JP2009141050A - 洗浄液及び洗浄方法 - Google Patents
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 110
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 108
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 43
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims abstract description 71
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 36
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 29
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 claims abstract description 19
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims abstract description 12
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims abstract description 12
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims abstract description 12
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims abstract description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 16
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 9
- GAEKPEKOJKCEMS-UHFFFAOYSA-N gamma-valerolactone Chemical compound CC1CCC(=O)O1 GAEKPEKOJKCEMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 claims description 6
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims description 5
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 claims description 4
- QGLBZNZGBLRJGS-UHFFFAOYSA-N Dihydro-3-methyl-2(3H)-furanone Chemical compound CC1CCOC1=O QGLBZNZGBLRJGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000004744 fabric Substances 0.000 claims description 3
- 150000003505 terpenes Chemical class 0.000 claims description 3
- 235000007586 terpenes Nutrition 0.000 claims description 3
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 64
- -1 sorbitan fatty acid compounds Chemical class 0.000 description 20
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 19
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 18
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 15
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 10
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 6
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 6
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 6
- XMGQYMWWDOXHJM-UHFFFAOYSA-N limonene Chemical compound CC(=C)C1CCC(C)=CC1 XMGQYMWWDOXHJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 5
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 5
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000011161 development Methods 0.000 description 5
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GLZPCOQZEFWAFX-UHFFFAOYSA-N Geraniol Chemical compound CC(C)=CCCC(C)=CCO GLZPCOQZEFWAFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 4
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 4
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol monomethyl ether acetate Natural products COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CFJYNSNXFXLKNS-UHFFFAOYSA-N p-menthane Chemical compound CC(C)C1CCC(C)CC1 CFJYNSNXFXLKNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- NOOLISFMXDJSKH-UTLUCORTSA-N (+)-Neomenthol Chemical compound CC(C)[C@@H]1CC[C@@H](C)C[C@@H]1O NOOLISFMXDJSKH-UTLUCORTSA-N 0.000 description 3
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 229930003658 monoterpene Natural products 0.000 description 3
- 150000002773 monoterpene derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 235000002577 monoterpenes Nutrition 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRWFGVWFFZKLTI-IUCAKERBSA-N (-)-α-pinene Chemical compound CC1=CC[C@@H]2C(C)(C)[C@H]1C2 GRWFGVWFFZKLTI-IUCAKERBSA-N 0.000 description 2
- DSSYKIVIOFKYAU-XCBNKYQSSA-N (R)-camphor Chemical compound C1C[C@@]2(C)C(=O)C[C@@H]1C2(C)C DSSYKIVIOFKYAU-XCBNKYQSSA-N 0.000 description 2
- AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 1-decene Chemical compound CCCCCCCCC=C AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HXVNBWAKAOHACI-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethyl-3-pentanone Chemical compound CC(C)C(=O)C(C)C HXVNBWAKAOHACI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GIAFURWZWWWBQT-UHFFFAOYSA-N 2-(2-aminoethoxy)ethanol Chemical compound NCCOCCO GIAFURWZWWWBQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZJPLYNZGCXSJM-UHFFFAOYSA-N 5-valerolactone Chemical compound O=C1CCCCO1 OZJPLYNZGCXSJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000723346 Cinnamomum camphora Species 0.000 description 2
- NOOLISFMXDJSKH-UHFFFAOYSA-N DL-menthol Natural products CC(C)C1CCC(C)CC1O NOOLISFMXDJSKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 2
- 229930008380 camphor Natural products 0.000 description 2
- 229960000846 camphor Drugs 0.000 description 2
