JP2009128815A - Device and method for correcting defect of color filter - Google Patents

Device and method for correcting defect of color filter Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a device and a method for correcting properly a defect of a color filter. <P>SOLUTION: This device for correcting the defect of the color filter corrects the defect of the color filter having a light transmission area and a light shielding area adjacent to the light transmission area. The device for correcting the defect of the color filter is provided with an image processing part 3 for detecting the defect of the color filter, and for determining an area to execute correction processing in the color filter, based on the detected defect, and based on a positional relation between the light transmission area and the light shielding area, and a correction processing part 50 for executing the correction processing for at least one of the irradiation onto the determined area in the color filter with a laser beam and the application of ink thereon. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、カラーフィルタ欠陥修正装置およびカラーフィルタ欠陥修正方法に関し、特に、カラーフィルタのブラックマトリックス領域および着色領域の欠陥を修正するカラーフィルタ欠陥修正装置およびカラーフィルタ欠陥修正方法に関する。   The present invention relates to a color filter defect correcting apparatus and a color filter defect correcting method, and more particularly to a color filter defect correcting apparatus and a color filter defect correcting method for correcting defects in a black matrix region and a colored region of a color filter.

液晶ディスプレイの構成部品であるカラーフィルタには、ブラックマトリックスと呼ばれる格子状のパターン（クロム、酸化クロムおよび樹脂等の材料）および着色領域（以下、カラーフィルタ領域とも称する）が形成される。ブラックマトリックスを形成する段階での欠陥には、カラーフィルタ領域（この段階では色なし）にまでブラックマトリックスがはみ出した黒欠陥と、ブラックマトリックスの一部が欠落した白欠陥とがある。また、着色後にも互いの色が混色した黒欠陥と、色抜けした白欠陥とがある。従来は、作業者がカメラ画像を見ながらレーザ光で黒欠陥を修正したり、インクで白欠陥を埋めたりして修正する方法が採用されている。   A color filter, which is a component part of a liquid crystal display, is formed with a lattice-like pattern (a material such as chromium, chromium oxide, and resin) called a black matrix and a colored region (hereinafter also referred to as a color filter region). The defects at the stage of forming the black matrix include a black defect in which the black matrix protrudes to the color filter region (no color at this stage) and a white defect in which a part of the black matrix is missing. Further, even after coloring, there are black defects in which the colors are mixed and white defects in which the colors are missing. Conventionally, a method has been adopted in which an operator corrects a black defect with a laser beam while observing a camera image or fills a white defect with ink.

たとえば、特開平９−６１２９６号公報（特許文献１）には以下のようなカラーフィルタ欠陥修正装置が開示されている。すなわち、画像処理部によってカラーフィルタの欠陥部分を認識し、認識されたカラーフィルタの欠陥部分に、インク塗布部のインク塗布用針でインクを塗布し、インク硬化部により塗布したインクを硬化させ、塗布されたインクのうち不要な部分をレーザ照射部からレーザを照射することによって除去する。   For example, Japanese Patent Laid-Open No. 9-61296 (Patent Document 1) discloses the following color filter defect correcting apparatus. That is, a defective part of the color filter is recognized by the image processing unit, ink is applied to the recognized defective part of the color filter with an ink application needle of the ink application unit, and the ink applied by the ink curing unit is cured, Unnecessary portions of the applied ink are removed by irradiating the laser from the laser irradiation unit.

また、特開２００５−１０７３２７号公報（特許文献２）には、レーザ光の照射によりカラーフィルタの複数の欠陥を一時に除去する構成が開示されている。
特開平９−６１２９６号公報 特開２００５−１０７３２７号公報 Japanese Patent Laying-Open No. 2005-107327 (Patent Document 2) discloses a configuration in which a plurality of defects in a color filter are removed at a time by laser light irradiation.
Japanese Patent Laid-Open No. 9-61296 JP 2005-107327 A

しかしながら、特許文献１および特許文献２では、絵素と同サイズで同形状のスリットを用いており、欠陥を含む絵素全体にレーザを照射しているため、欠陥以外の除去された部分にもインクを塗布する必要がある。このため、欠陥のみにインクを塗布する場合よりも多くの時間を要する。   However, in Patent Document 1 and Patent Document 2, a slit having the same size and shape as the picture element is used, and the entire picture element including the defect is irradiated with the laser. It is necessary to apply ink. For this reason, more time is required than when ink is applied only to defects.

それゆえに、本発明の目的は、カラーフィルタの欠陥修正を適切に行なうことが可能なカラーフィルタ欠陥修正装置およびカラーフィルタ欠陥修正方法を提供することである。   SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a color filter defect correcting apparatus and a color filter defect correcting method capable of appropriately correcting a color filter defect.

上記課題を解決するために、この発明のある局面に係わるカラーフィルタ欠陥修正装置は、光透過領域および光透過領域に隣接する遮光領域を有するカラーフィルタの欠陥を修正するカラーフィルタ欠陥修正装置であって、カラーフィルタの欠陥を検出し、検出された欠陥と、光透過領域および遮光領域との位置関係に基づいて、カラーフィルタにおいて修正処理を行なうべき領域を決定する画像処理部と、カラーフィルタにおける決定された領域へのレーザ光の照射およびインク塗布のうち少なくともいずれか一方の修正処理を行なう修正処理部とを備える。   In order to solve the above problems, a color filter defect correcting apparatus according to an aspect of the present invention is a color filter defect correcting apparatus that corrects a defect in a color filter having a light transmission region and a light shielding region adjacent to the light transmission region. An image processing unit that detects a defect in the color filter and determines an area to be corrected in the color filter based on the positional relationship between the detected defect and the light transmission area and the light shielding area; A correction processing unit that performs correction processing of at least one of irradiation of the laser beam to the determined region and ink application.

好ましくは、修正処理部は、スリットを形成するスリット部と、スリットを介してカラーフィルタにレーザ光を照射するレーザ照射部とを含み、画像処理部は、検出された欠陥の全領域が光透過領域に存在する場合には、レーザ光が照射されるカラーフィルタの領域が検出された欠陥の少なくとも一部を含み、かつ遮光領域と重ならないようにスリットの位置を決定し、レーザ照射部は、決定された位置におけるスリットを介してカラーフィルタにレーザ光を照射する。   Preferably, the correction processing unit includes a slit unit that forms a slit and a laser irradiation unit that irradiates the color filter with laser light through the slit, and the image processing unit transmits the entire area of the detected defect through light. If present in the region, determine the position of the slit so that the color filter region irradiated with the laser light includes at least a part of the detected defect and does not overlap the light shielding region, the laser irradiation unit, The color filter is irradiated with laser light through a slit at the determined position.

好ましくは、修正処理部は、スリットを形成するスリット部と、スリットを介してカラーフィルタにレーザ光を照射するレーザ照射部とを含み、画像処理部は、検出された欠陥が遮光領域および光透過領域にまたがって存在する場合には、レーザ光が照射されるカラーフィルタの領域が検出された欠陥の少なくとも一部を含み、かつレーザ光が照射されるカラーフィルタの領域と遮光領域との重なり領域が最小になるようにスリットの位置を決定し、レーザ照射部は、決定された位置におけるスリットを介してカラーフィルタにレーザ光を照射する。   Preferably, the correction processing unit includes a slit unit that forms a slit, and a laser irradiation unit that irradiates the color filter with laser light through the slit. In the case where the region exists across the region, the color filter region irradiated with the laser beam includes at least a part of the detected defect, and the color filter region irradiated with the laser beam overlaps the light shielding region. The position of the slit is determined so as to be minimized, and the laser irradiation unit irradiates the color filter with laser light through the slit at the determined position.

好ましくは、画像処理部は、さらに、検出された欠陥が遮光領域および光透過領域にまたがって存在する場合には、検出された欠陥のうちの遮光領域における欠陥の大きさと光透過領域における欠陥の大きさとを比較し、修正処理部は、遮光領域および光透過領域のうち、欠陥の大きい方の領域に対応する色のインクを選択し、カラーフィルタにおける決定された領域に選択した色のインクを塗布するインク塗布部を含む。   Preferably, when the detected defect exists across the light shielding region and the light transmission region, the image processing unit preferably further determines the size of the defect in the light shielding region among the detected defects and the defect in the light transmission region. The correction processing unit selects the color ink corresponding to the region with the larger defect out of the light shielding region and the light transmission region, and applies the selected color ink to the determined region in the color filter. An ink application part to be applied is included.

好ましくは、カラーフィルタは、遮光領域を介して対向して配置される第１の光透過領域および第２の光透過領域を有し、修正処理部は、第１の光透過領域および第２の光透過領域間の距離より大きい幅を有するスリットを形成するスリット部と、スリットを介してカラーフィルタにレーザ光を照射するレーザ照射部とを含み、画像処理部は、検出された欠陥の全領域が遮光領域に存在する場合には、レーザ光が照射されるカラーフィルタの領域が検出された欠陥の少なくとも一部を含み、かつ遮光領域および１つの光透過領域と重なるようにスリットの位置を決定し、レーザ照射部は、決定された位置におけるスリットを介してカラーフィルタにレーザ光を照射する。   Preferably, the color filter has a first light transmission region and a second light transmission region which are arranged to face each other via the light shielding region, and the correction processing unit includes the first light transmission region and the second light transmission region. The image processing unit includes a slit part that forms a slit having a width larger than the distance between the light transmission regions and a laser irradiation part that irradiates the color filter with laser light through the slit, and the image processing unit Is present in the light shielding area, the position of the slit is determined so that the color filter area irradiated with the laser light includes at least a part of the detected defect and overlaps the light shielding area and one light transmission area. Then, the laser irradiation unit irradiates the color filter with laser light through the slit at the determined position.

好ましくは、カラーフィルタは、遮光領域を介して対向して配置される第１の光透過領域および第２の光透過領域を有し、修正処理部は、カラーフィルタにおいて、第１の光透過領域および第２の光透過領域間の距離より大きい幅を有する領域にインクを塗布するインク塗布部を含み、画像処理部は、検出された欠陥の全領域が遮光領域に存在する場合には、インクが塗布されるカラーフィルタの領域が検出された欠陥の少なくとも一部を含み、かつ遮光領域および１つの光透過領域と重なるようにインク塗布部の位置を決定し、インク塗布部は、決定された位置においてカラーフィルタにインクを塗布する。   Preferably, the color filter has a first light transmission region and a second light transmission region which are arranged to face each other via the light shielding region, and the correction processing unit includes the first light transmission region in the color filter. And an ink application unit that applies ink to a region having a width larger than the distance between the second light transmission regions, and the image processing unit is configured to use ink if the entire region of the detected defect exists in the light shielding region. The position of the ink application part is determined so that the area of the color filter to which the ink is applied includes at least a part of the detected defect and overlaps the light-shielding area and the one light transmission area. Ink is applied to the color filter at the position.

好ましくは、修正処理部は、スリットを形成するスリット部と、スリットを介してカラーフィルタにレーザ光を照射するレーザ照射部とを含み、画像処理部は、検出された欠陥の位置に基づいてスリットの第１の位置を決定し、検出された欠陥の全領域が光透過領域に存在する場合には、第１の位置におけるスリットを介してレーザ光が照射されるであろうカラーフィルタの領域と遮光領域との重なり領域に基づいて第１の位置を補正することによりスリットの第２の位置を決定し、レーザ照射部は、第２の位置におけるスリットを介してカラーフィルタにレーザ光を照射する。   Preferably, the correction processing unit includes a slit unit that forms a slit, and a laser irradiation unit that irradiates the color filter with laser light through the slit, and the image processing unit performs slitting based on the position of the detected defect. The first position of the color filter, and when the entire area of the detected defect exists in the light transmission area, the area of the color filter that is to be irradiated with the laser light through the slit at the first position; The second position of the slit is determined by correcting the first position based on the overlapping area with the light shielding area, and the laser irradiation unit irradiates the color filter with the laser light through the slit at the second position. .

好ましくは、修正処理部は、スリットを形成するスリット部と、スリットを介してカラーフィルタにレーザ光を照射するレーザ照射部とを含み、画像処理部は、検出された欠陥の位置に基づいてスリットの第１の位置を決定し、検出された欠陥の全領域が遮光領域に存在する場合には、第１の位置におけるスリットを介してレーザ光が照射されるであろうカラーフィルタの領域と光透過領域との重なり領域に基づいて第１の位置を補正することによりスリットの第２の位置を決定し、レーザ照射部は、第２の位置におけるスリットを介してカラーフィルタにレーザ光を照射する。   Preferably, the correction processing unit includes a slit unit that forms a slit, and a laser irradiation unit that irradiates the color filter with laser light through the slit, and the image processing unit performs slitting based on the position of the detected defect. The first position of the color filter, and if the entire area of the detected defect exists in the light-shielding area, the color filter area and light that will be irradiated with the laser light through the slit at the first position The second position of the slit is determined by correcting the first position based on the overlapping area with the transmissive area, and the laser irradiation unit irradiates the color filter with laser light through the slit at the second position. .

上記課題を解決するために、この発明のある局面に係わるカラーフィルタ欠陥修正方法は、光透過領域および光透過領域に隣接する遮光領域を有するカラーフィルタの欠陥を修正するカラーフィルタ欠陥修正方法であって、カラーフィルタの欠陥を検出するステップと、検出された欠陥と、光透過領域および遮光領域との位置関係に基づいて、カラーフィルタにおいて修正処理を行なうべき領域を決定するステップと、カラーフィルタにおける決定された領域へのレーザ光の照射およびインク塗布のうち少なくともいずれか一方の修正処理を行なうステップとを含む。   In order to solve the above problems, a color filter defect correction method according to an aspect of the present invention is a color filter defect correction method for correcting defects in a color filter having a light transmission region and a light shielding region adjacent to the light transmission region. A step of detecting a defect of the color filter, a step of determining a region to be corrected in the color filter based on a positional relationship between the detected defect and the light transmission region and the light shielding region, Performing a correction process of at least one of irradiation of the laser beam to the determined region and ink application.

好ましくは、カラーフィルタ欠陥修正方法は、さらに、スリットを形成するステップを含み、修正処理を行なうべき領域を決定するステップにおいては、検出された欠陥の全領域が光透過領域に存在する場合には、レーザ光が照射されるカラーフィルタの領域が検出された欠陥の少なくとも一部を含み、かつ遮光領域と重ならないようにスリットの位置を決定し、修正処理を行なうステップにおいては、決定された位置におけるスリットを介してカラーフィルタにレーザ光を照射する。   Preferably, the color filter defect correcting method further includes a step of forming a slit, and in the step of determining an area to be corrected, if the entire area of the detected defect exists in the light transmission area. In the step of determining the position of the slit so that the area of the color filter irradiated with the laser light includes at least a part of the detected defect and does not overlap the light shielding area, and performing the correction process, the determined position The color filter is irradiated with laser light through the slits in FIG.

好ましくは、カラーフィルタ欠陥修正方法は、さらに、スリットを形成するステップを含み、修正処理を行なうべき領域を決定するステップにおいては、検出された欠陥が遮光領域および光透過領域にまたがって存在する場合には、レーザ光が照射されるカラーフィルタの領域が検出された欠陥の少なくとも一部を含み、かつレーザ光が照射されるカラーフィルタの領域と遮光領域との重なり領域が最小になるようにスリットの位置を決定し、修正処理を行なうステップにおいては、決定された位置におけるスリットを介してカラーフィルタにレーザ光を照射する。   Preferably, the color filter defect correcting method further includes a step of forming a slit, and in the step of determining the region to be corrected, the detected defect exists across the light shielding region and the light transmitting region. The color filter area irradiated with the laser beam includes at least a part of the detected defect, and the slit is formed so that the overlapping area between the color filter area irradiated with the laser beam and the light shielding area is minimized. In the step of determining the position and performing the correction process, the color filter is irradiated with laser light through the slit at the determined position.

好ましくは、修正処理を行なうべき領域を決定するステップにおいては、さらに、検出された欠陥が遮光領域および光透過領域にまたがって存在する場合には、検出された欠陥のうちの遮光領域における欠陥の大きさと光透過領域における欠陥の大きさとを比較し、修正処理を行なうステップにおいては、遮光領域および光透過領域のうち、欠陥の大きい方の領域に対応する色のインクを選択し、カラーフィルタにおける決定された領域に選択した色のインクを塗布する。   Preferably, in the step of determining the region to be corrected, if the detected defect exists across the light shielding region and the light transmission region, the defect in the light shielding region among the detected defects is preferably determined. In the step of comparing the size and the size of the defect in the light transmission region and performing the correction process, the color ink corresponding to the region having the larger defect is selected from the light shielding region and the light transmission region, and the color filter Ink of the selected color is applied to the determined area.

好ましくは、カラーフィルタは、遮光領域を介して対向して配置される第１の光透過領域および第２の光透過領域を有し、カラーフィルタ欠陥修正方法は、さらに、第１の光透過領域および第２の光透過領域間の距離より大きい幅を有するスリットを形成するステップを含み、修正処理を行なうべき領域を決定するステップにおいては、検出された欠陥の全領域が遮光領域に存在する場合には、レーザ光が照射されるカラーフィルタの領域が検出された欠陥の少なくとも一部を含み、かつ遮光領域および１つの光透過領域と重なるようにスリットの位置を決定し、修正処理を行なうステップにおいては、決定された位置におけるスリットを介してカラーフィルタにレーザ光を照射する。   Preferably, the color filter has a first light transmission region and a second light transmission region which are arranged to face each other via the light shielding region, and the color filter defect correction method further includes the first light transmission region. And a step of forming a slit having a width larger than the distance between the second light transmission regions, and in the step of determining the region to be corrected, the entire region of the detected defect exists in the light shielding region Includes a step of determining the position of the slit so that the region of the color filter irradiated with the laser light includes at least a part of the detected defect and overlaps the light shielding region and the one light transmission region, and performing a correction process. In, the color filter is irradiated with laser light through a slit at the determined position.

