に、過度に小さいヘッドギャップで製造するために、製造の効率が損なわれたり、大きいヘッドギャップで製造するために増加する可能性がある着弾位置誤差の影響によって、必要な着弾位置精度が確保できなくなったりすることを抑制することができる液滴吐出装置、又は液状体の配置方法を用いて、カラーフィルタを形成する。これにより、必要な着弾位置精度を確保して、精度の高いカラーフィルタを実現すると共に、製造の効率が損なわれることを抑制することができる。   According to this color filter manufacturing method, even if there is a change in the position of the surface of the substrate due to waviness or unevenness in thickness, the position of the discharge head can be adjusted appropriately so as to follow the change. Due to the impact of landing position errors that can reduce manufacturing efficiency or increase to produce with a large head gap. The color filter is formed using a droplet discharge device or a liquid material arranging method that can prevent the required landing position accuracy from being secured. Thereby, the required landing position accuracy can be ensured, a highly accurate color filter can be realized, and the manufacturing efficiency can be prevented from being impaired.

［適用例１９］本適用例にかかる電気光学装置の製造装置は、電気光学装置の機能膜を構成する材料を含む液状体を吐出する１以上の吐出ヘッドを有する１以上のヘッドユニットのそれぞれのヘッドユニットと、前記吐出ヘッドと吐出された液状体を着弾させるマザー基板とを主走査方向に相対移動させる主走査機構と、を備えた電気光学装置の製造装置であって、前記マザー基板と、前記ヘッドユニットにおける前記吐出ヘッドと、の互いの離接方向の距離であるヘッドギャップの増減方向に、前記ヘッドユニットを個別に移動させるヘッド昇降機構と、前記ヘッドギャップを測定するギャップセンサと、前記ギャップセンサの測定結果に応じて、前記ヘッド昇降機構によって前記ヘッドユニットを移動させることによって、前記ヘッドギャップを調整するギャップ調整手段と、を備え、前記ギャップセンサは、前記主走査方向において、前記マザー基板に対して、前記ヘッドユニットと略一体に相対移動させられることを特徴とする。   Application Example 19 In the electro-optical device manufacturing apparatus according to this application example, each of one or more head units having one or more discharge heads that discharge a liquid material containing a material constituting the functional film of the electro-optical device. An electro-optical device manufacturing apparatus comprising: a head unit; and a main scanning mechanism that relatively moves the ejection head and a mother substrate on which the ejected liquid material is landed in a main scanning direction, the mother substrate; A head elevating mechanism that individually moves the head unit in a head gap increasing / decreasing direction that is a distance in the direction of separation from the ejection head in the head unit; a gap sensor that measures the head gap; The head unit is moved by the head lifting mechanism in accordance with the measurement result of the gap sensor, thereby Comprising a gap adjusting means for adjusting the-up, wherein the gap sensor, in the main scanning direction, relative to the mother board, characterized in that it is moved relative to the head unit substantially integral.

この電気光学装置の製造装置によれば、マザー基板に対して、ヘッドユニットと略一体に相対移動させられるギャップセンサによって測定されたヘッドギャップに応じて、ヘッドギャップが調整される。これにより、液状体を配置するそれぞれの領域ごとに、実際のヘッドギャップに即したヘッドギャップの調整が実施できる。したがって、マザー基板のうねりや厚さのむらなどに起因するマザー基板の面の位置の変動があっても、当該変動に追従するように吐出ヘッドの位置を調整することで、適切なヘッドギャップを維持することができる。   According to the electro-optical device manufacturing apparatus, the head gap is adjusted according to the head gap measured by the gap sensor that is relatively moved relative to the mother substrate substantially integrally with the head unit. As a result, the head gap can be adjusted in accordance with the actual head gap for each region where the liquid material is disposed. Therefore, even if there is a change in the position of the surface of the mother board due to waviness or unevenness in the thickness of the mother board, an appropriate head gap can be maintained by adjusting the position of the ejection head to follow the change. can do.

［適用例２０］上記適用例にかかる電気光学装置の製造装置において、前記機能膜を形成するために前記液状体を着弾させる連続した領域である機能膜領域を含む電気光学膜領域に対応する前記ヘッドギャップである基準ヘッドギャップを取得する基準ヘッドギャップ取得手段をさらに備え、前記ギャップ調整手段は、前記電気光学膜領域に対応して、前記ヘッドギャップが前記電気光学膜領域に対応する前記基準ヘッドギャップとなるように、前記ヘッドギャップを調整することが好ましい。   Application Example 20 In the electro-optical device manufacturing apparatus according to the application example described above, the electro-optical film region corresponding to the electro-optical film region including the functional film region that is a continuous region on which the liquid material is landed to form the functional film. Reference head gap acquisition means for acquiring a reference head gap which is a head gap is further provided, wherein the gap adjustment means corresponds to the electro-optical film area, and the head gap corresponds to the electro-optical film area. It is preferable to adjust the head gap so as to be a gap.

この電気光学装置の製造装置によれば、基準ヘッドギャップ取得手段によって電気光学膜領域に対応して規定された基準ヘッドギャップが取得され、ギャップ調整手段によって、ヘッド昇降機構を用いてヘッドユニットが昇降されることで、ヘッドギャップが電気光学膜領域に対応する基準ヘッドギャップに調整される。これにより、それぞれの電気光学膜領域において、当該電気光学膜領域に対応して規定された基準ヘッドギャップで吐出を実施することが可能となる。このため、それぞれの電気光学膜領域に適合したヘッドギャップで吐出を実施することができる。例えば、必要な着弾位置精度が高い電気光学膜領域では、狭いヘッドギャップで吐出を実施することによって、高い着弾位置精度を維持し、必要な着弾位置精度が低い電気光学膜領域では、低い着弾位置精度であれば確保できる広いヘッドギャップで吐出を実施することによって、効率良く液状体を配置することができる。このように、過度に小さいヘッドギャップで製造するために、製造の効率が損なわれたり、大きいヘッドギャップで製造するために増加する可能性がある着弾位置誤差の影響によって、必要な着弾位置精度が確保できなくなったりすることを抑制することができる。   According to the electro-optical device manufacturing apparatus, the reference head gap defined corresponding to the electro-optical film region is acquired by the reference head gap acquisition unit, and the head unit is moved up and down by the gap adjustment unit using the head lifting mechanism. As a result, the head gap is adjusted to the reference head gap corresponding to the electro-optic film region. Accordingly, in each electro-optical film region, it is possible to perform ejection with a reference head gap defined corresponding to the electro-optical film region. Therefore, ejection can be performed with a head gap suitable for each electro-optic film region. For example, in the electro-optic film region where the required landing position accuracy is high, by performing discharge with a narrow head gap, high landing position accuracy is maintained, and in the electro-optic film region where the required landing position accuracy is low, a low landing position By discharging with a wide head gap that can be ensured with accuracy, the liquid material can be arranged efficiently. In this way, the required landing position accuracy is reduced due to the impact of landing position errors, which may reduce manufacturing efficiency due to excessively small head gaps, or increase due to large head gaps. It can be suppressed that it cannot be secured.

［適用例２１］本適用例にかかる電気光学装置の製造方法は、上記適用例にかかる液滴吐出装置、又は上記適用例にかかる液状体の配置方法を用いて、電気光学装置を構成する機能膜の材料を含む液状体を前記電気光学装置を形成するためのマザー基板における前記機能膜を形成する領域に配置することを特徴とする。   Application Example 21 A method for manufacturing an electro-optical device according to this application example is a function of configuring the electro-optical device using the droplet discharge device according to the application example or the liquid material arranging method according to the application example. A liquid material including a film material is disposed in a region where the functional film is formed on a mother substrate for forming the electro-optical device.

この電気光学装置の製造方法によれば、うねりや厚さのむらなどに起因する基材の面の位置の変動があっても、当該変動に追従するように吐出ヘッドの位置を調整することで、適切なヘッドギャップを維持することができると共に、過度に小さいヘッドギャップで製造するために、製造の効率が損なわれたり、大きいヘッドギャップで製造するために増加する可能性がある着弾位置誤差の影響によって、必要な着弾位置精度が確保できなくなったりすることを抑制することができる液滴吐出装置、又は液状体の配置方法を用いて、電気光学装置を構成する機能膜を形成する。これにより、必要な着弾位置精度を確保して、精度の高い機能膜を有する電気光学装置を実現すると共に、製造の効率が損なわれることを抑制することができる。   According to this method of manufacturing an electro-optical device, even if there is a variation in the position of the surface of the substrate due to waviness or uneven thickness, the position of the ejection head is adjusted so as to follow the variation, The impact of landing position errors that can maintain an adequate head gap and can reduce manufacturing efficiency due to manufacturing with an excessively small head gap or increase to manufacture with a large head gap Thus, the functional film constituting the electro-optical device is formed using a droplet discharge device or a liquid material arranging method that can prevent the required landing position accuracy from being secured. Accordingly, it is possible to secure necessary landing position accuracy, to realize an electro-optical device having a highly accurate functional film, and to prevent the manufacturing efficiency from being impaired.

以下、液滴吐出装置、及び液状体の配置方法、並びにカラーフィルタの製造装置、カラーフィルタの製造方法、電気光学装置の製造装置、及び電気光学装置の製造方法の好適な実施の形態について、液滴吐出装置の一実施形態としての、カラーフィルタの製造ラインに組み込まれて色要素膜としてのフィルタ膜の形成に用いられるインクジェット方式の液滴吐出装置を例に、図面を参照して説明する。なお、以下の説明において参照する図面では、図示の便宜上、部材又は部分の縦横の縮尺を実際のものとは異なるように表す場合がある。   Hereinafter, preferred embodiments of a droplet discharge device, a liquid material arranging method, a color filter manufacturing device, a color filter manufacturing method, an electro-optical device manufacturing device, and an electro-optical device manufacturing method will be described. An embodiment of a droplet discharge device will be described with reference to the drawings, taking as an example an inkjet droplet discharge device incorporated in a color filter production line and used to form a filter film as a color element film. In the drawings referred to in the following description, the vertical and horizontal scales of members or portions may be shown differently from actual ones for convenience of illustration.

＜液滴吐出法＞
最初に、フィルタ膜などの機能膜の形成に用いられる液滴吐出法について説明する。液滴吐出法は、材料の使用に無駄が少なく、しかも所望の位置に所望の量の材料を的確に配置できるという利点を有する。液滴吐出法の吐出技術としては、帯電制御方式、加圧振動方式、電気機械変換方式、電気熱変換方式、静電吸引方式などが挙げられる。
このうち、電気機械変換方式は、ピエゾ素子（圧電素子）がパルス的な電気信号を受けて変形する性質を利用したもので、ピエゾ素子が変形することによって材料を貯留した空間に可撓物質を介して圧力を与え、この空間から材料を押し出して吐出ノズルから吐出させるものである。ピエゾ方式は、液状材料に熱を加えないため、材料の組成などに影響を与えない、駆動電圧を調整することによって、液滴の大きさを容易に調整することができるなどの利点を有する。本実施形態では、材料の組成などに影響を与えないため液状材料選択の自由度が高いこと、及び液滴の大きさを容易に調整することができるため液滴の制御性がよいことから、上記ピエゾ方式を用いる。 <Droplet ejection method>
First, a droplet discharge method used for forming a functional film such as a filter film will be described. The droplet discharge method has an advantage that the use of the material is less wasteful and a desired amount of the material can be accurately disposed at a desired position. Examples of the discharge technique of the droplet discharge method include a charge control method, a pressure vibration method, an electromechanical conversion method, an electrothermal conversion method, and an electrostatic suction method.
Among them, the electromechanical conversion method uses the property that a piezoelectric element (piezoelectric element) deforms in response to a pulsed electric signal, and a flexible substance is placed in a space where material is stored by deformation of the piezoelectric element. The pressure is applied through this, and the material is pushed out from this space and discharged from the discharge nozzle. Since the piezo method does not apply heat to the liquid material, it does not affect the composition of the material, and has the advantages that the droplet size can be easily adjusted by adjusting the driving voltage. In this embodiment, since the composition of the material is not affected, the degree of freedom in selecting the liquid material is high, and since the size of the droplet can be easily adjusted, the controllability of the droplet is good. The above piezo method is used.

＜液滴吐出装置＞
次に、液滴吐出装置１の全体構成について、図１及び図２を参照して説明する。図１は、液滴吐出装置の概略構成を示す平面図である。図２は、液滴吐出装置の概略構成を示す側面図である。 <Droplet ejection device>
Next, the overall configuration of the droplet discharge device 1 will be described with reference to FIGS. 1 and 2. FIG. 1 is a plan view showing a schematic configuration of a droplet discharge device. FIG. 2 is a side view showing a schematic configuration of the droplet discharge device.

図１に示すように、液滴吐出装置１は、液滴吐出ヘッド１７（図３参照）を有する吐出ユニット２と、ワークユニット３と、給液ユニット６０（図６参照）と、検査ユニット４と、メンテナンスユニット５と、吐出装置制御部６（図６参照）とを備えている。   As shown in FIG. 1, the droplet discharge device 1 includes a discharge unit 2 having a droplet discharge head 17 (see FIG. 3), a work unit 3, a liquid supply unit 60 (see FIG. 6), and an inspection unit 4. And a maintenance unit 5 and a discharge device controller 6 (see FIG. 6).

吐出ユニット２は、液状体である機能液を液滴として吐出する液滴吐出ヘッド１７を１２０個備えており、当該液滴吐出ヘッド１７をＹ軸方向に移動させると共に移動した位置に保持するためのＹ軸テーブル１２を備えている。ワークユニット３は、液滴吐出ヘッド１７から吐出された液滴の吐出対象であるワークＷを載置するワーク載置台２１を有している。給液ユニット６０は、機能液を貯留する貯留タンク（図示省略）を有し、液滴吐出ヘッド１７への機能液の供給を行う。検査ユニット４は、液滴吐出ヘッド１７からの吐出状態を検査するための、吐出検査ユニット１８及び重量測定ユニット１９を有しており、重量測定ユニット１９にはフラッシングユニット１４が併設されている。メンテナンスユニット５は、液滴吐出ヘッド１７の保守を行う吸引ユニット１５及びワイピングユニット１６を有している。吐出装置制御部６は、これら各ユニットなどを総括的に制御する。重量測定ユニット１９、吐出ユニット２、吐出検査ユニット１８、又はメンテナンスユニット５などを用いて実施される重量測定処理、描画処理、吐出検査処理、及びメンテナンス処理などは、吐出装置制御部６が各ユニットなどを制御して実施される。   The discharge unit 2 includes 120 liquid droplet discharge heads 17 that discharge the functional liquid, which is a liquid, as liquid droplets. The liquid droplet discharge heads 17 are moved in the Y-axis direction and are held at the moved positions. Y-axis table 12 is provided. The work unit 3 includes a work mounting table 21 on which a work W that is a discharge target of liquid droplets discharged from the liquid droplet discharge head 17 is mounted. The liquid supply unit 60 includes a storage tank (not shown) that stores the functional liquid, and supplies the functional liquid to the droplet discharge head 17. The inspection unit 4 includes a discharge inspection unit 18 and a weight measurement unit 19 for inspecting a discharge state from the droplet discharge head 17, and the weight measurement unit 19 is provided with a flushing unit 14. The maintenance unit 5 includes a suction unit 15 and a wiping unit 16 that maintain the droplet discharge head 17. The discharge device control unit 6 comprehensively controls these units and the like. For the weight measurement process, drawing process, discharge inspection process, and maintenance process performed using the weight measurement unit 19, the discharge unit 2, the discharge inspection unit 18, the maintenance unit 5, etc., the discharge device control unit 6 performs each unit. It is carried out by controlling the above.

液滴吐出装置１は、石定盤に支持されたＸ軸支持ベース１Ａを備え、各ユニットなどが、Ｘ軸支持ベース１Ａの上に配設されている。Ｘ軸テーブル１１は、主走査方向となるＸ軸方向に延在して、Ｘ軸支持ベース１Ａの上に配設されており、ワーク載置台２１をＸ軸方向（主走査方向）に移動させる。   The droplet discharge device 1 includes an X-axis support base 1A supported on a stone surface plate, and each unit is disposed on the X-axis support base 1A. The X-axis table 11 extends in the X-axis direction, which is the main scanning direction, and is disposed on the X-axis support base 1A, and moves the work table 21 in the X-axis direction (main scanning direction). .

吐出ユニット２のＹ軸テーブル１２は、複数本の支柱７Ａを介してＸ軸テーブル１１を跨ぐように架け渡された一対のＹ軸支持ベース７，７の上に配設され、副走査方向となるＹ軸方向に延在している。吐出ユニット２は、それぞれ１２個の液滴吐出ヘッド１７を有するキャリッジユニット５１を、１０個備えている。１０個のキャリッジユニット５１は、１０個のブリッジプレート５２のそれぞれに吊設されている。ブリッジプレート５２は、Ｙ軸スライダ（図示省略）を介して、Ｙ軸テーブル１２に、Ｙ軸方向に摺動自在に支持されている。Ｙ軸テーブル１２は、ブリッジプレート５２（キャリッジユニット５１）を、Ｙ軸方向（副走査方向）に移動させる。
Ｘ軸テーブル１１及びＹ軸テーブル１２の駆動と同期して、吐出ユニット２の液滴吐出ヘッド１７を吐出駆動させることにより、機能液滴を吐出させることで、ワーク載置台２１の上に載置されたワークＷに対して、任意の描画パターンを描画する。 The Y-axis table 12 of the discharge unit 2 is disposed on a pair of Y-axis support bases 7 and 7 spanned across the X-axis table 11 via a plurality of support columns 7A. Extending in the Y-axis direction. The discharge unit 2 includes ten carriage units 51 each having twelve droplet discharge heads 17. Ten carriage units 51 are suspended from each of the ten bridge plates 52. The bridge plate 52 is supported by the Y-axis table 12 via a Y-axis slider (not shown) so as to be slidable in the Y-axis direction. The Y-axis table 12 moves the bridge plate 52 (carriage unit 51) in the Y-axis direction (sub-scanning direction).
In synchronism with the driving of the X-axis table 11 and the Y-axis table 12, the droplet discharge head 17 of the discharge unit 2 is driven to discharge, thereby discharging functional droplets and placing them on the workpiece mounting table 21. An arbitrary drawing pattern is drawn on the workpiece W that has been set.

吐出検査ユニット１８は、検査描画ユニット１６１と、撮像ユニット（図示省略）とを有している。検査描画ユニット１６１は、Ｘ軸第２スライダ２３に固定されており、同じくＸ軸第２スライダ２３に固定された重量測定ユニット１９及びフラッシングユニット１４と一体に移動するように構成されている。   The discharge inspection unit 18 includes an inspection drawing unit 161 and an imaging unit (not shown). The inspection drawing unit 161 is fixed to the X-axis second slider 23 and is configured to move integrally with the weight measuring unit 19 and the flushing unit 14 that are also fixed to the X-axis second slider 23.

メンテナンスユニット５が備える吸引ユニット１５及びワイピングユニット１６は、Ｘ軸テーブル１１から外れ、かつＹ軸テーブル１２によりキャリッジユニット５１が移動可能である位置に配設された架台８の上に配設されている。吸引ユニット１５は、複数の分割吸引ユニット１４１を有し、液滴吐出ヘッド１７を吸引して、液滴吐出ヘッド１７の吐出ノズル７８（図３参照）から機能液を強制的に排出させる。ワイピングユニット１６は、洗浄液を噴霧したワイピングシート１５１を有し、吸引後の液滴吐出ヘッド１７のノズル形成面７６ａ（図３参照）を拭き取る（ワイピングを行う）ものである。このようにして、吸引ユニット１５及びワイピングユニット１６は、吐出ユニット２の液滴吐出ヘッド１７の機能維持又は機能回復を図るための保守作業を実施する。   The suction unit 15 and the wiping unit 16 included in the maintenance unit 5 are disposed on the gantry 8 disposed at a position where the carriage unit 51 can be moved by the Y-axis table 12 while being detached from the X-axis table 11. Yes. The suction unit 15 includes a plurality of divided suction units 141, sucks the droplet discharge head 17, and forcibly discharges the functional liquid from the discharge nozzle 78 (see FIG. 3) of the droplet discharge head 17. The wiping unit 16 has a wiping sheet 151 sprayed with a cleaning liquid, and wipes (performs wiping) a nozzle forming surface 76a (see FIG. 3) of the droplet discharge head 17 after suction. In this way, the suction unit 15 and the wiping unit 16 perform maintenance work for maintaining or recovering the function of the droplet discharge head 17 of the discharge unit 2.

