JP2009147236A - 真空処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】真空処理装置は、搬送室10、第1処理室12−1〜2、第2処理室12−3〜4、第1基板搬送台車20−1〜2、第2基板搬送台車20−3〜4を備える。搬送室10は、X方向に伸び、第1搬送領域10−1と第2搬送領域10−2を含む。第1処理室12−1〜2は、第1搬送領域10−1側に接続される。第2処理室12−3〜4は、第2搬送領域10−2側に接続される。第1基板搬送台車20−1〜2は、第1搬送領域10−1内を移動する。第2基板搬送台車20−3〜4は、第2搬送領域10−2内を移動する。第1基板搬送台車20−1〜2は、第2処理室12−3〜4の少なくとも一つと第1処理室12−1〜2とに対し基板2を搬入、搬出する。第2基板搬送台車20−3〜4は、第2処理室12−3〜4に対し基板2を搬入、搬出する。
【選択図】図3
Description
本発明では、搬送室(10)において、第1基板搬送台車(20−1〜20−2)は第1搬送領域(10−1)を移動し、第2基板搬送台車(20−3〜20−4)は第2搬送領域(10−2)を移動する。したがって、搬送室(10)において、基板搬送台車(20)を2台以上同時に使用することが可能となる。それにより、基板受け渡し時間や台車移動時間や台車待ち時間等による無駄な時間を発生させることなく、各処理室(12)に対して基板(2)を搬入又は搬出することができる。すなわち、基板搬送台車(20)や製膜室(12)の待機時間を著しく低減することができる。その結果、基板搬送の高速化を図ることができる。
本発明では、第1基板搬送台車(20−1〜20−2)及び第2基板搬送台車(20−3〜20−4)の各々は、独立に駆動機構を有し、それぞれ異なる搬送領域(10−1、10−2)を移動するので、互いに干渉されることなく、基板搬送が可能となる。
本発明では、第1方向(X方向)へ基板搬送台車(20)を駆動させるための第1方向駆動機構は、超長尺のボールネジを使用する方式ではなく、比較的に入手が簡便な長さのボールネジ(32、38)を二段で駆動させる方式としている。これにより、入手が容易で剛性と信頼性が高い長さのボールネジ(32、38)を用いることが可能となり、本駆動機構の信頼性を高めることが出来る。加えて、超長尺のボールネジを使用するときに必要となるボールネジの振動を抑制のための非常に高い剛性を駆動機構に付与することが不要になる。したがって、ボールネジの振動による影響を少なく保持しながら、早い速度で基板搬送台車(20)を駆動させることができ、タクトタイムを短縮できるとともに、極めて大きくコストを低減することが出来る。
本発明では、第1方向(X方向)へ基板搬送台車(20)を駆動させるための第1方向駆動機構は、超長尺のボールネジを使用する方式ではなく、比較的に入手が簡便な長さのボールネジ(32、38、48)を三段で駆動させる方式としている。これにより、入手が容易で剛性と信頼性が高い長さのボールネジ(32、38、48)を用いて長い距離を移動させることが可能となり、本駆動機構の信頼性を高めることが出来る。加えて、超長尺のボールネジを使用するときに必要となっていたボールネジの振動を抑制のための非常に高い剛性を駆動機構に付与することが不要になる。したがって、ボールネジの振動による影響を少なく保持しながら、早い速度で基板搬送台車(20)を駆動させることができ、タクトタイムを短縮できるとともに、極めて大きくコストを低減することが出来る。
本発明では、第1基板搬送台車(20−1〜20−2)及び第2基板搬送台車(20−3〜20−4)の各々は、第1方向駆動機構により、台車ベース(50、50a)を第1方向(X方向)に移動させて所望の処理室(12)の前まで到達させ、第2方向駆動機構により、その上に設置された上部台車ベース(60〜80)を第2方向(Y方向)へ移動させて所望の処理室(12)への基板(2)の搬入/搬出を行うことが出来る。