- ULDHMXUKGWMISQ-UHFFFAOYSA-N carvone Chemical compound CC(=C)C1CC=C(C)C(=O)C1 ULDHMXUKGWMISQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QMVPMAAFGQKVCJ-UHFFFAOYSA-N citronellol Chemical compound OCCC(C)CCC=C(C)C QMVPMAAFGQKVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003245 coal Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N cyclohexylamine Chemical compound NC1CCCCC1 PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930004069 diterpene Natural products 0.000 description 2
- 125000000567 diterpene group Chemical group 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- JBFHTYHTHYHCDJ-UHFFFAOYSA-N gamma-caprolactone Chemical compound CCC1CCC(=O)O1 JBFHTYHTHYHCDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KEMQGTRYUADPNZ-UHFFFAOYSA-N heptadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O KEMQGTRYUADPNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N hexadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N isoamyl acetate Chemical compound CC(C)CCOC(C)=O MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000001510 limonene Nutrition 0.000 description 2
- 229940087305 limonene Drugs 0.000 description 2
- CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N linalool Chemical compound CC(C)=CCCC(C)(O)C=C CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FBUKVWPVBMHYJY-UHFFFAOYSA-N nonanoic acid Chemical compound CCCCCCCCC(O)=O FBUKVWPVBMHYJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930004008 p-menthane Natural products 0.000 description 2
- XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N pentan-2-one Chemical compound CCCC(C)=O XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XOKSLPVRUOBDEW-UHFFFAOYSA-N pinane Chemical compound CC1CCC2C(C)(C)C1C2 XOKSLPVRUOBDEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N propylenediamine Chemical compound CC(N)CN AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 2
- XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N trimethylenediamine Chemical compound NCCCN XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YHQGMYUVUMAZJR-UHFFFAOYSA-N α-terpinene Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C)CC1 YHQGMYUVUMAZJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YKFLAYDHMOASIY-UHFFFAOYSA-N γ-terpinene Chemical compound CC(C)C1=CCC(C)=CC1 YKFLAYDHMOASIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical compound C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 1
- WTARULDDTDQWMU-RKDXNWHRSA-N (+)-β-pinene Chemical compound C1[C@H]2C(C)(C)[C@@H]1CCC2=C WTARULDDTDQWMU-RKDXNWHRSA-N 0.000 description 1
- WTARULDDTDQWMU-IUCAKERBSA-N (-)-Nopinene Natural products C1[C@@H]2C(C)(C)[C@H]1CCC2=C WTARULDDTDQWMU-IUCAKERBSA-N 0.000 description 1
- REPVLJRCJUVQFA-UHFFFAOYSA-N (-)-isopinocampheol Natural products C1C(O)C(C)C2C(C)(C)C1C2 REPVLJRCJUVQFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGTSAXBNFONRAB-UHFFFAOYSA-N (1-methyl-2-phenyl-4-propan-2-ylcyclohexyl)benzene Chemical compound C1C(C(C)C)CCC(C)(C=2C=CC=CC=2)C1C1=CC=CC=C1 GGTSAXBNFONRAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001490 (3R)-3,7-dimethylocta-1,6-dien-3-ol Substances 0.000 description 1
- QMVPMAAFGQKVCJ-SNVBAGLBSA-N (R)-(+)-citronellol Natural products OCC[C@H](C)CCC=C(C)C QMVPMAAFGQKVCJ-SNVBAGLBSA-N 0.000 description 1
- CDOSHBSSFJOMGT-JTQLQIEISA-N (R)-linalool Natural products CC(C)=CCC[C@@](C)(O)C=C CDOSHBSSFJOMGT-JTQLQIEISA-N 0.000 description 1
- LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethoxyethane Chemical compound CCOCCOCC LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940058015 1,3-butylene glycol Drugs 0.000 description 1
- HXKKHQJGJAFBHI-UHFFFAOYSA-N 1-aminopropan-2-ol Chemical compound CC(O)CN HXKKHQJGJAFBHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYSCBCSGKXNZRH-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene-2-carboxamide Chemical compound C1=CC=C2SC(C(=O)N)=CC2=C1 GYSCBCSGKXNZRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 1-hexoxyhexane Chemical compound CCCCCCOCCCCCC BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJDSTRZHPWMDPG-UHFFFAOYSA-N 2-(butylamino)ethanol Chemical compound CCCCNCCO LJDSTRZHPWMDPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWSZDQRGNFLMJS-UHFFFAOYSA-N 2-(dibutylamino)ethanol Chemical compound CCCCN(CCO)CCCC IWSZDQRGNFLMJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIJDSYMOBYNHOT-UHFFFAOYSA-N 2-(ethylamino)ethanol Chemical compound CCNCCO MIJDSYMOBYNHOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFSVOASYOCHEOV-UHFFFAOYSA-N 2-diethylaminoethanol Chemical compound CCN(CC)CCO BFSVOASYOCHEOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTHNHFOGQMKPOV-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-amine