図１、又は図２に示すように、Ｘ軸テーブル１１は、Ｘ軸第１スライダ２２と、Ｘ軸第２スライダ２３と、左右一対のＸ軸リニアモータ２６，２６と、一対のＸ軸共通支持ベース２４，２４と、を備えている。   As shown in FIG. 1 or FIG. 2, the X-axis table 11 includes an X-axis first slider 22, an X-axis second slider 23, a pair of left and right X-axis linear motors 26 and 26, and a pair of X-axis common. And support bases 24, 24.

Ｘ軸第１スライダ２２には、ワーク載置台２１が取り付けられている。Ｘ軸第１スライダ２２は、Ｘ軸方向に延在するＸ軸共通支持ベース２４に、Ｘ軸方向にスライド自在に支持されている。Ｘ軸第２スライダ２３には、検査描画ユニット１６１と、重量測定ユニット１９と、フラッシングユニット１４とが取り付けられている。Ｘ軸第２スライダ２３は、Ｘ軸方向に延在するＸ軸共通支持ベース２４に、Ｘ軸方向にスライド自在に支持されている。Ｘ軸リニアモータ２６は、Ｘ軸共通支持ベース２４に並設されており、Ｘ軸第１スライダ２２又はＸ軸第２スライダ２３をＸ軸共通支持ベース２４に沿って移動させることによって、ワーク載置台２１（ワーク載置台２１に載置されたワークＷ）又は重量測定ユニット１９などをＸ軸方向に移動させる。Ｘ軸第１スライダ２２とＸ軸第２スライダ２３とは、Ｘ軸リニアモータ２６により個別に駆動可能である。Ｘ軸方向が主走査方向に相当し、Ｙ軸方向が副走査方向に相当する。Ｘ軸テーブル１１が、主走査機構に相当する。   A workpiece mounting table 21 is attached to the X-axis first slider 22. The X-axis first slider 22 is supported by an X-axis common support base 24 extending in the X-axis direction so as to be slidable in the X-axis direction. An inspection drawing unit 161, a weight measurement unit 19, and a flushing unit 14 are attached to the X-axis second slider 23. The X-axis second slider 23 is supported by an X-axis common support base 24 extending in the X-axis direction so as to be slidable in the X-axis direction. The X-axis linear motor 26 is arranged in parallel with the X-axis common support base 24, and moves the X-axis first slider 22 or the X-axis second slider 23 along the X-axis common support base 24. The placing table 21 (work W placed on the workpiece placing table 21) or the weight measuring unit 19 is moved in the X-axis direction. The X-axis first slider 22 and the X-axis second slider 23 can be individually driven by an X-axis linear motor 26. The X-axis direction corresponds to the main scanning direction, and the Y-axis direction corresponds to the sub-scanning direction. The X-axis table 11 corresponds to the main scanning mechanism.

ワーク載置台２１は、ワークＷを吸着セットする吸着テーブル３１と、吸着テーブル３１を支持し、吸着テーブル３１にセットしたワークＷの位置をθ軸方向にθ補正するためのθテーブル３２などを有している。図１及び図２におけるワーク載置台２１の位置が、ワークＷの給除材を行うための給除材位置となっており、未処理のワークＷを吸着テーブル３１に導入（給材）するときや、処理済のワークＷを回収（除材）するときには、吸着テーブル３１をこの位置まで移動させる。当該給除材位置において、ロボットアーム（図示省略）により、吸着テーブル３１に対するワークＷの搬入・搬出（載換え）が行われる。吸着テーブル３１に給材された未処理のワークＷのアライメントは、θテーブル３２を用いて、給除材位置において実施される。   The work mounting table 21 includes a suction table 31 for sucking and setting the work W, a θ table 32 for supporting the suction table 31 and correcting the position of the work W set on the suction table 31 in the θ-axis direction. is doing. The position of the workpiece mounting table 21 in FIG. 1 and FIG. 2 is a feeding / unloading material position for feeding and unloading the workpiece W, and when an unprocessed workpiece W is introduced (feeding) into the suction table 31 Or, when the processed workpiece W is collected (material removal), the suction table 31 is moved to this position. The workpiece W is carried in and out (replaced) with respect to the suction table 31 by a robot arm (not shown) at the supply / discharge material position. The alignment of the unprocessed workpiece W supplied to the suction table 31 is performed at the supply / discharge material position using the θ table 32.

画像認識ユニット８０は、２台のアライメントカメラ８１と、カメラ移動機構８２と、を有している。カメラ移動機構８２は、Ｘ軸支持ベース１Ａの上に、Ｙ軸方向に延在して、Ｘ軸テーブル１１を跨ぐように配設されている。アライメントカメラ８１は、カメラホルダ（図示省略）を介して、カメラ移動機構８２に、Ｙ軸方向にスライド自在に支持されている。カメラ移動機構８２に支持されたアライメントカメラ８１は、Ｘ軸テーブル１１に上側から臨み、Ｘ軸テーブル１１の上のワーク載置台２１に載置されたワークＷの各基準マーク（アライメントマーク）（図示省略）を画像認識することができる。２台のアライメントカメラ８１は、カメラ移動モータ（図示省略）によって、それぞれ独立してＹ軸方向に移動させられる。   The image recognition unit 80 has two alignment cameras 81 and a camera moving mechanism 82. The camera moving mechanism 82 is disposed on the X-axis support base 1 </ b> A so as to extend in the Y-axis direction and straddle the X-axis table 11. The alignment camera 81 is supported by a camera moving mechanism 82 via a camera holder (not shown) so as to be slidable in the Y-axis direction. The alignment camera 81 supported by the camera moving mechanism 82 faces the X-axis table 11 from above, and each reference mark (alignment mark) of the workpiece W placed on the workpiece placement table 21 on the X-axis table 11 (illustrated). (Omitted) can be recognized. The two alignment cameras 81 are independently moved in the Y-axis direction by a camera movement motor (not shown).

各アライメントカメラ８１は、ワーク載置台２１のＸ軸方向への移動と協働して、カメラ移動機構８２によりＹ軸方向に移動しながら、上記ロボットアームが給材した各種ワークＷのアライメントマークを撮像して、各種ワークＷの位置認識を実施する。そして、このアライメントカメラ８１の撮像結果に基づいて、θテーブル３２によるワークＷのθ補正が実施される。   Each alignment camera 81 cooperates with the movement of the workpiece mounting table 21 in the X-axis direction and moves the alignment marks of the various workpieces W supplied by the robot arm while moving in the Y-axis direction by the camera moving mechanism 82. Images are taken and position recognition of various workpieces W is performed. Based on the imaging result of the alignment camera 81, θ correction of the workpiece W by the θ table 32 is performed.

Ｙ軸テーブル１２は、１０組のＹ軸スライダ（図示省略）と、一対のＹ軸リニアモータ（図示省略）と、を備えている。一対のＹ軸リニアモータは、上記した一対のＹ軸支持ベース７，７の上にそれぞれ設置されて、Ｙ軸方向に延在している。２０個（１０組）のＹ軸スライダは、一対のＹ軸支持ベース７，７のそれぞれに各１０個ずつ摺動自在に支持されている。一対のＹ軸支持ベース７，７のそれぞれに支持された各１個のＹ軸スライダからなる１組のＹ軸スライダは、吐出ユニット２を構成するキャリッジユニット５１が固定されたブリッジプレート５２を両持ちで支持している。吐出ユニット２を構成する１０個の各キャリッジユニット５１をそれぞれ固定した１０個のブリッジプレート５２は、１０個のブリッジプレート５２を両持ちで支持する１０組のＹ軸スライダを介して、一対のＹ軸支持ベース７，７の上に設置されている。   The Y axis table 12 includes 10 sets of Y axis sliders (not shown) and a pair of Y axis linear motors (not shown). The pair of Y-axis linear motors are respectively installed on the pair of Y-axis support bases 7 and 7 and extend in the Y-axis direction. Twenty (10 sets) Y-axis sliders are slidably supported on each of the pair of Y-axis support bases 7, 7. A pair of Y-axis sliders, each composed of a single Y-axis slider supported on each of the pair of Y-axis support bases 7, 7, has both bridge plates 52 to which the carriage unit 51 constituting the discharge unit 2 is fixed. Hold and support. The ten bridge plates 52 to which the ten carriage units 51 constituting the discharge unit 2 are fixed are respectively connected to a pair of Y-axis sliders via ten sets of Y-axis sliders that support the ten bridge plates 52 in both ends. It is installed on the shaft support bases 7 and 7.

一対のＹ軸リニアモータを（同期して）駆動すると、各Ｙ軸スライダが一対のＹ軸支持ベース７，７を案内にして同時にＹ軸方向を平行移動する。これにより、ブリッジプレート５２がＹ軸方向に移動し、ブリッジプレート５２に吊設されたキャリッジユニット５１がＹ軸方向に移動する。なお、この場合、Ｙ軸リニアモータの駆動を制御することにより、キャリッジユニット５１を独立させて個別に移動させることも可能であるし、１０個のキャリッジユニット５１を一体として移動させることも可能である。   When the pair of Y-axis linear motors are driven (synchronously), each Y-axis slider translates in the Y-axis direction simultaneously with the pair of Y-axis support bases 7 and 7 as a guide. As a result, the bridge plate 52 moves in the Y-axis direction, and the carriage unit 51 suspended from the bridge plate 52 moves in the Y-axis direction. In this case, by controlling the drive of the Y-axis linear motor, the carriage unit 51 can be moved independently and individually, or the ten carriage units 51 can be moved together. is there.

キャリッジユニット５１は、１２個の液滴吐出ヘッド１７と、１２個の液滴吐出ヘッド１７を６個ずつ２群に分けて支持するキャリッジプレート５３（図４参照）と、を有するヘッドユニット５４（図４参照）を備えている。ヘッドユニット５４は、ヘッド昇降機構５８（図５参照）を介して、Ｚ軸方向に昇降自在に支持されている。   The carriage unit 51 includes 12 droplet discharge heads 17 and a carriage unit 53 (see FIG. 4) that supports the 12 droplet discharge heads 17 divided into two groups of six. 4). The head unit 54 is supported so as to be movable up and down in the Z-axis direction via a head lifting mechanism 58 (see FIG. 5).

高さ検出ユニット１６２は、キャリッジユニット５１のＸ軸方向の両側に配設されている。
高さ検出ユニット１６２は、２０個の高さセンサ１６３と、高さセンサ１６３をＹ軸方向にスライド自在に支持するセンサ移動機構１６４と、を有している。２０個のセンサ移動機構１６４は、一対のＹ軸支持ベース７，７のそれぞれに、それぞれ１０個ずつ、Ｙ軸方向に独立して移動可能に支持されている。この構成により、２０個の高さセンサ１６３は、センサ移動モータ（図示省略）によって、それぞれ独立してＹ軸方向に移動させられる。描画吐出を実施する際には、１個のキャリッジユニット５１に対して、Ｘ軸方向における両側に、それぞれ１個の高さセンサ１６３を配置する。
高さセンサ１６３は、例えばレーザ光源を有する距離測定装置であって、高さセンサ１６３からワークＷの面までの距離を測定する。液滴吐出装置１において高さセンサ１６３のＺ方向の位置は固定である。測定した距離と、液滴吐出装置１におけるノズル形成面７６ａ（図３参照）のＺ軸方向の位置とから、ヘッドギャップが求められる。距離測定装置としては、レーザ光源とレンズと受光素子とを備え、対象物に焦点が合うと反射光量が最大になることを利用して距離を測定する装置などを用いることができる。 The height detection unit 162 is disposed on both sides of the carriage unit 51 in the X-axis direction.
The height detection unit 162 includes 20 height sensors 163 and a sensor moving mechanism 164 that supports the height sensor 163 to be slidable in the Y-axis direction. Twenty sensor moving mechanisms 164 are supported on each of the pair of Y-axis support bases 7 and 7 so as to be independently movable in the Y-axis direction. With this configuration, the 20 height sensors 163 are independently moved in the Y-axis direction by a sensor moving motor (not shown). When carrying out drawing ejection, one height sensor 163 is arranged on each side in the X-axis direction for one carriage unit 51.
The height sensor 163 is a distance measuring device having a laser light source, for example, and measures the distance from the height sensor 163 to the surface of the workpiece W. In the droplet discharge device 1, the position of the height sensor 163 in the Z direction is fixed. The head gap is obtained from the measured distance and the position in the Z-axis direction of the nozzle formation surface 76a (see FIG. 3) in the droplet discharge device 1. As the distance measuring device, a device that includes a laser light source, a lens, and a light receiving element, and that measures the distance using the fact that the amount of reflected light is maximized when the object is focused can be used.

＜液滴吐出ヘッドの構成＞
次に、液滴吐出ヘッド１７について、図３を参照して説明する。図３は、液滴吐出ヘッドの概要を示す外観斜視図である。 <Configuration of droplet discharge head>
Next, the droplet discharge head 17 will be described with reference to FIG. FIG. 3 is an external perspective view showing an outline of the droplet discharge head.

図３に示すように、この液滴吐出ヘッド１７は、いわゆる２連のものであり、２連の接続針７２，７２を有する液体導入部７１と、液体導入部７１に連なる方形のヘッド本体７４と、液体導入部７１とヘッド本体７４との間から側方に突出するヘッド基板７３と、を備えている。ヘッド本体７４は、液体導入部７１に連なるポンプ部７５と、ポンプ部７５に連なるノズル形成プレート７６と、を有している。ノズル形成プレート７６には、ノズル形成面７６ａに開口する吐出ノズル７８が形成されている。液滴吐出ヘッド１７においては、一列あたり１８１個の吐出ノズル７８からなるノズル列７８ｂが２列形成されている。ポンプ部７５には、圧電素子７９（図７参照）が設けられており、当該圧電素子７９を駆動することによって、液体導入部７１から供給されてきた機能液を吐出ノズル７８から吐出する。１個の吐出ノズル７８に対応して１個の圧電素子７９が設けられており、それぞれの吐出ノズル７８ごとに独立して機能液を吐出することができる。ヘッド基板７３には、一対のコネクタ７７，７７が設けられている。このコネクタ７７が、フレキシブルフラットケーブル（ＦＦＣケーブル）などによって、吐出装置制御部６と接続されている中継基板と接続されることで、液滴吐出ヘッド１７が吐出装置制御部６と接続される。   As shown in FIG. 3, the liquid droplet ejection head 17 is a so-called two-unit type, a liquid introduction part 71 having two connection needles 72, 72, and a rectangular head body 74 that is continuous with the liquid introduction part 71. And a head substrate 73 protruding laterally from between the liquid introducing portion 71 and the head main body 74. The head main body 74 includes a pump part 75 that is continuous with the liquid introduction part 71 and a nozzle forming plate 76 that is continuous with the pump part 75. In the nozzle forming plate 76, a discharge nozzle 78 that opens to the nozzle forming surface 76a is formed. In the droplet discharge head 17, two rows of nozzle rows 78b each including 181 discharge nozzles 78 are formed. The pump unit 75 is provided with a piezoelectric element 79 (see FIG. 7), and the functional liquid supplied from the liquid introducing unit 71 is discharged from the discharge nozzle 78 by driving the piezoelectric element 79. One piezoelectric element 79 is provided corresponding to one discharge nozzle 78, and the functional liquid can be discharged independently for each discharge nozzle 78. The head substrate 73 is provided with a pair of connectors 77 and 77. The connector 77 is connected to the relay substrate connected to the ejection device controller 6 by a flexible flat cable (FFC cable) or the like, so that the droplet ejection head 17 is connected to the ejection device controller 6.

液滴吐出ヘッド１７が液滴吐出装置１に取り付けられた状態では、ノズル列７８ｂはＹ軸方向に延在する。２列のノズル列７８ｂをそれぞれ構成する吐出ノズル７８同士は、Ｙ軸方向において、相互に半ノズルピッチずつ位置ずれしている。１ノズルピッチは、例えば１４０μｍである。Ｘ軸方向の同じ位置において、それぞれのノズル列７８ｂを構成する吐出ノズル７８から吐出された液滴は、設計上では、Ｙ軸方向に等間隔に並んで一直線上に着弾する。吐出ノズル７８のノズルピッチが１４０μｍの場合、２列のノズル列７８ｂの液滴吐出ヘッド１７から吐出された液滴のＹ軸方向における着弾位置の中心間距離は、設計上では、７０μｍである。   In a state where the droplet discharge head 17 is attached to the droplet discharge device 1, the nozzle row 78b extends in the Y-axis direction. The discharge nozzles 78 constituting the two nozzle rows 78b are displaced from each other by a half nozzle pitch in the Y-axis direction. One nozzle pitch is 140 μm, for example. At the same position in the X-axis direction, the droplets discharged from the discharge nozzles 78 constituting each nozzle row 78b land on a straight line at equal intervals in the Y-axis direction by design. When the nozzle pitch of the discharge nozzles 78 is 140 μm, the center-to-center distance of the landing positions in the Y-axis direction of the droplets discharged from the droplet discharge heads 17 of the two nozzle rows 78b is 70 μm by design.

＜ヘッドユニット＞
次に、吐出ユニット２のヘッドユニット５４の概略構成について、図４を参照して説明する。図４は、ヘッドユニットの概略構成を示す平面図である。図４に示したＸ軸及びＹ軸は、ヘッドユニット５４が液滴吐出装置１に取り付けられた状態において、図１に示したＸ軸及びＹ軸と一致している。 <Head unit>
Next, a schematic configuration of the head unit 54 of the discharge unit 2 will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a plan view showing a schematic configuration of the head unit. The X axis and the Y axis shown in FIG. 4 coincide with the X axis and the Y axis shown in FIG. 1 when the head unit 54 is attached to the droplet discharge device 1.

図４に示すように、ヘッドユニット５４は、キャリッジプレート５３と、キャリッジプレート５３に搭載された１２個の液滴吐出ヘッド１７と、を有している。液滴吐出ヘッド１７は、キャリッジプレート５３に固定されており、ヘッド本体７４がキャリッジプレート５３に形成された孔（図示省略）に遊嵌して、ノズル形成面７６ａが、キャリッジプレート５３の面より突出している。図４は、ノズル形成面７６ａ側から見た図である。１２個の液滴吐出ヘッド１７は、Ｙ軸方向に分かれて、それぞれ６個ずつの液滴吐出ヘッド１７を有するヘッド組５５を２群形成している。それぞれの液滴吐出ヘッド１７のノズル列７８ｂはＹ軸方向に延在している。   As shown in FIG. 4, the head unit 54 has a carriage plate 53 and twelve droplet discharge heads 17 mounted on the carriage plate 53. The droplet discharge head 17 is fixed to the carriage plate 53, the head main body 74 is loosely fitted in a hole (not shown) formed in the carriage plate 53, and the nozzle forming surface 76 a is formed from the surface of the carriage plate 53. It protrudes. FIG. 4 is a view as seen from the nozzle forming surface 76a side. The twelve droplet discharge heads 17 are divided in the Y-axis direction to form two groups of head sets 55 each having six droplet discharge heads 17. The nozzle row 78b of each droplet discharge head 17 extends in the Y-axis direction.

一つのヘッド組５５が有する６個の液滴吐出ヘッド１７は、Ｙ軸方向において、互いに隣り合う液滴吐出ヘッド１７の、一方の液滴吐出ヘッド１７の端の吐出ノズル７８に対して、もう一方の液滴吐出ヘッド１７の端の吐出ノズル７８が半ノズルピッチずれて位置するように、位置決めされている。仮に、ヘッド組５５が有する６個の液滴吐出ヘッド１７において、全ての吐出ノズル７８のＸ軸方向の位置を同じにすると、吐出ノズル７８は、Ｙ軸方向に半ノズルピッチの等間隔で並ぶ。即ち、Ｘ軸方向の同じ位置において、それぞれの液滴吐出ヘッド１７が有するそれぞれのノズル列７８ｂを構成する吐出ノズル７８から吐出された液滴は、設計上では、Ｙ軸方向に等間隔に並んで一直線上に着弾する。液滴吐出ヘッド１７は、Ｙ軸方向において互いに重なるため、Ｘ軸方向に階段状に並んでヘッド組５５を構成している。   The six droplet discharge heads 17 included in one head set 55 are already in the Y-axis direction with respect to the discharge nozzles 78 at the ends of one of the droplet discharge heads 17 adjacent to each other. The discharge nozzle 78 at the end of one droplet discharge head 17 is positioned so as to be shifted by a half nozzle pitch. If the position of all the discharge nozzles 78 in the X-axis direction is the same in the six droplet discharge heads 17 included in the head set 55, the discharge nozzles 78 are arranged at equal intervals of a half nozzle pitch in the Y-axis direction. . In other words, at the same position in the X-axis direction, the droplets discharged from the discharge nozzles 78 constituting the respective nozzle rows 78b included in the respective droplet discharge heads 17 are arranged at equal intervals in the Y-axis direction by design. To land on a straight line. Since the droplet discharge heads 17 overlap each other in the Y-axis direction, the head set 55 is configured in a stepwise manner in the X-axis direction.