本発明では、第2方向(Y方向)へ上部台車ベース(60〜80)を展開移動させる回転駆動力は、2本の第3・第4ボールスプライン(111、114)を利用して第1・第2カサ歯車(117、124)に伝達される。そして、第2カサ歯車(124)と結合され第3方向(Z方向)へ伸びる第2回転軸(125)の回転で第1ピニオン(126)を回転させることで上部台車ベース(60)に設けた第1ラック(127)をY方向にスライド移動させることができる。これにより、上部台車ベース(60〜80)をY方向にスライド移動させることができる。この場合にも、特殊な超長尺ボールスプラインを用いる必要がなく、短く剛性と信頼性が高いボールスプライン等を用いることが可能となる。したがって、本駆動機構の信頼性を高めることが出来る。
尚、台車ベース(50)が第3方向(Z方向)へ昇降可能な昇降台車ベース(50a)を含んでいる場合は、第3方向(Z方向)へ伸びる第2回転軸(125)は第7ボールスプライン(125)のスプライン軸(125b)であり、第1ピニオン(126)は第7スライド外筒(125a)に結合されて、昇降台車ベース(50a)が第3方向(Z方向)へ移動しても、第1ピニオン(126)と第1ラック(127)との関係を維持できるようになっている。
本発明では、第1基板搬送台車(20−1〜20−2)及び第2基板搬送台車(20−3〜20−4)の各々は、第1方向駆動機構により、台車ベース(50、50a)を第1方向(X方向)に移動させ、且つ、第3方向駆動機構により、その上に設置された昇降台車ベース(50a)を第3方向(Z方向)に移動させることにより所望の処理室(12)の前まで到達させ、第2方向駆動機構により、その上に配置された上部台車ベース(60〜80)を第2方向(Y方向)へ移動させて所望の処理室(12)への基板(2)の搬入/搬出を行うことが出来る。
本発明では、第3方向(Z方向)へ昇降台車ベース50aを上昇下降させる回転駆動力は、2本の第5・第6ボールスプライン(101、104)を利用して第3・第4カサ歯車(107、121)に伝達される。そして、昇降台車ベース(50a)に設けられ第4カサ歯車(121)に結合された第4ボールネジ(123)により昇降台車ベース50aをZ方向に上昇下降させることができる。この場合にも、特殊な超長尺ボールスプラインを用いる必要がなく、入手が容易な長さで剛性と信頼性が高いボールスプライン等を用いることが可能となる。したがって、本駆動機構の信頼性を高めることが出来る。加えて、超長尺のボールスプラインを使用するときに必要となるボールスプラインの振動を抑制のための非常に高い剛性を駆動機構に付与することが不要になる。したがって、ボールスプラインの振動による影響を少なく保持しながら、早い速度で基板搬送台車(20)を駆動させることができ、タクトタイムを短縮できるとともに、極めて大きくコストを低減することが出来る。
本発明では、第1基板搬送台車(20−1〜20−2)及び第2基板搬送台車(20−3〜20−4)いずれも複数あっても、それぞれ第1搬送領域(10−1)及び第2搬送領域(10−2)を移動することで、基板(2)の搬送を同時並行的に行うことができる。
本発明では、基板(2)を水平状態又は水平状態から所定の角度以内で保持することで、装置断面積を小さく抑制することができる。装置断面積を小さく抑制することで、真空処理装置の設置面積(占有面積)を小さくすることが可能となる。所定の角度は、0°(水平)以上15°以下、又は、75°以上90°(鉛直)が好ましい。
本発明では、時間のかかるロード室(11)からの基板(2)の搬出、及び、アンロード室(13)への基板(2)の搬入を同時に行うことで、真空処理装置(1)への基板(2)の出し入れにかかる時間を大幅に短縮することが出来る。
第1−1駆動機構での台車ベース20−1bのX方向移動及び第2−1駆動機構での上部台車ベース20−1aのY方向移動により、複数の製膜室12−1〜12−2及びロード室11に対して基板2が搬入又は搬出される。
更に、第1−1駆動機構での台車ベース20−1bのX方向移動、第3−1駆動機構での昇降台車ベース20−1cのZ方向移動及び第2−1駆動機構での上部台車ベース20−1aのY方向移動により、複数の製膜室12−4〜12−3及びアンロード室13に対して基板2が搬入又は搬出される。
第1−2駆動機構での台車ベース20−2bのX方向移動及び第2−2駆動機構での上部台車ベース20−2aのY方向移動により、複数の製膜室12−1〜12−2に対して基板2が搬入又は搬出される。