好ましくは、カラーフィルタは、遮光領域を介して対向して配置される第１の光透過領域および第２の光透過領域を有し、修正処理を行なうステップにおいては、第１の光透過領域および第２の光透過領域間の距離より大きい幅を有するカラーフィルタの領域にインクを塗布し、修正処理を行なうべき領域を決定するステップにおいては、検出された欠陥の全領域が遮光領域に存在する場合には、インクが塗布されるカラーフィルタの領域が検出された欠陥の少なくとも一部を含み、かつ遮光領域および１つの光透過領域と重なるようにインクを塗布する位置を決定し、修正処理を行なうステップにおいては、決定された位置において、カラーフィルタの領域にインクを塗布する。   Preferably, the color filter has a first light transmission region and a second light transmission region which are arranged to face each other via the light shielding region, and in the step of performing the correction process, the first light transmission region and In the step of applying ink to the area of the color filter having a width larger than the distance between the second light transmission areas and determining the area to be corrected, the entire area of the detected defect exists in the light shielding area. In this case, the color filter region to which the ink is applied includes at least a part of the detected defect, and the position where the ink is applied is determined so as to overlap the light shielding region and the one light transmission region, and correction processing is performed. In the performing step, ink is applied to the area of the color filter at the determined position.

好ましくは、カラーフィルタ欠陥修正方法は、さらに、スリットを形成するステップを含み、修正処理を行なうべき領域を決定するステップは、検出された欠陥の位置に基づいてスリットの第１の位置を決定するステップと、検出された欠陥の全領域が光透過領域に存在する場合には、第１の位置におけるスリットを介してレーザ光が照射されるであろうカラーフィルタの領域と遮光領域との重なり領域に基づいて第１の位置を補正することによりスリットの第２の位置を決定するステップとを含み、修正処理を行なうステップにおいては、第２の位置におけるスリットを介してカラーフィルタにレーザ光を照射する。   Preferably, the color filter defect correcting method further includes a step of forming a slit, and the step of determining the region to be corrected determines the first position of the slit based on the position of the detected defect. If the step and the entire area of the detected defect are present in the light transmission area, the overlapping area of the color filter area and the light shielding area that will be irradiated with the laser light through the slit at the first position The second position of the slit is determined by correcting the first position based on the step, and in the step of performing the correction process, the color filter is irradiated with the laser light through the slit at the second position. To do.

好ましくは、カラーフィルタ欠陥修正方法は、さらに、スリットを形成するステップを含み、修正処理を行なうべき領域を決定するステップは、検出された欠陥の位置に基づいてスリットの第１の位置を決定するステップと、検出された欠陥の全領域が遮光領域に存在する場合には、第１の位置におけるスリットを介してレーザ光が照射されるであろうカラーフィルタの領域と光透過領域との重なり領域に基づいて第１の位置を補正することによりスリットの第２の位置を決定するステップとを含み、修正処理を行なうステップにおいては、第２の位置におけるスリットを介してカラーフィルタにレーザ光を照射する。   Preferably, the color filter defect correcting method further includes a step of forming a slit, and the step of determining the region to be corrected determines the first position of the slit based on the position of the detected defect. If the step and the entire area of the detected defect exist in the light-shielding area, the overlapping area of the color filter area and the light transmission area that will be irradiated with the laser light through the slit at the first position The second position of the slit is determined by correcting the first position based on the step, and in the step of performing the correction process, the color filter is irradiated with the laser light through the slit at the second position. To do.

本発明によれば、カラーフィルタの欠陥修正を適切に行なうことができる。   According to the present invention, defect correction of a color filter can be performed appropriately.

以下、本発明の実施の形態について図面を用いて説明する。なお、図中同一または相当部分には同一符号を付してその説明は繰り返さない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the drawings, the same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals and description thereof will not be repeated.

［構成および基本動作］
図１は、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置の構成を示す外観図である。 [Configuration and basic operation]
FIG. 1 is an external view showing a configuration of a color filter defect correcting apparatus according to an embodiment of the present invention.

図１を参照して、カラーフィルタ欠陥修正装置１０１は、ホストコンピュータ１と、制御用コンピュータ（制御部）２と、画像処理部３と、Ｚ軸ステージ４と、ＸＹテーブル５と、チャック台６と、レーザ照射部７と、可変スリット部８と、インク塗布部９と、モニタ１０と、対物レンズ２１とを備える。レーザ照射部７と、可変スリット部８と、インク塗布部９とは、修正処理部５０を構成する。Ｚ軸ステージ４と、ＸＹテーブル５とは、位置決め機構５１を構成する。可変スリット部８は、後述するＸＹスリット機構６１と、θスリット機構６２とを含む。   Referring to FIG. 1, a color filter defect correcting apparatus 101 includes a host computer 1, a control computer (control unit) 2, an image processing unit 3, a Z-axis stage 4, an XY table 5, and a chuck base 6. A laser irradiation unit 7, a variable slit unit 8, an ink application unit 9, a monitor 10, and an objective lens 21. The laser irradiation unit 7, the variable slit unit 8, and the ink application unit 9 constitute a correction processing unit 50. The Z axis stage 4 and the XY table 5 constitute a positioning mechanism 51. The variable slit portion 8 includes an XY slit mechanism 61 and a θ slit mechanism 62 described later.

ホストコンピュータ１は、カラーフィルタ欠陥修正装置１０１全体の制御を行なう。
制御用コンピュータ２は、カラーフィルタ欠陥修正装置１０１に実装されている各ユニットを制御する。 The host computer 1 controls the entire color filter defect correction apparatus 101.
The control computer 2 controls each unit mounted on the color filter defect correction apparatus 101.

画像処理部３は、図示しないＣＣＤ（Charge Coupled Devices）カメラでカラーフィルタを撮影し、撮影した画像に基づいてカラーフィルタの欠陥箇所を検出する。   The image processing unit 3 captures a color filter with a CCD (Charge Coupled Devices) camera (not shown), and detects a defective portion of the color filter based on the captured image.

また、画像処理部３は、欠陥検出結果に基づいて、２値化された欠陥抽出画像を生成し、２値化された正常時のマスク画像と欠陥抽出画像との論理積に基づいてカラーフィルタのブラックマトリックス領域における欠陥およびカラーフィルタ領域における欠陥を判別する。   Further, the image processing unit 3 generates a binarized defect extraction image based on the defect detection result, and a color filter based on a logical product of the binarized normal mask image and the defect extraction image. A defect in the black matrix region and a defect in the color filter region are discriminated.

位置決め機構５１は、カラーフィルタの位置を変更する。すなわち、Ｚ軸ステージ４は、ＸＹテーブル５に対する修正処理部５０の高さを変更する。ＸＹテーブル５は、カラーフィルタの水平方向の位置を変更する。   The positioning mechanism 51 changes the position of the color filter. That is, the Z-axis stage 4 changes the height of the correction processing unit 50 with respect to the XY table 5. The XY table 5 changes the position of the color filter in the horizontal direction.

チャック台６は、修正対象であるカラーフィルタ等が載せられて固定される台である。
レーザ照射部７は、可変スリット部８の形成するスリットを介してカラーフィルタにおける１個以上の画素にレーザ光を照射する。 The chuck table 6 is a table on which a color filter or the like to be corrected is placed and fixed.
The laser irradiation unit 7 irradiates one or more pixels in the color filter with laser light through a slit formed by the variable slit unit 8.

ここで、制御用コンピュータ２は、レーザ光の１回当たりの照射範囲を１個以上保存する図示しない記憶部を含む。記憶部は、たとえばカラーフィルタの種類ごとにレーザ光の１回当たりの照射範囲を保存する。   Here, the control computer 2 includes a storage unit (not shown) that stores one or more irradiation ranges per one laser beam. A memory | storage part preserve | saves the irradiation range per time of a laser beam for every kind of color filter, for example.

また、制御用コンピュータ２は、画像処理部３の欠陥検出結果に基づいてＸＹテーブル５およびＺ軸ステージ４を制御して、カラーフィルタに対するレーザ光の照射位置およびインクの塗布位置をそれぞれ少なくとも１箇所決定する。   In addition, the control computer 2 controls the XY table 5 and the Z-axis stage 4 based on the defect detection result of the image processing unit 3, so that at least one laser beam irradiation position and ink application position are respectively applied to the color filter. decide.

可変スリット部８は、画像処理部３の欠陥検出結果に基づいて、記憶部に保存された１個以上の照射範囲から１個の照射範囲を選択し、選択したレーザ光の照射範囲に基づいてスリットの形状および大きさを調整することにより、レーザ照射部７からのレーザ光のカラーフィルタにおける照射範囲を調整する。ここで、可変スリット部８のスリットサイズすなわち記憶部の保存するレーザ光の１回当たりの照射範囲は、カラーフィルタの絵素より小さくすることが可能である。ＸＹスリット機構６１は、スリットの縦横サイズを調整する。θスリット機構６２は、スリットの角度を調整する。   The variable slit unit 8 selects one irradiation range from one or more irradiation ranges stored in the storage unit based on the defect detection result of the image processing unit 3, and based on the selected irradiation range of the laser beam. By adjusting the shape and size of the slit, the irradiation range of the laser light from the laser irradiation unit 7 in the color filter is adjusted. Here, the slit size of the variable slit portion 8, that is, the irradiation range of the laser beam stored in the storage portion, can be made smaller than the picture element of the color filter. The XY slit mechanism 61 adjusts the vertical and horizontal sizes of the slits. The θ slit mechanism 62 adjusts the angle of the slit.

インク塗布部９は、欠陥を修正するためのインクをカラーフィルタにおける１個以上の画素に塗布する。ここで、インク塗布部９の１回当たりのインク塗布範囲は、カラーフィルタの絵素より小さく設定することが可能である。   The ink application unit 9 applies ink for correcting defects to one or more pixels in the color filter. Here, the ink application range per time of the ink application unit 9 can be set smaller than the picture element of the color filter.

モニタ１０は、画像処理部３の撮影したカラーフィルタの画像を表示する。
図２は、ＸＹスリット機構の構成を示す図である。 The monitor 10 displays an image of the color filter captured by the image processing unit 3.
FIG. 2 is a diagram showing the configuration of the XY slit mechanism.

図２を参照して、ＸＹスリット機構６１は、Ｘ方向サイズ調整用モータ３１と、Ｙ方向サイズ調整用モータ３２とを含む。   Referring to FIG. 2, XY slit mechanism 61 includes an X-direction size adjustment motor 31 and a Y-direction size adjustment motor 32.

図３は、ＸＹスリット機構に含まれるＸ方向の調整機構の構成を示す外観平面図である。   FIG. 3 is an external plan view showing the configuration of the X-direction adjusting mechanism included in the XY slit mechanism.

図３を参照して、Ｘ方向サイズ調整用モータ３１が駆動されて軸３２が回転すると、回転方向に応じて開閉部３３〜３４がそれぞれ矢印の方向に移動する。たとえば、Ｘ方向サイズ調整用モータ３１が一方の方向に回転すると開閉部３３〜３４は互いに離れていき、他方の方向に回転すると開閉部３３〜３４は近づく。   Referring to FIG. 3, when the X-direction size adjusting motor 31 is driven and the shaft 32 rotates, the open / close sections 33 to 34 respectively move in the directions of the arrows according to the rotation direction. For example, when the X-direction size adjusting motor 31 rotates in one direction, the opening / closing parts 33 to 34 move away from each other, and when the X-direction size adjusting motor 31 rotates in the other direction, the opening / closing parts 33 to 34 approach.

図４は、θスリット機構の構成を示す外観平面図である。
図４を参照して、θスリット機構６２は、回転角度調整用モータ３５と、ベルト３６と、回転テーブル３７とを含む。回転角度調整用モータ３５は、ベルト３６を駆動して回転テーブル３７を回転させる。ＸＹスリット機構６１は、θスリット機構６２の回転中心Ｃ２と図２に示すＸＹスリット機構６１の中心Ｃ１とが一致するように回転テーブル３７上に配置され、組みつけられる。 FIG. 4 is an external plan view showing the configuration of the θ slit mechanism.
Referring to FIG. 4, the θ slit mechanism 62 includes a rotation angle adjusting motor 35, a belt 36, and a rotary table 37. The rotation angle adjusting motor 35 drives the belt 36 to rotate the rotary table 37. The XY slit mechanism 61 is arranged and assembled on the rotary table 37 so that the rotation center C2 of the θ slit mechanism 62 and the center C1 of the XY slit mechanism 61 shown in FIG.

図５は、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置のインク塗布部の構成を示す外観図である。   FIG. 5 is an external view showing the configuration of the ink application unit of the color filter defect correcting device according to the embodiment of the present invention.

図５を参照して、インク塗布部９は、インク塗布用位置決めシリンダ１１と、インクタンクテーブル１２と、インクタンク１３と、インク塗布用針１４とを含む。   Referring to FIG. 5, the ink application unit 9 includes an ink application positioning cylinder 11, an ink tank table 12, an ink tank 13, and an ink application needle 14.

インク塗布用位置決めシリンダ１１は、インク塗布用針１４の上下方向の位置決めを行なう。   The ink application positioning cylinder 11 positions the ink application needle 14 in the vertical direction.

インクタンクテーブル１２は、インクタンク１３の周方向の位置決めを行なう。
インク塗布用針１４は、インク塗布用位置決めシリンダ１１の下端部に取り付けられる。インク塗布動作の際にはインク塗布用位置決めシリンダ１１が下降してインク塗布用針１４が塗布面に接触し、インク塗布用針１４の先端に付着したインクがカラーフィルタの欠陥箇所に塗布される。塗布後は、インクをインク塗布用針１４の先端部に付着させるため、インク塗布用針１４がインクタンクテーブル１２に設置されたインクタンク１３に浸される。 The ink tank table 12 positions the ink tank 13 in the circumferential direction.
The ink application needle 14 is attached to the lower end of the ink application positioning cylinder 11. During the ink application operation, the ink application positioning cylinder 11 is lowered, the ink application needle 14 comes into contact with the application surface, and the ink adhering to the tip of the ink application needle 14 is applied to the defective portion of the color filter. . After the application, the ink application needle 14 is immersed in the ink tank 13 installed on the ink tank table 12 in order to adhere the ink to the tip of the ink application needle 14.

なお、インク塗布部９は、上記のようにシリンダ１１およびインクタンクテーブル１２等を含む構成に限定されるものではなく、たとえば以下のような構成とすることができる。すなわち、インク塗布部は、先端に付着した修正液を欠陥に付着させるための塗布針を含む。また、欠陥を観察する観察光学系の視野外の所定位置に設けられ、修正液を保持する塗布パレットを含む。また、塗布針をカラーフィルタに平行なＸＹ平面内で移動させるとともにカラーフィルタに垂直なＺ方向に移動させ、観察光学系の視野内またはその近傍の塗布待機位置と塗布パレット近傍の準備位置とのうちのいずれかの位置に塗布針を位置させるアクチュエータを含む。   The ink application unit 9 is not limited to the configuration including the cylinder 11 and the ink tank table 12 as described above, and may be configured as follows, for example. That is, the ink application unit includes an application needle for attaching the correction liquid attached to the tip to the defect. Further, it includes a coating pallet that is provided at a predetermined position outside the field of the observation optical system for observing the defect and holds the correction liquid. In addition, the application needle is moved in the XY plane parallel to the color filter and moved in the Z direction perpendicular to the color filter, so that the application standby position in or near the visual field of the observation optical system and the preparation position in the vicinity of the application pallet. An actuator for positioning the application needle at any one of the positions is included.

図６は、カラーフィルタにおけるブラックマトリックス領域、カラーフィルタ領域および絵素の関係を示す図である。   FIG. 6 is a diagram illustrating the relationship between the black matrix region, the color filter region, and the picture element in the color filter.

図６を参照して、修正対象であるカラーフィルタは、格子状に形成されたブラックマトリックス領域（遮光領域）と、ブラックマトリックス領域に隣接し、かつ囲まれたカラーフィルタ領域（光透過領域）とを含む。   Referring to FIG. 6, the color filter to be corrected includes a black matrix region (light-shielding region) formed in a lattice shape, and a color filter region (light transmission region) adjacent to and surrounded by the black matrix region. including.

また、カラーフィルタは、複数個のカラーフィルタ領域からなり、それぞれを絵素と呼ぶ。画像処理部３の欠陥検出処理では、絵素を次のように定義する。縦横に形成されているブラックマトリックス領域の交差位置に、絵素の始まりＤＳおよび絵素の終わりＤＥが存在する。また、絵素の始まりＤＳをカラーフィルタの位置と称する。画像処理部３はこのカラーフィルタの位置を特定する。また、図６において四角で囲まれた絵素の始まりＤＳから絵素の終わりＤＥまでの範囲が１個の絵素Ｐとなる。また、画像を、閾値Ｔよりも明るい画素を１、暗い画素を０として２値化したとき、絵素Ｐにおける値１の画素の集合が絵素Ｐのカラーフィルタ領域であり、値０（図６のハッチング部分）の画素の集合が絵素Ｐのブラックマトリックス領域である。また、各絵素ＰはそれぞれＲＧＢ（Red, Green, Blue）のうちのいずれかの色を有し、１つの絵素Ｐのカラーフィルタ領域に含まれる各画素は同一色を有する。   The color filter is composed of a plurality of color filter regions, each of which is called a picture element. In the defect detection process of the image processing unit 3, the picture element is defined as follows. There is a picture element start DS and a picture element end DE at intersections of the black matrix regions formed vertically and horizontally. Further, the beginning DS of the picture element is referred to as a color filter position. The image processing unit 3 specifies the position of this color filter. In FIG. 6, the range from the start DS of the picture element surrounded by the square to the end DE of the picture element is one picture element P. Further, when the image is binarized with a pixel brighter than the threshold T being 1 and a dark pixel being 0, the set of pixels having a value of 1 in the pixel P is the color filter region of the pixel P, and the value 0 (FIG. A set of pixels (hatching portion 6) is a black matrix region of the picture element P. Each picture element P has a color of RGB (Red, Green, Blue), and each pixel included in the color filter region of one picture element P has the same color.

［動作］
次に、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置における画像処理部３がカラーフィルタの欠陥箇所を検出する際の動作について説明する。 [Operation]
Next, an operation when the image processing unit 3 in the color filter defect correcting apparatus according to the embodiment of the present invention detects a defective portion of the color filter will be described.

図７は、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置がカラーフィルタの１つの欠陥を修正する際の動作手順を定めたフローチャートである。   FIG. 7 is a flowchart defining an operation procedure when the color filter defect correcting device according to the embodiment of the present invention corrects one defect of the color filter.