Chemical compound CCCCC(CC)CN LTHNHFOGQMKPOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-yloxyethanol Chemical compound CC(C)OCCO HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NECRQCBKTGZNMH-UHFFFAOYSA-N 3,5-dimethylhex-1-yn-3-ol Chemical compound CC(C)CC(C)(O)C#C NECRQCBKTGZNMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 3-(3-methoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound COCCCOCCCO QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUDUTRMKKYUAKI-UHFFFAOYSA-N 3-[1-(1-phenylethyl)piperidin-4-yl]-1h-benzimidazol-2-one Chemical compound C1CC(N2C(NC3=CC=CC=C32)=O)CCN1C(C)C1=CC=CC=C1 XUDUTRMKKYUAKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTXXTMOWISPQSJ-UHFFFAOYSA-N 4,4,4-trifluorobutan-2-one Chemical compound CC(=O)CC(F)(F)F BTXXTMOWISPQSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNDXPKDBFOOQFC-UHFFFAOYSA-N 4-[2-nitro-4-(trifluoromethyl)phenyl]morpholine Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC(C(F)(F)F)=CC=C1N1CCOCC1 UNDXPKDBFOOQFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWQSAIIDOMEEOD-UHFFFAOYSA-N 5,5-Dimethyl-4-(3-oxobutyl)dihydro-2(3H)-furanone Chemical compound CC(=O)CCC1CC(=O)OC1(C)C AWQSAIIDOMEEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQACOLQNOUYJCE-FYZZASKESA-N Abietic acid Natural products CC(C)C1=CC2=CC[C@]3(C)[C@](C)(CCC[C@@]3(C)C(=O)O)[C@H]2CC1 BQACOLQNOUYJCE-FYZZASKESA-N 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005973 Carvone Substances 0.000 description 1
- WTEVQBCEXWBHNA-UHFFFAOYSA-N Citral Natural products CC(C)=CCCC(C)=CC=O WTEVQBCEXWBHNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N Decanoic acid Natural products CCCCCCCCCC(O)=O GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZTOWFMDBDPERY-UHFFFAOYSA-N Delta-Hexanolactone Chemical compound CC1CCCC(=O)O1 RZTOWFMDBDPERY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLZPCOQZEFWAFX-YFHOEESVSA-N Geraniol Natural products CC(C)=CCC\C(C)=C/CO GLZPCOQZEFWAFX-YFHOEESVSA-N 0.000 description 1
- 239000005792 Geraniol Substances 0.000 description 1
- WJYIASZWHGOTOU-UHFFFAOYSA-N Heptylamine Chemical compound CCCCCCCN WJYIASZWHGOTOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOOLISFMXDJSKH-LPEHRKFASA-N Isomenthol Natural products CC(C)[C@@H]1CC[C@H](C)C[C@H]1O NOOLISFMXDJSKH-LPEHRKFASA-N 0.000 description 1
- WSTYNZDAOAEEKG-UHFFFAOYSA-N Mayol Natural products CC1=C(O)C(=O)C=C2C(CCC3(C4CC(C(CC4(CCC33C)C)=O)C)C)(C)C3=CC=C21 WSTYNZDAOAEEKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUNFSRHWOTWDNC-UHFFFAOYSA-N Myristic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCC(O)=O TUNFSRHWOTWDNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJKRXEBLWJVYJD-UHFFFAOYSA-N N,N'-diethylethylenediamine Chemical compound CCNCCNCC CJKRXEBLWJVYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OPKOKAMJFNKNAS-UHFFFAOYSA-N N-methylethanolamine Chemical compound CNCCO OPKOKAMJFNKNAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLZPCOQZEFWAFX-JXMROGBWSA-N Nerol Natural products CC(C)=CCC\C(C)=C\CO GLZPCOQZEFWAFX-JXMROGBWSA-N 0.000 description 1
- 235000021314 Palmitic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTARULDDTDQWMU-UHFFFAOYSA-N Pseudopinene Natural products C1C2C(C)(C)C1CCC2=C WTARULDDTDQWMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLINHMUFWFWBMU-UHFFFAOYSA-N Triisopropanolamine Chemical compound CC(O)CN(CC(C)O)CC(C)O SLINHMUFWFWBMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930000074 abietane Natural products 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000007933 aliphatic carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 description 1
- XCPQUQHBVVXMRQ-UHFFFAOYSA-N alpha-Fenchene Natural products C1CC2C(=C)CC1C2(C)C XCPQUQHBVVXMRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N alpha-ethylcaproic acid Natural products CCCCC(CC)C(O)=O OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVNCAPSFBDBCGF-UHFFFAOYSA-N alpha-pinene Natural products CC1=CCC23C1CC2C3(C)C MVNCAPSFBDBCGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUOACPNHFRMFPN-UHFFFAOYSA-N alpha-terpineol Chemical compound CC1=CCC(C(C)(C)O)CC1 WUOACPNHFRMFPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940072049 amyl acetate Drugs 0.000 description 1
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N anhydrous amyl acetate Natural products CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- JGQFVRIQXUFPAH-UHFFFAOYSA-N beta-citronellol Natural products OCCC(C)CCCC(C)=C JGQFVRIQXUFPAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930006722 beta-pinene Natural products 0.000 description 1
- 229930006974 beta-terpinene Natural products 0.000 description 1