更に、第1−2駆動機構での台車ベース20−2bのX方向移動、第3−2駆動機構での昇降台車ベース20−2cのZ方向移動及び第2−2駆動機構での上部台車ベース20−2aのY方向移動により、複数の製膜室12−4〜12−3に対して基板2が搬入又は搬出される。
第1−4駆動機構での台車ベース20−4bのX方向移動及び第2−4駆動機構での上部台車ベース20−4aのY方向移動により、複数の製膜室12−4〜12−3及びアンロード室13に対して基板2が搬入又は搬出される。
第1−3駆動機構での台車ベース20−3bのX方向移動及び第2−3駆動機構での上部台車ベース20−3aのY方向移動により、複数の製膜室12−4〜12−3に対して基板2が搬入又は搬出される。
図7(a)を参照して、基板2の横方向の一辺の長さを、基板2の水平時に“a”mとする。その場合、角度θだけ傾けば、横方向の長さは(a・cosθ)mとなる。図7(b)を参照して、一辺の基板長が1mを超える基板2に対して、基板2の横方向長さが(a・cosθ)mの場合、ロード室11及び各製膜室12の一辺の長さW1及び高h1さは、それぞれ概ね(1m+(a・cosθ)m)及び(1m+(a・sinθ)m)となる。同様に、アンロード室13及び各製膜室12の一辺の長さW3及び高h3さは、概ね(1m+(a・cosθ)m)及び(1m+(a・sinθ)m)となる。更に、中央搬送室10の一辺の長さW2及び高さh2は、概ね(1m+(a・cosθ)m)及び2×(1m+(a・sinθ)m)となる。従って、真空処理装置の装置断面積は、(3m+3(a・cosθ)m)×(2m+2(a・sinθ)m)となる。
第1方向駆動機構(回転駆動伝達機構)は、基板搬送台車をX方向へ駆動する。これは、既述の第1−1、第1−2、第1−3、第1−4駆動機構に相当する。この第1方向駆動機構は、X軸用回転駆動部91と、複数段ボールネジ駆動機構31とを備える。X軸用回転駆動部91は、中央搬送装置10に直接又は間接に固定されている。通常、X軸用回転駆動部91は大気雰囲気にあるので、真空シール機能のある軸受けを経由して複数段ボールネジ駆動機構31の部材を回転駆動する。
X軸用回転駆動部91により第1ボールネジ32の第1ネジ軸32bが回転すると、その回転により第1ボールネジ32の第1ナット32aがX方向へ距離D0だけ移動する。それにより、第1ナット32aに固定された下部支持体30がX方向へ距離D0だけ移動する。
尚、台車ベース50が移動するにあたり、第1ボールネジ32の歯車33や第1ボールスプライン34の歯車35他とはZ方向の上下位置関係でお互いに干渉せずに所定の稼動ができて、移動可能になっている。
第1方向駆動機構(回転駆動伝達機構)は、図9や図10の場合と同様である。ここでは、三段のボールネジがスプラインを介して結合された複数段ボールネジ駆動機構31について説明する。複数段ボールネジ駆動機構31は、第1ボールネジ32と、第1ボールスプライン34と、第2ボールネジ38と、第2ボールスプライン44と、第3ボールネジ48とを備える。
Z方向の第3方向駆動機構(回転駆動伝達機構)は、基板搬送台車をZ方向へ駆動する。これは、既述の第3−1、第3−2駆動機構に相当する。Z方向の第3方向駆動機構は、図3〜図6の例では、Z方向に移動不可能な第2基板搬送台車20−4、20−3には設けられていない。この第3方向駆動機構は、Z軸用回転駆動部93と、複数段ボールスプライン駆動機構96とを備える。Z軸用回転駆動部93は、中央搬送装置10に直接又は間接に固定されている。通常、Z軸用回転駆動部93は大気雰囲気にあるので、真空シール機能のある軸受けを経由して回転駆動する複数段ボールスプライン駆動機構96の部材を回転駆動する。
まず、X軸用回転駆動部91により下部支持体30がX方向へ距離D0だけ移動し、更に台車ベース50が下部支持体30に対してX方向へ距離D1だけ移動すると、台車ベース50は距離D2=D0+D1(通常は2×D0に計画)だけ移動する。このとき、第5ボールスプライン101では、その第5スライド外筒101aが下部支持体30に回転可能に固定されている。そのため、下部支持体30の移動に伴い、第5スライド外筒101aがその第5スプライン軸101bに沿ってX方向へ距離D0だけ移動する。一方、第3カサ歯車107(及び第3回転軸108と歯車106)と第6スライド外筒104aは、台車ベース50に回転可能に固定されている。そのため、台車ベース50の移動に伴い、第3カサ歯車107、第3回転軸108及び歯車106と歯車105で結合している第6スライド外筒104aは、その第6スプライン軸104bに沿って、X方向へ更に距離D1だけ移動する。このようにして、下部支持体30及び台車ベース50のX方向への移動に関わらず、Z軸用回転駆動部93から第3カサ歯車107までの駆動機構は維持される。