ここでは、カラーフィルタがチャック台６に載せられており、カラーフィルタの傾き等の位置補正が完了していると仮定して説明する。また、検査データ、すなわちカラーフィルタにおける欠陥の座標値、カラーフィルタの面積値、カラーフィルタのサイズ種別（大、中、小など）および欠陥種別等のデータを、カラーフィルタ欠陥修正装置１０１が上位コンピュータから収集していると仮定して説明する。   Here, the description will be made on the assumption that the color filter is mounted on the chuck base 6 and the position correction such as the inclination of the color filter is completed. Further, the color filter defect correction device 101 is a host computer for data such as inspection data, that is, coordinate values of defects in color filters, area values of color filters, color filter size types (large, medium, small, etc.) and defect types. It is assumed that they are collected from

制御用コンピュータ２は、位置決め機構５１を制御して、修正処理部５０がカラーフィルタの欠陥を修正できる位置にカラーフィルタを移動する。また、制御用コンピュータ２は、カラーフィルタの欠陥検出が行なえるように、図示しない照明部の明るさを調整し、対物レンズ２１を所定の倍率に切り替える（Ｓ１）。   The control computer 2 controls the positioning mechanism 51 to move the color filter to a position where the correction processing unit 50 can correct the defect of the color filter. Further, the control computer 2 adjusts the brightness of the illumination unit (not shown) so that the color filter defect can be detected, and switches the objective lens 21 to a predetermined magnification (S1).

画像処理部３は、カラーフィルタに焦点を合わせるために、対物レンズ２１のフォーカス調整を行なう（Ｓ２）。   The image processing unit 3 performs focus adjustment of the objective lens 21 in order to focus on the color filter (S2).

画像処理部３は、検査対象であるカラーフィルタを撮影し、撮影した入力画像を取り込み、入力画像における画素の明るさに基づいてカラーフィルタの欠陥箇所を検出する（Ｓ３およびＳ４）。   The image processing unit 3 captures the color filter to be inspected, captures the captured input image, and detects a defective portion of the color filter based on the brightness of the pixel in the input image (S3 and S4).

画像処理部３は、欠陥検出結果に基づいて欠陥の重心位置を算出する。制御用コンピュータ２は、画像処理部３の算出した欠陥の重心位置に基づいてセンタリングを行なう、すなわち欠陥の重心位置が入力画像の中心に位置するように位置決め機構５１を制御する（Ｓ５）。   The image processing unit 3 calculates the center of gravity position of the defect based on the defect detection result. The control computer 2 performs centering based on the position of the center of gravity of the defect calculated by the image processing unit 3, that is, controls the positioning mechanism 51 so that the position of the center of gravity of the defect is positioned at the center of the input image (S5).

制御用コンピュータ２は、繰り返し回数Ｔｒｙ＝１とする（Ｓ６）。
画像処理部３は、繰り返し回数Ｔｒｙが最大繰り返し回数Ｍａｘ以下である場合には（Ｓ７でＹＥＳ）、精密な欠陥位置を求めるために、対物レンズ２１を高倍率に切り替える（Ｓ８）。 The control computer 2 sets the number of repetitions Try = 1 (S6).
When the number of repetitions Try is equal to or less than the maximum number of repetitions Max (YES in S7), the image processing unit 3 switches the objective lens 21 to a high magnification in order to obtain a precise defect position (S8).

画像処理部３は、カラーフィルタに焦点を合わせるために、対物レンズ２１のフォーカス調整を行なう（Ｓ９）。   The image processing unit 3 performs focus adjustment of the objective lens 21 in order to focus on the color filter (S9).

画像処理部３は、検査対象であるカラーフィルタを撮影し、撮影した入力画像を取り込む（Ｓ１０）。   The image processing unit 3 captures the color filter to be inspected and captures the captured input image (S10).

画像処理部３は、繰り返し回数Ｔｒｙが１である場合には（Ｓ１１でＹＥＳ）、取り込んだ入力画像を修正前の入力画像として保存する（Ｓ１２）。   If the number of repetitions Try is 1 (YES in S11), the image processing unit 3 stores the captured input image as an input image before correction (S12).

画像処理部３は、繰り返し回数Ｔｒｙが２以上である場合には（Ｓ１１でＮＯ）、取り込んだ入力画像を修正後の入力画像として保存する（Ｓ１３）。   If the number of repetitions Try is 2 or more (NO in S11), the image processing unit 3 stores the captured input image as a corrected input image (S13).

画像処理部３は、取り込んだ入力画像における画素の明るさに基づいてカラーフィルタの欠陥箇所を検出する（Ｓ１４）。   The image processing unit 3 detects a defective portion of the color filter based on the brightness of the pixel in the captured input image (S14).

画像処理部３は、取り込んだ入力画像において欠陥を検出した場合（Ｓ１５でＹＥＳ）には、欠陥箇所に対応する絵素の色判定を行なって塗布するインクの色を求め、また、インクの塗布位置を算出する。また、画像処理部３はレーザ光の照射位置を算出する（Ｓ１６）。   When a defect is detected in the input image that has been taken in (YES in S15), the image processing unit 3 determines the color of the pixel corresponding to the defective portion to obtain the color of the ink to be applied, and also applies the ink. Calculate the position. Further, the image processing unit 3 calculates the irradiation position of the laser light (S16).

制御用コンピュータ２は、対物レンズ２１を所定の倍率に切り替える。また、画像処理部３は、カラーフィルタに焦点を合わせるために、対物レンズ２１のフォーカス調整を行なう（Ｓ１７）。   The control computer 2 switches the objective lens 21 to a predetermined magnification. Further, the image processing unit 3 adjusts the focus of the objective lens 21 in order to focus on the color filter (S17).

修正処理部５０は、画像処理部３が算出した修正位置等に基づいてカラーフィルタに対するレーザ光の照射およびインク塗布のうち少なくともいずれか一方の修正処理を行なう（Ｓ１８）。   The correction processing unit 50 performs correction processing of at least one of laser light irradiation and ink application on the color filter based on the correction position calculated by the image processing unit 3 (S18).

制御用コンピュータ２は、繰り返し回数Ｔｒｙに１を加える（Ｓ１９）。
画像処理部３は、繰り返し回数Ｔｒｙが最大繰り返し回数Ｍａｘ以下である場合には（Ｓ７でＹＥＳ）、修正後の入力画像に対して再び欠陥検出処理を行なう（Ｓ８〜Ｓ１４）。 The control computer 2 adds 1 to the number of repetitions Try (S19).
When the number of repetitions Try is equal to or less than the maximum number of repetitions Max (YES in S7), the image processing unit 3 performs defect detection processing again on the corrected input image (S8 to S14).

そして、画像処理部３は、修正後の入力画像において欠陥を検出した場合（Ｓ１５でＹＥＳ）には、再び欠陥修正処理を行なう（Ｓ１６〜Ｓ１８）。   Then, when the defect is detected in the corrected input image (YES in S15), the image processing unit 3 performs the defect correction process again (S16 to S18).

一方、画像処理部３は、修正後の入力画像において欠陥が検出されない場合（Ｓ１５でＮＯ）であって、繰り返し回数Ｔｒｙが２以上であるとき（Ｓ２１でＮＯ）には、今回の欠陥の修正に成功したと判断し、たとえば再びステップＳ１に戻って別の欠陥の修正を行なう（Ｓ２３）。   On the other hand, when no defect is detected in the corrected input image (NO in S15) and the number of repetitions Try is 2 or more (NO in S21), the image processing unit 3 corrects the current defect. For example, it returns to step S1 again to correct another defect (S23).

また、画像処理部３は、修正後の入力画像において欠陥が検出されない場合（Ｓ１５でＮＯ）であって、繰り返し回数Ｔｒｙが１であるとき（Ｓ２１でＹＥＳ）には、カラーフィルタに欠陥が存在しているかどうかが不明であると判断し、たとえば再びステップＳ１に戻って別の欠陥の修正を行なう（Ｓ２０）。   The image processing unit 3 also has a defect in the color filter when no defect is detected in the corrected input image (NO in S15) and the repeat count Try is 1 (YES in S21). For example, it is determined whether it is unknown, and the process returns to step S1 again to correct another defect (S20).

また、制御用コンピュータ２は、繰り返し回数Ｔｒｙが最大繰り返し回数Ｍａｘを超える場合には（Ｓ７でＮＯ）欠陥修正不可と判断し、たとえば再びステップＳ１に戻って別の欠陥の修正を行なう（Ｓ２０）。   Further, when the number of repetitions Try exceeds the maximum number of repetitions Max (NO in S7), the control computer 2 determines that the defect cannot be corrected, and returns to step S1 again to correct another defect (S20). .

以下、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置の動作を詳細に説明する。   Hereinafter, the operation of the color filter defect correction apparatus according to the embodiment of the present invention will be described in detail.

［２値化入力画像の生成］
まず、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置が２値化入力画像を生成する際の動作について説明する。 [Generation of binarized input image]
First, an operation when the color filter defect correcting device according to the embodiment of the present invention generates a binarized input image will be described.

図８は、入力画像および２値化入力画像を示す図である。
画像処理部３は、カラーフィルタを撮影し、撮影した入力画像に基づいて２値化入力画像を生成し、入力画像をブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦに分離する。入力画像の位置（ｘ，ｙ）における画素の明るさをｆ（ｘ，ｙ）とし、２値化入力画像をｂ（ｘ，ｙ）とし、しきい値をＴとすると、ｆ（ｘ，ｙ）からｂ（ｘ，ｙ）への変換式は以下の式で表わされる。 FIG. 8 is a diagram illustrating an input image and a binarized input image.
The image processing unit 3 captures the color filter, generates a binarized input image based on the captured input image, and separates the input image into the black matrix region BM and the color filter region CF. If the brightness of the pixel at the position (x, y) of the input image is f (x, y), the binarized input image is b (x, y), and the threshold is T, f (x, y) ) To b (x, y) is expressed by the following equation.

Figure 2009128815
Figure 2009128815

ｂ（ｘ，ｙ）で表わされる複数個の画素のうち、明るさ１の画素がカラーフィルタ領域ＣＦであり、明るさ０の画素がブラックマトリックス領域ＢＭである。   Among the plurality of pixels represented by b (x, y), the pixel with brightness 1 is the color filter region CF, and the pixel with brightness 0 is the black matrix region BM.

ここで、ブラックマトリックス領域ＢＭの明るさの平均値をＩＢＭとし、カラーフィルタ領域ＣＦの画素ＲＧＢのうち、最も暗い画素の明るさの平均値をＩＣＦとすると、しきい値Ｔは以下の式で表わされる。   Here, when the average brightness value of the black matrix region BM is IBM and the average brightness value of the darkest pixel among the pixels RGB of the color filter region CF is ICF, the threshold value T is expressed by the following equation. Represented.

Figure 2009128815
Figure 2009128815

［カラーフィルタ領域のマスク画像の生成］
次に、画像処理部３が、生成した２値化入力画像に基づいてカラーフィルタ領域のマスク画像を生成する動作について説明する。 [Generate mask image of color filter area]
Next, an operation in which the image processing unit 3 generates a mask image of the color filter region based on the generated binarized input image will be described.

図９（ａ）は、登録画像を示す図である。（ｂ）は、２値化入力画像を示す図である。（ｃ）は、カラーフィルタ領域のマスク画像を示す図である。   FIG. 9A shows a registered image. (B) is a figure which shows a binarized input image. (C) is a figure which shows the mask image of a color filter area | region.

画像処理部３は、パターンマッチングにより、画像上のＲＧＢ各絵素の位置を検出する。   The image processing unit 3 detects the position of each RGB pixel on the image by pattern matching.

画像処理部３は、欠陥のない理想的なカラーフィルタを予め撮影し、登録画像ｍ（ｘ，ｙ）として記憶する。   The image processing unit 3 captures an ideal color filter having no defect in advance and stores it as a registered image m (x, y).

画像処理部３は、登録画像ｍ（ｘ，ｙ）から、２値化入力画像ｂ（ｘ，ｙ）と同様に閾値Ｔを用いて、カラーフィルタ領域が１（白）であり、それ以外が０（黒）である２値化登録画像を生成する。   The image processing unit 3 uses the threshold value T as in the binarized input image b (x, y) from the registered image m (x, y), the color filter region is 1 (white), and other than that A binary registration image that is 0 (black) is generated.

画像処理部３は、２値化登録画像におけるサーチ対象Ｓおよびカラーフィルタ領域ＣＦの座標を予め登録している。より詳細には、画像処理部３は、サーチ対象Ｓについては左上端の座標と縦横サイズとを登録し、また、カラーフィルタ領域ＣＦについては端点の座標を登録している。   The image processing unit 3 registers in advance the coordinates of the search target S and the color filter region CF in the binarized registered image. More specifically, the image processing unit 3 registers the coordinates of the upper left corner and the vertical and horizontal sizes for the search target S, and registers the coordinates of the end points for the color filter region CF.

また、画像処理部３は、サーチ対象Ｓとカラーフィルタ領域との位置関係を予め求めている。サーチ対象Ｓの左上端座標を（ｘｓ，ｙｓ）とし、カラーフィルタ領域ＣＦの各端点の座標を（ｘｉ，ｙｉ）とすると、サーチ対象Ｓおよびカラーフィルタ領域ＣＦの位置関係は、（ｘｉ−ｘｓ，ｙｉ−ｙｓ）となる。   Further, the image processing unit 3 obtains a positional relationship between the search target S and the color filter region in advance. Assuming that the upper left coordinates of the search target S are (xs, ys) and the coordinates of the end points of the color filter region CF are (xi, yi), the positional relationship between the search target S and the color filter region CF is (xi-xs). , Yi-ys).

そして、画像処理部３は、２値化入力画像ｂ（ｘ，ｙ）からサーチ対象Ｓと類似の部位をパターンマッチングによってサーチし、サーチ対象Ｓと類似の部位の左上端座標を求める。また、画像処理部３は、登録時に求めたサーチ対象Ｓおよびカラーフィルタ領域ＣＦの位置関係から、サーチ対象Ｓと類似の部位に対応するカラーフィルタ領域ＣＦの位置を検出する。   Then, the image processing unit 3 searches the binarized input image b (x, y) for a part similar to the search target S by pattern matching, and obtains the upper left coordinates of the part similar to the search target S. Further, the image processing unit 3 detects the position of the color filter region CF corresponding to a similar part to the search target S from the positional relationship between the search target S and the color filter region CF obtained at the time of registration.

図９（ｂ）の点線で示すように、カラーフィルタに欠陥が発生していてサーチ対象Ｓと類似の部位を検出できない場合には、画像処理部３は、欠陥箇所の周囲の検出結果を用いてサーチ対象Ｓと類似の部位の左上端座標を推定する。   As indicated by a dotted line in FIG. 9B, when a defect is generated in the color filter and a part similar to the search target S cannot be detected, the image processing unit 3 uses a detection result around the defective part. Thus, the upper left corner coordinates of the part similar to the search target S are estimated.

以上のような処理により、画像処理部３は、カラーフィルタ領域ＣＦの各端点の座標を明確にしてカラーフィルタ領域を白とし、背景部を黒とするカラーフィルタ領域のマスク画像を作成する。このような構成により、マスク画像を単に登録画像から生成する構成と比べて、位置決め誤差等によるマスク画像のずれを最小限にすることができる。   Through the processing as described above, the image processing unit 3 clarifies the coordinates of each end point of the color filter region CF, creates a color filter region mask image in which the color filter region is white and the background portion is black. With such a configuration, the shift of the mask image due to a positioning error or the like can be minimized as compared with a configuration in which a mask image is simply generated from a registered image.

また、ＲＧＢ各画素の明るさは異なるため、サーチ対象Ｓと類似の部位を濃淡パターンマッチングによってサーチする際には、通常、色ごとに参照用の登録画像を用意しないと誤認識の可能性が高くなる。しかしながら、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置では、画像処理部３が、撮影した入力画像に基づいて２値化入力画像を生成し、２値化入力画像に基づいてカラーフィルタ領域のマスク画像を生成する構成により、参照用の登録画像を１種類のみ用意すればよく、カラーフィルタ欠陥修正装置１０１の構成および処理の簡易化を図ることができる。   In addition, since the brightness of each pixel of RGB is different, when searching for a portion similar to the search target S by density pattern matching, there is a possibility of erroneous recognition unless a registered image for reference is usually prepared for each color. Get higher. However, in the color filter defect correcting apparatus according to the embodiment of the present invention, the image processing unit 3 generates a binarized input image based on the photographed input image, and the color filter region based on the binarized input image. With this configuration for generating the mask image, only one type of registered image for reference needs to be prepared, and the configuration and processing of the color filter defect correcting apparatus 101 can be simplified.

［欠陥検出］
次に、画像処理部３が、入力画像を検査して欠陥箇所を検出する際の動作について説明する。 [Defect detection]
Next, an operation when the image processing unit 3 inspects the input image to detect a defective portion will be described.

図１０（ａ）および（ｂ）は、画像処理部が入力画像の水平方向に欠陥検出を行なう際の動作を示す図である。   FIGS. 10A and 10B are diagrams illustrating an operation when the image processing unit performs defect detection in the horizontal direction of the input image.

画像処理部３は、カラーフィルタの絵素の明るさに基づいて欠陥箇所を検出する。より詳細には、画像処理部３は、周期的に、すなわち等間隔で配置されている絵素の間隔をＰとすると、入力画像における位置（ｘ，ｙ）の明るさｆ（ｘ，ｙ）に対して、以下のように比較検査を行なう。   The image processing unit 3 detects a defective portion based on the brightness of the picture element of the color filter. More specifically, the image processing unit 3 periodically sets the brightness f (x, y) at the position (x, y) in the input image, where P is the interval between picture elements arranged at equal intervals. In contrast, a comparative inspection is performed as follows.

Figure 2009128815
Figure 2009128815

上記のように、画像処理部３は、明るさｆ（ｘ，ｙ）と、１周期前の明るさｆ（ｘ−Ｐ，ｙ）および１周期後の明るさｆ（ｘ＋Ｐ，ｙ）とを比較する。   As described above, the image processing unit 3 calculates the brightness f (x, y), the brightness f (x−P, y) before one cycle, and the brightness f (x + P, y) after one cycle. Compare.

ここで、ｓ-p（ｘ，ｙ）はｆ（ｘ，ｙ）とｆ（ｘ−Ｐ，ｙ）との比較結果を、ｓ+p（ｘ，ｙ）はｆ（ｘ，ｙ）とｆ（ｘ＋Ｐ，ｙ）との比較結果を示す。   Here, s-p (x, y) is a comparison result between f (x, y) and f (x-P, y), and s + p (x, y) is f (x, y) and f. The comparison result with (x + P, y) is shown.