＜キャリッジユニット＞
次に、ヘッドユニット５４を含むキャリッジユニット５１の概略構成について、図５を参照して説明する。図５は、キャリッジユニットの概略構成を示す側面図である。図５に示したＸ軸、Ｙ軸、及びＺ軸は、ヘッドユニット５４が液滴吐出装置１に取り付けられた状態において、図１及び図２に示したＸ軸、Ｙ軸、及びＺ軸と一致している。 <Carriage unit>
Next, a schematic configuration of the carriage unit 51 including the head unit 54 will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a side view showing a schematic configuration of the carriage unit. The X-axis, Y-axis, and Z-axis shown in FIG. 5 are the same as the X-axis, Y-axis, and Z-axis shown in FIGS. Match.

図５に示すように、キャリッジユニット５１は、ヘッドユニット５４を有するサブキャリッジ５６と、サブキャリッジ５６を支持する吊下機構５７と、吊下機構５７を支持するヘッド昇降機構５８とを備えている。キャリッジユニット５１は、ヘッド昇降機構５８のキャリッジベース５８１がブリッジプレート５２に固定されることによって、ブリッジプレート５２に支持されている。   As shown in FIG. 5, the carriage unit 51 includes a sub-carriage 56 having a head unit 54, a suspension mechanism 57 that supports the sub-carriage 56, and a head lifting mechanism 58 that supports the suspension mechanism 57. . The carriage unit 51 is supported by the bridge plate 52 by fixing the carriage base 581 of the head lifting mechanism 58 to the bridge plate 52.

ヘッド昇降機構５８は、キャリッジベース５８１と、昇降モータ５８２と、昇降ボールねじ５８３と、一対のスライドステージ５８４，５８４と、昇降ブロック５８７とを有している。
ブリッジプレート５２に固定されたキャリッジベース５８１には、可動ステージ５８６との組でスライドステージ５８４を構成する固定ステージ５８５が、Ｚ軸方向に延在するように固定されている。可動ステージ５８６は、キャリッジベース５８１に固定された固定ステージ５８５に対してＺ軸方向に摺動自在に係合している。固定ステージ５８５と可動ステージ５８６との係合部は隙間がほとんど無いように精密に加工されており、可動ステージ５８６は固定ステージ５８５に対してＺ軸方向以外は略固定されている。 The head lifting mechanism 58 has a carriage base 581, a lifting motor 582, a lifting ball screw 583, a pair of slide stages 584, 584, and a lifting block 587.
A fixed stage 585 constituting a slide stage 584 in combination with the movable stage 586 is fixed to the carriage base 581 fixed to the bridge plate 52 so as to extend in the Z-axis direction. The movable stage 586 is slidably engaged with the fixed stage 585 fixed to the carriage base 581 in the Z-axis direction. The engaging portion between the fixed stage 585 and the movable stage 586 is precisely processed so that there is almost no gap, and the movable stage 586 is substantially fixed to the fixed stage 585 except in the Z-axis direction.

一対の可動ステージ５８６，５８６には、吊下機構５７の吊下基板５７１と、昇降ブロック５８７とが固定されている。昇降ブロック５８７には、昇降ボールねじ５８３が螺合しており、昇降ボールねじ５８３は、昇降モータ５８２の回動軸に固定されており、昇降モータ５８２によって正逆回転させられる。昇降モータ５８２は、キャリッジベース５８１に固定されている。昇降モータ５８２が駆動されると、昇降ボールねじ５８３が正回転又は逆回転させられ、昇降ボールねじ５８３に螺合した昇降ブロック５８７がＺ軸方向に昇降する。昇降ブロック５８７がＺ軸方向に昇降することによって、昇降ブロック５８７に固定された一対の可動ステージ５８６，５８６が、それぞれ固定ステージ５８５に案内された状態で、Ｚ軸方向に昇降し、可動ステージ５８６に固定された吊下基板５７１が、Ｚ軸方向に昇降する。上述したように、可動ステージ５８６は固定ステージ５８５に対してＺ軸方向以外は略固定されているため、吊下基板５７１は、キャリッジベース５８１に対して、略Ｚ軸方向にのみ移動可能である。   A suspended substrate 571 of the suspension mechanism 57 and a lifting block 587 are fixed to the pair of movable stages 586 and 586. An elevating ball screw 583 is screwed into the elevating block 587, and the elevating ball screw 583 is fixed to the rotating shaft of the elevating motor 582 and is rotated forward and backward by the elevating motor 582. The elevating motor 582 is fixed to the carriage base 581. When the lifting motor 582 is driven, the lifting ball screw 583 is rotated forward or backward, and the lifting block 587 engaged with the lifting ball screw 583 is moved up and down in the Z-axis direction. When the elevating block 587 is moved up and down in the Z-axis direction, the pair of movable stages 586 and 586 fixed to the elevating block 587 are moved up and down in the Z-axis direction while being guided by the fixed stage 585, respectively. The suspended board 571 fixed to the board moves up and down in the Z-axis direction. As described above, since the movable stage 586 is substantially fixed to the fixed stage 585 except in the Z-axis direction, the suspended substrate 571 is movable only in the substantially Z-axis direction with respect to the carriage base 581. .

吊下機構５７は、吊下基板５７１と、吊下回動軸５７２と、吊下支持枠５７３と、吊下回動枠５７４と、押え枠５７６と、を有している。上述したように、吊下基板５７１が、キャリッジベース５８１に対して、略Ｚ軸方向にのみ移動可能に取り付けられている。吊下基板５７１に一体に垂設された略円柱形状の吊下回動軸５７２の先端には、フランジ状に張り出した吊下支持枠５７３が形成されている。吊下回動枠５７４は、中央付近に形成された穴が吊下回動軸５７２に遊嵌しており、穴の周辺において吊下支持枠５７３によって支持されている。吊下支持枠５７３と、吊下回動枠５７４との間には回動モータ（図示省略）が形成されており、吊下回動枠５７４をθ方向に回動させることができる。吊下回動枠５７４は、吊下回動軸５７２に固定された押え枠５７６によって、吊下支持枠５７３から離反する方向へ移動することを規制されている。
吊下回動枠５７４の下側の端部には、サブキャリッジ５６のキャリッジ枠５６１が固定されている。キャリッジ枠５６１の下側の端部には、ヘッドユニット５４が固定されている。なお、液滴吐出ヘッド１７に接続されている給液チューブやＦＦＣケーブルなどは、図面が煩雑にならないように、図示省略した。 The suspension mechanism 57 includes a suspension substrate 571, a suspension rotation shaft 572, a suspension support frame 573, a suspension rotation frame 574, and a presser frame 576. As described above, the suspended board 571 is attached to the carriage base 581 so as to be movable only in the substantially Z-axis direction. A suspension support frame 573 extending in a flange shape is formed at the tip of a substantially cylindrical suspension rotation shaft 572 that is integrally suspended from the suspension substrate 571. In the hanging rotation frame 574, a hole formed in the vicinity of the center is loosely fitted to the hanging rotation shaft 572, and is supported by a suspension support frame 573 around the hole. A rotation motor (not shown) is formed between the suspension support frame 573 and the suspension rotation frame 574, and the suspension rotation frame 574 can be rotated in the θ direction. The suspension rotation frame 574 is restricted from moving in a direction away from the suspension support frame 573 by a presser frame 576 fixed to the suspension rotation shaft 572.
A carriage frame 561 of the sub-carriage 56 is fixed to the lower end portion of the hanging rotation frame 574. A head unit 54 is fixed to the lower end of the carriage frame 561. The liquid supply tube and the FFC cable connected to the droplet discharge head 17 are not shown so as not to make the drawing complicated.

これらの構成により、図４や図５に示したＸ軸、Ｙ軸方向を、図１に示したＸ軸、Ｙ軸方向に一致させることで、液滴吐出ヘッド１７に形成されたノズル列７８ｂの延在方向をＹ軸方向に一致させる。また、ヘッドユニット５４を昇降させることで、液滴吐出ヘッド１７のノズル形成面７６ａとワークＷとの距離（ヘッドギャップ）を調整する。
なお、キャリッジプレート５３に取り付けられた液滴吐出ヘッド１７は、基準となる所定のヘッド高さ位置が決められており、ヘッド高さ位置を基準として、キャリッジプレート５３のＺ軸方向の位置が予め設定されている。そして、キャリッジベース５８１には、吊下基板５７１の位置に基づいて、キャリッジプレート５３の位置、即ち液滴吐出ヘッド１７のノズル形成面７６ａのＺ軸方向の位置を検出するための昇降位置検出センサ（図示省略）が配設されている。また、昇降モータ５８２の出力軸には、昇降モータ５８２の回転量からキャリッジプレート５３の昇降量を検出する昇降用ロータリエンコーダ（図示省略）が固定されており、昇降モータ５８２は、昇降位置検出センサ及び昇降用ロータリエンコーダからの情報に基づいて制御される。 With these configurations, the X-axis and Y-axis directions shown in FIGS. 4 and 5 are made to coincide with the X-axis and Y-axis directions shown in FIG. The extending direction of is aligned with the Y-axis direction. Further, the distance (head gap) between the nozzle forming surface 76a of the droplet discharge head 17 and the workpiece W is adjusted by moving the head unit 54 up and down.
The droplet discharge head 17 attached to the carriage plate 53 has a predetermined head height position serving as a reference, and the position of the carriage plate 53 in the Z-axis direction is determined in advance with reference to the head height position. Is set. The carriage base 581 includes a lift position detection sensor for detecting the position of the carriage plate 53, that is, the position of the nozzle forming surface 76 a of the droplet discharge head 17 in the Z-axis direction based on the position of the suspended substrate 571. (Not shown) is provided. A lift rotary encoder (not shown) for detecting the lift amount of the carriage plate 53 from the rotation amount of the lift motor 582 is fixed to the output shaft of the lift motor 582. The lift motor 582 is a lift position detection sensor. And it is controlled based on information from the rotary encoder for raising and lowering.

＜液滴吐出装置の電気的構成＞
次に、上述したような構成を有する液滴吐出装置１を駆動するための電気的構成について、図６を参照して説明する。図６は、液滴吐出装置の電気的構成を示す電気構成ブロック図である。液滴吐出装置１は、図６に示した制御装置６５を介してデータの入力や、稼働開始や停止などの制御指令の入力を行うことで、制御される。制御装置６５は、演算処理を行うホストコンピュータ６６と、液滴吐出装置１に入出力する情報を入出力するための入出力装置６８とを有し、インタフェイス（Ｉ／Ｆ）６７を介して吐出装置制御部６と接続されている。入出力装置６８は、情報を入力可能なキーボード、記録媒体を介して情報を入出力する外部入出力装置、外部入出力装置を介して入力された情報を保存しておく記録部、モニタ装置などである。 <Electrical configuration of droplet discharge device>
Next, an electrical configuration for driving the droplet discharge device 1 having the above-described configuration will be described with reference to FIG. FIG. 6 is an electrical configuration block diagram showing an electrical configuration of the droplet discharge device. The droplet discharge device 1 is controlled by inputting data and control commands such as operation start and stop via the control device 65 shown in FIG. The control device 65 includes a host computer 66 that performs arithmetic processing, and an input / output device 68 that inputs and outputs information that is input to and output from the droplet discharge device 1, and is connected via an interface (I / F) 67. It is connected to the discharge device controller 6. The input / output device 68 includes a keyboard capable of inputting information, an external input / output device that inputs / outputs information via a recording medium, a recording unit that stores information input via the external input / output device, a monitor device, and the like It is.

液滴吐出装置１の吐出装置制御部６は、インタフェイス（Ｉ／Ｆ）４７と、ＣＰＵ（Central Processing Unit）４４と、ＲＯＭ（Read Only Memory）４５と、ＲＡＭ（Random Access Memory）４６と、ハードディスク４８と、を有している。また、ヘッドドライバ１７ｄと、駆動機構ドライバ４０ｄと、給液ドライバ６０ｄと、メンテナンスドライバ５ｄと、検査ドライバ４ｄと、検出部インタフェイス（Ｉ／Ｆ）４３と、を有している。これらは、データバス４９を介して互いに電気的に接続されている。   The ejection device controller 6 of the droplet ejection device 1 includes an interface (I / F) 47, a CPU (Central Processing Unit) 44, a ROM (Read Only Memory) 45, a RAM (Random Access Memory) 46, And a hard disk 48. Further, the head driver 17d, the drive mechanism driver 40d, the liquid supply driver 60d, the maintenance driver 5d, the inspection driver 4d, and the detection unit interface (I / F) 43 are provided. These are electrically connected to each other via a data bus 49.

インタフェイス４７は、制御装置６５とデータの授受を行い、ＣＰＵ４４は、制御装置６５からの指令に基づいて各種演算処理を行い、液滴吐出装置１の各部の動作を制御する制御信号を出力する。ＲＡＭ４６は、ＣＰＵ４４からの指令に従って、制御装置６５から受け取った制御コマンドや印刷データを一時的に保存する。ＲＯＭ４５は、ＣＰＵ４４が各種演算処理を行うためのルーチンなどを記憶している。ハードディスク４８は、制御装置６５から受け取った制御コマンドや印刷データを保存したり、ＣＰＵ４４が各種演算処理を行うためのルーチンなどを記憶したりしている。   The interface 47 exchanges data with the control device 65, and the CPU 44 performs various arithmetic processes based on commands from the control device 65, and outputs control signals that control the operation of each part of the droplet discharge device 1. . The RAM 46 temporarily stores control commands and print data received from the control device 65 in accordance with instructions from the CPU 44. The ROM 45 stores routines for the CPU 44 to perform various arithmetic processes. The hard disk 48 stores control commands and print data received from the control device 65, and stores routines for the CPU 44 to perform various arithmetic processes.

ヘッドドライバ１７ｄには、吐出ユニット２を構成するヘッドユニット５４の液滴吐出ヘッド１７が接続されている。ヘッドドライバ１７ｄは、ＣＰＵ４４からの制御信号に従って液滴吐出ヘッド１７を駆動して、機能液の液滴を吐出させる。   The head driver 17d is connected to the droplet discharge head 17 of the head unit 54 constituting the discharge unit 2. The head driver 17d drives the droplet discharge head 17 in accordance with a control signal from the CPU 44, and discharges droplets of the functional liquid.

駆動機構ドライバ４０ｄには、Ｙ軸テーブル１２のヘッド移動モータと、Ｘ軸テーブル１１のＸ軸リニアモータ２６と、ヘッド昇降機構５８の昇降モータ５８２と、各種駆動源を有する各種駆動機構を含む駆動機構４１とが接続されている。各種駆動機構は、上記した、センサ移動機構１６４のセンサ移動モータや、アライメントカメラ８１を移動するためのカメラ移動モータや、吊下機構５７の回動モータや、θテーブル３２の駆動モータなどである。駆動機構ドライバ４０ｄは、ＣＰＵ４４からの制御信号に従って上記モータなどを駆動して、液滴吐出ヘッド１７とワークＷとを相対移動させてワークＷの任意の位置と液滴吐出ヘッド１７とを対向させ、ヘッドドライバ１７ｄと協働して、ワークＷ上の任意の位置に機能液の液滴を着弾させる。   The drive mechanism driver 40d includes a head movement motor for the Y-axis table 12, an X-axis linear motor 26 for the X-axis table 11, a lift motor 582 for the head lift mechanism 58, and a drive including various drive mechanisms having various drive sources. The mechanism 41 is connected. The various drive mechanisms are the sensor movement motor of the sensor movement mechanism 164, the camera movement motor for moving the alignment camera 81, the rotation motor of the suspension mechanism 57, the drive motor of the θ table 32, and the like. . The drive mechanism driver 40d drives the motor or the like in accordance with a control signal from the CPU 44 to move the droplet discharge head 17 and the workpiece W relative to each other so that an arbitrary position of the workpiece W and the droplet discharge head 17 are opposed to each other. In cooperation with the head driver 17d, the droplet of the functional liquid is landed at an arbitrary position on the workpiece W.

メンテナンスドライバ５ｄには、メンテナンスユニット５の吸引ユニット１５と、ワイピングユニット１６と、フラッシングユニット１４とが接続されている。メンテナンスドライバ５ｄは、ＣＰＵ４４からの制御信号に従って、吸引ユニット１５、ワイピングユニット１６、又はフラッシングユニット１４を駆動して、液滴吐出ヘッド１７の保守作業を実施させる。   A suction unit 15, a wiping unit 16, and a flushing unit 14 of the maintenance unit 5 are connected to the maintenance driver 5d. The maintenance driver 5 d drives the suction unit 15, the wiping unit 16, or the flushing unit 14 in accordance with a control signal from the CPU 44 to perform maintenance work on the droplet discharge head 17.

検査ドライバ４ｄには、検査ユニット４の吐出検査ユニット１８と、重量測定ユニット１９とが接続されている。検査ドライバ４ｄは、ＣＰＵ４４からの制御信号に従って、吐出検査ユニット１８、又は重量測定ユニット１９を駆動して、吐出重量や吐出の可否や着弾位置精度などの、液滴吐出ヘッド１７の吐出状態の検査を実施させる。   A discharge inspection unit 18 of the inspection unit 4 and a weight measurement unit 19 are connected to the inspection driver 4d. The inspection driver 4d drives the discharge inspection unit 18 or the weight measurement unit 19 in accordance with a control signal from the CPU 44, and inspects the discharge state of the droplet discharge head 17 such as discharge weight, discharge availability, and landing position accuracy. To implement.

給液ドライバ６０ｄには、給液ユニット６０が接続されている。給液ドライバ６０ｄは、ＣＰＵ４４からの制御信号に従って給液ユニット６０を駆動して、液滴吐出ヘッド１７に機能液を供給する。   A liquid supply unit 60 is connected to the liquid supply driver 60d. The liquid supply driver 60 d drives the liquid supply unit 60 in accordance with a control signal from the CPU 44 and supplies the functional liquid to the droplet discharge head 17.

検出部インタフェイス４３には、高さ検出ユニット１６２の高さセンサ１６３や、各種センサを含む検出部４２が接続されている。各種センサには、上述した昇降位置検出センサや昇降用ロータリエンコーダなどが含まれる。高さセンサ１６３によって測定された距離が、検出部インタフェイス４３を介してＣＰＵ４４に伝達され、伝達された距離情報と液滴吐出装置１におけるノズル形成面７６ａのＺ軸方向の位置とから、ヘッドギャップが求められる。検出部４２の各センサによって検出された検出情報が、検出部インタフェイス４３を介してＣＰＵ４４に伝達される。   A height sensor 163 of the height detection unit 162 and a detection unit 42 including various sensors are connected to the detection unit interface 43. The various sensors include the above-described lift position detection sensor and lift rotary encoder. The distance measured by the height sensor 163 is transmitted to the CPU 44 via the detection unit interface 43, and the head is determined from the transmitted distance information and the position of the nozzle forming surface 76a in the droplet discharge device 1 in the Z-axis direction. A gap is required. Detection information detected by each sensor of the detection unit 42 is transmitted to the CPU 44 via the detection unit interface 43.

＜機能液の吐出＞
次に、液滴吐出装置１における吐出制御方法について、図７を参照して説明する。図７は、液滴吐出ヘッドの電気的構成と信号の流れを示す説明図である。 <Discharge of functional liquid>
Next, a discharge control method in the droplet discharge device 1 will be described with reference to FIG. FIG. 7 is an explanatory diagram showing an electrical configuration of the droplet discharge head and a signal flow.

上述したように、液滴吐出装置１は、液滴吐出装置１の各部の動作を制御する制御信号を出力するＣＰＵ４４と、液滴吐出ヘッド１７の電気的な駆動制御を行うヘッドドライバ１７ｄとを備えている。
図７に示すように、ヘッドドライバ１７ｄは、ＦＦＣケーブルを介して各液滴吐出ヘッド１７と電気的に接続されている。また、液滴吐出ヘッド１７は、吐出ノズル７８（図３参照）ごとに設けられた圧電素子７９に対応して、シフトレジスタ（ＳＬ）８５と、ラッチ回路（ＬＡＴ）８６と、レベルシフタ（ＬＳ）８７と、スイッチ（ＳＷ）８８とを備えている。 As described above, the droplet discharge device 1 includes the CPU 44 that outputs a control signal that controls the operation of each unit of the droplet discharge device 1 and the head driver 17d that performs electrical drive control of the droplet discharge head 17. I have.
As shown in FIG. 7, the head driver 17d is electrically connected to each droplet discharge head 17 via an FFC cable. Further, the droplet discharge head 17 corresponds to the piezoelectric element 79 provided for each discharge nozzle 78 (see FIG. 3), a shift register (SL) 85, a latch circuit (LAT) 86, and a level shifter (LS). 87 and a switch (SW) 88.