第7ボールスプライン125は、その第7スプライン軸125bがZ方向へ伸びている。第7スプライン軸125bの一端は、第2カサ歯車124が同軸で設けられている。第7スライド外筒125aは、第7スプライン軸125bに第2カサ歯車124から離れて設けられ、第1ピニオン126が第7スライド外筒125aに結合して設けられている。第7スライド外筒125aは、台車ベース50における昇降可能な昇降台車ベース50aに回転可能に固定されている。すなわち、第7ボールスプライン125は、台車ベース50aに第7スライド外筒125aを介して結合されている。第7ボールスプライン125は、第4ボールスプライン114と、歯車115、116及び第1・第2カサ歯車117、124を介して結合されている。
第2回転軸125及び第1ピニオン126を用いる場合、図12において、第7スプライン軸125bを通常の第2回転軸125とし、第7スライド外筒125aを用いずに第2回転軸125に直接第1ピニオン126を結合した構成とすれば良い。すなわち、第2回転軸125がZ方向へ伸びている。第2回転軸125の一端には第2カサ歯車124が同軸で設けられ、他端には第1ピニオン126が同軸で設けられている。第2回転軸は125、台車ベース50(台車ベース50における昇降可能な昇降台車ベース50aはない)に固定されている。すなわち、第1ピニオン126は、台車ベース50に回転軸125を介して結合されている。第1ピニオン126は、第4ボールスプライン114と、歯車115、116及び第1・第2カサ歯車117、124を介して結合されている。
まず、X軸用回転駆動部91により下部支持体30がX方向へ距離D0だけ移動し、更に台車ベース50が下部支持体30に対してX方向へ距離D1だけ移動すると、台車ベース50は距離D2=D0+D1(通常は2×D0に計画)だけ移動する。このとき、第3ボールスプライン111では、そのスライド外筒111aが下部支持体30に回転可能に固定されている。そのため、下部支持体30の移動に伴い、スライド外筒111aがその第3スプライン軸111bに沿ってX方向へ距離D0だけ移動する。一方、第1カサ歯車117(及び第1回転軸118と歯車116)と第4スライド外筒114aは、台車ベース50に回転可能に固定されている。そのため、台車ベース50の移動に伴い、第1カサ歯車117、第1回転軸118及び歯車116と歯車115で結合している第4スライド外筒114aは、その第4スプライン軸114bに沿って、X方向へ更に距離D1だけ移動する。このようにして、下部支持体30及び台車ベース50のX方向への移動に関わらず、Y軸用回転駆動部92から第1カサ歯車117までの駆動機構は維持される。
第2ラック119と第2ピニオン128とは対偶をなす。上部台車ベース(1)60がY方向へ移動することにより、台車ベース50、昇降台車ベース50aに固定された第2ラック119は、第2ピニオン128に対してY方向(例示:−Y)へ移動することになる。それにより、第2ピニオン128は、第2ラック119の直進運動を回転運動(例示:右回り)に変換する。その結果、第2ピニオン128と第4回転軸129で結合された第4ピニオン130も同様の回転運動(例示:右回り)を行う。
第4ピニオン130は、第4ラック131と対偶をなす。第4ピニオン130の回転運動は、第4ラック131によりY方向(例示:+Y)の直進運動に変換される。それにより、上部台車ベース(2)70がY方向(例示:+Y)へ移動する。
第3ラック132と第3ピニオン133とは対偶をなす。上部台車ベース(2)70がY方向へ移動することにより、上部台車ベース(1)60に固定された第3ラック132は、第3ピニオン133に対してY方向(例示:−Y)へ移動することになる。それにより、第3ピニオン133は、第1ラック119の直進運動を回転運動(例示:左回り)に変換する。その結果、第3ピニオン133と第5回転軸134で結合された第5ピニオン135も同様の回転運動(例示:左回り)を行う。