画像処理部３は、ｓ-p（ｘ，ｙ）およびｓ+p（ｘ，ｙ）の符号が一致している場合にｓH（ｘ，ｙ）をスライスレベルＴｄと比較する。また、画像処理部３は、ｓ-p（ｘ，ｙ）
およびｓ+p（ｘ，ｙ）の符号が一致していない場合には、位置（ｘ−Ｐ，ｙ）または位置（ｘ＋Ｐ，ｙ）における画素に欠陥がある可能性が高く、検査の信頼性が低いため、位置（ｘ，ｙ）を検査対象から除外する。このような構成により、入力画像のノイズによる欠陥検出の誤りを防ぐことができる。 The image processing unit 3 compares sH (x, y) with the slice level Td when the signs of sp (x, y) and s + p (x, y) match. In addition, the image processing unit 3 uses sp (x, y)
And s + p (x, y) do not match, the pixel at the position (x−P, y) or the position (x + P, y) is likely to be defective, and the inspection reliability Therefore, the position (x, y) is excluded from the inspection target. With such a configuration, an error in defect detection due to noise in the input image can be prevented.

そして、画像処理部３は、ｓH（ｘ，ｙ）がＴｄ以上の場合は位置（ｘ，ｙ）における
画素を欠陥と判断し、結果をｄH（ｘ，ｙ）に格納する。ｄH（ｘ，ｙ）において、値１の画素は欠陥であることを、値０の画素は正常であることを示す。 Then, when sH (x, y) is equal to or greater than Td, the image processing unit 3 determines that the pixel at the position (x, y) is a defect, and stores the result in dH (x, y). In dH (x, y), a pixel having a value of 1 indicates a defect, and a pixel having a value of 0 indicates normal.

なお、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置では、画像処理部３は、明るさｆ（ｘ，ｙ）と、１周期前の明るさｆ（ｘ−Ｐ，ｙ）および１周期後の明るさｆ（ｘ＋Ｐ，ｙ）とを比較する構成であるとしたが、これに限定するものではない。画像処理部３が、たとえば明るさｆ（ｘ，ｙ）と、２周期前の明るさｆ（ｘ−２×Ｐ，ｙ）および３周期後の明るさｆ（ｘ＋３×Ｐ，ｙ）とを比較する等、位置（ｘ，ｙ）の画素の明るさと、位置（ｘ，ｙ）の画素が属する絵素とは異なる絵素に属する画素の明るさとを比較する構成であってもよい。   In the color filter defect correcting apparatus according to the embodiment of the present invention, the image processing unit 3 includes the brightness f (x, y), the brightness f (x−P, y) one cycle before, and one cycle. Although it is assumed that the brightness f (x + P, y) is compared later, the present invention is not limited to this. The image processing unit 3 calculates, for example, the brightness f (x, y), the brightness f (x−2 × P, y) before two cycles, and the brightness f (x + 3 × P, y) after three cycles. For example, the brightness of the pixel at the position (x, y) may be compared with the brightness of a pixel belonging to a different pixel from the pixel to which the pixel at the position (x, y) belongs.

また、位置（ｘ，ｙ）の画素の明るさと、位置（ｘ，ｙ）の画素以外の画素の明るさとを比較する、すなわち同じ絵素に属する画素同士の明るさを比較する構成とすることも可能である。ただし、位置（ｘ，ｙ）の画素の明るさと、位置（ｘ，ｙ）の画素が属する絵素とは異なる絵素に属する画素の明るさとを比較する構成では、欠陥検出対象の画素と比較される画素が正常である可能性が高いため、より正確に画素の欠陥を検出することができ、好ましい構成であるといえる。   Further, the brightness of the pixel at the position (x, y) and the brightness of the pixels other than the pixel at the position (x, y) are compared, that is, the brightness of the pixels belonging to the same picture element is compared. Is also possible. However, in the configuration in which the brightness of the pixel at the position (x, y) is compared with the brightness of a pixel belonging to a pixel different from the pixel to which the pixel at the position (x, y) belongs, it is compared with the pixel that is the defect detection target. Since it is highly possible that the pixel to be processed is normal, it is possible to detect the defect of the pixel more accurately, which is a preferable configuration.

図１１（ａ）および（ｂ）は、画像処理部が入力画像の垂直方向に欠陥検出を行なう際の動作を示す図である。   FIGS. 11A and 11B are diagrams illustrating operations when the image processing unit performs defect detection in the vertical direction of the input image.

画像処理部３は、周期的に、すなわち等間隔で配置されている絵素の間隔をＰとすると、入力画像における位置（ｘ，ｙ）の明るさｆ（ｘ，ｙ）に対して、以下のように比較検査を行なう。   The image processing unit 3 performs the following for the brightness f (x, y) at the position (x, y) in the input image, where P is the interval between picture elements arranged periodically, that is, at equal intervals. A comparative inspection is performed as follows.

Figure 2009128815
Figure 2009128815

上記のように、画像処理部３は、明るさｆ（ｘ，ｙ）と、１周期前の明るさｆ（ｘ−Ｐ，ｙ）および１周期後の明るさｆ（ｘ＋Ｐ，ｙ）とを比較する。   As described above, the image processing unit 3 calculates the brightness f (x, y), the brightness f (x−P, y) before one cycle, and the brightness f (x + P, y) after one cycle. Compare.

ここで、ｓ-p（ｘ，ｙ）はｆ（ｘ，ｙ）とｆ（ｘ−Ｐ，ｙ）との比較結果を、ｓ+p（ｘ，ｙ）はｆ（ｘ，ｙ）とｆ（ｘ＋Ｐ，ｙ）との比較結果を示す。   Here, s-p (x, y) is a comparison result between f (x, y) and f (x-P, y), and s + p (x, y) is f (x, y) and f. The comparison result with (x + P, y) is shown.

画像処理部３は、ｓ-p（ｘ，ｙ）およびｓ+p（ｘ，ｙ）の符号が一致している場合にｓV（ｘ，ｙ）をスライスレベルＴｄと比較する。   The image processing unit 3 compares sV (x, y) with the slice level Td when the signs of sp (x, y) and s + p (x, y) match.

そして、画像処理部３は、ｓV（ｘ，ｙ）がＴｄ以上の場合は位置（ｘ，ｙ）における
画素を欠陥と判断し、結果をｄV（ｘ，ｙ）に格納する。ｄV（ｘ，ｙ）において、値１の画素は欠陥であることを、値０の画素は正常であることを示す。 Then, when sV (x, y) is equal to or greater than Td, the image processing unit 3 determines that the pixel at the position (x, y) is a defect, and stores the result in dV (x, y). In dV (x, y), a pixel having a value of 1 indicates a defect and a pixel having a value of 0 indicates normal.

次に、画像処理部が入力画像の水平方向および垂直方向の両方に欠陥検出を行なう際の動作について説明する。   Next, an operation when the image processing unit performs defect detection in both the horizontal direction and the vertical direction of the input image will be described.

画像処理部３は、水平方向および垂直方向の明るさｆ（ｘ，ｙ）と、１周期前の明るさｆ（ｘ−Ｐ，ｙ）および１周期後の明るさｆ（ｘ＋Ｐ，ｙ）との比較結果を用いて次のように欠陥検出を行なう。   The image processing unit 3 includes brightness f (x, y) in the horizontal direction and vertical direction, brightness f (x−P, y) before one cycle, and brightness f (x + P, y) after one cycle. Using the comparison result, defect detection is performed as follows.

Figure 2009128815
Figure 2009128815

画像処理部３は、ｓH（ｘ，ｙ）またはｓV（ｘ，ｙ）がＴｄ以上の場合は位置（ｘ，ｙ）における画素を欠陥と判断し、結果をｄHV（ｘ，ｙ）に格納する。ｄHV（ｘ，ｙ）において、値１の画素は欠陥であることを、値０の画素は正常であることを示す。   When sH (x, y) or sV (x, y) is equal to or greater than Td, the image processing unit 3 determines that the pixel at the position (x, y) is a defect and stores the result in dHV (x, y). . In dHV (x, y), a pixel having a value of 1 indicates a defect, and a pixel having a value of 0 indicates normal.

上記各欠陥検出方法の使用例としては、入力画像において複数個の絵素が水平方向に配置されており、かつ垂直方向には１絵素しか配置されていない場合には、入力画像の水平方向に欠陥検出を行なう方法を採用する。また、入力画像において複数個の絵素が垂直方向に配置されており、かつ水平方向には１絵素しか配置されていない場合には、入力画像の垂直方向に欠陥検出を行なう方法を採用する。また、入力画像においてそれぞれ２個以上の絵素が垂直方向および水平方向に配置されている場合には、入力画像の水平方向および垂直方向の両方に欠陥検出を行なう方法を採用する。これら３つの欠陥検出方法は、欠陥検出検査で使用する対物レンズ２１の倍率および絵素のサイズに応じて選択される。   As an example of use of each of the defect detection methods described above, when a plurality of picture elements are arranged in the horizontal direction in the input image and only one picture element is arranged in the vertical direction, the horizontal direction of the input image A method for detecting defects is adopted. Further, when a plurality of picture elements are arranged in the vertical direction in the input image and only one picture element is arranged in the horizontal direction, a method of detecting a defect in the vertical direction of the input image is adopted. . Further, when two or more picture elements are arranged in the vertical direction and the horizontal direction in the input image, a method of detecting a defect in both the horizontal direction and the vertical direction of the input image is adopted. These three defect detection methods are selected according to the magnification of the objective lens 21 used in the defect detection inspection and the size of the picture element.

次に、画像処理部３が黒欠陥のスライスレベルＴｄを決定する際の動作について説明する。   Next, an operation when the image processing unit 3 determines the slice level Td of the black defect will be described.

図１２（ａ）および（ｂ）は、ブラックマトリックス領域、ＲＧＢ各画素および黒欠陥のスライスレベルＴｄの関係を示す図である。   FIGS. 12A and 12B are diagrams showing the relationship between the black matrix region, the RGB pixels, and the slice level Td of the black defect.

ブラックマトリックス領域の明るさをＩＢＭとし、ＲＧＢ各画素の明るさをＩＲ、ＩＧ、ＩＢとする。ＩＢＭを基準としたとき、ＩＲ、ＩＧ、ＩＢの各コントラスト値は以下の式で表わされる。   The brightness of the black matrix area is IBM, and the brightness of each RGB pixel is IR, IG, IB. When IBM is used as a reference, the contrast values of IR, IG, and IB are expressed by the following equations.

Figure 2009128815
Figure 2009128815

画像処理部３は、ブラックマトリックス領域が最も暗いのでｍｉｎ（ＣＲ，ＣＧ，ＣＢ）より小さい値をスライスレベルＴｄとして選択する。   Since the black matrix region is the darkest, the image processing unit 3 selects a value smaller than min (CR, CG, CB) as the slice level Td.

Figure 2009128815
Figure 2009128815

ここで、カラーフィルタにおいては、隣接する絵素におけるカラーフィルタ領域の明るさは等しくない。観察光学系にもよるが、一般的にＣＣＤ（Charge Coupled Device）カメラは緑の波長に対する感度が最も高い。このため、緑の絵素が入力画像において最も明るく見え、続いて赤、青という順序になる。   Here, in the color filter, the brightness of the color filter region in adjacent picture elements is not equal. Although depending on the observation optical system, a CCD (Charge Coupled Device) camera generally has the highest sensitivity to a green wavelength. For this reason, green picture elements appear brightest in the input image, followed by red, blue.

前述した入力画像の水平方向、垂直方向ならびに水平方向および垂直方向の両方にそれぞれ欠陥検出を行なう方法では、隣接する絵素のカラーフィルタ領域の明るさを比較するため、異なる明るさ同士を比較することになる。しかしながら、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置は、スライスレベルＴｄをｍｉｎ（ＣＲ，ＣＧ，ＣＢ）より小さい値とする構成であるため、異なる明るさ同士を比較する場合でも、欠陥検出を正確に行なうことができる。   In the above-described method for detecting defects in the horizontal direction, vertical direction, and both horizontal and vertical directions of the input image, the brightness of the color filter areas of adjacent picture elements is compared, so that different brightnesses are compared. It will be. However, since the color filter defect correcting device according to the embodiment of the present invention has a configuration in which the slice level Td is set to a value smaller than min (CR, CG, CB), even when comparing different brightnesses, Detection can be performed accurately.

なお、視野が広い場合、すなわち画像処理部３の１回の撮影面積が大きい場合には、同一色に対応する３つおきの絵素におけるカラーフィルタ領域の明るさを比較する構成であってもよい。   Note that when the field of view is wide, that is, when the area of the image processing unit 3 that is captured once is large, the brightness of the color filter regions in every third picture element corresponding to the same color may be compared. Good.

次に、画像処理部３が白欠陥のスライスレベルＴｄを決定する際の動作について説明する。   Next, an operation when the image processing unit 3 determines the slice level Td of the white defect will be described.

図１３（ａ）および（ｂ）は、ブラックマトリックス領域、ＲＧＢ各画素および白欠陥のスライスレベルＴｄの関係を示す図である。   FIGS. 13A and 13B are diagrams showing the relationship between the black matrix region, the RGB pixels, and the slice level Td of the white defect.

白欠陥部の明るさをＩＷＨとし、ＲＧＢ各画素の明るさをＩＲ、ＩＧ、ＩＢとする。ＩＷＨを基準としたとき、ＩＲ、ＩＧ、ＩＢの各コントラスト値は以下の式で表わされる。   The brightness of the white defect portion is IWH, and the brightness of each RGB pixel is IR, IG, and IB. When IWH is used as a reference, the contrast values of IR, IG, and IB are expressed by the following equations.

Figure 2009128815
Figure 2009128815

画像処理部３は、白欠陥部が最も明るくなるのでｍｉｎ（ＣＲ，ＣＧ，ＣＢ）より小さい値をスライスレベルＴｄとして選択する。   The image processing unit 3 selects a value smaller than min (CR, CG, CB) as the slice level Td because the white defect portion is brightest.

Figure 2009128815
Figure 2009128815

図１４（ａ）は、欠陥の存在するカラーフィルタの入力画像を示す図である。（ｂ）は、画像処理部が生成した黒欠陥抽出画像を示す図である。   FIG. 14A is a diagram illustrating an input image of a color filter having a defect. (B) is a figure which shows the black defect extraction image which the image process part produced | generated.

図１４（ａ）を参照して、カラーフィルタには、黒欠陥および白欠陥が混在している。画像処理部３は、黒欠陥のスライスレベルＴｄを用いて黒欠陥を検出し、図１４（ｂ）に示すような２値化された黒欠陥抽出画像を生成する。   Referring to FIG. 14A, the color filter contains black defects and white defects. The image processing unit 3 detects a black defect using the slice level Td of the black defect, and generates a binarized black defect extraction image as shown in FIG.

図１５（ａ）は、欠陥の存在するカラーフィルタの入力画像を示す図である。（ｂ）は、画像処理部が生成した白欠陥抽出画像を示す図である。   FIG. 15A is a diagram illustrating an input image of a color filter having a defect. (B) is a figure which shows the white defect extraction image which the image process part produced | generated.

図１５（ａ）を参照して、カラーフィルタには、黒欠陥および白欠陥が混在している。画像処理部３は、白欠陥のスライスレベルＴｄを用いて白欠陥を検出し、図１５（ｂ）に示すような２値化された白欠陥抽出画像を生成する。   Referring to FIG. 15A, black defects and white defects are mixed in the color filter. The image processing unit 3 detects a white defect using the slice level Td of the white defect, and generates a binarized white defect extraction image as shown in FIG.

このように、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置では、カラーフィルタにおいて黒欠陥および白欠陥が混在している場合にも、黒欠陥および白欠陥を区別して検出することができる。   As described above, in the color filter defect correcting apparatus according to the embodiment of the present invention, it is possible to distinguish and detect the black defect and the white defect even when the black defect and the white defect are mixed in the color filter.

ところで、白欠陥は、ブラックマトリックス領域における白欠陥およびカラーフィルタ領域における白欠陥の２種類が存在する。たとえばブラックマトリックス領域における白欠陥に対しては、インクを塗布して抜けの部分を埋めて修正を行なうが、インクの塗布範囲をブラックマトリックス領域の幅に合わせることはできない。これは、インク塗布針のサイズを白欠陥のサイズに合わせて変更することができないからである。また、異なる径を有する複数個の針をカラーフィルタ欠陥修正装置１０１が備える構成とすることは可能であるが、あらゆる白欠陥を網羅することはできない。   Incidentally, there are two types of white defects, white defects in the black matrix region and white defects in the color filter region. For example, for white defects in the black matrix region, ink is applied to fill in the missing portions and correction is performed, but the ink application range cannot be adjusted to the width of the black matrix region. This is because the size of the ink application needle cannot be changed in accordance with the size of the white defect. In addition, the color filter defect correcting apparatus 101 can include a plurality of needles having different diameters, but cannot cover all white defects.

このため、ブラックマトリックス領域における白欠陥を修正する際にインクを塗布するとはみ出しが発生する。すなわち、ブラックマトリックス領域にインクを塗布するとカラーフィルタ領域にはみ出すことになり、インクがはみ出した部分はカラーフィルタ領域の黒欠陥となる。そうすると、このカラーフィルタ領域における黒欠陥を検出し、レーザ光を照射して黒欠陥を除去し、黒欠陥を除去した部分にインクを塗布する必要が生じる。   For this reason, when ink is applied when correcting a white defect in the black matrix region, protrusion occurs. That is, when ink is applied to the black matrix area, the ink protrudes into the color filter area, and the portion where the ink protrudes becomes a black defect in the color filter area. Then, it is necessary to detect a black defect in the color filter region, irradiate a laser beam to remove the black defect, and apply ink to a portion where the black defect is removed.

カラーフィルタ領域における白欠陥を修正した後でブラックマトリックス領域における白欠陥を修正すると、上記のようにカラーフィルタ領域にはみ出したインク、すなわち黒欠陥を除去し、黒欠陥を除去した部分に再度インクを塗布する必要が生じ、欠陥修正時間が増大してしまう。したがって、修正順序としては、ブラックマトリックス領域における白欠陥を修正した後でカラーフィルタ領域における白欠陥を修正する順序が好ましい。   If the white defect in the black matrix area is corrected after correcting the white defect in the color filter area, the ink that protrudes into the color filter area, that is, the black defect is removed as described above, and the ink is again applied to the portion from which the black defect has been removed. It becomes necessary to apply, and the defect correction time increases. Therefore, the correction order is preferably the order in which the white defects in the color filter region are corrected after the white defects in the black matrix region are corrected.