- BEWYHVAWEKZDPP-UHFFFAOYSA-N bornane Chemical compound C1CC2(C)CCC1C2(C)C BEWYHVAWEKZDPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930006742 bornane Natural products 0.000 description 1
- CKDOCTFBFTVPSN-UHFFFAOYSA-N borneol Natural products C1CC2(C)C(C)CC1C2(C)C CKDOCTFBFTVPSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940116229 borneol Drugs 0.000 description 1
- BMRWNKZVCUKKSR-UHFFFAOYSA-N butane-1,2-diol Chemical compound CCC(O)CO BMRWNKZVCUKKSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019437 butane-1,3-diol Nutrition 0.000 description 1
- OWBTYPJTUOEWEK-UHFFFAOYSA-N butane-2,3-diol Chemical compound CC(O)C(C)O OWBTYPJTUOEWEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- BWRHOYDPVJPXMF-UHFFFAOYSA-N cis-Caran Natural products C1C(C)CCC2C(C)(C)C12 BWRHOYDPVJPXMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043350 citral Drugs 0.000 description 1
- 235000000484 citronellol Nutrition 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- SHQSVMDWKBRBGB-UHFFFAOYSA-N cyclobutanone Chemical compound O=C1CCC1 SHQSVMDWKBRBGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- SQIFACVGCPWBQZ-UHFFFAOYSA-N delta-terpineol Natural products CC(C)(O)C1CCC(=C)CC1 SQIFACVGCPWBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVTYICIALWPMFW-UHFFFAOYSA-N diisopropanolamine Chemical compound CC(O)CNCC(C)O LVTYICIALWPMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043276 diisopropanolamine Drugs 0.000 description 1
- LAWOZCWGWDVVSG-UHFFFAOYSA-N dioctylamine Chemical compound CCCCCCCCNCCCCCCCC LAWOZCWGWDVVSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTGKSKDOIYIVQL-UHFFFAOYSA-N dl-isoborneol Natural products C1CC2(C)C(O)CC1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- LCWMKIHBLJLORW-UHFFFAOYSA-N gamma-carene Natural products C1CC(=C)CC2C(C)(C)C21 LCWMKIHBLJLORW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- WTEVQBCEXWBHNA-JXMROGBWSA-N geranial Chemical compound CC(C)=CCC\C(C)=C\C=O WTEVQBCEXWBHNA-JXMROGBWSA-N 0.000 description 1
- 229940113087 geraniol Drugs 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M heptanoate Chemical compound CCCCCCC([O-])=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000011086 high cleaning Methods 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 238000000671 immersion lithography Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- YAQXGBBDJYBXKL-UHFFFAOYSA-N iron(2+);1,10-phenanthroline;dicyanide Chemical compound [Fe+2].N#[C-].N#[C-].C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1.C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 YAQXGBBDJYBXKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117955 isoamyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 229930007744 linalool Natural products 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 125000002960 margaryl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229940041616 menthol Drugs 0.000 description 1
- OTERBTMTWQHNQT-ZCDKHLBTSA-N methyl (1r,4ar,5s,8r,10as)-5,8-diacetyloxy-7-(3-methoxy-3-oxoprop-1-en-2-yl)-1,4a-dimethyl-2-oxo-4,5,6,7,8,9,10,10a-octahydro-3h-phenanthrene-1-carboxylate Chemical compound C1C[C@H]([C@@](C(=O)CC2)(C)C(=O)OC)[C@]2(C)C2=C1[C@H](OC(C)=O)C(C(=C)C(=O)OC)C[C@@H]2OC(C)=O OTERBTMTWQHNQT-ZCDKHLBTSA-N 0.000 description 1
- CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N methyl diethanolamine Chemical compound OCCN(C)CCO CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- UDGSVBYJWHOHNN-UHFFFAOYSA-N n',n'-diethylethane-1,2-diamine Chemical compound CCN(CC)CCN UDGSVBYJWHOHNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCZVXVGZMZRGRU-UHFFFAOYSA-N n'-ethylethane-1,2-diamine Chemical compound CCNCCN SCZVXVGZMZRGRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N n-Pentadecanoic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- UMRZSTCPUPJPOJ-KNVOCYPGSA-N norbornane Chemical compound C1C[C@H]2CC[C@@H]1C2 UMRZSTCPUPJPOJ-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002958 pentadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229930006728 pinane Natural products 0.000 description 1
- 229920001281 polyalkylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- POSICDHOUBKJKP-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoxybenzene Chemical compound C=CCOC1=CC=CC=C1 POSICDHOUBKJKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- GRWFGVWFFZKLTI-UHFFFAOYSA-N rac-alpha-Pinene Natural products CC1=CCC2C(C)(C)C1C2 GRWFGVWFFZKLTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229940116411 terpineol Drugs 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- VPYJNCGUESNPMV-UHFFFAOYSA-N triallylamine Chemical compound C=CCN(CC=C)CC=C VPYJNCGUESNPMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002889 tridecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGPCZPLRVAWXPW-UHFFFAOYSA-N xi-Dihydro-5-octyl-2(3H)-furanone Chemical compound CCCCCCCCC1CCC(=O)O1 WGPCZPLRVAWXPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCWPFSIZUZUCCE-UHFFFAOYSA-N β-terpinene Chemical compound CC(C)C1=CCC(=C)CC1 SCWPFSIZUZUCCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Abstract