第5ピニオン135は、第5ラック136と対偶をなす。第5ピニオン135の回転運動は、第5ラック136によりY方向(例示:+Y)の直進運動に変換される。それにより、上部台車ベース(3)80がY方向(例示:+Y)へ移動する。尚、台車ベース50、昇降台車ベース50aと、上部台車ベース(1)60と、上部台車ベース(2)70と、上部台車ベース(3)80の間には、ガイドレール53、63、73が設けられていて、お互いが滑らかに動くようになっている。
まず、製膜開始の基板2を搬入するにあたり、製膜室本体156を高真空排気部174から真空排気し、ゲート弁17を開放する。基板搬送台車20を所定位置に移動させた後の上部台車ベース(3)80で製膜室12へ基板2を搬入する方法について説明する。基板2は、基板搬送台車20の上部台車ベース(3)80上に載置されている。上部台車ベース(1)60は台車ベース50上のガイドレール53にガイドされ、上部台車ベース(2)70は上部台車ベース60(1)上のガイドレール63にガイドされ、上部台車ベース(3)80は上部台車ベース(2)70上のガイドレール73にガイドされ、上記のY方向の第2方向駆動機構により、基板搬送台車20に対してY方向にある製膜室12内部へと伸び、基板2を製膜室本体156へ搬入する。ただし、図12においては、図の分りやすさのために、ガイドレール53、63、73に関する構成の記載を省略している。
基板搬送台車20の上部台車ベース(3)80で製膜室12から基板2を搬出する方法は、製膜処理を終了後に、製膜室本体156を高真空排気部174から真空排気し、上記基板2を搬入する方法の逆に行えばよいのでその説明を省略する。
この真空処理装置は、中央搬送室210と、複数の製膜室212−1〜212−3と、ロード室211と、複数の製膜室212−4〜212−6と、アンロード室213と、第1基板搬送台車220−1と、第2基板搬送台車220−2とを具備する。
2 基板
10 中央搬送室
10−1 下部中央搬送室
10−2 上部中央搬送室
10a 退避領域
11 ロード室
12−1〜12−4 製膜室
13 アンロード室
14、15 軌道
16−1、16−2、17−1〜17−4、18−1、18−2 ゲート弁
20 基板搬送台車
20−1〜20−2 第1基板搬送台車
20−3〜20−4 第2基板搬送台車
20−1a〜20−4a、60、70、80 上部台車ベース
20−1b〜20−4b、50 台車ベース
20−1c〜20−2c、50a 昇降台車ベース
22−1〜22−2、26、27−1〜27−4、28 開口部
23−1〜23−3 位置
30 下部支持体
31 複数段ボールネジ駆動機構
32、38、48、123 第1〜第4ボールネジ
32a、38a、48a、123a 第1〜第4ナット
32b、38b、48b、123b 第1〜第4ネジ軸
33、35、36、37、43、45、46、47、102、103、105、106、112、113、115、116、 歯車
34、44、101、104、111、114、125 第1〜第7ボールスプライン
34a、44a、101a、104a、111a、114a、125a 第1〜第7スライド外筒
34b、44b、101b、104b、111b、114b、125b 第1〜第7スプライン軸
40 補助下部支持体
51、53、63、73 ガイドレール
90 真空シール軸受け
91 X軸用回転駆動部
92 Y軸用回転駆動部
93 Z軸用回転駆動部
94 複数段ラック・ピニオン駆動機構
95 複数段スプライン駆動機構
96 複数段スプライン駆動機構
108、118、125、129、134 第1〜第5回転軸
107、117、121、124 第1〜第4カサ歯車
126、128、130、133、135 第1〜第5ピニオン
127、119、131、132、136 第1〜第5ラック
151 基板リフトピン
152 対向電極
153 放電電極
154 防着板
155 均熱板
156 製膜室本体
157 支持部
158、159 給電点
161 均熱板保持機構
162 高周波給電伝送路
163 整合器
164 高周波給電伝送路