なお、カラーフィルタ領域における白欠陥を修正した際にインクがブラックマトリックス領域にはみ出す場合があるが、ブラックマトリックス領域にはみ出したインクはカラーフィルタを通過すべき光をさえぎらないため、大きな問題にはならない。   Note that when white defects in the color filter area are corrected, the ink may protrude into the black matrix area. However, the ink that protrudes into the black matrix area does not block the light that should pass through the color filter, and thus does not cause a major problem. .

そこで、画像処理部３は、ブラックマトリックス領域における白欠陥およびカラーフィルタ領域における白欠陥を判別し、ブラックマトリックス領域における白欠陥を修正した後でカラーフィルタ領域における白欠陥を修正する。   Therefore, the image processing unit 3 determines a white defect in the black matrix region and a white defect in the color filter region, and corrects the white defect in the color filter region after correcting the white defect in the black matrix region.

図１６は、画像処理部がカラーフィルタ領域における白欠陥抽出画像を生成する動作を示す図である。図１７は、画像処理部がブラックマトリックス領域における白欠陥抽出画像を生成する動作を示す図である。   FIG. 16 is a diagram illustrating an operation in which the image processing unit generates a white defect extraction image in the color filter region. FIG. 17 is a diagram illustrating an operation in which the image processing unit generates a white defect extraction image in the black matrix region.

カラーフィルタ領域のマスク画像は、カラーフィルタ領域が１であり、ブラックマトリックス領域を含むカラーフィルタ領域以外の部分が０の２値化された画像である。また、白欠陥抽出画像は、欠陥部分が１であり、欠陥部分以外の部分が０の２値化された画像である。したがって、画像処理部３は、カラーフィルタ領域のマスク画像と白欠陥抽出画像との論理積を演算することにより、カラーフィルタ領域における白欠陥抽出画像を生成する。また、画像処理部３は、カラーフィルタ領域のマスク画像の論理レベルを反転した画像と白欠陥抽出画像との論理積を演算することにより、ブラックマトリックス領域における白欠陥抽出画像を生成する。   The mask image of the color filter region is a binarized image in which the color filter region is 1 and the portion other than the color filter region including the black matrix region is 0. The white defect extraction image is a binarized image in which the defect portion is 1 and the portions other than the defect portion are 0. Therefore, the image processing unit 3 generates a white defect extraction image in the color filter region by calculating a logical product of the mask image in the color filter region and the white defect extraction image. Further, the image processing unit 3 calculates a logical product of an image obtained by inverting the logical level of the mask image in the color filter region and a white defect extracted image, thereby generating a white defect extracted image in the black matrix region.

［センタリング］
次に、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置における制御用コンピュータ２がセンタリングを行なう際の動作について説明する。 [centering]
Next, the operation when the control computer 2 performs centering in the color filter defect correction apparatus according to the embodiment of the present invention will be described.

図１８は、画像処理部が欠陥マスク画像を生成する動作を示す図である。
図１８を参照して、画像処理部３は、前述のように黒欠陥抽出画像および白欠陥抽出画像を生成し、両者の論理和を演算することにより、欠陥マスク画像を生成する。 FIG. 18 is a diagram illustrating an operation in which the image processing unit generates a defect mask image.
Referring to FIG. 18, the image processing unit 3 generates a black defect extraction image and a white defect extraction image as described above, and calculates a logical sum of both to generate a defect mask image.

そして、画像処理部３は、欠陥マスク画像において値が１である部分（図１８においてハッチングのない部分）の重心位置を計算する。   Then, the image processing unit 3 calculates the position of the center of gravity of a portion having a value of 1 in the defect mask image (portion without hatching in FIG. 18).

すなわち、画像処理部３は、欠陥マスク画像において、値１の画素の総数をＮとし、値１の画素ｉの座標を（Ｘｉ，Ｙｉ）とすると、欠陥部位の重心座標（ＸＧ，ＹＧ）を次の式に基づいて算出する。   That is, in the defect mask image, if the total number of pixels having the value 1 is N and the coordinates of the pixel i having the value 1 are (Xi, Yi), the image processing unit 3 sets the barycentric coordinates (XG, YG) of the defective part. Calculation is based on the following formula.

Figure 2009128815
Figure 2009128815

そして、制御用コンピュータ２は、画像処理部３の算出結果に基づいて、欠陥部位の重心座標（ＸＧ，ＹＧ）が画面中心に一致するように位置決め機構５１を制御する。   Then, the control computer 2 controls the positioning mechanism 51 based on the calculation result of the image processing unit 3 so that the barycentric coordinates (XG, YG) of the defective part coincide with the center of the screen.

［色判定］
次に、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置が欠陥を含む絵素の色判定を行なう際の動作について説明する。 [Color judgment]
Next, an operation when the color filter defect correcting apparatus according to the embodiment of the present invention performs color determination of a pixel including a defect will be described.

図１９は、欠陥抽出画像の一例を示す図である。
生成したカラーフィルタ領域のマスク画像から各絵素におけるカラーフィルタ領域の位置が明らかになっているため、画像処理部３は、各絵素のカラーフィルタ領域の位置と欠陥抽出画像とを照合することにより、欠陥ＥＲＲを含む絵素ＰＥＲＲを特定する。より詳細には、画像処理部３は、欠陥の位置情報として欠陥に外接する長方形Ｒの頂点座標を求め、この長方形Ｒを含む絵素（以下、欠陥絵素とも称する）を検出する。 FIG. 19 is a diagram illustrating an example of a defect extraction image.
Since the position of the color filter area in each picture element is made clear from the generated mask image of the color filter area, the image processing unit 3 compares the position of the color filter area of each picture element with the defect extraction image. Thus, the pixel element PERR including the defect ERR is specified. More specifically, the image processing unit 3 obtains vertex coordinates of a rectangle R circumscribing the defect as defect position information, and detects a picture element including the rectangle R (hereinafter also referred to as a defective picture element).

次に、画像処理部３は、予め登録されている色情報と欠陥絵素ＰＥＲＲの色情報とを比較し、欠陥絵素の色を特定する。   Next, the image processing unit 3 compares the color information registered in advance with the color information of the defective picture element PERR and identifies the color of the defective picture element.

より詳細には、画像処理部３に、予めＲＧＢ各絵素の色相代表値を登録しておく。ＲＧＢそれぞれの色相代表値をＨＲ、ＨＧ、ＨＢとすると、ＨＲ、ＨＧ、ＨＢは以下の式で表わされる。   More specifically, the hue representative value of each RGB picture element is registered in the image processing unit 3 in advance. If the hue representative values of RGB are HR, HG and HB, HR, HG and HB are expressed by the following equations.

Figure 2009128815
Figure 2009128815

式（Ｄ１）において、Ｈｍ（ｘ，ｙ）は色相値を表わし、登録画像ｍ（ｘ，ｙ）におけるＲＧＢ値から後述する変換式により求められる。また、（ｘ1，ｙ1）は測定領域の左上端座標であり、（ｘ2，ｙ2）は測定領域の右下端座標を示す。つまり、ＨＲ、ＨＧ、ＨＢは測定領域内の色相平均値である。   In Expression (D1), Hm (x, y) represents a hue value, and is obtained from a RGB value in the registered image m (x, y) by a conversion expression described later. Further, (x1, y1) is the upper left coordinates of the measurement area, and (x2, y2) is the lower right coordinates of the measurement area. That is, HR, HG, and HB are hue average values in the measurement region.

図２０は、ＲＧＢ各絵素の色相ヒストグラムを示す図である。
図２０を参照して、実際にはＲＧＢ各絵素の色相値はそれぞれＨＲ、ＨＧ、ＨＢを中心として分布しているので、画像処理部３は、ＲＧＢ各絵素の色相代表値を（ＨＲ±ｒＲ）、（ＨＧ±ｒＧ）、（ＨＢ±ｒＢ）として保持する。ｒＲ、ｒＧ、ｒＢは、ＨＲ、ＨＧ、ＨＢを中心とする各分布の標準偏差をσとおくとたとえば３×σである。 FIG. 20 is a diagram showing a hue histogram of each RGB picture element.
Referring to FIG. 20, since the hue values of the RGB picture elements are actually distributed around HR, HG, and HB, the image processing unit 3 sets the hue representative values of the RGB picture elements to (HR). Hold as ± rR), (HG ± rG), (HB ± rB). rR, rG, and rB are, for example, 3 × σ, where σ is the standard deviation of each distribution centered on HR, HG, and HB.

図２１は、画像処理部が色相情報計算マスク画像を生成する動作を示す図である。
図２１を参照して、画像処理部３は、欠陥抽出画像とカラーフィルタ領域マスク画像との排他的論理和を演算することにより、色相情報計算マスク画像を生成する。 FIG. 21 is a diagram illustrating an operation in which the image processing unit generates a hue information calculation mask image.
Referring to FIG. 21, the image processing unit 3 generates a hue information calculation mask image by calculating an exclusive OR of the defect extraction image and the color filter region mask image.

画像処理部３は、色相情報計算マスク画像において値１（図２１においてハッチングのない部分）の画素についてのみ色相値を計算する。画像処理部３は、ブラックマトリックス領域と同じ値０である欠陥部分は色相値が不明であるため、計算対象外とする。   The image processing unit 3 calculates a hue value only for a pixel having a value of 1 (a portion without hatching in FIG. 21) in the hue information calculation mask image. The image processing unit 3 excludes the defect portion having the same value 0 as that of the black matrix region from the calculation target because the hue value is unknown.

生成したカラーフィルタ領域のマスク画像から各絵素のカラーフィルタ領域の位置が明らかになっているため、画像処理部３は、各カラーフィルタ領域において色相情報計算マスクの値が１の画素の色相値を累算し、カラーフィルタ領域ごとに色相値の平均値を求める。そして、画像処理部３は、求めた平均値とＲＧＢ各絵素の色相代表値とを比較し、求めた平均値が最も近い色相代表値に対応する色をカラーフィルタ領域の色と決定する。   Since the position of the color filter area of each picture element is made clear from the generated mask image of the color filter area, the image processing unit 3 uses the hue value of the pixel whose hue information calculation mask value is 1 in each color filter area. And an average value of hue values is obtained for each color filter region. Then, the image processing unit 3 compares the obtained average value with the hue representative value of each of the RGB picture elements, and determines the color corresponding to the hue representative value that is the closest to the obtained average value as the color of the color filter region.

ここで、カラーフィルタ内の色相情報計算マスクがすべて０の場合は、色不定となる。
この場合は後述するように予め登録された色並び情報に基づいてカラーフィルタ領域の色を特定する。 Here, when the hue information calculation mask in the color filter is all 0, the color is indefinite.
In this case, as described later, the color of the color filter region is specified based on pre-registered color arrangement information.

次に、登録画像ｍ（ｘ，ｙ）におけるＲＧＢ値から色相値を算出する方法を説明する。
カラーＣＣＤカメラで撮影された画像では、色の３原色であるＲＧＢの３つの値を用いて色を表わすが、色合いおよび鮮やかさ等の感覚的な量はＲＧＢの値では分かりにくいので、人間の感覚に近い表色系が考案されている。表色系の１つとしてＨＳＶ表色系がある。ここで、Ｈは色相、Ｓは彩度、Ｖは明るさを示す。ＨＳＶ表色系はＲＧＢ値から容易に計算することができ、コンピュータによる画像処理の分野で用いられている。 Next, a method for calculating the hue value from the RGB value in the registered image m (x, y) will be described.
In an image taken with a color CCD camera, colors are expressed using three values of RGB, which are the three primary colors. However, since sensory quantities such as hue and vividness are difficult to understand with RGB values, A color system close to the senses has been devised. One of the color systems is the HSV color system. Here, H indicates hue, S indicates saturation, and V indicates brightness. The HSV color system can be easily calculated from RGB values and is used in the field of computer image processing.

ＲＧＢ値の内、最小値をｆｍｉｎとし、最大値をｆｍａｘとすると、明るさＶはＶ＝ｆｍａｘで表わされる。   Of the RGB values, if the minimum value is fmin and the maximum value is fmax, the brightness V is expressed by V = fmax.

また、色相Ｈおよび彩度Ｓは以下のように算出される。   The hue H and saturation S are calculated as follows.

Figure 2009128815
Figure 2009128815

［色判定の信頼度］
次に、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置における色判定の信頼度の算出方法および使用方法について説明する。 [Reliability of color judgment]
Next, a method for calculating and using a color determination reliability in the color filter defect correcting apparatus according to the embodiment of the present invention will be described.

図２２（ａ）および（ｂ）は、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置において絵素の色判定の信頼度が低い場合において行なわれる色判定の様子を示す図である。   FIGS. 22A and 22B are diagrams showing the state of color determination performed when the color determination reliability of the picture element is low in the color filter defect correcting apparatus according to the embodiment of the present invention.

各カラーフィルタ領域において、色判定を行う絵素のカラーフィルタ領域に相当する撮像画像上の総画素数をＮとし、色判定に用いた色相情報マスクの値１に相当する撮像画像上の画素数をＮｍとすると、絵素の色判定に対する信頼度ＲはＲ＝Ｎｍ／Ｎで表わされる。   In each color filter area, the total number of pixels on the captured image corresponding to the color filter area of the picture element for color determination is N, and the number of pixels on the captured image corresponding to the value 1 of the hue information mask used for color determination Is represented by Nm, the reliability R of the pixel color determination is represented by R = Nm / N.

画像処理部３は、信頼度Ｒが所定値以上の絵素については前述のカラーフィルタ領域の色相値の平均値と色相代表値との比較による色判定結果を信頼する。一方、画像処理部３は、信頼度Ｒが所定値未満の絵素については、予め登録されている色並び情報と照合し、色並び情報に対して矛盾がある場合は色判定結果を訂正する。   The image processing unit 3 relies on the color determination result obtained by comparing the average hue value of the color filter area and the hue representative value for the picture element having the reliability R of the predetermined value or more. On the other hand, the image processing unit 3 compares the color arrangement information registered in advance for the picture elements having the reliability R less than the predetermined value, and corrects the color determination result when there is a contradiction with the color arrangement information. .

ここで、色並び情報は論理的なものであり、たとえばカラーフィルタの入力画像の横方向がＲＧＢという配列になっているのであれば(ＲＧＢ)という並び順を記憶しておく。色並び情報は、たとえばカラーフィルタ欠陥修正装置１０１に設定するレシピに入力しておく。なお、レシピは、たとえば制御用コンピュータ２における記憶部に保存される。   Here, the color arrangement information is logical. For example, if the horizontal direction of the input image of the color filter is an RGB arrangement, the arrangement order (RGB) is stored. The color arrangement information is input to a recipe set in the color filter defect correcting apparatus 101, for example. The recipe is stored in a storage unit in the control computer 2, for example.

まず、図２２（ａ）に示すように、入力画像の横方向においてＲＧＢ各絵素が（ＲＧＢ）の順でストライプ状に配列されている場合について説明する。画像処理部３は、入力画像の左上から右下に向かって絵素を走査していき、信頼度Ｒの低い絵素（図２２（ａ）のＤ１）が出現した場合、信頼度Ｒが低い絵素の手前の絵素（図２２（ａ）のＤ２）の次の絵素の色を色並び情報から検索する。そして、色並び情報から検索した色と信頼度Ｒが低い絵素の上の絵素（図２２（ａ）のＤ３）の色とが同じ場合には色並び情報から検索した色を信頼度Ｒが低い絵素の色であると決定する。また、信頼度Ｒが低い絵素の上の絵素の色が不定である場合には、信頼度Ｒが低い絵素の下の絵素（図２２（ａ）のＤ４）の色と色並び情報から検索した色とを照合する。信頼度Ｒが低い絵素の下の絵素の色が不定である場合には、信頼度Ｒが低い絵素の次の絵素（図２２（ａ）のＤ５）の手前の絵素の色を色並び情報から検索し、信頼度Ｒが低い絵素の次の絵素（図２２（ａ）のＤ５）の上の絵素（図２２（ａ）のＤ６）または信頼度Ｒが低い絵素の次の絵素の下の絵素（図２２（ａ）のＤ７）の色と色並び情報から検索した色とを照合する。   First, as shown in FIG. 22A, a case will be described in which RGB picture elements are arranged in a stripe shape in the order of (RGB) in the horizontal direction of the input image. The image processing unit 3 scans the picture elements from the upper left to the lower right of the input image. When a picture element having a low reliability R (D1 in FIG. 22A) appears, the reliability R is low. The color of the picture element next to the picture element in front of the picture element (D2 in FIG. 22A) is searched from the color arrangement information. If the color retrieved from the color arrangement information and the color of the picture element on the picture element having a low reliability R (D3 in FIG. 22A) are the same, the color retrieved from the color arrangement information is represented by the reliability R. Is determined to be a low pixel color. In addition, when the color of the picture element above the picture element having the low reliability R is indefinite, the color and the color arrangement of the picture element below the picture element having the low reliability R (D4 in FIG. 22A). Check the color retrieved from the information. If the color of the picture element under the picture element with the low reliability R is indefinite, the color of the picture element before the next picture element (D5 in FIG. 22A) of the picture element with the low reliability R Is retrieved from the color arrangement information, and the picture element (D6 in FIG. 22A) on the next picture element (D5 in FIG. 22A) of the picture element with low reliability R or the picture with low reliability R The color of the picture element below the next picture element (D7 in FIG. 22A) is compared with the color retrieved from the color arrangement information.