【課題】安全性が高く洗浄性能にも優れた洗浄液及びこれを用いた洗浄方法を提供する。
【解決手段】光学レンズ部とウェーハステージ上に載置した露光対象物との間を液浸媒体で満たして露光を行う液浸露光装置の洗浄に使用される洗浄液として、(a)界面活性剤、及び(b)ラクトン系溶剤を含有し、(b)ラクトン系溶剤の含有量が60質量%以上である洗浄液を用いる。この洗浄液は、さらに、(c)液浸媒体、(d)水溶性有機溶剤、(e)炭化水素系溶剤を含有していてもよい。
【選択図】なし
【解決手段】光学レンズ部とウェーハステージ上に載置した露光対象物との間を液浸媒体で満たして露光を行う液浸露光装置の洗浄に使用される洗浄液として、(a)界面活性剤、及び(b)ラクトン系溶剤を含有し、(b)ラクトン系溶剤の含有量が60質量%以上である洗浄液を用いる。この洗浄液は、さらに、(c)液浸媒体、(d)水溶性有機溶剤、(e)炭化水素系溶剤を含有していてもよい。
【選択図】なし
Description
本発明は、液浸露光(Liquid Immersion Lithography)プロセスに用いられる洗浄液及びこれを用いた洗浄方法に関する。
半導体デバイス、液晶デバイス等の各種電子デバイスにおける微細構造の製造に際しては、ホトリソグラフィー法が多用されている。近年、半導体デバイスの高集積化、微小化の進展が著しく、ホトリソグラフィー工程におけるホトレジストパターン形成においてもより一層の微細化が要求されている。
このようなより微細なパターン形成を達成させるためには、一般に、露光装置やホトレジスト材料の改良による対応策が考えられる。露光装置による対応策としては、F2エキシマレーザー、EUV(極端紫外光)、電子線、X線、軟X線等の光源波長の短波長化や、レンズの開口数(NA)の増大等の方策が挙げられる。
しかしながら、光源波長の短波長化は高額な新たな露光装置が必要となる。また、高NA化では、解像度と焦点深度幅とがトレード・オフの関係にあるため、解像度を上げても焦点深度幅が低下するという問題がある。
近年、このような問題を解決可能とするホトリソグラフィー技術として、液浸露光プロセスが報告されている(例えば、非特許文献1〜3参照)。これは、露光時に、露光装置の光学レンズ部とウェーハステージ上に載置した露光対象物(基板上のホトレジスト膜)との間の露光光路の少なくともホトレジスト膜上に、所定厚さの液浸媒体を介在させてホトレジスト膜を露光し、ホトレジストパターンを形成するというものである。この液浸露光プロセスは、従来は空気や窒素等の不活性ガスであった露光光路空間を、これら空間(気体)の屈折率よりも大きく、かつ、ホトレジスト膜の屈折率よりも小さい屈折率を有する液浸媒体(例えば、水やフッ素系不活性液体等)で置換することにより、同じ露光波長の光源を用いても、より短波長の露光光を用いた場合や高NAレンズを用いた場合と同様に、高解像性が達成されるとともに、焦点深度幅の低下も生じない、という利点を有する。
このような液浸露光プロセスを用いれば、現存の露光装置に実装されているレンズを用いて、低コストで、より高解像性に優れ、かつ焦点深度にも優れるホトレジストパターンの形成が実現できるため、大変注目されている。
しかしながら、液浸露光プロセスでは、ホトレジスト膜の上層に液浸媒体を介在させた状態で露光を行うことから、ホトレジスト膜からの溶出成分による露光装置へのダメージ(例えば、レンズ硝材の曇り、及びそれにより引き起こされる透過率の低下、露光ムラの発生等)が懸念される。
これに対する対応策として、ホトレジスト材料を改良してホトレジスト膜からの溶出を防止する方策や、ホトレジスト層上に保護膜を一層設けて、ホトレジスト膜からの溶出成分の滲出を防止する方策等が採られている。しかしながら、前者の方法はホトレジスト材料の面から開発上の制約がある上、ホトレジスト材料を幅広い用途に適用することが困難になるという問題もある。また、後者の方法によってもなお、溶出成分の滲出を完全に防止できるものではない。さらに、いずれの方法によっても、ホトレジスト膜やその保護膜が部分的に剥離して光学レンズ部に付着した場合には、露光装置へのダメージは避けられない。
そこで、現在汎用されているホトレジスト膜や保護膜を利用し、上記問題点を解決する方策として、液浸媒体に接触する露光装置の光学レンズ部を、洗浄液を用いて洗浄する方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
しかしながら、この特許文献1に記載された洗浄液は、ケトン系、アルコール系の有機溶剤からなるものであるため、引火の危険性があり、取扱いや露光装置の構成に引火を防止するような制約が生じる。また、これらの有機溶剤は洗浄効果が十分でなく、特にホトレジスト膜やその保護膜が部分的に剥離して光学レンズ部に付着した場合にはその洗浄が困難であり、露光装置の光学特性が劣化する虞がある。
「ジャーナル・オブ・バキューム・サイエンス・アンド・テクノロジー B(Journal of Vacuum Science & Technology B)」、(米国)、1999年、第17巻、6号、3306−3309頁 「ジャーナル・オブ・バキューム・サイエンス・アンド・テクノロジー B(Journal of Vacuum Science & Technology B)」、(米国)、2001年、第19巻、6号、2353−2356頁 「プロシーディングス・オブ・エスピーアイイー(Proceedings of SPIE)」、(米国)、2002年、第4691巻、459−465頁 特開2005−79222号公報
「ジャーナル・オブ・バキューム・サイエンス・アンド・テクノロジー B(Journal of Vacuum Science & Technology B)」、(米国)、1999年、第17巻、6号、3306−3309頁 「ジャーナル・オブ・バキューム・サイエンス・アンド・テクノロジー B(Journal of Vacuum Science & Technology B)」、(米国)、2001年、第19巻、6号、2353−2356頁 「プロシーディングス・オブ・エスピーアイイー(Proceedings of SPIE)」、(米国)、2002年、第4691巻、459−465頁
本発明は、このような従来の実情に鑑みてなされたものであり、安全性が高く洗浄性能にも優れた洗浄液及びこれを用いた洗浄方法を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記課題を解決するため、鋭意研究を重ねた。その結果、洗浄液中にラクトン系溶剤を所定量以上含有させることで上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。具体的には、本発明は以下のようなものを提供する。
本発明の第一の態様は、光学レンズ部とウェーハステージ上に載置した露光対象物との間を液浸媒体で満たして露光を行う液浸露光装置の洗浄に使用される洗浄液であって、(a)界面活性剤、及び(b)ラクトン系溶剤を含有し、前記(b)ラクトン系溶剤の含有量が60質量%以上であることを特徴とする洗浄液である。
本発明の第二の態様は、光学レンズ部と、ウェーハステージと、液導入流路と、液排出流路とを少なくとも備えた液浸露光装置を用いて、前記光学レンズ部と前記ウェーハステージ上に載置した露光対象物との間に、前記液導入流路を通して液浸媒体を導入して満たしつつ、前記液排出流路を通して前記液浸媒体を排出しながら、露光を行う液浸露光プロセスにおいて、露光後、本発明に係る洗浄液を前記液導入流路を通して導入し、該洗浄液を前記光学レンズ部に所定時間接触させることによって洗浄し、使用済みの前記洗浄液を前記液排出流路を通して排出することを特徴とする洗浄方法である。
本発明の第三の態様は、光学レンズ部とウェーハステージとを少なくとも備えた液浸露光装置を用いて、前記光学レンズ部と前記ウェーハステージ上に載置した露光対象物との間を液浸媒体で満たして露光を行う液浸露光プロセスにおいて、露光後、本発明に係る洗浄液を前記光学レンズ部に吹き付ける、又は、前記洗浄液を曝した布で前記光学レンズ部を拭くことによって、該光学レンズ部を洗浄することを特徴とする洗浄方法である。
本発明によれば、安全性が高く洗浄性能にも優れた洗浄液及びこれを用いた洗浄方法が提供される。
≪洗浄液≫
本発明に係る洗浄液は、(a)界面活性剤、及び(b)ラクトン系溶剤を含有する。この洗浄液は、光学レンズ部とウェーハステージ上に載置した露光対象物との間を液浸媒体で満たして露光を行う液浸露光装置の洗浄に用いられる。以下、洗浄液に含有される各成分について詳細に説明する。
本発明に係る洗浄液は、(a)界面活性剤、及び(b)ラクトン系溶剤を含有する。この洗浄液は、光学レンズ部とウェーハステージ上に載置した露光対象物との間を液浸媒体で満たして露光を行う液浸露光装置の洗浄に用いられる。以下、洗浄液に含有される各成分について詳細に説明する。
[(a)界面活性剤]
本発明に係る洗浄液は、界面活性剤を含有する。この界面活性剤を含有させることにより、洗浄液自体の浸透性を向上させ、洗浄性能を向上させることができる。
本発明に係る洗浄液は、界面活性剤を含有する。この界面活性剤を含有させることにより、洗浄液自体の浸透性を向上させ、洗浄性能を向上させることができる。
界面活性剤としては、ノニオン性界面活性剤を好ましく用いることができる。このようなノニオン性界面活性剤としては、ポリオキシアルキレン系化合物及びソルビタン脂肪酸系化合物が好ましく、その中でも、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキル脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンアリルフェニルエーテル、ポリオキシアルキレンソルビタン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、及びポリオキシアルキレンの中から選ばれる少なくとも1種が好ましい。