172 低真空排気部
174 高真空排気部
210 中央搬送室
212−1〜212−6 製膜室
211 ロード室
213 アンロード室
220−1 第1基板搬送台車
220−2 第2基板搬送台車
216、218、217−1〜217−6 ゲート弁
Claims (11)
- 第1方向に伸び互いに隣接する第1搬送領域及び第2搬送領域を含む搬送室と、
前記搬送室の前記第1搬送領域側に、前記第1方向に沿って接続されて、基板を真空処理する複数の第1処理室と、
前記搬送室の前記第2搬送領域側に、前記第1方向に沿って接続されて、前記基板を真空処理する複数の第2処理室と、
前記搬送室の前記第1搬送領域内を前記第1方向に沿って移動する第1基板搬送台車と、
前記搬送室の前記第2搬送領域内を前記第1方向に沿って移動する第2基板搬送台車と
を具備し、
前記第1基板搬送台車は、前記複数の第2処理室の少なくとも一つと前記複数の第1処理室とに対して前記基板を搬入又は搬出し、
前記第2基板搬送台車は、前記複数の第2処理室に対して前記基板を搬入又は搬出する
真空処理装置。 - 請求項1に記載の真空処理装置において、
前記第1基板搬送台車及び前記第2基板搬送台車の各々は、
前記第1方向へ移動可能な台車ベースと、
前記台車ベースを前記第1方向に移動するための第1方向駆動機構と
を備える
真空処理装置。 - 請求項2に記載の真空処理装置において、
前記第1方向駆動機構は、
前記搬送室に固定された第1回転駆動部と、
前記台車ベースの移動を補助する下部支持体と、
第1ネジ軸が前記第1方向へ伸び、一端側から第1回転駆動部により回転され、前記下部支持体に第1ナットを介して結合される第1ボールネジと、
第1スプライン軸が前記第1方向へ伸び、前記第1ボールネジの他端側の歯車の回転が、第1スライド外筒の歯車を介して伝達されるとともに、前記第1スプライン軸が回転可能に前記下部支持体に固定される第1ボールスプラインと、
第2ネジ軸が前記第1方向へ伸び、前記第1ボールスプラインの端部の歯車の回転が、端部の歯車を介して伝達されるとともに、前記台車ベースに第2ナットを介して結合され、前記第2ネジ軸が回転可能に前記下部支持体に固定される第2ボールネジと
を備える
真空処理装置。 - 請求項2に記載の真空処理装置において、
前記第1方向駆動機構は、
前記搬送室に固定された第1回転駆動部と、
前記台車ベースの移動を補助する下部支持体及び補助下部支持体と、
第1ネジ軸が前記第1方向へ伸び、一端側から第1回転駆動部により回転され、前記下部支持体に第1ナットを介して結合される第1ボールネジと、
第1スプライン軸が前記第1方向へ伸び、前記第1ボールネジの他端側の歯車の回転が、第1スライド外筒の歯車を介して伝達されるとともに、前記第1スプライン軸が回転可能に前記下部支持体に固定される第1ボールスプラインと、
第2ネジ軸が前記第1方向へ伸び、前記第1ボールスプラインの端部の歯車の回転が、端部の歯車を介して伝達されるとともに、前記補助下部支持体に第2ナットを介して結合され、前記第2ネジ軸が回転可能に前記下部支持体に固定される第2ボールネジと、
第2スプライン軸が前記第1方向へ伸び、前記第2ボールネジの端部の前記歯車の回転が、前記下部支持体に回転可能に結合された歯車及び第2スライド外筒の歯車を介して伝達されるとともに、前記第2スプライン軸が回転可能に前記補助下部支持体に固定される第2ボールスプラインと、
第3ネジ軸が前記第1方向へ伸び、前記第2ボールスプラインの端部の歯車の回転が、端部の歯車を介して伝達されるとともに、前記台車ベースに第3ナットを介して結合され、前記第3ネジ軸が回転可能に前記補助下部支持体に固定される第3ボールネジと
を備える
真空処理装置。 - 請求項2に記載の真空処理装置において、
前記複数の第1処理室及び前記複数の第2処理室は、前記搬送室から第2方向に伸びるように接続され、
前記第1基板搬送台車及び前記第2基板搬送台車の各々は、
前記台車ベース上に設けられ、前記第2方向へ移動可能であり前記基板を載置可能な上部台車ベースと、
前記上部台車ベースを前記第2方向に移動するための第2方向駆動機構と
を更に備え、
前記第1方向駆動機構は、前記台車ベースを前記第1方向に移動し、前記第2方向駆動機構は、前記上部台車ベースを前記第2方向へ移動する