次に、図２２（ｂ）に示すように、入力画像の縦方向においてＲＧＢ各絵素が（ＲＧＢ）の順でストライプ状に配列されている場合について説明する。画像処理部３は、入力画像の左上から右下に向かって絵素を走査していき、信頼度Ｒの低い絵素（図２２（ｂ）のＤ１）が出現した場合、信頼度Ｒが低い絵素の手前の絵素（図２２（ｂ）のＤ２）の次の絵素の色を色並び情報から検索する。そして、色並び情報から検索した色と信頼度Ｒが低い絵素の左の絵素（図２２（ｂ）のＤ３）の色とが同じ場合には色並び情報から検索した色を信頼度Ｒが低い絵素の色であると決定する。また、信頼度Ｒが低い絵素の左の絵素の色が不定である場合には、信頼度Ｒが低い絵素の右の絵素（図２２（ｂ）のＤ４）の色と色並び情報から検索した色とを照合する。信頼度Ｒが低い絵素の右の絵素の色が不定である場合には、信頼度Ｒが低い絵素の次の絵素（図２２（ｂ）のＤ５）の手前の絵素の色を色並び情報から検索し、信頼度Ｒが低い絵素の次の絵素（図２２（ｂ）のＤ５）の左の絵素（図２２（ｂ）のＤ６）または信頼度Ｒが低い絵素の次の絵素の右の絵素（図２２（ｂ）のＤ７）の色と色並び情報から検索した色とを照合する。   Next, as shown in FIG. 22B, a case will be described in which RGB picture elements are arranged in a stripe shape in the order of (RGB) in the vertical direction of the input image. The image processing unit 3 scans the picture elements from the upper left to the lower right of the input image. When a picture element having a low reliability R (D1 in FIG. 22B) appears, the reliability R is low. The color of the picture element next to the picture element in front of the picture element (D2 in FIG. 22B) is searched from the color arrangement information. If the color searched from the color arrangement information is the same as the color of the left picture element (D3 in FIG. 22B) of the picture element having a low reliability R, the color searched from the color arrangement information is represented by the reliability R. Is determined to be a low pixel color. Further, when the color of the left picture element of the picture element with low reliability R is indefinite, the color and color arrangement of the right picture element (D4 in FIG. 22B) with low reliability R Check the color retrieved from the information. If the color of the right picture element of a picture element with low reliability R is indefinite, the color of the picture element before the next picture element (D5 in FIG. 22B) with low reliability R Is retrieved from the color arrangement information, and the left pixel (D6 in FIG. 22B) of the next pixel (D5 in FIG. 22B) of the pixel with low reliability R or a picture with low reliability R The color of the right picture element (D7 in FIG. 22B) of the next picture element is collated with the color retrieved from the color arrangement information.

次に、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置がカラーフィルタにおけるレーザ照射領域およびインク塗布領域を決定する際の動作について説明する。なお、レーザ照射領域およびインク塗布領域の決定は、画像処理部３の代わりに制御用コンピュータ２が行なう構成であってもよい。   Next, the operation when the color filter defect correcting device according to the embodiment of the present invention determines the laser irradiation area and the ink application area in the color filter will be described. The laser irradiation area and the ink application area may be determined by the control computer 2 instead of the image processing unit 3.

以下では、たとえば、スリットＳＬの形状は四角形であり、カラーフィルタにおいて塗布されるインクの形状は円であると仮定して説明する。また、たとえば、以下に示す図の紙面横方向において、ブラックマトリックス領域ＢＭの幅をＷとし、インク塗布円ＩＡの直径をＤとし、カラーフィルタ領域ＣＦの幅をＣとし、スリットＳＬの幅をＳとすると、Ｃ≧Ｓ＞ＷかつＣ≧Ｄ＞Ｗであると仮定して説明する。   In the following description, for example, it is assumed that the shape of the slit SL is a quadrangle and the shape of the ink applied in the color filter is a circle. Further, for example, in the horizontal direction of the drawing shown in the figure, the width of the black matrix region BM is W, the diameter of the ink application circle IA is D, the width of the color filter region CF is C, and the width of the slit SL is S. Then, description will be made assuming that C ≧ S> W and C ≧ D> W.

なお、インク塗布円ＩＡの直径については、通常、基板にインクを塗布すると、基板表面に付着したインクは円形状に広がっていく。そして、この円の直径を実測し、実測した直径をインク塗布円ＩＡの直径Ｄとしてカラーフィルタ欠陥修正装置１０１に使用させる。また、インク塗布およびインク塗布円ＩＡの直径の測定を繰り返し行なって、複数回測定した直径の平均値をインク塗布円ＩＡの直径Ｄとしてカラーフィルタ欠陥修正装置１０１に使用させる場合もある。   As for the diameter of the ink application circle IA, normally, when ink is applied to the substrate, the ink attached to the surface of the substrate spreads in a circular shape. Then, the diameter of this circle is measured, and the measured diameter is used as the diameter D of the ink application circle IA by the color filter defect correcting apparatus 101. In some cases, the ink filter and the diameter of the ink application circle IA are repeatedly measured, and the average value of the diameters measured a plurality of times is used as the diameter D of the ink application circle IA by the color filter defect correcting apparatus 101.

制御用コンピュータ２は、画像処理部３によるレーザ照射領域およびインク塗布領域の算出結果に基づいてレーザ照射部７、インク塗布部９および位置決め機構５１を制御して、カラーフィルタの欠陥箇所にレーザ光を照射し、また、インクを塗布する。   The control computer 2 controls the laser irradiation unit 7, the ink application unit 9, and the positioning mechanism 51 on the basis of the calculation results of the laser irradiation region and the ink application region by the image processing unit 3, and applies laser light to defective portions of the color filter. And apply ink.

制御用コンピュータ２は、可変スリット部８によって形成されるスリットＳＬを初期位置に移動させる。より詳細には、画像処理部３は、検出された欠陥ＥＲＲの位置に基づいてスリットＳＬの初期位置を決定する。たとえば、画像処理部３は、欠陥ＥＲＲに外接する長方形Ｒの中心とスリットＳＬの中心とが一致するようにスリットＳＬの初期位置を決定する。そして、制御用コンピュータ２は、位置決め機構５１を制御することにより、スリットＳＬを初期位置に移動させる。   The control computer 2 moves the slit SL formed by the variable slit portion 8 to the initial position. More specifically, the image processing unit 3 determines the initial position of the slit SL based on the detected position of the defect ERR. For example, the image processing unit 3 determines the initial position of the slit SL so that the center of the rectangle R circumscribing the defect ERR coincides with the center of the slit SL. Then, the control computer 2 controls the positioning mechanism 51 to move the slit SL to the initial position.

次に、画像処理部３は、初期位置におけるスリットＳＬを介してレーザ光が照射されるであろうカラーフィルタの領域（仮レーザ照射領域）とブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦとの重なり領域に基づいてスリットＳＬの初期位置を補正することによりスリットＳＬの最終位置、すなわち実際にレーザ光を照射する際のスリットＳＬの位置を決定する。   Next, the image processing unit 3 overlaps the color filter region (temporary laser irradiation region) to be irradiated with the laser light through the slit SL at the initial position, the black matrix region BM, and the color filter region CF. By correcting the initial position of the slit SL based on the above, the final position of the slit SL, that is, the position of the slit SL when actually irradiating the laser beam is determined.

そして、レーザ照射部７は、最終位置におけるスリットＳＬを介してカラーフィルタにレーザ光を照射する。   And the laser irradiation part 7 irradiates a color filter with a laser beam through the slit SL in the last position.

図２３（ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図２３（ｂ）は、図２３（ａ）におけるＸＸＩＩＩＢ−ＸＸＩＩＩＢ断面を示す断面図である。図２４（ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図２４（ｂ）は、図２４（ａ）におけるＸＸＩＶＢ−ＸＸＩＶＢ断面を示す断面図である。   FIG. 23A is a diagram illustrating an example of the initial position of the slit, the color filter region, the black matrix region, and the defect position. FIG. 23B is a cross-sectional view showing a XXIIIB-XXIIIB cross section in FIG. FIG. 24A is a diagram illustrating an example of the final position of the slit, the color filter region, the black matrix region, and the defect position. FIG.24 (b) is sectional drawing which shows the XXIVB-XXIVB cross section in Fig.24 (a).

画像処理部３は、検出された欠陥ＥＲＲがブラックマトリックス領域ＢＭ近傍のカラーフィルタ領域ＣＦに存在する場合等、欠陥ＥＲＲの全領域がカラーフィルタ領域ＣＦに存在する場合には、スリットＳＬを介してレーザ光が照射されるカラーフィルタの領域（以下、レーザ照射領域ＲＡとも称する。）が、欠陥ＥＲＲの少なくとも一部を含み、かつブラックマトリックス領域ＢＭと重ならないようにスリットＳＬの初期位置を補正することによりスリットＳＬの最終位置を決定する。   When the detected defect ERR is present in the color filter region CF in the vicinity of the black matrix region BM, such as when the detected defect ERR is present in the color filter region CF, the image processing unit 3 uses the slit SL. The initial position of the slit SL is corrected so that the area of the color filter irradiated with the laser light (hereinafter also referred to as the laser irradiation area RA) includes at least a part of the defect ERR and does not overlap with the black matrix area BM. Thus, the final position of the slit SL is determined.

図２３を参照して、画像処理部３は、レーザ照射領域ＲＡの上枠側の領域とブラックマトリックス領域ＢＭとが重なっている場合には、レーザ照射領域ＲＡの上枠からブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦの境界までの距離Ｌを求める。   Referring to FIG. 23, when the region on the upper frame side of the laser irradiation region RA and the black matrix region BM overlap with each other, the image processing unit 3 starts the black matrix region BM and the black matrix region BM from the upper frame of the laser irradiation region RA. A distance L to the boundary of the color filter region CF is obtained.

図２４を参照して、制御用コンピュータ２は、位置決め機構５１を制御することにより、スリットＳＬの中心を距離Ｌだけ下枠側へ移動させる。これにより、レーザ照射領域ＲＡとブラックマトリックス領域ＢＭとが重ならないようにすることができる。   Referring to FIG. 24, control computer 2 controls positioning mechanism 51 to move the center of slit SL by a distance L toward the lower frame side. Thereby, it is possible to prevent the laser irradiation area RA and the black matrix area BM from overlapping each other.

図２５（ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図２５（ｂ）は、図２５（ａ）におけるＸＸＶＢ−ＸＸＶＢ断面を示す断面図である。図２６（ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図２６（ｂ）は、図２６（ａ）におけるＸＸＶＩＢ−ＸＸＶＩＢ断面を示す断面図である。   FIG. 25A is a diagram illustrating an example of the initial position of the slit, the color filter region, the black matrix region, and the defect position. FIG. 25B is a cross-sectional view showing a XXVB-XXVB cross section in FIG. FIG. 26A is a diagram illustrating an example of the final position of the slit, the color filter area, the black matrix area, and the defect position. FIG.26 (b) is sectional drawing which shows the XXVIB-XXVIB cross section in Fig.26 (a).

図２５を参照して、画像処理部３は、レーザ照射領域ＲＡの左枠側の領域とブラックマトリックス領域ＢＭとが重なっている場合には、レーザ照射領域ＲＡの左枠からブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦの境界までの距離Ｌを求める。   Referring to FIG. 25, when the area on the left frame side of the laser irradiation area RA and the black matrix area BM overlap with each other, the image processing unit 3 starts from the left frame of the laser irradiation area RA to the black matrix area BM and A distance L to the boundary of the color filter region CF is obtained.

図２６を参照して、制御用コンピュータ２は、位置決め機構５１を制御することにより、スリットＳＬの中心を距離Ｌだけ右枠側へ移動させる。これにより、レーザ照射領域ＲＡとブラックマトリックス領域ＢＭとが重ならないようにすることができる。   Referring to FIG. 26, control computer 2 controls positioning mechanism 51 to move the center of slit SL to the right frame side by distance L. Thereby, it is possible to prevent the laser irradiation area RA and the black matrix area BM from overlapping each other.

図２７（ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図２７（ｂ）は、図２７（ａ）におけるＸＸＶＩＩＢ−ＸＸＶＩＩＢ断面を示す断面図である。図２８（ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図２８（ｂ）は、図２８（ａ）におけるＸＸＶＩＩＩＢ−ＸＸＶＩＩＩＢ断面を示す断面図である。   FIG. 27A is a diagram illustrating an example of the initial position of the slit, the color filter region, the black matrix region, and the defect position. FIG.27 (b) is sectional drawing which shows the XXVIIB-XXVIIB cross section in Fig.27 (a). FIG. 28A is a diagram illustrating an example of the final position of the slit, the color filter area, the black matrix area, and the defect position. FIG. 28B is a cross-sectional view showing a cross section XXVIIIB-XXVIIIB in FIG.

図２７を参照して、画像処理部３は、レーザ照射領域ＲＡの下枠側の領域とブラックマトリックス領域ＢＭとが重なっている場合には、レーザ照射領域ＲＡの下枠からブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦの境界までの距離Ｌを求める。   Referring to FIG. 27, when the area on the lower frame side of the laser irradiation area RA and the black matrix area BM overlap with each other, the image processing unit 3 starts from the lower frame of the laser irradiation area RA to the black matrix area BM and A distance L to the boundary of the color filter region CF is obtained.

図２８を参照して、制御用コンピュータ２は、位置決め機構５１を制御することにより、スリットＳＬの中心を距離Ｌだけ上枠側へ移動させる。これにより、レーザ照射領域ＲＡとブラックマトリックス領域ＢＭとが重ならないようにすることができる。   Referring to FIG. 28, control computer 2 controls positioning mechanism 51 to move the center of slit SL to the upper frame side by distance L. Thereby, it is possible to prevent the laser irradiation area RA and the black matrix area BM from overlapping each other.

図２９（ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図２９（ｂ）は、図２９（ａ）におけるＸＸＩＸＢ−ＸＸＩＸＢ断面を示す断面図である。図３０（ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図３０（ｂ）は、図３０（ａ）におけるＸＸＸＢ−ＸＸＸＢ断面を示す断面図である。   FIG. 29A is a diagram illustrating an example of the initial position of the slit, the color filter region, the black matrix region, and the defect position. FIG. 29B is a cross-sectional view showing a XXIXB-XXIXB cross section in FIG. FIG. 30A is a diagram illustrating an example of the final position of the slit, the color filter region, the black matrix region, and the defect position. FIG. 30B is a cross-sectional view showing a XXXB-XXXB cross section in FIG.

図２９を参照して、画像処理部３は、レーザ照射領域ＲＡの右枠側の領域とブラックマトリックス領域ＢＭとが重なっている場合には、レーザ照射領域ＲＡの右枠からブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦの境界までの距離Ｌを求める。   Referring to FIG. 29, when the region on the right frame side of laser irradiation region RA and black matrix region BM overlap, image processing unit 3 starts black matrix region BM and black matrix region BM from the right frame of laser irradiation region RA. A distance L to the boundary of the color filter region CF is obtained.

図３０を参照して、制御用コンピュータ２は、位置決め機構５１を制御することにより、スリットＳＬの中心を距離Ｌだけ左枠側へ移動させる。これにより、レーザ照射領域ＲＡとブラックマトリックス領域ＢＭとが重ならないようにすることができる。   Referring to FIG. 30, control computer 2 controls positioning mechanism 51 to move the center of slit SL to the left frame side by distance L. Thereby, it is possible to prevent the laser irradiation area RA and the black matrix area BM from overlapping each other.

図３１（ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図３１（ｂ）は、図３１（ａ）におけるＸＸＸＩＢ−ＸＸＸＩＢ断面を示す断面図である。図３１（ｃ）は、図３１（ａ）におけるＸＸＸＩＣ−ＸＸＸＩＣ断面を示す断面図である。図３２（ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図３２（ｂ）は、図３２（ａ）におけるＸＸＸＩＩＢ−ＸＸＸＩＩＢ断面を示す断面図である。図３２（ｃ）は、図３２（ａ）におけるＸＸＸＩＩＣ−ＸＸＸＩＩＣ断面を示す断面図である。   FIG. 31A shows an example of the initial position of the slit, the color filter region, the black matrix region, and the defect position. FIG.31 (b) is sectional drawing which shows the XXXIB-XXXIB cross section in Fig.31 (a). FIG.31 (c) is sectional drawing which shows the XXXIC-XXXIC cross section in Fig.31 (a). FIG. 32A is a diagram illustrating an example of the final position of the slit, the color filter area, the black matrix area, and the defect position. FIG. 32B is a cross-sectional view showing a cross section XXXIIB-XXXIIB in FIG. FIG. 32C is a cross-sectional view showing a XXXIIC-XXXIIC cross section in FIG.

図３１を参照して、画像処理部３は、レーザ照射領域ＲＡの上枠側の領域および左枠側の領域とブラックマトリックス領域ＢＭとが重なっている場合には、レーザ照射領域ＲＡの上枠からブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦの境界までの距離Ｌ１と、レーザ照射領域ＲＡの左枠からブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦの境界までの距離Ｌ２とを求める。   Referring to FIG. 31, the image processing unit 3 determines that the upper frame side and the left frame side region of the laser irradiation region RA and the black matrix region BM overlap with the upper frame of the laser irradiation region RA. L1 to the boundary between the black matrix region BM and the color filter region CF, and the distance L2 from the left frame of the laser irradiation region RA to the boundary between the black matrix region BM and the color filter region CF.

図３２を参照して、制御用コンピュータ２は、位置決め機構５１を制御することにより、スリットＳＬの中心を距離Ｌ１だけ下枠側へ移動させ、かつスリットＳＬの中心を距離Ｌ２だけ右枠側へ移動させる。これにより、スリットＳＬの最終位置とブラックマトリックス領域ＢＭとが重ならないようにすることができる。   Referring to FIG. 32, control computer 2 controls positioning mechanism 51 to move the center of slit SL to the lower frame side by distance L1 and to move the center of slit SL to the right frame side by distance L2. Move. Thereby, it is possible to prevent the final position of the slit SL from overlapping the black matrix region BM.

図３３（ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図３３（ｂ）は、図３３（ａ）におけるＸＸＸＩＩＩＢ−ＸＸＸＩＩＩＢ断面を示す断面図である。図３３（ｃ）は、図３３（ａ）におけるＸＸＸＩＩＩＣ−ＸＸＸＩＩＩＣ断面を示す断面図である。図３４（ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図３４（ｂ）は、図３４（ａ）におけるＸＸＸＩＶＢ−ＸＸＸＩＶＢ断面を示す断面図である。図３４（ｃ）は、図３４（ａ）におけるＸＸＸＩＶＣ−ＸＸＸＩＶＣ断面を示す断面図である。   FIG. 33A is a diagram illustrating an example of the initial position of the slit, the color filter region, the black matrix region, and the defect position. FIG. 33B is a cross-sectional view showing a XXXIIIB-XXXIIIB cross section in FIG. FIG.33 (c) is sectional drawing which shows the XXXIIIC-XXXIIIC cross section in Fig.33 (a). FIG. 34A shows an example of the final position of the slit, the color filter area, the black matrix area, and the defect position. FIG. 34B is a cross-sectional view showing a XXXIVB-XXXIVB cross section in FIG. FIG. 34C is a sectional view showing a XXXIVC-XXXIVC section in FIG.

図３３を参照して、画像処理部３は、レーザ照射領域ＲＡの下枠側の領域および右枠側の領域とブラックマトリックス領域ＢＭとが重なっている場合には、レーザ照射領域ＲＡの下枠からブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦの境界までの距離Ｌ１と、レーザ照射領域ＲＡの右枠からブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦの境界までの距離Ｌ２とを求める。   Referring to FIG. 33, the image processing unit 3 determines that the lower frame side region and the right frame side region of the laser irradiation region RA overlap the black matrix region BM and the lower frame of the laser irradiation region RA. L1 to the boundary between the black matrix region BM and the color filter region CF, and the distance L2 from the right frame of the laser irradiation region RA to the boundary between the black matrix region BM and the color filter region CF.