ポリオキシアルキレンとしては、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレン等が挙げられる。ポリオキシアルキレンの付加モル数は、その平均付加モル数を1〜50モルの範囲に調整することが好ましい。
ポリオキシアルキレンの末端エーテル化物を構成するアルキル基としては、炭素数6〜18のものが好ましい。具体例としては、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、デトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基等が挙げられる。このアルキル基は、分岐鎖状、環状(単環であっても複合環であってもよい)のいずれでもよく、不飽和結合を有していてもよく、さらには水素原子の一部がアルコール性水酸基により置換されていてもよい。
脂肪酸としては、特に限定されるものではないが、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、ドデカン酸、テトラデカン酸、ペンタデカン酸、ヘキサデカン酸、ヘプタデカン酸、オクタデカン酸等が挙げられる。
このポリオキシアルキレン系化合物及びソルビタン脂肪酸系化合物は、「ニューコール」(日本乳化剤社製)等のシリーズとして市販されており、これらを好ましく用いることができる。
また、ノニオン性界面活性剤としては、アセチレンアルコール系化合物を用いることもできる。アセチレンアルコール系化合物としては、例えば下記一般式(1)で表される化合物が好ましい。
このアセチレンアルコール系化合物は、「サーフィノール」、「オルフィン」(いずれもエアプロダクツ社製)等のシリーズとして市販されており、これらを好ましく用いることができる。その中でも、その物性面から、「サーフィノール104」、「サーフィノール82」、或いはこれらの混合物が好ましい。そのほかに、「オルフィンB」、「オルフィンP」、「オルフィンY」等も用いることができる。
また、ノニオン性界面活性剤としては、上記アセチレンアルコールにアルキレンオキシドを付加した化合物を用いることもできる。付加されるアルキレンオキシドとしては、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、或いはこれらの混合物が好ましい。アセチレンアルコール・アルキレンオキシド付加物としては、下記一般式(3)で表される化合物が好ましい。ここで、(n+m)は1〜30の整数を表し、このエチレンオキシドの付加数によって、水への溶解性、表面張力等の特性が微妙に変わってくる。
このアセチレンアルコール・アルキレンオキシド付加物は、「サーフィノール」(エアプロダクツ社製)、「アセチレノール」(川研ファインケミカル社製)等のシリーズとして市販されており、これらを好ましく用いることができる。その中でも、エチレンオキシドの付加数による水への溶解性、表面張力等の特性の変化等を考慮すると、「サーフィノール440」(n+m=3.5)、「サーフィノール465」(n+m=10)、「サーフィノール485」(n+m=30)、「アセチレノールEL」(n+m=4)、「アセチレノールEH」(n+m=10)、或いはこれらの混合物が好ましい。
なお、界面活性剤としては、ノニオン性界面活性剤以外にも、洗浄液の安定性や洗浄性能に悪影響を及ぼさない範囲で、各種カチオン性界面活性剤やアニオン性界面活性剤を用いることができる。
界面活性剤の含有量は、洗浄液中、0.01質量%〜5質量%が好ましく、0.1質量%〜3質量%がより好ましい。界面活性剤の含有量を上記範囲とすることにより、洗浄液の分離等による不具合を回避しつつ、洗浄性能を向上させることができる。
[(b)ラクトン系溶剤]
本発明に係る洗浄液は、ラクトン系溶剤を含有する。このラクトン系溶剤を含有させることにより洗浄性能が向上するため、液浸露光装置、特には液浸媒体が接触する箇所(光学レンズ部等)にホトレジスト膜や保護膜等が付着した場合であっても、これらを速やかに除去することができる。
本発明に係る洗浄液は、ラクトン系溶剤を含有する。このラクトン系溶剤を含有させることにより洗浄性能が向上するため、液浸露光装置、特には液浸媒体が接触する箇所(光学レンズ部等)にホトレジスト膜や保護膜等が付着した場合であっても、これらを速やかに除去することができる。
ラクトン系溶剤としては、特に限定されるものではないが、γ−ブチロラクトン、α−メチル−γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、γ−カプロラクトン、γ−ラウロラクトン、δ−バレロラクトン、ヘキサノラクトン等が挙げられる。その中でも、洗浄性能や水溶性、入手の容易さの観点から、γ−ブチロラクトン、α−メチル−γ−ブチロラクトン、及びγ−バレロラクトンが好ましく、γ−ブチロラクトンが特に好ましい。
ラクトン系溶剤の含有量は、洗浄液中、60質量%以上であり、80質量%以上が好ましい。ラクトン系溶剤の含有量を上記範囲とすることにより、洗浄性能を向上させることができる。
[(c)液浸媒体]
本発明に係る洗浄液は、液浸露光プロセスにおいて使用する液浸媒体をさらに含有していてもよい。この液浸媒体を含有させることにより、再度液浸媒体に置換するときの置換効率が向上するため、洗浄作業による液浸露光装置の停止時間を短縮することができ、半導体製造のスループットを大きく低下させずに済むことになる。
本発明に係る洗浄液は、液浸露光プロセスにおいて使用する液浸媒体をさらに含有していてもよい。この液浸媒体を含有させることにより、再度液浸媒体に置換するときの置換効率が向上するため、洗浄作業による液浸露光装置の停止時間を短縮することができ、半導体製造のスループットを大きく低下させずに済むことになる。
液浸媒体としては、空気の屈折率よりも大きく、かつ、使用されるホトレジスト膜(露光対象物)の屈折率よりも小さい屈折率を有する液体であれば特に限定されるものではない。このような液浸媒体としては、水(純水、脱イオン水)、水に各種添加剤を配合して高屈折率化した液体、フッ素系不活性液体、シリコン系不活性液体、炭化水素系液体等が挙げられるが、近い将来に開発が見込まれる高屈折率特性を有する液浸媒体も使用可能である。フッ素系不活性液体としては、C3HCl2F5、C4F9OCH3、C4F9OC2H5、C5H3F7等のフッ素系化合物を主成分とする液体が挙げられる。これらのうち、コスト、安全性、環境問題、及び汎用性の観点から、193nmの波長の露光光(ArFエキシマレーザー等)を用いる場合には水(純水、脱イオン水)が好ましく、157nmの波長の露光光(F2エキシマレーザー等)を用いる場合にはフッ素系不活性溶剤が好ましい。
液浸媒体を含有させる場合、その含有量は、洗浄液中、40質量%未満が好ましく、1質量%〜20質量%がより好ましい。液浸媒体の含有量を上記範囲とすることにより、洗浄性能を低下させることなく、液浸媒体に置換するときの置換効率を効果的に向上させることができる。なお、液浸媒体の量が多すぎる場合には、洗浄液自体が白濁し、洗浄液として好ましくないものになる可能性がある。
[(d)水溶性有機溶剤]
本発明に係る洗浄液は、水溶性有機溶剤をさらに含有していてもよい。この水溶性有機溶剤を含有させることにより、洗浄液の安定性を向上させることができるとともに、洗浄性能をより向上させることができる。水溶性有機溶剤としては、アルカノールアミン類、アルキルアミン類、ポリアルキレンポリアミン類、グリコール類、エーテル類、ケトン類、アセテート類、及びカルボン酸エステル類の中から選ばれる少なくとも1種が好ましい。
本発明に係る洗浄液は、水溶性有機溶剤をさらに含有していてもよい。この水溶性有機溶剤を含有させることにより、洗浄液の安定性を向上させることができるとともに、洗浄性能をより向上させることができる。水溶性有機溶剤としては、アルカノールアミン類、アルキルアミン類、ポリアルキレンポリアミン類、グリコール類、エーテル類、ケトン類、アセテート類、及びカルボン酸エステル類の中から選ばれる少なくとも1種が好ましい。
アルカノールアミン類としては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、2−(2−アミノエトキシ)エタノール〔=ジグリコールアミン〕、N,N−ジメチルエタールアミン、N,N−ジエチルエタノールアミン、N,N−ジブチルエタノールアミン、N−メチルエタノールアミン、N−エチルエタノールアミン、N−ブチルエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン等が挙げられる。
アルキルアミン類としては、2−エチル−ヘキシルアミン、ジオクチルアミン、トリブチルアミン、トリプロピルアミン、トリアリルアミン、ヘプチルアミン、シクロヘキシルアミン等が挙げられる。
ポリアルキレンポリアミン類としては、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、プロピレンジアミン、N,N−ジエチルエチレンジアミン、N,N’−ジエチルエチレンジアミン、1,4−ブタンジアミン、N−エチル−エチレンジアミン、1,2−プロパンジアミン、1,3−プロパンジアミン、1,6−ヘキサンジアミン等が挙げられる。
グリコール類としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、1,2−ブチレングリコール、1,3−ブチレングリコール、2,3−ブチレングリコール等が挙げられる。
エーテル類としては、エチレングリコールモノメチルエーテル〔=メチルセロソルブ〕、エチレングリコールモノエチルエーテル〔=エチルセロソルブ〕、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル〔=ブチルジグリコール〕、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル等が挙げられる。
ケトン類としては、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルアミルケトン、ジイソプロピルケトン、シクロブタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等が挙げられる。