液滴吐出装置１における吐出制御は次のように行われる。最初に、ＣＰＵ４４がワークＷなどの描画対象物における機能液の配置パターンをデータ化したドットパターンデータをヘッドドライバ１７ｄに伝送する。そして、ヘッドドライバ１７ｄは、ドットパターンデータをデコードして吐出ノズル７８ごとのＯＮ／ＯＦＦ（吐出／非吐出）情報であるノズルデータを生成する。ノズルデータは、シリアル信号（ＳＩ）化されて、クロック信号（ＣＫ）に同期して各シフトレジスタ８５に伝送される。   The ejection control in the droplet ejection apparatus 1 is performed as follows. First, the CPU 44 transmits to the head driver 17d dot pattern data obtained by converting the functional liquid arrangement pattern on the drawing object such as the workpiece W into data. Then, the head driver 17d decodes the dot pattern data to generate nozzle data that is ON / OFF (discharge / non-discharge) information for each discharge nozzle 78. The nozzle data is converted into a serial signal (SI) and transmitted to each shift register 85 in synchronization with the clock signal (CK).

シフトレジスタ８５に伝送されたノズルデータは、ラッチ信号（ＬＡＴ）がラッチ回路８６に入力されるタイミングでラッチされ、さらにレベルシフタ８７でスイッチ８８用のゲート信号に変換される。すなわち、ノズルデータが「ＯＮ」の場合にはスイッチ８８が開いて圧電素子７９に駆動信号（ＣＯＭ）が供給され、ノズルデータが「ＯＦＦ」の場合にはスイッチ８８が閉じられて圧電素子７９に駆動信号（ＣＯＭ）は供給されないことになる。そして、「ＯＮ」に対応する吐出ノズル７８からは機能液が液滴化されて吐出され、吐出された機能液がワークＷなどの描画対象物の上に配置される。   The nozzle data transmitted to the shift register 85 is latched at the timing when the latch signal (LAT) is input to the latch circuit 86, and further converted into a gate signal for the switch 88 by the level shifter 87. That is, when the nozzle data is “ON”, the switch 88 is opened and the drive signal (COM) is supplied to the piezoelectric element 79, and when the nozzle data is “OFF”, the switch 88 is closed and the piezoelectric element 79 is closed. The drive signal (COM) is not supplied. Then, the functional liquid is ejected as droplets from the ejection nozzle 78 corresponding to “ON”, and the ejected functional liquid is disposed on the drawing object such as the workpiece W.

＜液晶表示パネルの構成＞
次に、電気光学装置の一例である液晶装置としての液晶表示パネルであって、カラーフィルタを備える液晶表示パネルについて説明する。
最初に、液晶表示パネル２００の構成について、図８を参照して説明する。図８は、液晶表示パネルの概略構成を示す分解斜視図である。図８に示した液晶表示パネル２００は、駆動素子として薄膜トランジスタ（ＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子）を用いるアクティブマトリックス方式の液晶装置であり、図示省略したバックライトを用いる透過型の液晶装置である。 <Configuration of LCD panel>
Next, a liquid crystal display panel as a liquid crystal device which is an example of an electro-optical device, which is a liquid crystal display panel including a color filter will be described.
First, the configuration of the liquid crystal display panel 200 will be described with reference to FIG. FIG. 8 is an exploded perspective view showing a schematic configuration of the liquid crystal display panel. A liquid crystal display panel 200 shown in FIG. 8 is an active matrix type liquid crystal device using a thin film transistor (TFT (Thin Film Transistor) element) as a driving element, and is a transmissive liquid crystal device using a backlight (not shown).

図８に示すように、液晶表示パネル２００は、ＴＦＴ素子２１５を有する素子基板２１０と、対向電極２０７を有する対向基板２２０と、シール材（図示省略）によって接着された素子基板２１０と対向基板２２０との隙間に充填された液晶２３０（図１３（ｋ）参照）とを備えている。貼り合わされた素子基板２１０と、対向基板２２０とには、互いに貼り合わされた面の反対側の面に、それぞれ偏光板２３１と偏光板２３２とが、配設されている。   As shown in FIG. 8, the liquid crystal display panel 200 includes an element substrate 210 having a TFT element 215, a counter substrate 220 having a counter electrode 207, and an element substrate 210 and a counter substrate 220 bonded by a sealing material (not shown). And a liquid crystal 230 (see FIG. 13K) filled in the gap. A polarizing plate 231 and a polarizing plate 232 are disposed on the element substrate 210 and the counter substrate 220 which are bonded to each other on the opposite sides of the surfaces bonded to each other.

素子基板２１０は、ガラス基板２１１の対向基板２２０と対向する面に、ＴＦＴ素子２１５や、画素電極２１７や、走査線２１２及び信号線２１４が、形成されている。これらの素子や導電性膜の間を埋めるように、絶縁層２１６が形成されており、走査線２１２及び信号線２１４は、絶縁層２１６の部分を挟んで互いに交差する状態で形成されている。走査線２１２と信号線２１４とは、絶縁層２１６の部分を間に挟むことで互いに絶縁されている。これらの走査線２１２と信号線２１４とに囲まれた領域内には画素電極２１７が形成されている。画素電極２１７は方形状の一部の角部分が方形状に欠けた形状をしている。画素電極２１７の切欠部と走査線２１２と信号線２１４とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体部、及びゲート電極を具備するＴＦＴ素子２１５が組み込まれて構成されている。走査線２１２と信号線２１４に信号を印加することによってＴＦＴ素子２１５をオン・オフして画素電極２１７への通電制御を実施する。   The element substrate 210 has a TFT element 215, a pixel electrode 217, a scanning line 212, and a signal line 214 formed on the surface of the glass substrate 211 facing the counter substrate 220. An insulating layer 216 is formed so as to fill in between these elements and the conductive film, and the scanning line 212 and the signal line 214 are formed so as to cross each other with the insulating layer 216 interposed therebetween. The scanning line 212 and the signal line 214 are insulated from each other with the insulating layer 216 interposed therebetween. A pixel electrode 217 is formed in a region surrounded by the scanning lines 212 and the signal lines 214. The pixel electrode 217 has a shape in which some corners of the rectangular shape are lacking in the rectangular shape. A TFT element 215 including a source electrode, a drain electrode, a semiconductor portion, and a gate electrode is incorporated in a portion surrounded by the cutout portion of the pixel electrode 217, the scanning line 212, and the signal line 214. By applying a signal to the scanning line 212 and the signal line 214, the TFT element 215 is turned on / off to control energization to the pixel electrode 217.

素子基板２１０の液晶２３０と接する面には、上記した走査線２１２や信号線２１４や画素電極２１７が形成された領域全体を覆う配向膜２１８が設けられている。   An alignment film 218 is provided on the surface of the element substrate 210 in contact with the liquid crystal 230 so as to cover the entire region where the scanning lines 212, the signal lines 214, and the pixel electrodes 217 are formed.

対向基板２２０は、ガラス基板２０１の素子基板２１０と対向する面に、カラーフィルタ（以降、「ＣＦ」と表記する。）層２０８が形成されている。ＣＦ層２０８は、隔壁２０４と、赤色フィルタ膜２０５Ｒと、緑色フィルタ膜２０５Ｇと、青色フィルタ膜２０５Ｂとを有している。ガラス基板２０１上に、格子状に隔壁２０４を構成するブラックマトリックス２０２が形成され、ブラックマトリックス２０２の上にバンク２０３が形成されている。ブラックマトリックス２０２とバンク２０３とで構成された隔壁２０４によって、方形のフィルタ膜領域２２５が形成されている。フィルタ膜領域２２５には、赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、又は青色フィルタ膜２０５Ｂが形成されている。赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、及び青色フィルタ膜２０５Ｂは、それぞれ上述した画素電極２１７のそれぞれと対向する位置及び形状に形成されている。   In the counter substrate 220, a color filter (hereinafter referred to as “CF”) layer 208 is formed on the surface of the glass substrate 201 facing the element substrate 210. The CF layer 208 includes a partition wall 204, a red filter film 205R, a green filter film 205G, and a blue filter film 205B. On the glass substrate 201, the black matrix 202 which comprises the partition 204 in a grid | lattice form is formed, and the bank 203 is formed on the black matrix 202. FIG. A square filter film region 225 is formed by a partition wall 204 composed of the black matrix 202 and the bank 203. In the filter film region 225, a red filter film 205R, a green filter film 205G, or a blue filter film 205B is formed. The red filter film 205 </ b> R, the green filter film 205 </ b> G, and the blue filter film 205 </ b> B are formed at positions and shapes that face the pixel electrodes 217, respectively.

ＣＦ層２０８の上（素子基板２１０側）には、平坦化膜２０６が設けられている。平坦化膜２０６の上には、ＩＴＯなどの透明な導電性材料で形成された対向電極２０７が設けられている。平坦化膜２０６を設けることによって、対向電極２０７を形成する面を略平坦な面にしている。対向電極２０７は、上述した画素電極２１７が形成された領域全体を覆う大きさの連続した膜である。対向電極２０７は、図示省略した導通部を介して、素子基板２１０に形成された配線に接続されている。   A planarizing film 206 is provided on the CF layer 208 (on the element substrate 210 side). On the planarizing film 206, a counter electrode 207 made of a transparent conductive material such as ITO is provided. By providing the planarization film 206, the surface on which the counter electrode 207 is formed is made substantially flat. The counter electrode 207 is a continuous film having a size covering the entire region where the pixel electrode 217 is formed. The counter electrode 207 is connected to a wiring formed on the element substrate 210 through a conduction portion (not shown).

対向基板２２０の液晶２３０と接する面には、画素電極２１７の全面を覆う配向膜２２８が設けられている。液晶２３０は、素子基板２１０と対向基板２２０とが貼り合わされた状態において、対向基板２２０の配向膜２２８と、素子基板２１０の配向膜２１８と、対向基板２２０と素子基板２１０とを貼り合わせるシール材とに囲まれた空間に充填されている。   An alignment film 228 that covers the entire surface of the pixel electrode 217 is provided on the surface of the counter substrate 220 in contact with the liquid crystal 230. The liquid crystal 230 is a sealing material that bonds the alignment film 228 of the counter substrate 220, the alignment film 218 of the element substrate 210, and the counter substrate 220 and the element substrate 210 in a state where the element substrate 210 and the counter substrate 220 are bonded to each other. The space surrounded by is filled.

なお、液晶表示パネル２００は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。   Although the liquid crystal display panel 200 has a transmissive configuration, a reflective layer or a transflective liquid crystal device may be provided by providing a reflective layer or a transflective layer.

＜マザー対向基板＞
次に、マザー対向基板２０１Ａについて、図９を参照して説明する。対向基板２２０は、分割されてガラス基板２０１となるマザー対向基板２０１Ａ上に上述したＣＦ層２０８などを形成した後、マザー対向基板２０１Ａを個別の対向基板２２０（ガラス基板２０１）に分割して形成される。図９（ａ）は対向基板の平面構造を模式的に示す図であり、図９（ｂ）は、マザー対向基板の平面構造を模式的に示す図である。 <Mother counter substrate>
Next, the mother counter substrate 201A will be described with reference to FIG. The counter substrate 220 is formed by forming the above-described CF layer 208 and the like on the mother counter substrate 201A to be divided into the glass substrate 201, and then dividing the mother counter substrate 201A into individual counter substrates 220 (glass substrates 201). Is done. FIG. 9A is a diagram schematically illustrating the planar structure of the counter substrate, and FIG. 9B is a diagram schematically illustrating the planar structure of the mother counter substrate.

対向基板２２０は、厚みおよそ１．０ｍｍの透明な石英ガラスからなるガラス基板２０１を用いて形成されている。図９（ａ）に示すように、対向基板２２０は、ガラス基板２０１の周囲の僅かな額縁領域を除く部分に、ＣＦ層２０８が形成されている。ＣＦ層２０８は、方形状のガラス基板２０１の表面に複数のフィルタ膜領域２２５をドットパターン状、本実施形態ではドット・マトリクス状に形成し、当該フィルタ膜領域２２５にフィルタ膜２０５を形成することによって形成されている。ガラス基板２０１のＣＦ層２０８が形成される領域にかからない位置には、図示省略したアライメントマークが形成されている。アライメントマークは、ＣＦ層２０８などを形成する諸工程を実行するためにガラス基板２０１を製造装置に取り付ける際などに位置決め用の基準マークとして用いられる。   The counter substrate 220 is formed using a glass substrate 201 made of transparent quartz glass having a thickness of approximately 1.0 mm. As shown in FIG. 9A, the counter substrate 220 has a CF layer 208 formed in a portion excluding a slight frame region around the glass substrate 201. The CF layer 208 is formed by forming a plurality of filter film regions 225 in the form of a dot pattern, in the present embodiment in the form of a dot matrix, on the surface of a rectangular glass substrate 201, and forming the filter film 205 in the filter film region 225. Is formed by. An alignment mark (not shown) is formed at a position that does not cover the region where the CF layer 208 is formed on the glass substrate 201. The alignment mark is used as a reference mark for positioning when the glass substrate 201 is attached to a manufacturing apparatus in order to execute various processes for forming the CF layer 208 and the like.

図９（ｂ）に示すように、マザー対向基板２０１Ａには対向基板２２０のＣＦ層２０８と共に、対向基板４２０を構成するＣＦ層４０８がガラス基板４０１となる部分に形成されている。対向基板４２０は、対向基板２２０と実質的に同じ構造をしており、液晶表示パネル２００より表示部の面積が小さい液晶表示パネルを構成する対向基板である。マザー対向基板２０１Ａ上にガラス基板２０１を適宜配置すると、ガラス基板２０１を形成できるだけの面積がないために活用できない部分が生ずる。そこで、ガラス基板２０１より小さいガラス基板４０１のＣＦ層４０８を形成して、当該部分をガラス基板４０１として有効に利用することによって、マザー対向基板２０１Ａを無駄なく利用している。マザー対向基板２０１Ａが、基材又はマザー基板に相当する。なお、図９においては、図をわかりやすくするためにＣＦ層２０８やＣＦ層４０８を形成する領域の相互間の間隔を大きくしてあるが、マザー対向基板２０１Ａを効率良く使用するためには、当該間隔は可能な限り小さくすることが好ましい。言い換えれば、サイズの異なるガラス基板を効率的に配置する配置方法を見出すことにより、マザー対向基板２０１Ａそのもののサイズ設定が明確になり、マザー対向基板２０１Ａを原材料から取り出す効率をも改善することが可能となる。   As shown in FIG. 9B, the mother counter substrate 201 </ b> A is formed with the CF layer 208 of the counter substrate 220 and the CF layer 408 constituting the counter substrate 420 in a portion that becomes the glass substrate 401. The counter substrate 420 has substantially the same structure as the counter substrate 220 and is a counter substrate that constitutes a liquid crystal display panel having a display area smaller than that of the liquid crystal display panel 200. When the glass substrate 201 is appropriately disposed on the mother counter substrate 201A, there is a portion that cannot be used because there is not enough area to form the glass substrate 201. Therefore, by forming the CF layer 408 of the glass substrate 401 smaller than the glass substrate 201 and effectively using the portion as the glass substrate 401, the mother counter substrate 201A is used without waste. The mother counter substrate 201A corresponds to a base material or a mother substrate. In FIG. 9, the interval between the regions where the CF layer 208 and the CF layer 408 are formed is increased for easy understanding of the drawing, but in order to use the mother counter substrate 201A efficiently, The interval is preferably as small as possible. In other words, by finding an arrangement method for efficiently arranging glass substrates of different sizes, the size setting of the mother counter substrate 201A itself becomes clear, and the efficiency of taking out the mother counter substrate 201A from the raw material can be improved. It becomes.

＜カラーフィルタ＞
次に、対向基板２２０に形成されているＣＦ層２０８及びＣＦ層２０８におけるフィルタ膜２０５（赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、及び青色フィルタ膜２０５Ｂ）の配列について、図１０を参照して説明する。図１０は、３色カラーフィルタのフィルタ膜の配列例を示す模式平面図である。 <Color filter>
Next, the arrangement of the filter layer 205 (the red filter film 205R, the green filter film 205G, and the blue filter film 205B) in the CF layer 208 and the CF layer 208 formed on the counter substrate 220 will be described with reference to FIG. To do. FIG. 10 is a schematic plan view showing an example of the arrangement of filter films of a three-color filter.

図１０に示すように、フィルタ膜２０５は、透光性のない樹脂材料によって格子状のパターンに形成された隔壁２０４によって区画されてドット・マトリクス状に並んだ複数の例えば方形状のフィルタ膜領域２２５を色材で埋めることによって形成される。例えば、フィルタ膜２０５を構成する色材を含む機能液をフィルタ膜領域２２５に充填し、当該機能液の溶媒を蒸発させて機能液を乾燥させることで、フィルタ膜領域２２５を埋める膜状のフィルタ膜２０５を形成する。   As shown in FIG. 10, the filter film 205 includes a plurality of, for example, rectangular filter film regions that are partitioned by partition walls 204 formed in a lattice pattern by a resin material that does not transmit light and are arranged in a dot matrix. It is formed by filling 225 with a color material. For example, a film-like filter that fills the filter film region 225 by filling the filter film region 225 with a functional liquid containing a color material constituting the filter film 205 and evaporating the solvent of the functional liquid to dry the functional liquid. A film 205 is formed.

３色カラーフィルタにおける赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、及び青色フィルタ膜２０５Ｂの配列としては、例えば、ストライプ配列、モザイク配列、デルタ配列などが知られている。ストライプ配列は、図１０（ａ）に示したように、マトリクスの縦列が全て同色の赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、又は青色フィルタ膜２０５Ｂになる配列である。モザイク配列は、図１０（ｂ）に示したように、横方向の各行ごとにフィルタ膜２０５一つ分だけ色をずらした配列で、３色フィルタの場合、縦横の直線上に並んだ任意の３つのフィルタ膜２０５が３色となる配列である。デルタ配列は、図１０（ｃ）に示したように、フィルタ膜２０５の配置を段違いにし、３色フィルタの場合、任意の隣接する３つのフィルタ膜２０５が異なる色となる配色である。   As an arrangement of the red filter film 205R, the green filter film 205G, and the blue filter film 205B in the three-color filter, for example, a stripe arrangement, a mosaic arrangement, a delta arrangement, and the like are known. As shown in FIG. 10A, the stripe arrangement is an arrangement in which all the columns of the matrix are the same color red filter film 205R, green filter film 205G, or blue filter film 205B. As shown in FIG. 10B, the mosaic arrangement is an arrangement in which colors are shifted by one filter film 205 for each row in the horizontal direction. In the case of a three-color filter, an arbitrary arrangement arranged on vertical and horizontal straight lines is used. The three filter films 205 are arranged in three colors. As shown in FIG. 10C, the delta arrangement is a color scheme in which the arrangement of the filter films 205 is different and in the case of a three-color filter, any three adjacent filter films 205 have different colors.

図１０（ａ），（ｂ），（ｃ）に示した３色フィルタにおいて、フィルタ膜２０５は、それぞれが、Ｒ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）のうちのいずれか１色の色材によって形成されている。隣り合って形成された赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、及び青色フィルタ膜２０５Ｂを各１個ずつ含むフィルタ膜２０５の組で、画像を構成する最小単位である絵素のフィルタ（以降、「絵素フィルタ２５４」と表記する。）を形成している。一つの絵素フィルタ２５４内の赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、及び青色フィルタ膜２０５Ｂのいずれか一つ又はそれらの組み合わせに光を選択的に通過させることにより、さらに、通過させる光の光量を調整することによりフルカラー表示を行う。   In the three-color filters shown in FIGS. 10A, 10B, and 10C, each of the filter films 205 is one of R (red), G (green), and B (blue). It is formed with the coloring material. A set of filter films 205 each including a red filter film 205R, a green filter film 205G, and a blue filter film 205B that are formed adjacent to each other. A pixel filter 254 "). By selectively allowing light to pass through any one of or a combination of the red filter film 205R, the green filter film 205G, and the blue filter film 205B in one picture element filter 254, the amount of light that passes therethrough is further increased. Full color display is performed by adjusting.