図３４を参照して、制御用コンピュータ２は、位置決め機構５１を制御することにより、スリットＳＬの中心を距離Ｌ１だけ上枠側へ移動させ、かつスリットＳＬの中心を距離Ｌ２だけ左枠側へ移動させる。これにより、スリットＳＬの最終位置とブラックマトリックス領域ＢＭとが重ならないようにすることができる。   Referring to FIG. 34, control computer 2 controls positioning mechanism 51 to move the center of slit SL to the upper frame side by distance L1 and to move the center of slit SL to the left frame side by distance L2. Move. Thereby, it is possible to prevent the final position of the slit SL from overlapping the black matrix region BM.

図３５（ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図３５（ｂ）は、図３５（ａ）におけるＸＸＸＶＢ−ＸＸＸＶＢ断面を示す断面図である。図３５（ｃ）は、図３５（ａ）におけるＸＸＸＶＣ−ＸＸＸＶＣ断面を示す断面図である。図３６（ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図３６（ｂ）は、図３６（ａ）におけるＸＸＸＶＩＢ−ＸＸＸＶＩＢ断面を示す断面図である。図３６（ｃ）は、図３６（ａ）におけるＸＸＸＶＩＣ−ＸＸＸＶＩＣ断面を示す断面図である。   FIG. 35A shows an example of the initial position of the slit, the color filter region, the black matrix region, and the defect position. FIG. 35B is a cross-sectional view showing a XXXVB-XXXVB cross section in FIG. FIG. 35C is a cross-sectional view showing a XXXVC-XXXVC cross section in FIG. FIG. 36A is a diagram illustrating an example of the final position of the slit, the color filter region, the black matrix region, and the defect position. FIG. 36B is a cross-sectional view showing a XXXVIB-XXXVIB cross section in FIG. FIG. 36C is a cross-sectional view showing a XXXVIC-XXXVIC cross section in FIG.

図３５を参照して、画像処理部３は、レーザ照射領域ＲＡの上枠側の領域および右枠側の領域とブラックマトリックス領域ＢＭとが重なっている場合には、レーザ照射領域ＲＡの上枠からブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦの境界までの距離Ｌ１と、レーザ照射領域ＲＡの右枠からブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦの境界までの距離Ｌ２とを求める。   Referring to FIG. 35, when the upper frame side region and the right frame side region of the laser irradiation region RA and the black matrix region BM overlap with each other, the image processing unit 3 detects the upper frame of the laser irradiation region RA. L1 to the boundary between the black matrix region BM and the color filter region CF, and the distance L2 from the right frame of the laser irradiation region RA to the boundary between the black matrix region BM and the color filter region CF.

図３６を参照して、制御用コンピュータ２は、位置決め機構５１を制御することにより、スリットＳＬの中心を距離Ｌ１だけ下枠側へ移動させ、かつスリットＳＬの中心を距離Ｌ２だけ左枠側へ移動させる。これにより、スリットＳＬの最終位置とブラックマトリックス領域ＢＭとが重ならないようにすることができる。   Referring to FIG. 36, control computer 2 controls positioning mechanism 51 to move the center of slit SL to the lower frame side by distance L1 and to move the center of slit SL to the left frame side by distance L2. Move. Thereby, it is possible to prevent the final position of the slit SL from overlapping the black matrix region BM.

図３７（ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図３７（ｂ）は、図３７（ａ）におけるＸＸＸＶＩＩＢ−ＸＸＸＶＩＩＢ断面を示す断面図である。図３７（ｃ）は、図３７（ａ）におけるＸＸＸＶＩＩＣ−ＸＸＸＶＩＩＣ断面を示す断面図である。図３８（ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図３８（ｂ）は、図３８（ａ）におけるＸＸＸＶＩＩＩＢ−ＸＸＸＶＩＩＩＢ断面を示す断面図である。図３８（ｃ）は、図３８（ａ）におけるＸＸＸＶＩＩＩＣ−ＸＸＸＶＩＩＩＣ断面を示す断面図である。   FIG. 37A is a diagram illustrating an example of the initial position of the slit, the color filter region, the black matrix region, and the defect position. FIG. 37B is a cross-sectional view showing a cross section XXXVIIB-XXXVIIB in FIG. FIG. 37C is a cross-sectional view showing a XXXVIIC-XXXVIIC cross section in FIG. FIG. 38A is a diagram illustrating an example of the final position of the slit, the color filter region, the black matrix region, and the defect position. FIG.38 (b) is sectional drawing which shows the XXXVIIIB-XXXVIIIB cross section in Fig.38 (a). FIG.38 (c) is sectional drawing which shows the XXXVIIIC-XXXVIIIC cross section in Fig.38 (a).

図３７を参照して、画像処理部３は、レーザ照射領域ＲＡの下枠側の領域および左枠側の領域とブラックマトリックス領域ＢＭとが重なっている場合には、レーザ照射領域ＲＡの下枠からブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦの境界までの距離Ｌ１と、レーザ照射領域ＲＡの左枠からブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦの境界までの距離Ｌ２とを求める。   Referring to FIG. 37, the image processing unit 3 determines that the lower frame side region and the left frame side region of the laser irradiation region RA overlap the black matrix region BM and the lower frame of the laser irradiation region RA. L1 to the boundary between the black matrix region BM and the color filter region CF, and the distance L2 from the left frame of the laser irradiation region RA to the boundary between the black matrix region BM and the color filter region CF.

図３８を参照して、制御用コンピュータ２は、位置決め機構５１を制御することにより、スリットＳＬの中心を距離Ｌ１だけ上枠側へ移動させ、かつスリットＳＬの中心を距離Ｌ２だけ右枠側へ移動させる。これにより、スリットＳＬの最終位置とブラックマトリックス領域ＢＭとが重ならないようにすることができる。   Referring to FIG. 38, control computer 2 controls positioning mechanism 51 to move the center of slit SL to the upper frame side by distance L1 and to move the center of slit SL to the right frame side by distance L2. Move. Thereby, it is possible to prevent the final position of the slit SL from overlapping the black matrix region BM.

図３９（ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図３９（ｂ）は、図３９（ａ）におけるＸＸＸＩＸＢ−ＸＸＸＩＸＢ断面を示す断面図である。図４０（ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図４０（ｂ）は、図４０（ａ）におけるＸＬＢ−ＸＬＢ断面を示す断面図である。   FIG. 39A is a diagram illustrating an example of the initial position of the slit, the color filter region, the black matrix region, and the defect position. FIG. 39B is a cross-sectional view showing a cross section XXXIXB-XXXIXB in FIG. FIG. 40A is a diagram illustrating an example of the final position of the slit, the color filter area, the black matrix area, and the defect position. FIG. 40B is a cross-sectional view showing a cross section XLB-XLB in FIG.

画像処理部３は、検出された欠陥ＥＲＲがブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦにまたがって存在する場合には、レーザ照射領域ＲＡが欠陥ＥＲＲの少なくとも一部を含み、かつレーザ照射領域ＲＡとブラックマトリックス領域ＢＭとの重なり領域が最小になるようにスリットＳＬの初期位置を補正することによりスリットＳＬの最終位置を決定する。   When the detected defect ERR exists across the black matrix region BM and the color filter region CF, the image processing unit 3 includes the laser irradiation region RA including at least a part of the defect ERR and the laser irradiation region RA. The final position of the slit SL is determined by correcting the initial position of the slit SL so that the overlapping area with the black matrix area BM is minimized.

図３９を参照して、画像処理部３は、前述の欠陥検出処理により、欠陥ＥＲＲに外接する長方形Ｒの頂点Ａ〜頂点Ｄの座標を求める。画像処理部３は、長方形Ｒとブラックマトリックス領域ＢＭとの重なり領域に基づいてスリットＳＬの初期位置を補正することによりスリットＳＬの最終位置を決定する。   Referring to FIG. 39, image processing unit 3 obtains coordinates of vertex A to vertex D of rectangle R circumscribing defect ERR by the above-described defect detection processing. The image processing unit 3 determines the final position of the slit SL by correcting the initial position of the slit SL based on the overlapping region of the rectangle R and the black matrix region BM.

すなわち、画像処理部３は、欠陥ＥＲＲがブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦにまたがって存在し、かつ欠陥ＥＲＲの上部がブラックマトリックス領域ＢＭに存在する場合には、レーザ照射領域ＲＡの上枠から長方形Ｒまでの距離Ｌを求める。   That is, when the defect ERR exists over the black matrix region BM and the color filter region CF, and the upper part of the defect ERR exists in the black matrix region BM, the image processing unit 3 sets the upper frame of the laser irradiation region RA. A distance L from the rectangle R is obtained.

図４０を参照して、制御用コンピュータ２は、位置決め機構５１を制御することにより、スリットＳＬの中心を距離Ｌだけ下枠側へ移動させる。これにより、レーザ照射領域ＲＡとブラックマトリックス領域ＢＭとの重なり領域を最小にすることができる。   Referring to FIG. 40, control computer 2 controls positioning mechanism 51 to move the center of slit SL by a distance L toward the lower frame. Thereby, the overlapping region between the laser irradiation region RA and the black matrix region BM can be minimized.

図４１（ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図４１（ｂ）は、図４１（ａ）におけるＸＬＩＢ−ＸＬＩＢ断面を示す断面図である。図４２（ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図４２（ｂ）は、図４２（ａ）におけるＸＬＩＩＢ−ＸＬＩＩＢ断面を示す断面図である。   FIG. 41A shows an example of the initial position of the slit, the color filter area, the black matrix area, and the defect position. FIG. 41B is a cross-sectional view showing a cross section XLIB-XLIB in FIG. FIG. 42A is a diagram illustrating an example of the final position of the slit, the color filter region, the black matrix region, and the defect position. FIG.42 (b) is sectional drawing which shows the XLIIB-XLIIB cross section in Fig.42 (a).

図４１を参照して、画像処理部３は、欠陥ＥＲＲがブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦにまたがって存在し、かつ欠陥ＥＲＲの左部がブラックマトリックス領域ＢＭに存在する場合には、レーザ照射領域ＲＡの左枠から長方形Ｒまでの距離Ｌを求める。   Referring to FIG. 41, the image processing unit 3 performs laser processing when the defect ERR exists across the black matrix region BM and the color filter region CF, and the left part of the defect ERR exists in the black matrix region BM. A distance L from the left frame of the irradiation area RA to the rectangle R is obtained.

図４２を参照して、制御用コンピュータ２は、位置決め機構５１を制御することにより、スリットＳＬの中心を距離Ｌだけ右枠側へ移動させる。これにより、レーザ照射領域ＲＡとブラックマトリックス領域ＢＭとの重なり領域を最小にすることができる。   Referring to FIG. 42, control computer 2 controls positioning mechanism 51 to move the center of slit SL to the right frame side by distance L. Thereby, the overlapping region between the laser irradiation region RA and the black matrix region BM can be minimized.

図４３（ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図４３（ｂ）は、図４３（ａ）におけるＸＬＩＩＩＢ−ＸＬＩＩＩＢ断面を示す断面図である。図４４（ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図４４（ｂ）は、図４４（ａ）におけるＸＬＩＶＢ−ＸＬＩＶＢ断面を示す断面図である。   FIG. 43A is a diagram illustrating an example of the initial position of the slit, the color filter region, the black matrix region, and the defect position. FIG. 43B is a cross-sectional view showing a cross section XLIIIB-XLIIIB in FIG. FIG. 44A shows an example of the final position of the slit, the color filter area, the black matrix area, and the defect position. FIG. 44B is a cross-sectional view showing the XLIVB-XLIVB cross section in FIG.

図４３を参照して、画像処理部３は、欠陥ＥＲＲがブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦにまたがって存在し、かつ欠陥ＥＲＲの下部がブラックマトリックス領域ＢＭに存在する場合には、レーザ照射領域ＲＡの下枠から長方形Ｒまでの距離Ｌを求める。   Referring to FIG. 43, the image processing unit 3 performs laser irradiation when the defect ERR exists over the black matrix region BM and the color filter region CF, and the lower part of the defect ERR exists in the black matrix region BM. A distance L from the lower frame of the region RA to the rectangle R is obtained.

図４４を参照して、制御用コンピュータ２は、位置決め機構５１を制御することにより、スリットＳＬの中心を距離Ｌだけ上枠側へ移動させる。これにより、レーザ照射領域ＲＡとブラックマトリックス領域ＢＭとの重なり領域を最小にすることができる。   Referring to FIG. 44, control computer 2 controls positioning mechanism 51 to move the center of slit SL to the upper frame side by distance L. Thereby, the overlapping region between the laser irradiation region RA and the black matrix region BM can be minimized.

図４５（ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図４５（ｂ）は、図４５（ａ）におけるＸＬＶＢ−ＸＬＶＢ断面を示す断面図である。図４６（ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図４６（ｂ）は、図４６（ａ）におけるＸＬＶＩＢ−ＸＬＶＩＢ断面を示す断面図である。   FIG. 45A shows an example of the initial position of the slit, the color filter area, the black matrix area, and the defect position. FIG. 45B is a cross-sectional view showing a cross section XLVB-XLVB in FIG. FIG. 46A shows an example of the final position of the slit, the color filter area, the black matrix area, and the defect position. FIG.46 (b) is sectional drawing which shows the XLVIB-XLVIB cross section in Fig.46 (a).

図４５を参照して、画像処理部３は、欠陥ＥＲＲがブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦにまたがって存在し、かつ欠陥ＥＲＲの右部がブラックマトリックス領域ＢＭに存在する場合には、レーザ照射領域ＲＡの右枠から長方形Ｒまでの距離Ｌを求める。   Referring to FIG. 45, the image processing unit 3 performs laser processing when the defect ERR exists across the black matrix region BM and the color filter region CF, and the right part of the defect ERR exists in the black matrix region BM. A distance L from the right frame of the irradiation area RA to the rectangle R is obtained.

図４６を参照して、制御用コンピュータ２は、位置決め機構５１を制御することにより、スリットＳＬの中心を距離Ｌだけ左枠側へ移動させる。これにより、レーザ照射領域ＲＡとブラックマトリックス領域ＢＭとの重なり領域を最小にすることができる。   Referring to FIG. 46, control computer 2 controls positioning mechanism 51 to move the center of slit SL to the left frame side by distance L. Thereby, the overlapping region between the laser irradiation region RA and the black matrix region BM can be minimized.

図４７（ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図４７（ｂ）は、図４７（ａ）におけるＸＬＶＩＩＢ−ＸＬＶＩＩＢ断面を示す断面図である。図４７（ｃ）は、図４７（ａ）におけるＸＬＶＩＩＣ−ＸＬＶＩＩＣ断面を示す断面図である。図４８（ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図４８（ｂ）は、図４８（ａ）におけるＸＬＶＩＩＩＢ−ＸＬＶＩＩＩＢ断面を示す断面図である。図４８（ｃ）は、図４８（ａ）におけるＸＬＶＩＩＩＣ−ＸＬＶＩＩＩＣ断面を示す断面図である。   FIG. 47A is a diagram illustrating an example of the initial position of the slit, the color filter region, the black matrix region, and the defect position. FIG. 47B is a cross-sectional view showing a cross section XLVIIB-XLVIIB in FIG. FIG. 47C is a cross-sectional view showing a cross section XLVIIC-XLVIIC in FIG. FIG. 48A shows an example of the final position of the slit, the color filter area, the black matrix area, and the defect position. FIG. 48B is a cross-sectional view showing a cross section XLVIIIB-XLVIIIB in FIG. FIG. 48C is a cross-sectional view showing a cross section XLVIIIC-XLVIIIC in FIG.

図４７を参照して、画像処理部３は、欠陥ＥＲＲがブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦにまたがって存在し、かつ欠陥ＥＲＲの上部および左部がブラックマトリックス領域ＢＭに存在する場合には、レーザ照射領域ＲＡの上枠から長方形Ｒまでの距離Ｌ１と、レーザ照射領域ＲＡの左枠から長方形Ｒまでの距離Ｌ２とを求める。   Referring to FIG. 47, image processing unit 3 has defect ERR that extends across black matrix region BM and color filter region CF, and the upper and left portions of defect ERR are present in black matrix region BM. Then, a distance L1 from the upper frame of the laser irradiation region RA to the rectangle R and a distance L2 from the left frame of the laser irradiation region RA to the rectangle R are obtained.

図４８を参照して、制御用コンピュータ２は、位置決め機構５１を制御することにより、スリットＳＬの中心を距離Ｌ１だけ下枠側へ移動させ、かつスリットＳＬの中心を距離Ｌ２だけ右枠側へ移動させる。これにより、レーザ照射領域ＲＡとブラックマトリックス領域ＢＭとの重なり領域を最小にすることができる。   Referring to FIG. 48, control computer 2 controls positioning mechanism 51 to move the center of slit SL to the lower frame side by distance L1 and to move the center of slit SL to the right frame side by distance L2. Move. Thereby, the overlapping region between the laser irradiation region RA and the black matrix region BM can be minimized.

図４９（ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図４９（ｂ）は、図４９（ａ）におけるＸＬＩＸＢ−ＸＬＩＸＢ断面を示す断面図である。図４９（ｃ）は、図４９（ａ）におけるＸＬＩＸＣ−ＸＬＩＸＣ断面を示す断面図である。図５０（ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図５０（ｂ）は、図５０（ａ）におけるＬＢ−ＬＢ断面を示す断面図である。図５０（ｃ）は、図５０（ａ）におけるＬＣ−ＬＣ断面を示す断面図である。   FIG. 49A shows an example of the initial position of the slit, the color filter area, the black matrix area, and the defect position. FIG. 49 (b) is a cross-sectional view showing a cross section of XLIXB-XLIXB in FIG. 49 (a). FIG. 49C is a cross-sectional view showing a cross section of XLIXC-XLIXC in FIG. FIG. 50A is a diagram illustrating an example of the final position of the slit, the color filter region, the black matrix region, and the defect position. FIG. 50B is a cross-sectional view showing the LB-LB cross section in FIG. FIG. 50C is a cross-sectional view showing the LC-LC cross section in FIG.