アセテート類としては、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート〔=メチルセロソルブアセテート〕、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート〔=エチルセロソルブアセテート〕、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテルアセテート〔=n−ブチルセロソルブアセテート〕、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が挙げられる。
カルボン酸エステル類としては、アルキル−又は脂肪族−カルボン酸エステル、モノオキシカルボン酸エステル等が挙げられ、具体的には、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸イソアミル等が挙げられる。
これらの中でも、アルカノールアミン類、グリコール類、エーテル類、ケトン類、アセテート類、及びカルボン酸エステル類が好ましい。
水溶性有機溶剤を含有させる場合、その含有量は、洗浄液中、0.1質量ppm〜20質量%が好ましく、1質量%〜8質量%がより好ましい。水溶性有機溶剤の含有量を上記範囲とすることにより、洗浄液の安定性を向上させることができるとともに、洗浄性能をより向上させることができる。
[(e)炭化水素系溶剤]
本発明に係る洗浄液は、炭化水素系溶剤をさらに含有していてもよい。この炭化水素系溶剤を含有させることにより、ホトレジスト膜からの溶出成分等に対する洗浄性能を向上させることができる。炭化水素系溶剤としては、アルカン類やアルケン類を広く用いることができるが、その中でも、炭素数8〜12の直鎖状又は分岐鎖状のアルカン類、炭素数8〜12の直鎖状又は分岐鎖状のアルケン類、及びテルペン類の中から選ばれる少なくとも1種が好ましい。
本発明に係る洗浄液は、炭化水素系溶剤をさらに含有していてもよい。この炭化水素系溶剤を含有させることにより、ホトレジスト膜からの溶出成分等に対する洗浄性能を向上させることができる。炭化水素系溶剤としては、アルカン類やアルケン類を広く用いることができるが、その中でも、炭素数8〜12の直鎖状又は分岐鎖状のアルカン類、炭素数8〜12の直鎖状又は分岐鎖状のアルケン類、及びテルペン類の中から選ばれる少なくとも1種が好ましい。
炭素数8〜12の直鎖状又は分岐鎖状のアルカン類、及び炭素数8〜12の直鎖状又は分岐鎖状のアルケン類としては、一般に市販されているものを用いることができる。その中でも、洗浄性能の観点から、n−デカン、1−デセンが好ましい。
テルペン類としては、モノテルペン類、ジテルペン類等が好ましい。モノテルペン類としては、ゲラニオール、ネロール、リナロール、シトラール、シトロネロール、p−メンタン、ジフェニルメンタン、メントール、イソメントール、ネオメントール、リモネン、ジペンテン、テルピネロール、カルボン、ヨノン、ツノン、カンファー、ボルナン、ボルネオール、ノルボルナン、ピナン、α−ピネン、β−ピネン、ツジャン、α−ツジョン、β−ツジョン、カラン、ショウノウ、α−テルピネン、β−テルピネン、γ−テルピネン等が挙げられる。ジテルペン類としては、アビエタン、アビエチン酸等が挙げられる。入手の容易さの観点からはモノテルペン類が好ましく、その中でも、洗浄性能が高いことから、リモネン、ピネン、及びp−メンタンの中から選ばれる少なくとも1種が好ましい。
炭化水素系溶剤を含有させる場合、その含有量は、洗浄液中、0.01質量%〜5質量%が好ましく、0.1質量%〜2質量%がより好ましい。炭化水素系溶剤の含有量を上記範囲とすることにより、洗浄性能をより向上させることができる。
≪露光・現像方法≫
液浸露光プロセスにおける露光方法、及びその後の現像方法は、例えば以下の通りである。
液浸露光プロセスにおける露光方法、及びその後の現像方法は、例えば以下の通りである。
先ず、露光対象物として、シリコンウェーハ等の基板上に、慣用のホトレジスト組成物をスピンナー等により塗布した後、プリベーク処理を行い、ホトレジスト膜を形成する。なお、基板上に有機系又は無機系の反射防止膜(下層反射防止膜)を設けてからホトレジスト膜を形成してもよい。また、ホトレジスト膜の表面に保護膜を形成してもよい。
ホトレジスト組成物としては、特に限定されるものではなく、ネガ型及びポジ型のホトレジスト組成物を含め、アルカリ水溶液で現像可能なホトレジスト組成物を任意に使用できる。このようなホトレジスト組成物としては、(i)ナフトキノンジアジド化合物とノボラック樹脂とを含有するポジ型ホトレジスト組成物、(ii)露光により酸を発生する化合物、酸の作用によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増大する化合物、及びアルカリ可溶性樹脂を含有するポジ型ホトレジスト組成物、(iii)露光により酸を発生する化合物、及び酸の作用によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増大する基を有するアルカリ可溶性樹脂を含有するポジ型ホトレジスト組成物、(iv)光により酸又はラジカルを発生する化合物、架橋剤、及びアルカリ可溶性樹脂を含有するネガ型ホトレジスト組成物等が挙げられる。
次に、このホトレジスト膜が形成された基板を、液浸露光装置のウェーハステージ上に載置する。液浸露光装置としては、該ウェーハステージ上に所定間隔を隔てて対向して光学レンズ部が配設されており、さらに液導入流路と液排出流路とを備えたものが好ましく用いられる。
続いて、光学レンズ部とホトレジスト膜が形成された基板との間の空間に、ウェーハステージの一方の方向から液導入流路を通して液浸媒体を導入し、同時にウェーハステージの他方の方向へ液排出流路を通して液浸媒体を排出(吸出)しながら、上記空間を液浸媒体で満たす。そして、その状態で、マスクパターンを介してホトレジスト膜を選択的に露光する。
露光光としては、特に限定されず、ArFエキシマレーザー、KrFエキシマレーザー、F2エキシマレーザー、EB、EUV、VUV(真空紫外線)等の放射線が使用可能である。また、液浸媒体としては、上述のように、水(純水、脱イオン水)、水に各種添加剤を配合して高屈折率化した液体、フッ素系不活性液体、シリコン系不活性液体、炭化水素系液体等が使用可能である。
ここで、局所液浸露光方式では、露光用レンズを高速でスキャニング移動させ、液導入ノズル(液導入流路)からホトレジスト膜上に液浸媒体を連続滴下する。そして、この連続滴下状態の基板上のホトレジスト膜に対して、マスクパターンを介して選択的に露光を行う。余分な液浸媒体は液排出ノズル(液排出流路)を通して排出される。
なお、局所液浸露光方式に限らず、上記ホトレジスト層が形成された基板を液浸媒体中に浸漬して露光する方式でもよい。
上記いずれの方式であっても、少なくとも光学レンズ部とホトレジスト膜が形成された基板との間が液浸媒体で満たされる。この状態の基板のホトレジスト膜に対して、マスクパターンを介して選択的に露光を行う。したがって、露光光は、液浸媒体を通過してホトレジスト膜に到達することになる。
このとき、ホトレジスト膜の構成成分が液浸媒体中に溶出し、それが液浸露光装置に汚染物として付着することがある。また、ホトレジスト膜やその保護膜が部分的に剥離し、それが液浸露光装置に汚染物として付着することがある。
液浸状態での露光工程が完了したら、基板を液浸媒体から取り出し、基板から液体を除去する。
続いて、露光したホトレジスト膜に対して露光後加熱処理(PEB処理)を行い、さらにアルカリ性水溶液からなるアルカリ現像液を用いて現像処理を行う。アルカリ現像液は慣用のものを任意に用いることができる。現像処理に続いて、ポストベーク処理を行ってもよい。その後、純水等を用いてリンスを行う。このリンスは、例えば、基板を回転させながら基板表面に水を滴下又は噴霧して、基板上のアルカリ現像液及び該アルカリ現像液によって溶解したホトレジスト膜(及び保護膜)を洗い流す。そして、乾燥を行うことにより、ホトレジスト膜がマスクパターンに応じた形状にパターニングされた、ホトレジストパターンが得られる。
このようにしてホトレジストパターンを形成することにより、微細な線幅のホトレジストパターン、特にピッチが小さいライン・アンド・スペースパターンを良好な解像度により製造することができる。
≪洗浄方法≫
本発明に係る第1の洗浄方法は、露光後に、本発明に係る洗浄液を液導入流路を通して導入し、該洗浄液を光学レンズ部に所定時間接触させることによって洗浄し、使用済みの洗浄液を液排出流路を通して排出するものである。このように、液浸媒体の導入・排出に用いた流路と同じ流路を共用することにより、洗浄液用流路を別途設ける必要がなく、製造コストの低減化を図ることができる。
本発明に係る第1の洗浄方法は、露光後に、本発明に係る洗浄液を液導入流路を通して導入し、該洗浄液を光学レンズ部に所定時間接触させることによって洗浄し、使用済みの洗浄液を液排出流路を通して排出するものである。このように、液浸媒体の導入・排出に用いた流路と同じ流路を共用することにより、洗浄液用流路を別途設ける必要がなく、製造コストの低減化を図ることができる。
光学レンズ部に対する洗浄液の接触時間は、ホトレジスト膜の溶出成分や、部分的に剥離して付着したホトレジスト膜、保護膜が洗浄・除去されるに足る時間であれば特に限定されるものではないが、通常、30秒〜10分間程度である。これにより、液浸露光装置、特には光学レンズ部にホトレジスト膜や保護膜等が付着した場合であっても、これらを速やかに除去することができるため、常に清浄な状態で高精度な露光処理を行うことが可能となる。また、この露光によって信頼性の高いホトレジストパターン形成が可能となる。
また、本発明に係る第2の洗浄方法は、露光後に、本発明に係る洗浄液を光学レンズ部に吹き付ける、又は、洗浄液を曝した布で光学レンズ部を拭くことによって、該光学レンズ部を洗浄するものである。この方法によっても、光学レンズ部に付着したホトレジスト膜や保護膜等を速やかに除去することができる。
なお、本発明に係る洗浄液を用いた洗浄方法は、上記2種類の方法に限定されるものではない。
以下、本発明について実施例を参照して詳細に説明する。なお、本発明は、下記の実施例に何ら限定されるものではない。
[実施例1〜24、比較例1〜18]
ヘキサメチルジシラザン(HMDS)(商品名:OAP、東京応化工業社製)で処理した8インチシリコン基板に、ホトレジスト組成物(商品名:TArF−P6239ME、東京応化工業社製)を1500rpmで塗布し、110℃で60秒間加熱して、膜厚200nmのホトレジスト膜を得た。このホトレジスト膜が形成されたシリコン基板を表1〜表4に示す組成の各種洗浄液に5分間浸漬させ、脱イオン水で30秒間リンスした後、窒素ブローにより乾燥させ、ホトレジスト膜の溶解性を確認した。結果を表1〜表4に示す。