＜液晶表示パネルの形成＞
次に、液晶表示パネル２００を形成する工程について、図１１、図１２、及び図１３を参照して説明する。図１１は、液晶表示パネルを形成する過程を示すフローチャートである。図１２は、液晶表示パネルを形成する過程におけるフィルタ膜を形成する工程などを示す断面図であり、図１３は、液晶表示パネルを形成する過程における配向膜を形成する工程などを示す断面図である。液晶表示パネル２００は、それぞれ別々に形成した素子基板２１０と対向基板２２０とを、貼り合わせて形成する。 <Formation of liquid crystal display panel>
Next, a process for forming the liquid crystal display panel 200 will be described with reference to FIGS. 11, 12, and 13. FIG. 11 is a flowchart showing a process of forming a liquid crystal display panel. 12 is a cross-sectional view showing a process of forming a filter film in the process of forming a liquid crystal display panel, and FIG. 13 is a cross-sectional view showing a process of forming an alignment film in the process of forming a liquid crystal display panel. is there. The liquid crystal display panel 200 is formed by bonding together an element substrate 210 and a counter substrate 220 that are separately formed.

図１１に示したステップＳ１からステップＳ５を実行することで、対向基板２２０を形成する。
図１１のステップＳ１では、ガラス基板２０１の上に、フィルタ膜領域２２５を区画形成するための隔壁部を形成する。隔壁部は、ブラックマトリックス２０２を格子状に形成し、その上にバンク２０３を形成して、ブラックマトリックス２０２とバンク２０３とで構成された隔壁２０４を格子状に配置することによって形成する。これにより、図１２（ａ）に示すように、ガラス基板２０１の表面に、隔壁２０４によって区画された方形のフィルタ膜領域２２５が形成される。 The counter substrate 220 is formed by executing steps S1 to S5 shown in FIG.
In step S <b> 1 of FIG. 11, a partition wall for partitioning the filter film region 225 is formed on the glass substrate 201. The partition walls are formed by forming the black matrix 202 in a lattice shape, forming the bank 203 thereon, and disposing the partition walls 204 composed of the black matrix 202 and the bank 203 in the lattice shape. Thereby, as shown in FIG. 12A, a square filter film region 225 partitioned by the partition walls 204 is formed on the surface of the glass substrate 201.

次に、図１１のステップＳ２では、フィルタ膜領域２２５に、赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、又は青色フィルタ膜２０５Ｂを構成する材料をそれぞれ充填して、赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、及び青色フィルタ膜２０５Ｂを形成して、ＣＦ層２０８を形成する。   Next, in step S2 of FIG. 11, the filter film region 225 is filled with the material constituting the red filter film 205R, the green filter film 205G, or the blue filter film 205B, respectively, and the red filter film 205R and the green filter film 205G are filled. And the blue filter film 205B are formed, and the CF layer 208 is formed.

より詳細には、図１２（ｂ）に示すように、隔壁２０４によって区画されたフィルタ膜領域２２５が形成されたガラス基板２０１の表面に赤色吐出ヘッド１７Ｒを対向させる。当該赤色吐出ヘッド１７Ｒが有する吐出ノズル７８から、赤色フィルタ膜２０５Ｒを形成するべきフィルタ膜領域２２５Ｒに向けて、赤色機能液２５２Ｒを吐出することによって、フィルタ膜領域２２５Ｒに赤色機能液２５２Ｒを配置する。同時に、ガラス基板２０１に対して赤色吐出ヘッド１７Ｒを矢印ａで示したように相対移動させることによって、ガラス基板２０１に形成された全てのフィルタ膜領域２２５Ｒに赤色機能液２５２Ｒを配置する。配置した赤色機能液２５２Ｒを乾燥させることによって、図１２（ｃ）に示すように、フィルタ膜領域２２５Ｒに赤色フィルタ膜２０５Ｒを形成する。   More specifically, as shown in FIG. 12B, the red discharge head 17R is opposed to the surface of the glass substrate 201 on which the filter film region 225 partitioned by the partition 204 is formed. The red functional liquid 252R is disposed in the filter film region 225R by discharging the red functional liquid 252R from the discharge nozzle 78 of the red discharge head 17R toward the filter film region 225R where the red filter film 205R is to be formed. . At the same time, the red functional liquid 252R is disposed in all the filter film regions 225R formed on the glass substrate 201 by moving the red discharge head 17R relative to the glass substrate 201 as indicated by the arrow a. By drying the arranged red functional liquid 252R, a red filter film 205R is formed in the filter film region 225R as shown in FIG.

同様にして、図１２（ｂ）に示した、緑色フィルタ膜２０５Ｇ又は青色フィルタ膜２０５Ｂを形成するべきフィルタ膜領域２２５Ｇ又はフィルタ膜領域２２５Ｂに、図１２（ｃ）に示すように、緑色機能液２５２Ｇ又は青色機能液２５２Ｂを配置する。緑色機能液２５２Ｇ及び青色機能液２５２Ｂを乾燥させることによって、図１２（ｄ）に示すように、フィルタ膜領域２２５Ｇ及びフィルタ膜領域２２５Ｂに緑色フィルタ膜２０５Ｇ又は青色フィルタ膜２０５Ｂを形成する。赤色フィルタ膜２０５Ｒと合わせて、赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、及び青色フィルタ膜２０５Ｂからなる３色カラーフィルタが形成される。   Similarly, in the filter film region 225G or the filter film region 225B where the green filter film 205G or the blue filter film 205B shown in FIG. 12B is to be formed, as shown in FIG. 252G or blue functional liquid 252B is disposed. By drying the green functional liquid 252G and the blue functional liquid 252B, the green filter film 205G or the blue filter film 205B is formed in the filter film region 225G and the filter film region 225B as shown in FIG. Together with the red filter film 205R, a three-color filter composed of a red filter film 205R, a green filter film 205G, and a blue filter film 205B is formed.

次に、図１１のステップＳ３では、平坦化層を形成する。図１２（ｅ）に示すように、ＣＦ層２０８を構成する赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、青色フィルタ膜２０５Ｂ、及び隔壁２０４の上に、平坦化層としての平坦化膜２０６を形成する。平坦化膜２０６は、少なくともＣＦ層２０８の全面を覆う領域に形成する。平坦化膜２０６を設けることによって、対向電極２０７を形成する面を略平坦な面にしている。
次に、図１１のステップＳ４では、対向電極２０７を形成する。図１２（ｆ）に示すように、平坦化膜２０６の上の、少なくともＣＦ層２０８のフィルタ膜２０５が形成された領域の全面を覆う領域に、透明な導電材料を用いて、薄膜を形成する。この薄膜が、上述した対向電極２０７である。 Next, in step S3 of FIG. 11, a planarization layer is formed. As shown in FIG. 12E, a planarizing film 206 as a planarizing layer is formed on the red filter film 205R, the green filter film 205G, the blue filter film 205B, and the partition wall 204 that constitute the CF layer 208. . The planarizing film 206 is formed in a region that covers at least the entire surface of the CF layer 208. By providing the planarization film 206, the surface on which the counter electrode 207 is formed is made substantially flat.
Next, in step S4 of FIG. 11, the counter electrode 207 is formed. As shown in FIG. 12F, a thin film is formed using a transparent conductive material in a region covering the entire surface of the region where the filter film 205 of the CF layer 208 is formed on the planarizing film 206. . This thin film is the counter electrode 207 described above.

次に、図１１のステップＳ５では、対向電極２０７の上に、対向基板２２０の配向膜２２８を形成する。配向膜２２８は、少なくともＣＦ層２０８の全面を覆う領域に形成する。
図１３（ｇ）に示すように、対向電極２０７が形成されたガラス基板２０１の表面に液滴吐出ヘッド１７を対向させて、液滴吐出ヘッド１７からガラス基板２０１の表面に向けて配向膜液２４２を吐出する。同時に、ガラス基板２０１に対して液滴吐出ヘッド１７を矢印ａで示したように相対移動させることによって、ガラス基板２０１の配向膜２２８を形成する領域の全面に配向膜液２４２を配置する。配置された配向膜液２４２を乾燥させることで、図１３（ｈ）に示すように、配向膜２２８を形成する。ステップＳ５を実施して、対向基板２２０が形成される。 Next, in step S <b> 5 of FIG. 11, the alignment film 228 of the counter substrate 220 is formed on the counter electrode 207. The alignment film 228 is formed in a region covering at least the entire surface of the CF layer 208.
As shown in FIG. 13G, the liquid droplet ejection head 17 is opposed to the surface of the glass substrate 201 on which the counter electrode 207 is formed, and the alignment film liquid is directed from the liquid droplet ejection head 17 toward the surface of the glass substrate 201. 242 is discharged. At the same time, by moving the droplet discharge head 17 relative to the glass substrate 201 as indicated by the arrow a, the alignment film liquid 242 is disposed on the entire surface of the glass substrate 201 where the alignment film 228 is to be formed. By drying the alignment film liquid 242 disposed, an alignment film 228 is formed as shown in FIG. Step S5 is performed, and the counter substrate 220 is formed.

図１１に示したステップＳ６からステップＳ８を実行することで、素子基板２１０を形成する。
図１１のステップＳ６では、ガラス基板２１１の上に導電層や絶縁層や半導体層を形成することで、ＴＦＴ素子２１５などの素子や、走査線２１２や、信号線２１４や、絶縁層２１６などを形成する。走査線２１２及び信号線２１４は、素子基板２１０と対向基板２２０とが、貼り合わされた状態で、隔壁２０４に対向する位置に、即ち画素の周辺の位置に形成する。ＴＦＴ素子２１５は、画素の端に位置するように形成し、１画素に少なくとも１個のＴＦＴ素子２１５を形成する。 The element substrate 210 is formed by executing steps S6 to S8 shown in FIG.
In step S6 of FIG. 11, by forming a conductive layer, an insulating layer, or a semiconductor layer on the glass substrate 211, an element such as the TFT element 215, the scanning line 212, the signal line 214, the insulating layer 216, or the like is formed. Form. The scanning line 212 and the signal line 214 are formed at a position facing the partition wall 204, that is, a position around the pixel, in a state where the element substrate 210 and the counter substrate 220 are bonded to each other. The TFT element 215 is formed so as to be positioned at the end of the pixel, and at least one TFT element 215 is formed in one pixel.

次に、ステップＳ７では、画素電極２１７を形成する。画素電極２１７は、素子基板２１０と対向基板２２０とが、貼り合わされた状態で、赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、又は青色フィルタ膜２０５Ｂに対向する位置に、形成する。画素電極２１７は、ＴＦＴ素子２１５のドレイン電極と電気的に接続させる。   Next, in step S7, the pixel electrode 217 is formed. The pixel electrode 217 is formed at a position facing the red filter film 205R, the green filter film 205G, or the blue filter film 205B in a state where the element substrate 210 and the counter substrate 220 are bonded to each other. The pixel electrode 217 is electrically connected to the drain electrode of the TFT element 215.

次に、ステップＳ８では、画素電極２１７などの上に、素子基板２１０の配向膜２１８を形成する。配向膜２１８は、少なくとも全ての画素電極２１７の全面を覆う領域に形成する。
図１３（ｉ）に示すように、画素電極２１７が形成されたガラス基板２１１の表面に液滴吐出ヘッド１７を対向させて、液滴吐出ヘッド１７からガラス基板２１１の表面に向けて配向膜液２４２を吐出する。同時に、ガラス基板２１１に対して液滴吐出ヘッド１７を矢印ａで示したように相対移動させることによって、ガラス基板２１１の配向膜２１８を形成する領域の全面に配向膜液２４２を配置する。配置された配向膜液２４２を乾燥させることで、図１３（ｊ）に示すように、配向膜２１８を形成する。ステップＳ８を実施して、素子基板２１０が形成される。 Next, in step S8, an alignment film 218 of the element substrate 210 is formed on the pixel electrode 217 or the like. The alignment film 218 is formed in a region covering the entire surface of at least all the pixel electrodes 217.
As shown in FIG. 13 (i), the droplet discharge head 17 is opposed to the surface of the glass substrate 211 on which the pixel electrode 217 is formed, and the alignment film liquid is directed from the droplet discharge head 17 toward the surface of the glass substrate 211. 242 is discharged. At the same time, the liquid droplet ejection head 17 is moved relative to the glass substrate 211 as indicated by an arrow a, thereby arranging the alignment film liquid 242 on the entire surface of the glass substrate 211 where the alignment film 218 is to be formed. By drying the alignment film liquid 242 arranged, an alignment film 218 is formed as shown in FIG. Step S8 is performed, and the element substrate 210 is formed.

次に、ステップＳ９では、形成された対向基板２２０と素子基板２１０とを貼り合わせ、図１３（ｋ）に示すように、間に液晶２３０を充填する。さらに、偏光板２３１と偏光板２３２とを貼りつけるなどして、液晶表示パネル２００を組立てる。複数のガラス基板２０１やガラス基板２１１からなるマザー基板に、複数の対向基板２２０や素子基板２１０を形成する場合には、複数の液晶表示パネル２００が形成されたマザー基板を個別の液晶表示パネル２００に分割する。あるいは、マザー対向基板２０１Ａやマザー素子基板を、対向基板２２０や素子基板２１０に分割する工程を実施した後にステップＳ９を実施する。ステップＳ９を実施して、液晶表示パネル２００を形成する工程を終了する。   Next, in step S9, the counter substrate 220 and the element substrate 210 thus formed are bonded together, and the liquid crystal 230 is filled therebetween as shown in FIG. Further, the liquid crystal display panel 200 is assembled by attaching the polarizing plate 231 and the polarizing plate 232 or the like. When a plurality of counter substrates 220 and element substrates 210 are formed on a mother substrate composed of a plurality of glass substrates 201 and glass substrates 211, the mother substrate on which the plurality of liquid crystal display panels 200 are formed is used as the individual liquid crystal display panel 200. Divide into Alternatively, step S9 is performed after the step of dividing the mother counter substrate 201A and the mother element substrate into the counter substrate 220 and the element substrate 210 is performed. Step S9 is performed and the process of forming the liquid crystal display panel 200 is completed.

＜着弾対象領域＞
次に、描画対象における機能液を配置するべき領域である配置領域の形状と、配置領域に機能液を配置するために液滴を着弾させるべき領域である着弾対象領域と、の関係について、図１４を参照して説明する。 <Target landing area>
Next, the relationship between the shape of the placement area, which is the area where the functional liquid in the drawing target is to be placed, and the landing target area, which is the area where droplets should land in order to place the functional liquid in the placement area, Reference is made to FIG.

機能液の液滴は、描画対象における所定の位置に着弾させるように吐出されるが、所定の着弾位置に対して、様々な誤差要因によって生ずる誤差の分だけずれた位置に着弾する可能性がある。確実に機能液を配置するべき領域である配置領域内に液滴を着弾させるために、誤差要因によって生ずる誤差が生じても配置領域内に液滴を着弾させられるように、誤差を考慮した範囲に向けて機能液を吐出する。当該誤差を考慮した範囲を、着弾対象領域と表記する。図１４は、フィルタ膜領域の形状と、着弾対象領域と、との関係を示す説明図である。   The liquid droplets of the functional liquid are ejected so as to land at a predetermined position on the drawing target. However, there is a possibility that the liquid will land at a position shifted by an error caused by various error factors with respect to the predetermined landing position. is there. In order to ensure that the liquid droplets land in the placement area, which is the area where the functional liquid should be placed, a range that takes into account errors so that the liquid droplets can land in the placement area even if an error caused by an error factor occurs. The functional liquid is discharged toward A range in consideration of the error is referred to as a landing target region. FIG. 14 is an explanatory diagram showing the relationship between the shape of the filter film region and the landing target region.

上述したように、マザー対向基板２０１Ａには、対向基板２２０のＣＦ層２０８と共に、対向基板４２０を構成するＣＦ層４０８がガラス基板４０１となる部分に形成されている。図１４（ａ）では、上述したＣＦ層２０８のフィルタ膜２０５を形成するためのフィルタ膜領域２２５における、着弾対象領域２２５Ｅの大きさを示している。図１４（ｂ）では、上述したＣＦ層４０８のフィルタ膜４０５（４０５Ｒ，４０５Ｇ，４０５Ｂ）を形成するためのフィルタ膜領域４２５における、着弾対象領域４２５Ｅの大きさを示している。ＣＦ層２０８におけるフィルタ膜２０５の数と、ＣＦ層４０８におけるフィルタ膜４０５の数とは基本的に同じであるため、ＣＦ層２０８より面積が小さいＣＦ層４０８のフィルタ膜領域４２５の大きさは、ＣＦ層２０８のフィルタ膜領域２２５より小さくなる。フィルタ膜領域４２５の横寸法４２５ｗ及び縦寸法４２５ｈは、フィルタ膜領域２２５の横寸法２２５ｗ及び縦寸法２２５ｈの半分程度である。   As described above, the mother counter substrate 201 </ b> A has the CF layer 208 of the counter substrate 220 and the CF layer 408 constituting the counter substrate 420 formed in the portion to be the glass substrate 401. FIG. 14A shows the size of the landing target region 225E in the filter film region 225 for forming the filter film 205 of the CF layer 208 described above. FIG. 14B shows the size of the landing target region 425E in the filter film region 425 for forming the filter film 405 (405R, 405G, 405B) of the CF layer 408 described above. Since the number of filter films 205 in the CF layer 208 and the number of filter films 405 in the CF layer 408 are basically the same, the size of the filter film region 425 of the CF layer 408 having a smaller area than the CF layer 208 is It becomes smaller than the filter film region 225 of the CF layer 208. The horizontal dimension 425w and the vertical dimension 425h of the filter film region 425 are about half of the horizontal dimension 225w and the vertical dimension 225h of the filter film region 225.

マザー対向基板２０１Ａに対して、吐出ノズル７８を、図１４に示した矢印ａの方向に移動させながら機能液を吐出させることによって、フィルタ膜領域２２５及びフィルタ膜領域４２５に、機能液を配置する。矢印ａの方向が主走査方向（Ｘ軸方向）であり、矢印ａの方向と直交する方向が副走査方向（Ｙ軸方向）である。
主走査方向における着弾位置の誤差の要因としては、ヘッドギャップの誤差や変動に起因する、吐出された液滴の飛行時間の誤差や、ラッチ信号の立ち上がり間隔の誤差や、ラッチ信号のスタート時点のずれなどが挙げられる。
副走査方向の誤差の要因としては、吐出された機能液の飛行方向が、副走査方向にずれる「曲がり」や、マザー対向基板２０１Ａに対する吐出ノズル７８の副走査方向の位置合わせの誤差などが挙げられる。 The functional liquid is disposed in the filter film region 225 and the filter film region 425 by discharging the functional liquid while moving the discharge nozzle 78 in the direction of the arrow a illustrated in FIG. 14 with respect to the mother counter substrate 201A. . The direction of arrow a is the main scanning direction (X-axis direction), and the direction orthogonal to the direction of arrow a is the sub-scanning direction (Y-axis direction).
Causes of landing position errors in the main scanning direction include error in flight time of ejected droplets, error in rising interval of latch signal, and start time of latch signal due to head gap error and fluctuation. Misalignment etc. are mentioned.
Causes of errors in the sub-scanning direction include “bends” in which the flight direction of the ejected functional liquid deviates in the sub-scanning direction, misalignment errors in the sub-scanning direction of the discharge nozzle 78 with respect to the mother counter substrate 201A, and the like. It is done.

これらの誤差の要因は液滴吐出装置１の精度に拠るものであるため、フィルタ膜領域２２５と、フィルタ膜領域４２５とで、同じ大きさになる。主走査方向の誤差を吸収するための余裕幅ｄｘ、及び副走査方向の余裕幅ｄｙは、フィルタ膜領域２２５でも、フィルタ膜領域４２５でも、考慮する誤差の要因が同じであれば、同じ大きさに設定する必要がある。
着弾対象領域４２５Ｅの横寸法４２５ｘ及び縦寸法４２５ｙは、フィルタ膜領域４２５の横寸法４２５ｗ及び縦寸法４２５ｈに対して、余裕幅ｄｘ、又は余裕幅ｄｙを減じた大きさである。着弾対象領域２２５Ｅの横寸法２２５ｘ及び縦寸法２２５ｙは、フィルタ膜領域２２５の横寸法２２５ｗ及び縦寸法２２５ｈに対して、余裕幅ｄｘ、又は余裕幅ｄｙを減じた大きさである。横寸法４２５ｗ又は縦寸法４２５ｈが、横寸法２２５ｗ又は縦寸法２２５ｈの半分程度であるのに対して、着弾対象領域４２５Ｅの横寸法４２５ｘ又は縦寸法４２５ｙは、着弾対象領域２２５Ｅの横寸法２２５ｘ又は縦寸法２２５ｙの三分の一から四分の一程度になっている。着弾対象領域がフィルタ膜領域に比べて小さくなる割合が大きくなると、フィルタ膜領域の全面に充填できるだけの機能液を着弾対象領域に着弾させることが困難になる。 Since these error factors depend on the accuracy of the droplet discharge device 1, the filter film region 225 and the filter film region 425 have the same size. The margin width dx for absorbing the error in the main scanning direction and the margin width dy in the sub-scanning direction are the same size as long as the error factors to be considered are the same in both the filter film region 225 and the filter film region 425. Must be set to
The horizontal dimension 425x and the vertical dimension 425y of the landing target area 425E are obtained by subtracting the margin width dx or the margin width dy from the horizontal dimension 425w and the vertical dimension 425h of the filter film region 425. The horizontal dimension 225x and the vertical dimension 225y of the landing target area 225E are obtained by subtracting the margin width dx or the margin width dy from the horizontal dimension 225w and the vertical dimension 225h of the filter film region 225. The horizontal dimension 425w or the vertical dimension 425h is about half of the horizontal dimension 225w or the vertical dimension 225h, while the horizontal dimension 425x or the vertical dimension 425y of the landing target area 425E is the horizontal dimension 225x or the vertical dimension of the landing target area 225E. It is about 1/3 to 1/4 of the dimension 225y. When the ratio of the landing target region to be smaller than the filter membrane region increases, it becomes difficult to land the functional liquid enough to fill the entire surface of the filter membrane region on the landing target region.