真空処理装置。 - 請求項5に記載の真空処理装置において、
前記第2方向駆動機構は、
前記搬送室に固定された第2回転駆動部と、
前記台車ベースの移動を補助する下部支持体と、
第3スプライン軸が前記第1方向へ伸び、一端側から第2回転駆動部により回転され、第3スライド外筒を介して前記第3スプライン軸が回転可能に前記下部支持体に結合される第3ボールスプラインと、
第4スプライン軸が前記第1方向へ伸び、前記第3ボールスプラインの前記第3スライド外筒の歯車の回転が、端部の歯車を介して伝達され、前記第4スプライン軸が回転可能に前記下部支持体に固定される第4ボールスプラインと、
一方の端部の歯車を介して前記第4ボールスプラインの第4スライド外筒の歯車と結合されるとともに、前記台車ベースに回転可能に結合された前記第1方向へ伸びる第1回転軸における他方の端部に設けられた第1カサ歯車と、
一方の端部の第2カサ歯車を介して前記第1カサ歯車と結合され、前記第3方向へ伸びる第2回転軸と同軸に結合された第1ピニオンと、
前記上部台車ベースに設けられ、前記第2方向へ伸び、前記第1ピニオンと結合する第1ラックと
を備える
真空処理装置。 - 請求項5に記載の真空処理装置において、
前記複数の第1処理室と前記複数の第2処理室とは、前記搬送室に対して互いに第3方向の異なる位置に接続され、
前記第1基板搬送台車及び前記第2基板搬送台車の少なくとも一つは、
前記台車ベースが、前記上部台車ベースの下方に設けられ、前記第3方向へ移動可能な昇降台車ベースを含み、
前記昇降台車ベースを前記第3方向に移動するための第3方向駆動機構を更に備え、
前記第1方向駆動機構は、前記台車ベースを前記第1方向に移動し、前記第3方向駆動機構は、前記昇降台車ベースを前記第3方向に移動し、前記第2方向駆動機構は、前記上部台車ベースを前記第2方向へ移動する
真空処理装置。 - 請求項7に記載の真空処理装置において、
前記第3方向駆動機構は、
前記搬送室に固定された第3回転駆動部と、
前記台車ベースの移動を補助する下部支持体と、
第5スプライン軸が前記第1方向へ伸び、一端側から第3回転駆動部により回転され、前記第5スプライン軸が回転可能に前記下部支持体に第5スライド外筒を介して結合される第5ボールスプラインと、
第6スプライン軸が前記第1方向へ伸び、前記第5ボールスプラインの前記第5スライド外筒の歯車の回転が、端部の歯車を介して伝達されるとともに、前記第6スプライン軸が回転可能に前記下部支持体に固定される第6ボールスプラインと、
一方の端部の歯車を介して前記第6ボールスプラインの第6スライド外筒の歯車と結合され、前記台車ベースに回転可能に結合された前記第1方向へ伸びる第3回転軸における他方の端部に設けられた第3カサ歯車と、
第4ネジ軸が前記第3方向へ伸び、前記第3カサ歯車と、端部の第4カサ歯車を介して結合され、前記昇降台車ベースに第4ナットを介して結合され第4ボールネジと
を備える
真空処理装置。 - 請求項1乃至8のいずれか一項に記載の真空処理装置において、
前記第1基板搬送台車及び前記第2基板搬送台車は、いずれも複数あり、
前記搬送室は、前記複数の第1処理室及び前記複数の第2処理室が接続されず、前記第1基板搬送台車及び前記第2基板搬送台車の少なくとも一つが待機可能な待機領域を備える
真空処理装置。 - 請求項1乃至9のいずれか一項に記載の真空処理装置において、
前記複数の第1処理室及び前記複数の第2処理室は、前記基板を水平状態又は水平状態から所定の角度以内で処理し、
前記第1基板搬送台車及び前記第2基板搬送台車は、前記基板を水平状態又は水平状態から前記所定の角度以内で保持する
真空処理装置。 - 請求項1乃至10のいずれか一項に記載の真空処理装置において、
第1方向に伸び互いに隣接する第1搬送領域及び第2搬送領域を含む搬送室と、
前記搬送室の前記第1搬送領域側に設けられたロード室と、
前記搬送室の前記第2搬送領域側に設けられたアンロード室と
を更に具備し、
前記第1基板搬送台車による前記ロード室からの前記基板の搬出と、前記第2基板搬送台車による前記アンロード室への前記基板搬入とは同時に実行可能である
真空処理装置。
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