JP2009159356A - 被写対象追跡装置、被写対象追跡プログラム及び被写対象追跡方法 - Google Patents
被写対象追跡装置、被写対象追跡プログラム及び被写対象追跡方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】ステップS4での処理により、評価値がしきい値以下であるブロックが選択対象ブロックとして選定する。このステップS4で選定された選択対象ブロックが複数である場合には、ブロック間距離を算出し(ステップS9)、「ブロック間距離係数×評価差分絶対値」を算出する(ステップS10)。この算出された値が所定値以下の範囲である選定範囲内であるか否かを判断し(ステップS11)、選定範囲外である場合には、当該一対のブロックを選択対象ブロックから除外する(ステップS12)。選択対象ブロックとして残存した複数のブロックにおいて、最もブロック評価値の少ないブロックである最少評価値ブロックを最終的に追跡ブロックとして決定する(ステップS14)。
【選択図】図4
Description
B(x,y)=Σ(Pref(x,y)[i]−Pcur(x,y)[i])^2
(ただし、i=0〜63、x=−16〜16、y=−16〜16、(Pref、Pcurに関しては図3参照)。
2 CCD
3 TG
4 CCD駆動回路
5 A/D変換器
6 画像処理部
7 制御部
8 レンズ駆動回路
9 SDRAM
10 表示部
11 JPEG変換部
13 外部メモリ
14 キー入力ブロック
16 フラッシュメモリ
Claims (7)
- 逐次撮像される現フレーム内における追跡対象画素ブロックに基づき、次フレーム内における追跡対象画素ブロックを決定して被写対象を追跡する被写対象追跡装置であって、
前記現フレーム内における追跡対象画素ブロックに基づき、前記次フレームにおいて追跡対象とすべき候補画素ブロックを選定する選定手段と、
この選定手段により複数の画素ブロックが候補画素ブロックとして選定された場合、該選定された候補画素ブロック間の距離に基づき、前記複数の候補画素ブロックから非追跡対象とすべき画素ブロックを除外する除外手段と、
この除外手段の除外により残存した候補画素ブロックに基づき、前記次フレームにおける追跡対象画素ブロックを決定する決定手段と
を備えることを特徴とする被写対象追跡装置。 - 前記次フレームにおける所定の探査範囲内において、前記追跡対象画素ブロックと同サイズの画素ブロック毎に近似度を示す評価値を算出する評価値算出手段を更に備え、
前記選定手段は、この評価値算出手段により算出された画素ブロック毎の評価値に基づき、前記追跡対象とすべき候補画素ブロックを選定することを特徴とする請求項1記載の被写対象追跡装置。 - 前記選定された候補画素ブロック間の距離を算出する距離算出手段と、
この距離算出手段によって算出された前記候補画素ブロック間の距離に反比例する係数値を算出する係数値算出手段と、
前記距離算出手段により前記画素ブロック間距離が算出された一対の候補画素ブロックの評価値を前記評価値算出手段から取得し、両候補画素ブロックの評価値差の絶対値を算出する絶対値算出手段と、を更に備え、
前記除外手段は、前記係数値算出手段によって算出された係数値及び前記絶対値算出手段により取得された評価値差の絶対値に基づき、前記非追跡対象とすべき画素ブロックを除外することを特徴とする請求項2記載の被写対象追跡装置。 - 前記決定手段は、前記評価値算出手段により算出された画素ブロックの評価値に基づき、前記除外手段の除外により残存した候補画素ブロックから前記次フレームにおける追跡対象画素ブロックを決定することを特徴とする請求項2又は3記載の被写対象追跡装置。
- 撮像して前記フレームを逐次出力する撮像手段と、
この撮像手段に被写体像を結像させる光学系と、
この光学系を駆動する駆動手段と、
前記決定手段により決定された追跡対象ブロック内の画像が合焦するよう、前記駆動手段を制御する制御手段と、
を更に備えることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の被写対象追跡装置。 - 逐次撮像される現フレーム内における追跡対象画素ブロックに基づき、次フレーム内における追跡対象画素ブロックを決定して被写対象を追跡する装置が有するコンピュータを、
前記現フレーム内における追跡対象画素ブロックに基づき、前記次フレームにおいて追跡対象とすべき候補画素ブロックを選定する選定手段、
この選定手段により複数の画素ブロックが候補画素ブロックとして選定された場合、該選定された候補画素ブロック間の距離に基づき、前記複数の候補画素ブロックから非追跡対象とすべき画素ブロックを除外する除外手段、
この除外手段の除外により残存した候補画素ブロックに基づき、前記次フレームにおける追跡対象画素ブロックを決定する決定手段、
として機能させることを特徴とする被写対象追跡プログラム。 - 逐次撮像される現フレーム内における追跡対象画素ブロックに基づき、次フレーム内における追跡対象画素ブロックを決定して被写対象を追跡する被写対象追跡方法であって、
前記現フレーム内における追跡対象画素ブロックに基づき、前記次フレームにおいて追跡対象とすべき候補画素ブロックを選定する選定ステップと、
この選定ステップにより複数の画素ブロックが候補画素ブロックとして選定された場合、該選定された候補画素ブロック間の距離に基づき、前記複数の候補画素ブロックから非追跡対象とすべき画素ブロックを除外する除外ステップと、
この除外ステップでの除外により残存した候補画素ブロックに基づき、前記次フレームにおける追跡対象画素ブロックを決定する決定ステップと
を含むことを特徴とする被写対象追跡方法。
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