着弾対象領域４２５Ｅなどの横寸法４２５ｗ又は縦寸法４２５ｈなどが小さくなることを抑制するためには、余裕幅ｄｘ、及び余裕幅ｄｙを小さくできるようにすることが必要である。余裕幅ｄｘ、及び余裕幅ｄｙを小さくするためには、誤差の要因となる「曲がり」などを小さくすることが必要である。上述した「曲がり」やヘッドギャップの誤差を小さくするためには、ヘッドギャップを小さくすることが有効である。   In order to prevent the horizontal dimension 425w or the vertical dimension 425h such as the landing target region 425E from being reduced, it is necessary to be able to reduce the margin width dx and the margin width dy. In order to reduce the margin width dx and the margin width dy, it is necessary to reduce the “bend” that causes an error. In order to reduce the above-mentioned “bending” and head gap errors, it is effective to reduce the head gap.

＜吐出分解能＞
次に、機能液を配置するべき領域である描画対象の形状と、着弾対象領域と、吐出分解能と、の関係について、図１５を参照して説明する。図１５は、フィルタ膜領域の形状と、着弾対象領域と、吐出分解能との関係を示す説明図である。
図７を参照して説明したように、ラッチ信号（ＬＡＴ）がラッチ回路８６に入力されるタイミングで、ノズルデータが「ＯＮ」の場合には駆動信号（ＣＯＭ）が供給され、対応する吐出ノズル７８からは機能液が液滴化されて吐出され、吐出された機能液がワークＷなどの描画対象物の上に配置される。ラッチ信号の周波数と、吐出ノズル７８と描画対象との主走査方向の相対移動速度と、から定まる描画対象に対する吐出ノズル７８からの吐出位置間の最小距離が、吐出分解能である。吐出された機能液が描画対象に着弾した位置間の最小距離が、描画分解能である。描画対象の適切な描画分解能は、それぞれの描画対象における描画形状によって定まる。吐出ノズル７８が実現するべき吐出分解能は、液滴吐出装置１が描画吐出を実施する描画対象の適切な描画分解能によって定まる。 <Discharge resolution>
Next, the relationship among the shape of the drawing target, which is the region where the functional liquid is to be disposed, the landing target region, and the discharge resolution will be described with reference to FIG. FIG. 15 is an explanatory diagram showing the relationship between the shape of the filter film region, the landing target region, and the discharge resolution.
As described with reference to FIG. 7, when the latch data (LAT) is input to the latch circuit 86 and the nozzle data is “ON”, the drive signal (COM) is supplied, and the corresponding discharge nozzle From 78, the functional liquid is made into droplets and discharged, and the discharged functional liquid is placed on a drawing object such as the workpiece W. The minimum distance between the discharge positions from the discharge nozzle 78 with respect to the drawing target determined from the frequency of the latch signal and the relative movement speed of the discharge nozzle 78 and the drawing target in the main scanning direction is the discharge resolution. The minimum distance between the positions where the ejected functional liquid has landed on the drawing target is the drawing resolution. The appropriate drawing resolution of the drawing target is determined by the drawing shape of each drawing target. The discharge resolution to be realized by the discharge nozzle 78 is determined by an appropriate drawing resolution of a drawing target on which the droplet discharge device 1 performs drawing discharge.

図１５（ａ）は、ＣＦ層２０８のフィルタ膜２０５を形成するフィルタ膜領域２２５について、好ましい機能液２５２の着弾点２６３、及び機能液２５２を当該着弾点２６３に着弾させるタイミングで液滴吐出ヘッド１７から吐出させるためのラッチ信号２６２を示している。
１個のフィルタ膜２０５を形成するために、複数の吐出ノズル７８を一斉に駆動して、当該フィルタ膜２０５を形成するべきフィルタ膜領域２２５に機能液２５２を着弾させる。１個の吐出ノズル７８からは、例えば図１５（ａ）に示した２個所の着弾点２６３の位置に、機能液２５２の液滴を着弾させることによって、適正なフィルタ膜２０５が形成される。
なお、図をわかり易くするために、着弾点２６３を２個所にしたが、多くの場合、もっと多数の液滴を一個所の領域に着弾させる。 FIG. 15A illustrates a droplet discharge head at a timing at which the functional liquid 252 and the functional liquid 252 land on the landing point 263 with respect to the filter film region 225 forming the filter film 205 of the CF layer 208. 17 shows a latch signal 262 for ejecting from the nozzle 17.
In order to form one filter film 205, the plurality of discharge nozzles 78 are driven simultaneously, and the functional liquid 252 is landed on the filter film region 225 where the filter film 205 is to be formed. An appropriate filter film 205 is formed from one discharge nozzle 78 by, for example, landing droplets of the functional liquid 252 at the positions of the two landing points 263 shown in FIG.
In order to make the drawing easier to understand, two landing points 263 are provided, but in many cases, a larger number of droplets are landed in one region.

一般的に、信号は時間軸に対応して示されるが、吐出ノズル７８とフィルタ膜領域２２５（マザー対向基板２０１Ａ）との相対移動速度は一定であるため、図１５（ａ）に示したラッチ信号２６２は、主走査方向である矢印ａの方向に相対移動する吐出ノズル７８が、当該位置にある時点で印加されているラッチ信号を示している。吐出ノズル７８は、図１５（ａ）の矢印ａの方向に相対移動しながら、ラッチ信号２６２の立ち上がり時に、即ち、図１５（ａ）においてはラッチ信号２６２の立ち上がり部分が記載されている位置において、機能液２５２を吐出する。吐出された機能液２５２は、着弾点２６３の位置に、着弾位置精度の誤差の範囲で、着弾する。なお、吐出ノズル７８から吐出された機能液２５２は、吐出されてから着弾するまでの飛行時間の間に、相対移動方向にも移動するが、当該移動量はヘッドギャップが一定であれば概ね一定であるため、図をわかりやすくするために、図１５（ａ）においては、当該移動量は省略している。   In general, the signal is shown corresponding to the time axis, but the relative movement speed between the discharge nozzle 78 and the filter film region 225 (mother counter substrate 201A) is constant, so the latch shown in FIG. A signal 262 indicates a latch signal that is applied when the discharge nozzle 78 that moves relatively in the direction of the arrow a, which is the main scanning direction, is at that position. The discharge nozzle 78 moves relatively in the direction of the arrow a in FIG. 15A, and at the time of rising of the latch signal 262, that is, at the position where the rising portion of the latch signal 262 is described in FIG. The functional liquid 252 is discharged. The discharged functional liquid 252 lands at the position of the landing point 263 within a range of error in landing position accuracy. The functional liquid 252 discharged from the discharge nozzle 78 moves in the relative movement direction during the flight time from discharge until landing, but the movement amount is generally constant if the head gap is constant. Therefore, in order to make the figure easy to understand, the movement amount is omitted in FIG.

赤色吐出ヘッド１７Ｒが有する吐出ノズル７８においては、赤色フィルタ膜２０５Ｒを形成するべきフィルタ膜領域２２５Ｒにおける着弾対象領域２２５Ｅ内の着弾点２６３Ｒに向けて吐出する時点においてのみ、赤色機能液２５２Ｒを吐出する。フィルタ膜領域２２５Ｒ内であっても、着弾対象領域２２５Ｅから外れた着弾点２６３Ｋに着弾する吐出時点においては、吐出は実施しない。赤色吐出ヘッド１７Ｒが有する吐出ノズル７８は、着弾点２６３Ｇや着弾点２６３Ｂに着弾する吐出時点においては、吐出は実施しない。同様に、緑色吐出ヘッド１７Ｇ又は青色吐出ヘッド１７Ｂが有する吐出ノズル７８においては、緑色フィルタ膜２０５Ｇ又は青色フィルタ膜２０５Ｂを形成するべきフィルタ膜領域２２５Ｇ又はフィルタ膜領域２２５Ｂにおける着弾対象領域２２５Ｅ内の着弾点２６３Ｇ又は着弾点２６３Ｂに向けて吐出する時点においてのみ、緑色機能液２５２Ｇ又は青色機能液２５２Ｂを吐出する。   In the discharge nozzle 78 of the red discharge head 17R, the red functional liquid 252R is discharged only when the red discharge film 17R is discharged toward the landing point 263R in the landing target region 225E in the filter film region 225R where the red filter film 205R is to be formed. . Even within the filter film region 225R, the discharge is not performed at the discharge point when landing on the landing point 263K outside the landing target region 225E. The discharge nozzle 78 included in the red discharge head 17R does not perform discharge at the discharge point when landing on the landing point 263G or the landing point 263B. Similarly, in the discharge nozzle 78 included in the green discharge head 17G or the blue discharge head 17B, landing in the landing target region 225E in the filter film region 225G or the filter film region 225B where the green filter film 205G or the blue filter film 205B is to be formed. The green functional liquid 252G or the blue functional liquid 252B is discharged only when it is discharged toward the point 263G or the landing point 263B.

フィルタ膜領域２２５の主走査方向の配置に対して、ラッチ信号２６２によってラッチされる駆動信号を適切に印加することによって、適切な吐出位置で機能液２５２を吐出させることを可能ならしめて、それぞれのフィルタ膜領域２２５において、略同じ位置に機能液２５２を着弾させることができる。主走査方向に複数の機能液２５２を連続して吐出する場合、その最小の吐出間隔が吐出分解能となる。すなわち、吐出分解能の単位で機能液２５２を配置可能である。主走査方向における機能液２５２の配置は、隔壁２０４で区画された領域のサイズやフィルタ膜２０５の膜厚設定により適宜決定される。   By appropriately applying the drive signal latched by the latch signal 262 to the arrangement of the filter film region 225 in the main scanning direction, it is possible to discharge the functional liquid 252 at an appropriate discharge position. In the filter film region 225, the functional liquid 252 can be landed at substantially the same position. When a plurality of functional liquids 252 are continuously discharged in the main scanning direction, the minimum discharge interval is the discharge resolution. That is, the functional liquid 252 can be arranged in units of discharge resolution. The arrangement of the functional liquid 252 in the main scanning direction is appropriately determined depending on the size of the region partitioned by the partition wall 204 and the film thickness setting of the filter film 205.

図１５（ｂ）は、ＣＦ層４０８のフィルタ膜４０５（４０５Ｒ，４０５Ｇ，４０５Ｂ）を形成するフィルタ膜領域４２５について、好ましい機能液２５２の着弾点２７３、及び機能液２５２を当該着弾点２７３に着弾させるように液滴吐出ヘッド１７から吐出させるためのラッチ信号２７２を示している。
１個の吐出ノズル７８からは、例えば図１５（ｂ）に示した一個所の着弾点２７３の位置に、機能液２５２の液滴を着弾させることによって、適正なフィルタ膜４０５が形成される。
なお、図をわかり易くするために、着弾点２７３を一個所にしたが、多くの場合、もっと多数の液滴を一個所の領域に着弾させる。
図１５（ｂ）におけるラッチ信号２７２とフィルタ膜領域４２５との関係は、図１５（ａ）におけるラッチ信号２６２とフィルタ膜領域２２５との関係と同様である。 FIG. 15B shows the landing point 273 of the preferred functional liquid 252 and the functional liquid 252 landing on the landing point 273 in the filter film region 425 forming the filter film 405 (405R, 405G, 405B) of the CF layer 408. A latch signal 272 for discharging from the droplet discharge head 17 is shown.
An appropriate filter film 405 is formed from one ejection nozzle 78 by, for example, landing a droplet of the functional liquid 252 at the position of one landing point 273 shown in FIG.
In addition, in order to make the figure easy to understand, the landing point 273 is set to one place, but in many cases, a larger number of droplets are landed on one area.
The relationship between the latch signal 272 and the filter film region 425 in FIG. 15B is the same as the relationship between the latch signal 262 and the filter film region 225 in FIG.

赤色吐出ヘッド１７Ｒが有する吐出ノズル７８においては、赤色フィルタ膜４０５Ｒを形成するべきフィルタ膜領域４２５Ｒにおける着弾対象領域４２５Ｅ内の着弾点２７３Ｒに向けて吐出する時点においてのみ、赤色機能液２５２Ｒを吐出する。赤色吐出ヘッド１７Ｒが有する吐出ノズル７８は、着弾点２７３Ｇや着弾点２７３Ｂ、及び着弾対象領域４２５Ｅから外れる着弾点２７３Ｋに着弾する吐出時点においては、吐出は実施しない。同様に、緑色吐出ヘッド１７Ｇ又は青色吐出ヘッド１７Ｂが有する吐出ノズル７８においては、緑色フィルタ膜４０５Ｇ又は青色フィルタ膜４０５Ｂを形成するべきフィルタ膜領域４２５Ｇ又はフィルタ膜領域４２５Ｂにおける着弾対象領域４２５Ｅ内の着弾点２７３Ｇ又は着弾点２７３Ｂに向けて吐出する時点においてのみ、緑色機能液２５２Ｇ又は青色機能液２５２Ｂを吐出する。
フィルタ膜領域４２５の主走査方向の配置に対して、ラッチ信号２７２によってラッチされる駆動信号を適切に印加することによって、適切な吐出位置で機能液２５２を吐出させることを可能ならしめて、それぞれのフィルタ膜領域４２５において、略同じ位置に機能液２５２を着弾させることができる。 In the discharge nozzle 78 of the red discharge head 17R, the red functional liquid 252R is discharged only when the red discharge film 17R is discharged toward the landing point 273R in the landing target region 425E in the filter film region 425R where the red filter film 405R is to be formed. . The discharge nozzle 78 included in the red discharge head 17R does not perform discharge at the discharge point when landing on the landing point 273G, the landing point 273B, and the landing point 273K outside the landing target region 425E. Similarly, in the discharge nozzle 78 included in the green discharge head 17G or the blue discharge head 17B, landing in the landing target region 425E in the filter film region 425G or the filter film region 425B where the green filter film 405G or the blue filter film 405B is to be formed. The green functional liquid 252G or the blue functional liquid 252B is discharged only at the time of discharging toward the point 273G or the landing point 273B.
By appropriately applying a drive signal latched by the latch signal 272 to the arrangement of the filter film region 425 in the main scanning direction, it is possible to discharge the functional liquid 252 at an appropriate discharge position. In the filter film region 425, the functional liquid 252 can be landed at substantially the same position.

＜機能液配置＞
次に、機能液を吐出して、マザー対向基板２０１ＡにおけるＣＦ層２０８のフィルタ膜領域２２５などに機能液を配置する過程について、図１６を参照して説明する。図１６は、機能液を配置する工程を示すフローチャートである。 <Functional liquid arrangement>
Next, a process of discharging the functional liquid and arranging the functional liquid in the filter film region 225 of the CF layer 208 in the mother counter substrate 201A will be described with reference to FIG. FIG. 16 is a flowchart showing a process of arranging the functional liquid.

図１６のステップＳ２１では、基準ヘッドギャップを規定する。基準ヘッドギャップは、例えばフィルタ膜領域の大きさに対応して、規定する。上述したように、マザー対向基板２０１Ａにおいては、フィルタ膜領域４２５では、フィルタ膜領域２２５と同じ余裕幅ｄｘ及び余裕幅ｄｙを設定すると、着弾対象領域４２５Ｅが小さくなる。着弾対象領域４２５Ｅが小さくなることを抑制するために、ヘッドギャップを小さくすることによって「曲がり」やヘッドギャップの誤差を小さくすることで、余裕幅ｄｘ、及び余裕幅ｄｙを小さくする。ステップＳ２１が、基準ギャップ規定工程に相当する。   In step S21 in FIG. 16, a reference head gap is defined. The reference head gap is defined corresponding to the size of the filter film region, for example. As described above, in the mother counter substrate 201A, in the filter film region 425, when the same margin width dx and margin width dy as the filter film region 225 are set, the landing target region 425E becomes small. In order to prevent the landing target region 425E from becoming smaller, the margin width dx and the margin width dy are reduced by reducing the “bending” or head gap error by reducing the head gap. Step S21 corresponds to a reference gap defining step.

次に、ステップＳ２２では、規定した基準ヘッドギャップを、対応するフィルタ膜領域の大きさと対応させて記憶する。規定した基準ヘッドギャップの情報を、入出力装置６８から入力し、ＲＡＭ４６やハードディスク４８などに記憶させる。入出力装置６８が、基準ヘッドギャップ取得手段に相当する。   Next, in step S22, the specified reference head gap is stored in correspondence with the size of the corresponding filter film region. Information on the specified reference head gap is input from the input / output device 68 and stored in the RAM 46 or the hard disk 48. The input / output device 68 corresponds to a reference head gap acquisition unit.

次に、ステップＳ２３では、描画する画像の描画データを取得する。描画データの取得は、画像の描画データを入出力装置６８から入力し、ＲＡＭ４６やハードディスク４８などに記憶させることによって実行される。描画データは、例えば、マザー対向基板２０１Ａなどにおける機能液の配置パターンをデータ化したドットパターンデータなどの形式で供給される。   Next, in step S23, drawing data of an image to be drawn is acquired. The drawing data is acquired by inputting image drawing data from the input / output device 68 and storing it in the RAM 46 or the hard disk 48. The drawing data is supplied in the form of, for example, dot pattern data obtained by converting the functional liquid arrangement pattern on the mother counter substrate 201A or the like into data.

次に、ステップＳ２４では、取得した画像データに基づいて、フィルタ膜領域の情報を算出する。マザー対向基板２０１Ａにおいては、フィルタ膜領域２２５及びフィルタ膜領域４２５の着弾対象領域２２５Ｅ及び着弾対象領域４２５Ｅの大きさが、算出される。また、ＣＦ層２０８及びＣＦ層４０８の配設位置及び大きさが、算出される。当該算出は、例えば、ＣＰＵ４４が、ＲＯＭ４５に記憶されたプログラムに従って実行する。
フィルタ膜領域２２５及びフィルタ膜領域４２５、又は着弾対象領域２２５Ｅ及び着弾対象領域４２５Ｅが、サブ配置領域又は色要素領域又は機能膜領域に相当する。ＣＦ層２０８及びＣＦ層４０８を形成する領域が、配置領域又はフィルタ領域又は電気光学膜領域に相当する。 Next, in step S24, information on the filter film region is calculated based on the acquired image data. In the mother counter substrate 201A, the sizes of the landing target region 225E and the landing target region 425E of the filter film region 225 and the filter film region 425 are calculated. Further, the arrangement positions and sizes of the CF layer 208 and the CF layer 408 are calculated. For example, the CPU 44 executes the calculation according to a program stored in the ROM 45.
The filter film area 225 and the filter film area 425, or the landing target area 225E and the landing target area 425E correspond to a sub arrangement area, a color element area, or a functional film area. A region where the CF layer 208 and the CF layer 408 are formed corresponds to an arrangement region, a filter region, or an electro-optic film region.

次に、ステップＳ２５では、記憶されている基準ヘッドギャップの中から、算出された着弾対象領域２２５Ｅ又は着弾対象領域４２５Ｅの大きさに対応する基準ヘッドギャップを読み出す。   Next, in step S25, the reference head gap corresponding to the calculated size of the landing target area 225E or the landing target area 425E is read out from the stored reference head gap.

次に、ステップＳ２６では、ヘッドギャップを検出する。高さ検出ユニット１６２の２０個の高さセンサ１６３を用いて、それぞれの高さセンサ１６３が対向する位置にある、ワーク載置台２１に固定されたマザー対向基板２０１Ａの面の、Ｚ軸方向の高さを測定する。測定結果と、定められている液滴吐出ヘッド１７のノズル形成面７６ａのＺ軸方向の高さとから、当該位置におけるヘッドギャップを検出することができる。高さセンサ１６３が、ギャップセンサに相当する。   Next, in step S26, the head gap is detected. Using the 20 height sensors 163 of the height detection unit 162, the surface of the mother counter substrate 201A fixed to the workpiece mounting table 21 at the position where the height sensors 163 face each other in the Z-axis direction. Measure height. The head gap at this position can be detected from the measurement result and the height in the Z-axis direction of the nozzle forming surface 76a of the droplet discharge head 17 that has been determined. The height sensor 163 corresponds to a gap sensor.