ヘキサメチルジシラザン(HMDS)(商品名:OAP、東京応化工業社製)で処理した8インチシリコン基板に、ホトレジスト組成物(商品名:TArF−P6239ME、東京応化工業社製)を1500rpmで塗布し、110℃で60秒間加熱して、膜厚200nmのホトレジスト膜を得た。このホトレジスト膜が形成されたシリコン基板を表1〜表4に示す組成の各種洗浄液に5分間浸漬させ、脱イオン水で30秒間リンスした後、窒素ブローにより乾燥させ、ホトレジスト膜の溶解性を確認した。結果を表1〜表4に示す。
また、ヘキサメチルジシラザン(HMDS)(商品名:OAP、東京応化工業社製)で処理した8インチシリコン基板に、保護膜形成用組成物(商品名:TILC−057、東京応化工業社製)を1500rpmで塗布し、90℃で60秒間加熱して、膜厚35nmの保護膜を得た。この保護膜が形成されたシリコン基板を表1〜表4に示す組成の各種洗浄液に5分間浸漬させ、脱イオン水で30秒間リンスした後、窒素ブローにより乾燥させ、保護膜の溶解性を確認した。結果を表1〜表4に示す。
なお、表1〜表4における洗浄効果の評価基準は、以下の通りである。
(評価基準)
○:完全に溶解した
△:不完全ながら溶解した
×:溶解せず
(評価基準)
○:完全に溶解した
△:不完全ながら溶解した
×:溶解せず
S2:ポリオキシエチレンステアリルエーテル(商品名:ニューコール1820、日本乳化剤社製)
GBL:γ−ブチロラクトン
PGME:プロピレングリコールモノメチルエーテル
BDG:ブチルジグリコール
表1〜表4から分かるように、ラクトン系溶剤の含有量が60質量%以上である実施例1〜24の洗浄液を用いた場合には、ホトレジスト膜及び保護膜のいずれもが溶解した。特に、ラクトン系溶剤の含有量が80質量%以上である実施例1〜12の洗浄液を用いた場合には、ホトレジスト膜及び保護膜のいずれもが完全に溶解した。一方、ラクトン系溶剤の含有量が60質量%未満である比較例1〜18の洗浄液を用いた場合には、ホトレジスト膜は溶解せず、保護膜の溶解性も悪かった。この結果から、ホトレジスト膜や保護膜が部分的に剥離して液浸露光装置に付着した場合であっても、ラクトン系溶剤の含有量が60質量%以上である本発明に係る洗浄液を用いることにより、これらを速やかに除去することができると考えられる。
Claims (14)
- 光学レンズ部とウェーハステージ上に載置した露光対象物との間を液浸媒体で満たして露光を行う液浸露光装置の洗浄に使用される洗浄液であって、
(a)界面活性剤、及び(b)ラクトン系溶剤を含有し、
前記(b)ラクトン系溶剤の含有量が60質量%以上であることを特徴とする洗浄液。 - 前記(a)界面活性剤がノニオン性界面活性剤であることを特徴とする請求項1記載の洗浄液。
- 前記(b)ラクトン系溶剤が、γ−ブチロラクトン、α−メチル−γ−ブチロラクトン、及びγ−バレロラクトンの中から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1又は2記載の洗浄液。
- さらに、(c)液浸媒体を含有することを特徴とする請求項1から3のいずれか1項記載の洗浄液。
- 前記(c)液浸媒体の含有量が40質量%未満であることを特徴とする請求項4記載の洗浄液。
- 前記(c)液浸媒体が水であることを特徴とする請求項4又は5記載の洗浄液。
- さらに、(d)水溶性有機溶剤を含有することを特徴とする請求項1から6のいずれか1項記載の洗浄液。
- 前記(d)水溶性有機溶剤が、アルカノールアミン類、アルキルアミン類、ポリアルキレンポリアミン類、グリコール類、エーテル類、ケトン類、アセテート類、及びカルボン酸エステル類の中から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項7記載の洗浄液。
- 前記(d)水溶性有機溶剤の含有量が0.1質量ppm〜20質量%であることを特徴とする請求項7又は8記載の洗浄液。
- さらに、(e)炭化水素系溶剤を含有することを特徴とする請求項1から9のいずれか1項記載の洗浄液。
- 前記(e)炭化水素系溶剤が、炭素数8〜12の直鎖状又は分岐鎖状のアルカン類、炭素数8〜12の直鎖状又は分岐鎖状のアルケン類、及びテルペン類の中から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項10記載の洗浄液。
- 前記(e)炭化水素系溶剤の含有量が100質量ppm〜5質量%であることを特徴とする請求項10又は11記載の洗浄液。
- 光学レンズ部と、ウェーハステージと、液導入流路と、液排出流路とを少なくとも備えた液浸露光装置を用いて、前記光学レンズ部と前記ウェーハステージ上に載置した露光対象物との間に、前記液導入流路を通して液浸媒体を導入して満たしつつ、前記液排出流路を通して前記液浸媒体を排出しながら、露光を行う液浸露光プロセスにおいて、露光後、請求項1から12のいずれか1項記載の洗浄液を前記液導入流路を通して導入し、該洗浄液を前記光学レンズ部に所定時間接触させることによって洗浄し、使用済みの前記洗浄液を前記液排出流路を通して排出することを特徴とする洗浄方法。
- 光学レンズ部とウェーハステージとを少なくとも備えた液浸露光装置を用いて、前記光学レンズ部と前記ウェーハステージ上に載置した露光対象物との間を液浸媒体で満たして露光を行う液浸露光プロセスにおいて、露光後、請求項1から12のいずれか1項記載の洗浄液を前記光学レンズ部に吹き付ける、又は、前記洗浄液を曝した布で前記光学レンズ部を拭くことによって、該光学レンズ部を洗浄することを特徴とする洗浄方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007314589A JP2009141050A (ja) | 2007-12-05 | 2007-12-05 | 洗浄液及び洗浄方法 |
PCT/JP2008/068568 WO2009072352A1 (ja) | 2007-12-05 | 2008-10-14 | 洗浄液及び洗浄方法 |
TW097145814A TW200925795A (en) | 2007-12-05 | 2008-11-26 | Cleaning liquid and cleaning method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007314589A JP2009141050A (ja) | 2007-12-05 | 2007-12-05 | 洗浄液及び洗浄方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009141050A true JP2009141050A (ja) | 2009-06-25 |
Family
ID=40717533
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007314589A Pending JP2009141050A (ja) | 2007-12-05 | 2007-12-05 | 洗浄液及び洗浄方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2009141050A (ja) |
TW (1) | TW200925795A (ja) |
WO (1) | WO2009072352A1 (ja) |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0468095A (ja) * | 1990-07-09 | 1992-03-03 | Asahi Chem Ind Co Ltd | フラックス洗浄剤 |
JPH0665769A (ja) * | 1992-08-18 | 1994-03-08 | Mitsubishi Kasei Corp | 脱脂洗浄剤 |
JPH07331292A (ja) * | 1994-06-15 | 1995-12-19 | Tonen Corp | 洗浄液組成物 |
JP4530382B2 (ja) * | 1999-12-09 | 2010-08-25 | 株式会社ジャパンエナジー | ワックス・ピッチ用洗浄液組成物 |
JP2003082390A (ja) * | 2001-09-12 | 2003-03-19 | Neos Co Ltd | レンズ及びプリズム製造工程用洗浄剤組成物 |
JP4305095B2 (ja) * | 2003-08-29 | 2009-07-29 | 株式会社ニコン | 光学部品の洗浄機構を搭載した液浸投影露光装置及び液浸光学部品洗浄方法 |
JP2007123775A (ja) * | 2005-10-31 | 2007-05-17 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 洗浄液および洗浄方法 |
TWI413155B (zh) * | 2005-11-22 | 2013-10-21 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 光微影蝕刻用洗淨液及使用其之曝光裝置之洗淨方法 |
JP2007150102A (ja) * | 2005-11-29 | 2007-06-14 | Fujitsu Ltd | 露光装置及び光学素子の洗浄方法 |
-
2007
- 2007-12-05 JP JP2007314589A patent/JP2009141050A/ja active Pending
-
2008
- 2008-10-14 WO PCT/JP2008/068568 patent/WO2009072352A1/ja active Application Filing
- 2008-11-26 TW TW097145814A patent/TW200925795A/zh unknown
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Publication number | Publication date |
---|---|
WO2009072352A1 (ja) | 2009-06-11 |
TW200925795A (en) | 2009-06-16 |
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