次に、ステップＳ２７では、ヘッドギャップを調整する。ステップＳ２６で検出したヘッドギャップと、ステップＳ２４で算出したマザー対向基板２０１Ａの当該位置におけるフィルタ領域の大きさに対応する基準ヘッドギャップとを比較し、ヘッドギャップが対応する基準ヘッドギャップになるように、ヘッド昇降機構５８を用いてヘッドユニット５４を昇降させる。この場合のヘッド昇降機構５８を制御するＣＰＵ４４が、ギャップ調整手段に相当する。   Next, in step S27, the head gap is adjusted. The head gap detected in step S26 is compared with the reference head gap corresponding to the size of the filter region at the corresponding position of the mother counter substrate 201A calculated in step S24 so that the head gap becomes the corresponding reference head gap. Then, the head unit 54 is moved up and down using the head lifting mechanism 58. The CPU 44 that controls the head lifting mechanism 58 in this case corresponds to the gap adjusting means.

次に、ステップＳ２８では、ヘッドギャップが適正な基準ヘッドギャップに調整された液滴吐出ヘッド１７からフィルタ膜領域２２５又はフィルタ膜領域４２５の着弾対象領域２２５Ｅ又は着弾対象領域４２５Ｅに向けて、機能液を吐出する。   Next, in step S28, the functional liquid is moved from the droplet discharge head 17 whose head gap is adjusted to an appropriate reference head gap toward the landing target region 225E or the landing target region 425E of the filter film region 225 or the filter film region 425. Is discharged.

ステップＳ２８を実施して、機能液を配置する工程を終了する。
なお、ステップＳ２５を終了して開始される、実際に吐出を実施する工程であるステップＳ２６、ステップＳ２７、及びステップＳ２８は、略並行して実施する。マザー対向基板２０１Ａが主走査方向に移動を開始すると、ステップＳ２６を実施し、マザー対向基板２０１Ａの当該測定をされた位置がヘッドユニット５４の液滴吐出ヘッド１７に対向する位置まで移動する間にステップＳ２７を実施し、液滴吐出ヘッド１７に対向する位置まで移動した時点で、ステップＳ２８を実施する。ステップＳ２７を実施する際には、並行して次の領域に対してステップＳ２６を実施する。同様に、ステップＳ２８を実施する際には、並行して次の領域に対してステップＳ２７を実施する。
測定をされた位置が液滴吐出ヘッド１７に対向する位置は、より正確には、液滴吐出ヘッド１７から吐出された機能液の液滴が飛行して着弾するまでの主走査方向の移動距離を考慮して、液滴吐出ヘッド１７から吐出された機能液が測定をされた位置に着弾する位置である。 Step S28 is implemented and the process of disposing the functional liquid is completed.
Note that Step S26, Step S27, and Step S28, which are actual discharge processes that are started after Step S25, are performed substantially in parallel. When the mother counter substrate 201A starts to move in the main scanning direction, step S26 is performed, while the measured position of the mother counter substrate 201A moves to a position facing the droplet discharge head 17 of the head unit 54. Step S27 is carried out when step S27 is carried out and the liquid droplet ejection head 17 has been moved to a position facing it. When step S27 is performed, step S26 is performed on the next region in parallel. Similarly, when step S28 is performed, step S27 is performed on the next region in parallel.
More precisely, the position where the measured position faces the droplet discharge head 17 is the movement distance in the main scanning direction until the droplets of the functional liquid discharged from the droplet discharge head 17 fly and land. This is a position where the functional liquid discharged from the droplet discharge head 17 lands on the measured position.

上述したように、１個のキャリッジユニット５１に対して、Ｘ軸方向（主走査方向）における両側に、それぞれ１個の高さセンサ１６３が配置されており、キャリッジユニット５１ごとにヘッド昇降機構５８を用いてヘッドユニット５４を昇降することが可能であり、ヘッドギャップの調整は、各ヘッドユニット５４ごとに実施する。キャリッジユニット５１に対して、主走査方向における両側に、それぞれ高さセンサ１６３が配置されていることで、ヘッドユニット５４に対して、主走査方向のどちら側からマザー対向基板２０１Ａが移動してきても、ステップＳ２８に先行してステップＳ２６、及びステップＳ２７を実施することができる。   As described above, one height sensor 163 is disposed on each side of the carriage unit 51 in the X-axis direction (main scanning direction), and the head lifting mechanism 58 is provided for each carriage unit 51. The head unit 54 can be moved up and down using the head, and the head gap is adjusted for each head unit 54. Since the height sensors 163 are arranged on both sides in the main scanning direction with respect to the carriage unit 51, the mother counter substrate 201A can move from either side in the main scanning direction with respect to the head unit 54. Step S26 and Step S27 can be performed prior to Step S28.

以下、実施形態の効果を記載する。本実施形態によれば、以下の効果が得られる。
（１）１個のキャリッジユニット５１に対して、それぞれ高さセンサ１６３を配置したことにより、キャリッジユニット５１のヘッドユニット５４ごとの液滴吐出ヘッド１７のヘッドギャップを検出することができる。 Hereinafter, effects of the embodiment will be described. According to the present embodiment, the following effects can be obtained.
(1) Since the height sensor 163 is arranged for each carriage unit 51, the head gap of the droplet discharge head 17 for each head unit 54 of the carriage unit 51 can be detected.

（２）キャリッジユニット５１に対して、主走査方向における両側に、それぞれ高さセンサ１６３が配置されている。これにより、ヘッドユニット５４に対して、主走査方向のどちら側からマザー対向基板２０１Ａが移動してきても、マザー対向基板２０１Ａの部分が液滴吐出ヘッド１７に対向する前に、高さセンサ１６３に対向することから、機能液の吐出を実施する前に、ヘッドギャップを検出することができる。   (2) Height sensors 163 are disposed on both sides of the carriage unit 51 in the main scanning direction. Thus, regardless of which side of the main scanning direction the mother counter substrate 201A moves relative to the head unit 54, the height sensor 163 is moved before the mother counter substrate 201A portion opposes the droplet discharge head 17. Since they face each other, the head gap can be detected before discharging the functional liquid.

（３）高さセンサ１６３によって測定されたマザー対向基板２０１Ａの各部分の高さから求められたヘッドギャップに応じて、ヘッドユニット５４が昇降されてヘッドギャップが調整される。これにより、マザー対向基板２０１Ａ上のそれぞれの領域ごとに、実際のヘッドギャップに即したヘッドギャップの調整が実施できる。したがって、うねりや厚さのむらなどに起因するマザー対向基板２０１Ａの面の位置の変動があっても、当該変動に追従するようにヘッドユニット５４（液滴吐出ヘッド１７）の位置を調整することで、適切なヘッドギャップを維持することができる。   (3) The head unit 54 is moved up and down to adjust the head gap according to the head gap obtained from the height of each part of the mother counter substrate 201A measured by the height sensor 163. Thereby, the head gap can be adjusted in accordance with the actual head gap for each region on the mother counter substrate 201A. Therefore, even if there is a change in the position of the surface of the mother counter substrate 201A due to waviness or uneven thickness, the position of the head unit 54 (droplet discharge head 17) is adjusted so as to follow the change. An appropriate head gap can be maintained.

（４）キャリッジユニット５１は、ヘッド昇降機構５８の昇降ボールねじ５８３と、昇降ブロック５８７とが螺合することで支持されている。昇降ボールねじ５８３と昇降ブロック５８７とのねじ対偶を用いることで、当該部分にはキャリッジユニット５１の重量が常にかかっているが、昇降モータ５８２の電源を切った状態でも、キャリッジユニット５１のＺ軸方向の位置を保持することができる。これにより、エネルギの消費を抑制することができる。   (4) The carriage unit 51 is supported by screwing the lifting ball screw 583 of the head lifting mechanism 58 and the lifting block 587. Although the weight of the carriage unit 51 is always applied to the portion by using a screw pair of the lifting ball screw 583 and the lifting block 587, the Z-axis of the carriage unit 51 is maintained even when the lifting motor 582 is turned off. The position in the direction can be held. Thereby, consumption of energy can be suppressed.

（５）１０個の高さセンサ１６３が、センサ移動機構１６４によって、Ｙ軸支持ベース７に、Ｙ軸方向に独立して移動可能に支持されている。この構成により、１０個のキャリッジユニット５１のそれぞれについて、それぞれのＹ軸方向の位置に合わせて高さセンサ１６３を配置して、それぞれのキャリッジユニット５１から機能液を吐出するのに略並行して、当該キャリッジユニット５１におけるヘッドギャップを検出することができる。   (5) Ten height sensors 163 are supported on the Y-axis support base 7 by the sensor moving mechanism 164 so as to be independently movable in the Y-axis direction. With this configuration, for each of the ten carriage units 51, the height sensor 163 is arranged in accordance with the position in the Y-axis direction, and substantially in parallel with discharging the functional liquid from each carriage unit 51. The head gap in the carriage unit 51 can be detected.

以上、添付図面を参照しながら好適な実施形態について説明したが、好適な実施形態は、前記実施形態に限らない。実施形態は、要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論であり、以下のように実施することもできる。   As mentioned above, although preferred embodiment was described referring an accompanying drawing, suitable embodiment is not restricted to the said embodiment. The embodiment can of course be modified in various ways without departing from the scope, and can also be implemented as follows.

（変形例１）前記実施形態においては、高さセンサ１６３はキャリッジユニット５１とは別に、センサ移動機構１６４によってＹ軸方向にスライド自在に支持されていたが、高さセンサのＹ軸方向の移動機構をヘッドユニットとは別に設けることは必須ではない。高さセンサを、ヘッドユニットと一体に固定し、ヘッドユニットと一体に移動する構成であってもよい。高さセンサがヘッドユニットと一体に移動する構成の場合、高さセンサと液滴吐出ヘッドとの相対位置が固定になるため、液滴吐出ヘッドの移動によるヘッドギャップの増減を、高さセンサで直接測定することができる。   (Modification 1) In the above embodiment, the height sensor 163 is slidably supported in the Y-axis direction by the sensor moving mechanism 164 separately from the carriage unit 51, but the height sensor moves in the Y-axis direction. It is not essential to provide the mechanism separately from the head unit. The height sensor may be fixed integrally with the head unit and moved integrally with the head unit. When the height sensor moves integrally with the head unit, the relative position between the height sensor and the droplet discharge head is fixed. Can be measured directly.

（変形例２）前記実施形態においては、フィルタ領域ごとに基準ヘッドギャップを規定していたが、基準ヘッドギャップを領域ごとに規定することは必須ではない。基材全体に対して一律のヘッドギャップで吐出を実施してもよい。   (Modification 2) In the embodiment, the reference head gap is defined for each filter region. However, it is not essential to define the reference head gap for each region. You may discharge by a uniform head gap with respect to the whole base material.

（変形例３）前記実施形態においては、機能液を配置する際の着弾位置精度の規格は固定であって、基準ヘッドギャップは、当該着弾位置精度の基準を一律に適用して、サブ配置領域又は色要素領域又は機能膜領域に相当する着弾対象領域２２５Ｅ又は着弾対象領域４２５Ｅの大きさに対応して規定された基準ヘッドギャップを適用していた。しかし、基準ヘッドギャップをサブ配置領域又は色要素領域の大きさに対応して規定することは必須ではない。着弾位置精度の規格を可変とし、基準ヘッドギャップを着弾位置精度に対応して規定してもよい。例えば、着弾位置精度を、サブ配置領域又は色要素領域に充分に液状体を供給するために必要な着弾領域の大きさを確保することを可能ならしめる着弾位置精度に、各サブ配置領域又は色要素領域に対応して規定する。基準ヘッドギャップは、規定された着弾位置精度に対応して規定する。   (Modification 3) In the above embodiment, the standard of the landing position accuracy when the functional liquid is disposed is fixed, and the reference head gap uniformly applies the reference of the landing position accuracy, Alternatively, the reference head gap defined in accordance with the size of the landing target area 225E or the landing target area 425E corresponding to the color element area or the functional film area is applied. However, it is not essential to define the reference head gap corresponding to the size of the sub arrangement area or the color element area. The standard of the landing position accuracy may be made variable, and the reference head gap may be defined corresponding to the landing position accuracy. For example, each sub-arrangement area or color can be adjusted to the landing position accuracy that makes it possible to secure the size of the landing area necessary to sufficiently supply the liquid material to the sub-arrangement area or the color element area. It is defined corresponding to the element area. The reference head gap is specified corresponding to the specified landing position accuracy.

（変形例４）前記実施形態においては、フィルタ膜領域２２５又はフィルタ膜領域４２５について、適切な吐出タイミングを実現させるラッチ信号２６２及びラッチ信号２７２は、予め定められた一定の吐出タイミングを実現する信号であったが、吐出タイミングが一定であることは必須ではない。ヘッドギャップの変動に対応して、吐出タイミングも可変としてもよい。ヘッドギャップが変わることで、吐出された液状体が着弾するまでの時間が変わるため、同じ吐出タイミングで吐出された液状体は、着弾位置がずれる。ヘッドギャップの変動に対応して、吐出タイミングも変動させることで、より適切な位置に着弾させることができる。また、連続した１回の相対移動の間に、異なる大きさのサブ配置領域を含むような配置領域にそれぞれ液状体を配置する場合でも、それぞれの配置領域に適切なヘッドギャップで液状体を配置することができると共に、それぞれの配置領域に適切な吐出タイミングで液状体を配置することができる。   (Modification 4) In the embodiment described above, the latch signal 262 and the latch signal 272 for realizing an appropriate ejection timing for the filter film region 225 or the filter film region 425 are signals that realize a predetermined constant ejection timing. However, it is not essential that the discharge timing is constant. Corresponding to the fluctuation of the head gap, the ejection timing may be variable. Since the time until the discharged liquid material lands changes due to the change of the head gap, the landing positions of the liquid materials discharged at the same discharge timing are shifted. By changing the ejection timing in response to the fluctuation of the head gap, it is possible to land at a more appropriate position. In addition, even when each liquid material is arranged in an arrangement area including sub arrangement areas of different sizes during one continuous relative movement, the liquid material is arranged with an appropriate head gap in each arrangement area. In addition, the liquid material can be arranged in each arrangement region at an appropriate discharge timing.

（変形例５）前記実施形態においては、液晶表示パネル２００が備えるＣＦ層２０８は、赤色フィルタ膜２０５Ｒ、緑色フィルタ膜２０５Ｇ、及び青色フィルタ膜２０５Ｂの３色のフィルタ膜を有する３色フィルタであったが、カラーフィルタは、さらに多くの種類のフィルタ膜を有する多色のカラーフィルタであってもよい。多色のカラーフィルタとしては、例えば、赤色、緑色、青色に加えて赤色、緑色、青色の補色のシアン（青緑）、マゼンタ（紫赤）、イエロー（黄色）の有機ＥＬ素子を有する６色カラーフィルタや、シアン（青緑）、マゼンタ（紫赤）、イエロー（黄色）の３色に緑色を加えた４色カラーフィルタなどがあげられる。   (Modification 5) In the above-described embodiment, the CF layer 208 included in the liquid crystal display panel 200 is a three-color filter having three color filter films: a red filter film 205R, a green filter film 205G, and a blue filter film 205B. However, the color filter may be a multicolor color filter having more types of filter films. As the multicolor filter, for example, six colors including organic EL elements of cyan (blue green), magenta (purple red), and yellow (yellow) which are complementary colors of red, green and blue in addition to red, green and blue. Examples include a color filter and a four-color filter in which green is added to three colors of cyan (blue green), magenta (purple red), and yellow (yellow).

（変形例６）前記実施形態においては、電気光学装置の一例である液晶表示パネル２００のフィルタ膜２０５を形成する際の描画吐出について説明したが、形成する膜は、フィルタ膜に限らない。形成する膜は、液晶表示装置の画素電極膜や配向膜や対向電極膜や、カラーフィルタなどを保護するためなどに設けるオーバーコート膜などであってもよい。
形成する膜を有する装置、又は形成過程において膜を形成する必要がある装置も、液晶表示装置に限らない。上述したような膜を有する装置、又は形成過程において上記したような膜を形成する必要がある装置であれば、どのような装置であってもよい。例えば、有機ＥＬ表示装置にも適用できる。有機ＥＬ表示装置を製造する際に上述した液滴吐出装置を用いて形成する機能膜は、有機ＥＬ表示装置の正極電極膜や陰極電極膜、フォトエッチングなどによってパターンを形成するための膜や、フォトエッチングなどのフォトレジスト膜などであってもよい。 (Modification 6) In the embodiment described above, the drawing discharge when forming the filter film 205 of the liquid crystal display panel 200 as an example of the electro-optical device has been described. However, the film to be formed is not limited to the filter film. The film to be formed may be an overcoat film provided to protect a pixel electrode film, an alignment film, a counter electrode film, a color filter, or the like of a liquid crystal display device.
An apparatus having a film to be formed or an apparatus that needs to form a film in the formation process is not limited to a liquid crystal display device. Any device may be used as long as it is a device having a film as described above or a device that needs to form a film as described above in the formation process. For example, it can be applied to an organic EL display device. The functional film formed by using the above-described droplet discharge device when manufacturing the organic EL display device includes a positive electrode film and a cathode electrode film of the organic EL display device, a film for forming a pattern by photoetching, It may be a photoresist film such as photoetching.

（変形例７）前記実施形態においては、液滴吐出装置１を使用して機能液を配置することで描画を実施する描画対象物の一例として、電気光学装置の一例であるカラーフィルタを備える液晶表示パネル２００について説明したが、描画対象物は電気光学装置に限らない。上述した液滴吐出装置及び液状体の配置方法は、様々な液状体を用いる様々な加工対象物の加工装置及び加工方法として利用できる。例えば、液状の導電材料を吐出する、回路基板の配線導電パターンの加工装置及び加工方法、液状の絶縁材料を吐出する、回路基板の絶縁膜パターンの加工装置及び加工方法、液状の導電材料を吐出する、半導体装置の配線導電膜の加工装置及び加工方法、液状の絶縁材料を吐出する、半導体装置の絶縁層の加工装置及び加工方法などとして、利用することもできる。   (Modification 7) In the embodiment described above, a liquid crystal including a color filter, which is an example of an electro-optical device, as an example of a drawing target for drawing by disposing a functional liquid using the droplet discharge device 1 Although the display panel 200 has been described, the drawing object is not limited to the electro-optical device. The above-described droplet discharge device and liquid material arrangement method can be used as various processing objects processing devices and processing methods using various liquid materials. For example, a circuit conductive board pattern processing apparatus and processing method for discharging a liquid conductive material, a circuit board insulating film pattern processing apparatus and processing method for discharging a liquid insulating material, and a liquid conductive material discharge It can also be used as a processing apparatus and processing method for a wiring conductive film of a semiconductor device, a processing apparatus and processing method for an insulating layer of a semiconductor device that discharges a liquid insulating material, and the like.

（変形例８）前記実施形態においては、高さセンサ１６３は、例えばレーザ光源を有する距離測定装置であったが、高さセンサは、非接触で、短い測定時間で正確な距離が測定できる装置であればどのような装置であってもよい。   (Modification 8) In the above-described embodiment, the height sensor 163 is a distance measuring device having a laser light source, for example. However, the height sensor is a non-contact device that can measure an accurate distance in a short measurement time. Any device can be used.

（変形例９）前記実施形態においては、ヘッドユニット５４を備えるキャリッジユニット５１を、ヘッド昇降機構５８の昇降モータ５８２によって回動する昇降ボールねじ５８３と、昇降ブロック５８７とが螺合することで支持して、昇降させていたが、ヘッド昇降機構にねじ対偶を用いることは必須ではない。Ｚ軸方向に延在するリニアモータを用いるなど、他の駆動源及び支持機構を用いてもよい。   (Modification 9) In the above embodiment, the carriage unit 51 including the head unit 54 is supported by screwing the lift ball screw 583 and the lift block 587 that are rotated by the lift motor 582 of the head lift mechanism 58. However, it is not essential to use a screw pair for the head lifting mechanism. Other drive sources and support mechanisms may be used such as using a linear motor extending in the Z-axis direction.

液滴吐出装置の概略構成を示す平面図。The top view which shows schematic structure of a droplet discharge apparatus. 液滴吐出装置の概略構成を示す側面図。The side view which shows schematic structure of a droplet discharge apparatus. 液滴吐出ヘッドの概要を示す外観斜視図。FIG. 2 is an external perspective view showing an outline of a droplet discharge head. ヘッドユニットの概略構成を示す平面図。FIG. 2 is a plan view showing a schematic configuration of a head unit. キャリッジユニットの概略構成を示す側面図。The side view which shows schematic structure of a carriage unit. 液滴吐出装置の電気的構成を示す電気構成ブロック図。FIG. 3 is an electrical configuration block diagram showing an electrical configuration of the droplet discharge device. 液滴吐出ヘッドの電気的構成と信号の流れを示す説明図。Explanatory drawing which shows the electrical structure and signal flow of a droplet discharge head. 液晶表示パネルの概略構成を示す分解斜視図。The disassembled perspective view which shows schematic structure of a liquid crystal display panel. （ａ）は対向基板の平面構造を模式的に示す図。（ｂ）は、マザー対向基板の平面構造を模式的に示す図。(A) is a figure which shows the planar structure of a counter substrate typically. FIG. 4B is a diagram schematically illustrating a planar structure of the mother counter substrate. ３色カラーフィルタのフィルタ膜の配列例を示す模式平面図。The schematic plan view which shows the example of an arrangement | sequence of the filter film | membrane of a 3 color filter. 液晶表示パネルを形成する過程を示すフローチャート。The flowchart which shows the process in which a liquid crystal display panel is formed. 液晶表示パネルを形成する過程におけるフィルタ膜を形成する工程などを示す断面図。Sectional drawing which shows the process etc. which form the filter film in the process of forming a liquid crystal display panel. 液晶表示パネルを形成する過程における配向膜を形成する工程などを示す断面図。Sectional drawing which shows the process etc. which form the alignment film in the process of forming a liquid crystal display panel. フィルタ膜領域の形状と、着弾対象領域と、との関係を示す説明図。Explanatory drawing which shows the relationship between the shape of a filter membrane area | region, and a landing object area | region. フィルタ膜領域の形状と、着弾対象領域と、吐出分解能との関係を示す説明図。Explanatory drawing which shows the relationship between the shape of a filter film | membrane area | region, a landing object area | region, and discharge resolution. 機能液を配置する工程を示すフローチャート。The flowchart which shows the process of arrange | positioning a functional liquid.

符号の説明Explanation of symbols

１…液滴吐出装置、２…吐出ユニット、３…ワークユニット、６…吐出装置制御部、１７…液滴吐出ヘッド、２１…ワーク載置台、４４…ＣＰＵ、４５…ＲＯＭ、４６…ＲＡＭ、５１…キャリッジユニット、５４…ヘッドユニット、５８…ヘッド昇降機構、６５…制御装置、６８…入出力装置、７６…ノズル形成プレート、７６ａ…ノズル形成面、７８…吐出ノズル、１６３…高さセンサ、１６４…センサ移動機構、２００…液晶表示パネル、２０１，４０１…ガラス基板、２０１Ａ…マザー対向基板、２０５，４０５…フィルタ膜、２０８，４０８…ＣＦ層、２２０，４２０…対向基板、２２５，４２５…フィルタ膜領域、２２５Ｅ，４２５Ｅ…着弾対象領域、２６２，２７２…ラッチ信号、２６３，２７３…着弾点、５６１…キャリッジ枠、５８１…キャリッジベース、５８２…昇降モータ、５８４…スライドステージ、５８５…固定ステージ、５８６…可動ステージ、５８７…昇降ブロック。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Droplet discharge apparatus, 2 ... Discharge unit, 3 ... Work unit, 6 ... Discharge apparatus control part, 17 ... Droplet discharge head, 21 ... Work mounting base, 44 ... CPU, 45 ... ROM, 46 ... RAM, 51 DESCRIPTION OF SYMBOLS ... Carriage unit 54 ... Head unit 58 ... Head raising / lowering mechanism 65 ... Control device 68 ... Input / output device 76 ... Nozzle formation plate 76a ... Nozzle formation surface 78 ... Discharge nozzle 163 ... Height sensor 164 ... Sensor moving mechanism, 200 ... Liquid crystal display panel, 201, 401 ... Glass substrate, 201A ... Mother counter substrate, 205, 405 ... Filter film, 208, 408 ... CF layer, 220, 420 ... Counter substrate, 225, 425 ... Filter Membrane region, 225E, 425E ... Landing target region, 262, 272 ... Latch signal, 263, 273 ... Landing point, 561 ... Carriage , 581 ... carriage base, 582 ... lift motor, 584 ... slide stage, 585 ... fixed stage, 586 ... movable stage, 587 ... lifting block.

Claims (21)

液状体を吐出する１以上の吐出ヘッドを有する１以上のヘッドユニットと、前記吐出ヘッドと吐出された液状体を着弾させる基材とを主走査方向に相対移動させる主走査機構と、を備えた液滴吐出装置であって、
前記基材と、前記１以上のヘッドユニットのそれぞれのヘッドユニットにおける前記吐出ヘッドと、の互いの離接方向の距離であるヘッドギャップの増減方向に、前記ヘッドユニットを個別に移動させるヘッド昇降機構と、
前記ヘッドギャップを測定するギャップセンサと、
前記ギャップセンサの測定結果に応じて、前記ヘッド昇降機構によって前記ヘッドユニットを移動させることによって、前記ヘッドギャップを調整するギャップ調整手段と、を備え、
前記ギャップセンサは、前記主走査方向において、前記基材に対して、前記ヘッドユニットと略一体に相対移動させられることを特徴とする液滴吐出装置。 One or more head units having one or more ejection heads that eject a liquid material, and a main scanning mechanism that relatively moves the ejection head and a base material on which the ejected liquid material is landed in a main scanning direction. A droplet discharge device,
A head lifting mechanism that individually moves the head unit in the increasing / decreasing direction of the head gap, which is the distance between the base and the discharge head in each head unit of the one or more head units. When,
A gap sensor for measuring the head gap;
Gap adjustment means for adjusting the head gap by moving the head unit by the head lifting mechanism according to the measurement result of the gap sensor,
The liquid droplet ejection apparatus, wherein the gap sensor is relatively moved relative to the base member substantially integrally with the head unit in the main scanning direction. 前記基材における前記液状体を着弾させる連続した領域であるサブ配置領域を含む配置領域に対応して規定された前記ヘッドギャップである基準ヘッドギャップを取得する基準ヘッドギャップ取得手段をさらに備え、
前記ギャップ調整手段は、前記配置領域に対応して、前記ヘッドギャップが前記配置領域に対応する前記基準ヘッドギャップとなるように、前記ヘッドギャップを調整することを特徴とする、請求項１に記載の液滴吐出装置。 Reference head gap acquisition means for acquiring a reference head gap that is the head gap defined corresponding to an arrangement area including a sub arrangement area that is a continuous area on which the liquid material is landed on the base material,
2. The head gap according to claim 1, wherein the gap adjusting unit adjusts the head gap so that the head gap becomes the reference head gap corresponding to the arrangement region corresponding to the arrangement region. Droplet discharge device. 前記主走査方向において、前記ギャップセンサは、前記ヘッドユニットの両側にそれぞれ設けられていることを特徴とする、請求項１又は２に記載の液滴吐出装置。   The liquid droplet ejection apparatus according to claim 1, wherein the gap sensor is provided on each side of the head unit in the main scanning direction. 前記基準ヘッドギャップは、前記配置領域に含まれる前記サブ配置領域の大きさに応じて規定されることを特徴とする、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の液滴吐出装置。   4. The liquid droplet ejection apparatus according to claim 1, wherein the reference head gap is defined according to a size of the sub arrangement area included in the arrangement area. 5. 前記基準ヘッドギャップは、前記配置領域における前記液状体を配置する位置の許容誤差の大きさに応じて規定されることを特徴とする、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の液滴吐出装置。   4. The droplet according to claim 1, wherein the reference head gap is defined in accordance with a tolerance of a position where the liquid material is arranged in the arrangement region. 5. Discharge device. 前記吐出ヘッドが前記液状体を吐出する吐出タイミングを調整する吐出タイミング調整手段をさらに備え、
前記吐出タイミング調整手段は、前記基準ヘッドギャップに対応して前記吐出タイミングを変動させることによって、前記吐出タイミングを調整することを特徴とする、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の液滴吐出装置。 A discharge timing adjusting means for adjusting a discharge timing at which the discharge head discharges the liquid material;
6. The liquid according to claim 1, wherein the discharge timing adjusting unit adjusts the discharge timing by changing the discharge timing corresponding to the reference head gap. Drop ejection device. 液状体を吐出する１以上の吐出ヘッドを有する１以上のヘッドユニットのそれぞれのヘッドユニットと、吐出された前記液状体を着弾させる基材と、を主走査方向に相対移動させると共に、前記吐出ヘッドから前記液状体を吐出させることによって、前記基材上に前記液状体を配置する液状体の配置方法であって、
前記基材と、前記ヘッドユニットにおける前記吐出ヘッドと、の互いの離接方向の距離であるヘッドギャップを測定するギャップ測定工程と、
前記ヘッドユニットを移動させることによって、前記ヘッドギャップが所定のヘッドギャップとなるように、前記ヘッドギャップを調整するギャップ調整工程と、
前記基材と、前記ヘッドユニットと、を主走査方向に相対移動させると共に、前記吐出ヘッドから前記液状体を吐出させる吐出工程と、を有し、
前記ギャップ測定工程及び前記ギャップ調整工程を、前記吐出工程に先んじて開始すると共に、略並行して実施することを特徴とする液状体の配置方法。 Each of the head units of one or more head units having one or more discharge heads for discharging a liquid material and a substrate on which the discharged liquid material is landed are relatively moved in the main scanning direction, and the discharge head A method of disposing a liquid material by disposing the liquid material on the substrate by discharging the liquid material from:
A gap measuring step for measuring a head gap, which is a distance between the substrate and the ejection head in the head unit, in the direction of contact with each other;
A gap adjusting step of adjusting the head gap so that the head gap becomes a predetermined head gap by moving the head unit;
A discharge step of relatively moving the base material and the head unit in the main scanning direction and discharging the liquid material from the discharge head;
The method for arranging a liquid material, wherein the gap measurement step and the gap adjustment step are started prior to the discharge step and are performed substantially in parallel. 前記基材における前記液状体を着弾させる連続した領域であるサブ配置領域を含む配置領域に対応して規定された前記ヘッドギャップである、基準ヘッドギャップを取得する基準ヘッドギャップ取得工程をさらに有し、
前記ギャップ調整工程においては、前記ギャップ測定工程における測定結果に応じて前記ヘッドギャップを調整することによって、前記ヘッドギャップを前記基準ヘッドギャップに調整することを特徴とする、請求項７に記載の液状体の配置方法。 A reference head gap acquisition step of acquiring a reference head gap, which is the head gap defined in correspondence with an arrangement area including a sub arrangement area that is a continuous area on which the liquid material is landed on the substrate; ,
8. The liquid according to claim 7, wherein, in the gap adjustment step, the head gap is adjusted to the reference head gap by adjusting the head gap according to a measurement result in the gap measurement step. How to arrange the body. 前記基準ヘッドギャップ取得工程は、前記基準ヘッドギャップを、前記配置領域に含まれる前記サブ配置領域の大きさに対応して規定する基準ギャップ規定工程を含むことを特徴とする、請求項７又は８に記載の液状体の配置方法。   9. The reference head gap obtaining step includes a reference gap defining step of defining the reference head gap corresponding to the size of the sub arrangement area included in the arrangement area. The arrangement | positioning method of the liquid body as described in any one of. 前記基準ヘッドギャップ取得工程は、前記基準ヘッドギャップを、前記配置領域における前記液状体を配置する位置の許容誤差の大きさに対応して規定する基準ギャップ規定工程を含むことを特徴とする、請求項７又は８に記載の液状体の配置方法。   The reference head gap obtaining step includes a reference gap defining step for defining the reference head gap in correspondence with a tolerance of a position where the liquid material is arranged in the arrangement region. Item 9. The method for arranging a liquid according to Item 7 or 8. 前記基準ヘッドギャップに対応して、前記吐出ヘッドが前記液状体を吐出する吐出タイミングを変動させることによって、前記吐出タイミングを調整する吐出タイミング調整工程をさらに有することを特徴とする、請求項７乃至１０のいずれか一項に記載の液状体の配置方法。   8. The method according to claim 7, further comprising a discharge timing adjustment step of adjusting the discharge timing by changing a discharge timing at which the discharge head discharges the liquid material corresponding to the reference head gap. The arrangement method of the liquid according to any one of 10. カラーフィルタの色要素膜を構成する材料を含む液状体を吐出する１以上の吐出ヘッドを有する１以上のヘッドユニットのそれぞれのヘッドユニットと、前記吐出ヘッドと吐出された液状体を着弾させるマザー基板とを主走査方向に相対移動させる主走査機構と、を備えたカラーフィルタの製造装置であって、
前記マザー基板と、前記ヘッドユニットにおける前記吐出ヘッドと、の互いの離接方向の距離であるヘッドギャップの増減方向に、前記ヘッドユニットを個別に移動させるヘッド昇降機構と、
前記ヘッドギャップを測定するギャップセンサと、
前記ギャップセンサの測定結果に応じて、前記ヘッド昇降機構によって前記ヘッドユニットを移動させることによって、前記ヘッドギャップを調整するギャップ調整手段と、を備え、
前記ギャップセンサは、前記主走査方向において、前記マザー基板に対して、前記ヘッドユニットと略一体に相対移動させられることを特徴とするカラーフィルタの製造装置。 Each head unit of one or more head units having one or more ejection heads that ejects a liquid material containing a material constituting a color element film of a color filter, and a mother substrate on which the ejected head and the ejected liquid material are landed A main scanning mechanism that relatively moves in the main scanning direction, and a color filter manufacturing apparatus comprising:
A head elevating mechanism for individually moving the head unit in the increasing / decreasing direction of the head gap, which is the distance between the mother substrate and the ejection head in the head unit;
A gap sensor for measuring the head gap;
Gap adjustment means for adjusting the head gap by moving the head unit by the head lifting mechanism according to the measurement result of the gap sensor,
The color filter manufacturing apparatus, wherein the gap sensor is relatively moved relative to the mother substrate substantially integrally with the mother substrate in the main scanning direction. 前記色要素膜を形成するために前記液状体を着弾させる連続した領域である色要素領域を含むフィルタ領域に対応する前記ヘッドギャップである基準ヘッドギャップを取得する基準ヘッドギャップ取得手段をさらに備え、
前記ギャップ調整手段は、前記フィルタ領域に対応して、前記ヘッドギャップが前記フィルタ領域に対応する前記基準ヘッドギャップとなるように、前記ヘッドギャップを調整することを特徴とする、請求項１２に記載のカラーフィルタの製造装置。 Reference head gap acquisition means for acquiring a reference head gap that is the head gap corresponding to a filter region including a color element region that is a continuous region on which the liquid material is landed to form the color element film,
13. The gap adjustment unit according to claim 12, wherein the gap adjustment unit adjusts the head gap so that the head gap becomes the reference head gap corresponding to the filter region corresponding to the filter region. Color filter manufacturing equipment. 前記主走査方向において、前記ギャップセンサは、前記ヘッドユニットの両側にそれぞれ設けられていることを特徴とする、請求項１２に記載のカラーフィルタの製造装置。   13. The color filter manufacturing apparatus according to claim 12, wherein the gap sensor is provided on each side of the head unit in the main scanning direction. 前記基準ヘッドギャップは、前記フィルタ領域に含まれる前記色要素領域の大きさに応じて規定されることを特徴とする、請求項１２乃至１４のいずれか一項に記載のカラーフィルタの製造装置。   15. The color filter manufacturing apparatus according to claim 12, wherein the reference head gap is defined according to a size of the color element area included in the filter area. 前記基準ヘッドギャップは、前記フィルタ領域における前記液状体を配置する位置の許容誤差の大きさに応じて規定されることを特徴とする、請求項１２乃至１４のいずれか一項に記載のカラーフィルタの製造装置。   15. The color filter according to claim 12, wherein the reference head gap is defined according to a tolerance of a position where the liquid material is disposed in the filter region. Manufacturing equipment. 前記吐出ヘッドが前記液状体を吐出する吐出タイミングを調整する吐出タイミング調整手段をさらに備え、
前記吐出タイミング調整手段は、前記基準ヘッドギャップに対応して前記吐出タイミングを変動させることによって、前記吐出タイミングを調整することを特徴とする、請求項１２乃至１６のいずれか一項に記載のカラーフィルタの製造装置。 A discharge timing adjusting means for adjusting a discharge timing at which the discharge head discharges the liquid material;
The color according to any one of claims 12 to 16, wherein the discharge timing adjusting unit adjusts the discharge timing by changing the discharge timing in correspondence with the reference head gap. Filter manufacturing equipment. 請求項１乃至６のいずれか一項に記載の液滴吐出装置、又は請求項７乃至１１のいずれか一項に記載の液状体の配置方法を用いて、カラーフィルタを構成する色要素膜の材料を含む液状体を、前記カラーフィルタを形成するためのマザー基板における前記色要素膜を形成する領域に配置することを特徴とする、カラーフィルタの製造方法。   A droplet discharge device according to any one of claims 1 to 6 or a liquid material arranging method according to any one of claims 7 to 11, wherein a color element film constituting a color filter is formed. A method for producing a color filter, comprising: disposing a liquid material containing a material in a region where the color element film is formed on a mother substrate for forming the color filter. 電気光学装置の機能膜を構成する材料を含む液状体を吐出する１以上の吐出ヘッドを有する１以上のヘッドユニットのそれぞれのヘッドユニットと、前記吐出ヘッドと吐出された液状体を着弾させるマザー基板とを主走査方向に相対移動させる主走査機構と、を備えた電気光学装置の製造装置であって、
前記マザー基板と、前記ヘッドユニットにおける前記吐出ヘッドと、の互いの離接方向の距離であるヘッドギャップの増減方向に、前記ヘッドユニットを個別に移動させるヘッド昇降機構と、
前記ヘッドギャップを測定するギャップセンサと、
前記ギャップセンサの測定結果に応じて、前記ヘッド昇降機構によって前記ヘッドユニットを移動させることによって、前記ヘッドギャップを調整するギャップ調整手段と、を備え、
前記ギャップセンサは、前記主走査方向において、前記マザー基板に対して、前記ヘッドユニットと略一体に相対移動させられることを特徴とする電気光学装置の製造装置。 Respective head units of one or more head units having one or more ejection heads that eject a liquid material containing a material constituting the functional film of the electro-optical device, and a mother substrate on which the ejected head and the ejected liquid material are landed A main scanning mechanism that relatively moves in the main scanning direction, and an electro-optical device manufacturing apparatus comprising:
A head elevating mechanism for individually moving the head unit in the increasing / decreasing direction of the head gap, which is the distance between the mother substrate and the ejection head in the head unit;
A gap sensor for measuring the head gap;
Gap adjustment means for adjusting the head gap by moving the head unit by the head lifting mechanism according to the measurement result of the gap sensor,
The electro-optical device manufacturing apparatus, wherein the gap sensor is relatively moved relative to the mother substrate substantially integrally with the mother substrate in the main scanning direction. 前記機能膜を形成するために前記液状体を着弾させる連続した領域である機能膜領域を含む電気光学膜領域に対応する前記ヘッドギャップである基準ヘッドギャップを取得する基準ヘッドギャップ取得手段をさらに備え、
前記ギャップ調整手段は、前記電気光学膜領域に対応して、前記ヘッドギャップが前記電気光学膜領域に対応する前記基準ヘッドギャップとなるように、前記ヘッドギャップを調整することを特徴とする、請求項１９に記載の電気光学装置の製造装置。 Reference head gap acquisition means for acquiring a reference head gap that is the head gap corresponding to an electro-optic film region that includes a functional film region that is a continuous region on which the liquid material is landed to form the functional film. ,
The gap adjusting means adjusts the head gap so that the head gap becomes the reference head gap corresponding to the electro-optic film region corresponding to the electro-optic film region. Item 20. The apparatus for manufacturing an electro-optical device according to Item 19. 請求項１乃至６のいずれか一項に記載の液滴吐出装置、又は請求項７乃至１１のいずれか一項に記載の液状体の配置方法を用いて、電気光学装置を構成する機能膜の材料を含む液状体を前記電気光学装置を形成するためのマザー基板における前記機能膜を形成する領域に配置することを特徴とする、電気光学装置の製造方法。   A liquid droplet ejection device according to any one of claims 1 to 6 or a liquid material arranging method according to any one of claims 7 to 11, wherein a functional film constituting an electro-optical device is formed. A method of manufacturing an electro-optical device, comprising: disposing a liquid material containing a material in a region of the mother substrate for forming the electro-optical device where the functional film is to be formed.

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