図４９を参照して、画像処理部３は、欠陥ＥＲＲがブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦにまたがって存在し、かつ欠陥ＥＲＲの下部および右部がブラックマトリックス領域ＢＭに存在する場合には、レーザ照射領域ＲＡの下枠から長方形Ｒまでの距離Ｌ１と、レーザ照射領域ＲＡの右枠から長方形Ｒまでの距離Ｌ２とを求める。   Referring to FIG. 49, the image processing unit 3 has a case where the defect ERR exists over the black matrix region BM and the color filter region CF, and the lower part and the right part of the defect ERR exist in the black matrix region BM. Then, a distance L1 from the lower frame of the laser irradiation region RA to the rectangle R and a distance L2 from the right frame of the laser irradiation region RA to the rectangle R are obtained.

図５０を参照して、制御用コンピュータ２は、位置決め機構５１を制御することにより、スリットＳＬの中心を距離Ｌ１だけ上枠側へ移動させ、かつスリットＳＬの中心を距離Ｌ２だけ左枠側へ移動させる。これにより、レーザ照射領域ＲＡとブラックマトリックス領域ＢＭとの重なり領域を最小にすることができる。   Referring to FIG. 50, control computer 2 controls positioning mechanism 51 to move the center of slit SL to the upper frame side by distance L1 and to move the center of slit SL to the left frame side by distance L2. Move. Thereby, the overlapping region between the laser irradiation region RA and the black matrix region BM can be minimized.

図５１（ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図５１（ｂ）は、図５１（ａ）におけるＬＩＢ−ＬＩＢ断面を示す断面図である。図５１（ｃ）は、図５１（ａ）におけるＬＩＣ−ＬＩＣ断面を示す断面図である。図５２（ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図５２（ｂ）は、図５２（ａ）におけるＬＩＩＢ−ＬＩＩＢ断面を示す断面図である。図５２（ｃ）は、図５２（ａ）におけるＬＩＩＣ−ＬＩＩＣ断面を示す断面図である。   FIG. 51A shows an example of the initial position of the slit, the color filter area, the black matrix area, and the defect position. FIG. 51B is a cross-sectional view showing a LIB-LIB cross section in FIG. FIG. 51C is a cross-sectional view showing a LIC-LIC cross section in FIG. FIG. 52A is a diagram illustrating an example of the final position of the slit, the color filter region, the black matrix region, and the defect position. FIG. 52B is a cross-sectional view showing a LIIB-LIIB cross section in FIG. FIG. 52 (c) is a cross-sectional view showing a LIIC-LIIC cross section in FIG. 52 (a).

図５１を参照して、画像処理部３は、欠陥ＥＲＲがブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦにまたがって存在し、かつ欠陥ＥＲＲの上部および右部がブラックマトリックス領域ＢＭに存在する場合には、レーザ照射領域ＲＡの上枠から長方形Ｒまでの距離Ｌ１と、レーザ照射領域ＲＡの右枠から長方形Ｒまでの距離Ｌ２とを求める。   Referring to FIG. 51, the image processing unit 3, when the defect ERR exists across the black matrix region BM and the color filter region CF, and the upper part and the right part of the defect ERR exist in the black matrix region BM. Then, a distance L1 from the upper frame of the laser irradiation area RA to the rectangle R and a distance L2 from the right frame of the laser irradiation area RA to the rectangle R are obtained.

図５２を参照して、制御用コンピュータ２は、位置決め機構５１を制御することにより、スリットＳＬの中心を距離Ｌ１だけ下枠側へ移動させ、かつスリットＳＬの中心を距離Ｌ２だけ左枠側へ移動させる。これにより、レーザ照射領域ＲＡとブラックマトリックス領域ＢＭとの重なり領域を最小にすることができる。   Referring to FIG. 52, control computer 2 controls positioning mechanism 51 to move the center of slit SL to the lower frame side by distance L1 and to move the center of slit SL to the left frame side by distance L2. Move. Thereby, the overlapping region between the laser irradiation region RA and the black matrix region BM can be minimized.

図５３（ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図５３（ｂ）は、図５３（ａ）におけるＬＩＩＩＢ−ＬＩＩＩＢ断面を示す断面図である。図５３（ｃ）は、図５３（ａ）におけるＬＩＩＩＣ−ＬＩＩＩＣ断面を示す断面図である。図５４（ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。図５４（ｂ）は、図５４（ａ）におけるＬＩＶＢ−ＬＩＶＢ断面を示す断面図である。図５４（ｃ）は、図５４（ａ）におけるＬＩＶＣ−ＬＩＶＣ断面を示す断面図である。   FIG. 53A shows an example of the initial position of the slit, the color filter area, the black matrix area, and the defect position. FIG. 53 (b) is a cross-sectional view showing a LIIIB-LIIIB cross section in FIG. 53 (a). FIG. 53C is a cross-sectional view showing a LIIIC-LIIIC cross section in FIG. FIG. 54A shows an example of the final position of the slit, the color filter area, the black matrix area, and the defect position. 54 (b) is a cross-sectional view showing a LIVB-LIVB cross section in FIG. 54 (a). 54 (c) is a cross-sectional view showing a LIVC-LIVC cross section in FIG. 54 (a).

図５３を参照して、画像処理部３は、欠陥ＥＲＲがブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦにまたがって存在し、かつ欠陥ＥＲＲの下部および左部がブラックマトリックス領域ＢＭに存在する場合には、レーザ照射領域ＲＡの下枠から長方形Ｒまでの距離Ｌ１と、レーザ照射領域ＲＡの左枠から長方形Ｒまでの距離Ｌ２とを求める。   Referring to FIG. 53, image processing unit 3 has defect ERR that extends across black matrix region BM and color filter region CF, and the lower and left portions of defect ERR are present in black matrix region BM. Then, a distance L1 from the lower frame of the laser irradiation area RA to the rectangle R and a distance L2 from the left frame of the laser irradiation area RA to the rectangle R are obtained.

図５４を参照して、制御用コンピュータ２は、位置決め機構５１を制御することにより、スリットＳＬの中心を距離Ｌ１だけ上枠側へ移動させ、かつスリットＳＬの中心を距離Ｌ２だけ右枠側へ移動させる。これにより、レーザ照射領域ＲＡとブラックマトリックス領域ＢＭとの重なり領域を最小にすることができる。   Referring to FIG. 54, control computer 2 controls positioning mechanism 51 to move the center of slit SL to the upper frame side by distance L1 and to move the center of slit SL to the right frame side by distance L2. Move. Thereby, the overlapping region between the laser irradiation region RA and the black matrix region BM can be minimized.

図５５は、ブラックマトリックス領域およびカラーフィルタ領域にまたがって欠陥が存在する状態を示す図である。   FIG. 55 is a diagram showing a state in which a defect exists across the black matrix region and the color filter region.

画像処理部３は、検出された欠陥ＥＲＲがブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦにまたがって存在する場合、すなわち検出された欠陥ＥＲＲがブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦの両方に存在する場合には、ブラックマトリックス領域ＢＭにおける欠陥領域の大きさとカラーフィルタ領域ＣＦにおける欠陥領域の大きさとを比較する。   When the detected defect ERR exists across the black matrix region BM and the color filter region CF, that is, the detected defect ERR exists in both the black matrix region BM and the color filter region CF. First, the size of the defect region in the black matrix region BM and the size of the defect region in the color filter region CF are compared.

そして、インク塗布部９は、画像処理部３の比較結果に基づいて、ブラックマトリックス領域ＢＭおよびカラーフィルタ領域ＣＦのうち、欠陥領域の大きい方の領域に対応する色のインクを選択し、レーザ光が照射されたカラーフィルタの領域に選択した色のインクを塗布する。   Then, based on the comparison result of the image processing unit 3, the ink application unit 9 selects ink having a color corresponding to the larger defective region out of the black matrix region BM and the color filter region CF, and laser light The ink of the selected color is applied to the area of the color filter irradiated with.

具体的には、ブラックマトリックス領域ＢＭにおける欠陥領域すなわちブラックマトリックス領域ＢＭと同色で着色されるべき部分の面積をＳＡ、カラーフィルタ領域ＣＦにおける画素と同色で着色されるべき部分の面積をＳＢとする。インク塗布部９は、ＳＡ＞ＳＢの場合には、ブラックマトリックス領域ＢＭと同色のインクを選択し、ＳＡ≦ＳＢの場合には、画素と同色のインクを選択する。   Specifically, the area of the defective region in the black matrix region BM, that is, the area to be colored with the same color as the black matrix region BM is SA, and the area of the portion to be colored with the same color as the pixel in the color filter region CF is SB. . The ink application unit 9 selects the same color ink as the black matrix region BM when SA> SB, and selects the same color ink as the pixel when SA ≦ SB.

ここで、上記の方法では、本来塗布されるべきインクとは異なる色のインクが塗布される部分が生じるが、この部分の面積が製品の規格を満足する場合には、上記の方法を採用することができる。このような方法により、ブラックマトリックス領域ＢＭに対応する色のインクおよびカラーフィルタ領域ＣＦに対応する色のインクの両方を用いて欠陥修正を行なう場合と比べて短時間で修正作業を完了することができる。   Here, in the above method, there is a portion where ink of a color different from the ink to be originally applied is applied, but when the area of this portion satisfies the product standard, the above method is adopted. be able to. By such a method, the correction work can be completed in a shorter time compared to the case where defect correction is performed using both the color ink corresponding to the black matrix region BM and the color ink corresponding to the color filter region CF. it can.

図５５を参照して、ブラックマトリックス領域ＢＭにおける欠陥ＥＲＲの領域ＡＲ１は、カラーフィルタ領域ＣＦにおける欠陥ＥＲＲの領域ＡＲ２より小さい。この場合、インク塗布部９は、画像処理部３の比較結果に基づいて、カラーフィルタ領域ＣＦに対応するＲＧＢいずれかの色のインクを選択する。   Referring to FIG. 55, the defect AR region AR1 in the black matrix region BM is smaller than the defect ERR region AR2 in the color filter region CF. In this case, the ink application unit 9 selects one of the RGB colors corresponding to the color filter region CF based on the comparison result of the image processing unit 3.

図５６は、ブラックマトリックス領域およびカラーフィルタ領域にまたがって欠陥が存在する状態を示す図である。   FIG. 56 is a diagram illustrating a state in which a defect exists across the black matrix region and the color filter region.

図５６を参照して、ブラックマトリックス領域ＢＭにおける欠陥ＥＲＲの領域ＡＲ１は、カラーフィルタ領域ＣＦにおける欠陥ＥＲＲの領域ＡＲ２より大きい。この場合、インク塗布部９は、画像処理部３の比較結果に基づいて、ブラックマトリックス領域ＢＭに対応する色のインクを選択する。   Referring to FIG. 56, the defect AR region AR1 in the black matrix region BM is larger than the defect ERR region AR2 in the color filter region CF. In this case, the ink application unit 9 selects ink of a color corresponding to the black matrix region BM based on the comparison result of the image processing unit 3.

なお、インク塗布部９は、欠陥ＥＲＲの全領域がカラーフィルタ領域ＣＦに存在する場合には、カラーフィルタ領域ＣＦに対応する色のインクを選択し、レーザ光が照射されたカラーフィルタの領域に選択した色のインクを塗布する。また、インク塗布部９は、欠陥ＥＲＲの全領域がブラックマトリックス領域ＢＭに存在する場合には、ブラックマトリックス領域ＢＭに対応する色のインクを選択し、レーザ光が照射されたカラーフィルタの領域に選択した色のインクを塗布する。   When the entire area of the defect ERR is present in the color filter area CF, the ink application unit 9 selects ink of a color corresponding to the color filter area CF, and applies it to the area of the color filter irradiated with the laser light. Apply ink of selected color. In addition, when the entire area of the defect ERR is present in the black matrix area BM, the ink application unit 9 selects the color ink corresponding to the black matrix area BM, and applies it to the area of the color filter irradiated with the laser light. Apply ink of selected color.

図５７（ａ）〜（ｃ）は、ブラックマトリックス領域に欠陥の全領域が存在する場合におけるスリット位置ＳＬを示す図である。ここでは、図５７の紙面横方向がｘ軸方向であり、紙面縦方向がｙ軸方向であるとして説明する。   FIGS. 57A to 57C are diagrams showing the slit position SL in the case where the entire defect region is present in the black matrix region. Here, the description will be made assuming that the horizontal direction in FIG. 57 is the x-axis direction and the vertical direction in FIG. 57 is the y-axis direction.

図５７（ａ）を参照して、検出された欠陥ＥＲＲの全領域がブラックマトリックス領域ＢＭの幅方向の全部および延在方向の一部に存在している。   Referring to FIG. 57A, the entire area of the detected defect ERR is present in the entire width direction of the black matrix area BM and in a part of the extending direction.

制御用コンピュータ２は、可変スリット部８によって形成されるスリットＳＬを初期位置に移動させる。より詳細には、制御用コンピュータ２は、位置決め機構５１を制御することにより、カラーフィルタの欠陥ＥＲＲの中心すなわちブラックマトリックス領域ＢＭの中心線ＭＬとスリットＳＬの中心とが一致するようにスリットＳＬを移動させる。   The control computer 2 moves the slit SL formed by the variable slit portion 8 to the initial position. More specifically, the control computer 2 controls the positioning mechanism 51 so that the center of the color filter defect ERR, that is, the center line ML of the black matrix region BM coincides with the center of the slit SL. Move.

図５７（ｂ）を参照して、次に、画像処理部３は、レーザ照射領域ＲＡが欠陥ＥＲＲの少なくとも一部を含み、かつブラックマトリックス領域ＢＭおよび１つのカラーフィルタ領域ＣＦと重なるようにスリットＳＬの初期位置を補正することによりスリットＳＬの最終位置を決定する。   Referring to FIG. 57 (b), next, the image processing unit 3 performs slits so that the laser irradiation area RA includes at least a part of the defect ERR and overlaps the black matrix area BM and one color filter area CF. The final position of the slit SL is determined by correcting the initial position of the SL.

より詳細には、画像処理部３は、ブラックマトリックス領域ＢＭの中心線ＭＬから（Ｓ−Ｗ）／２だけブラックマトリックス領域ＢＭの幅方向にスリットＳＬの初期位置をシフトした位置を、ブラックマトリックス領域ＢＭの幅方向におけるスリットＳＬの最終位置に決定する。   More specifically, the image processing unit 3 determines the position where the initial position of the slit SL is shifted in the width direction of the black matrix region BM by (S−W) / 2 from the center line ML of the black matrix region BM. The final position of the slit SL in the width direction of the BM is determined.

図５７（ｃ）を参照して、次に、画像処理部３は、スリットＳＬをブラックマトリックス領域ＢＭの延在方向にシフトする。たとえば、画像処理部３は、図５７（ｃ）において紙面上部から紙面下部へスリットＳＬをシフトする場合には、スリットＳＬの上辺と欠陥ＥＲＲの上辺とが一致するように、最初にレーザ光を照射する領域すなわちブラックマトリックス領域ＢＭの延在方向におけるスリットＳＬの初期位置を決定する。このときのスリットＳＬの中心のｙ座標をｐＢとする。   Referring to FIG. 57 (c), next, the image processing unit 3 shifts the slit SL in the extending direction of the black matrix region BM. For example, when the image processing unit 3 shifts the slit SL from the upper part of the drawing to the lower part of the drawing in FIG. 57C, the image processing unit 3 first applies a laser beam so that the upper side of the slit SL coincides with the upper side of the defect ERR. The initial position of the slit SL in the extending direction of the region to be irradiated, that is, the black matrix region BM is determined. The y coordinate at the center of the slit SL at this time is defined as pB.

また、画像処理部３は、スリットＳＬの下辺と欠陥ＥＲＲの下辺とが一致するように、最後にレーザ光を照射する領域すなわちブラックマトリックス領域ＢＭの延在方向におけるスリットＳＬの最終位置を決定する。このときのスリットＳＬの中心のｙ座標をｐＴとする。   In addition, the image processing unit 3 determines the final position of the slit SL in the region where the laser beam is irradiated last, that is, the extending direction of the black matrix region BM, so that the lower side of the slit SL coincides with the lower side of the defect ERR. . The y coordinate at the center of the slit SL at this time is defined as pT.

スリットＳＬの最大シフト量をＰとし、レーザ照射によるカット総回数をｎとすると、スリットＳＬの中心のｙ座標、およびスリットＳＬのシフト量ｐは以下の式で表わされる。   When the maximum shift amount of the slit SL is P and the total number of cuts by laser irradiation is n, the y coordinate of the center of the slit SL and the shift amount p of the slit SL are expressed by the following equations.

Figure 2009128815
Figure 2009128815

図５８（ａ）〜（ｅ）は、紙面縦方向に延在するブラックマトリックス領域に欠陥の全領域が存在する場合において、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置が欠陥を修正する際の動作を示す図である。また、図５９（ａ）〜（ｅ）は、紙面横方向に延在するブラックマトリックス領域に欠陥の全領域が存在する場合において、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置が欠陥を修正する際の動作を示す図である。   58 (a) to 58 (e) show the case where the defect area is entirely corrected in the black matrix area extending in the vertical direction of the paper, and the color filter defect correcting apparatus according to the embodiment of the present invention corrects the defect. It is a figure which shows the operation | movement at the time. Further, FIGS. 59A to 59E show that the color filter defect correcting apparatus according to the embodiment of the present invention has a defect when the entire area of the defect exists in the black matrix area extending in the horizontal direction of the drawing. It is a figure which shows the operation | movement at the time of correcting.

まず、制御用コンピュータ２は、インク塗布円ＩＡを初期位置に移動させる。より詳細には、画像処理部３は、検出された欠陥ＥＲＲの全領域がブラックマトリックス領域ＢＭに存在する場合には、位置決め機構５１を制御することにより、カラーフィルタの欠陥ＥＲＲの中心すなわちブラックマトリックス領域ＢＭの中心線ＭＬとインク塗布円ＩＡとが一致するようにインク塗布部９を移動させる。   First, the control computer 2 moves the ink application circle IA to the initial position. More specifically, when the entire area of the detected defect ERR exists in the black matrix area BM, the image processing unit 3 controls the positioning mechanism 51 to control the center of the defect ERR of the color filter, that is, the black matrix. The ink application unit 9 is moved so that the center line ML of the region BM matches the ink application circle IA.

図５８（ａ）および図５９（ａ）を参照して、次に、画像処理部３は、インク塗布円ＩＡが欠陥ＥＲＲの少なくとも一部を含み、かつブラックマトリックス領域ＢＭおよび１つのカラーフィルタ領域ＣＦと重なるようにインク塗布円ＩＡの初期位置を補正することによりインク塗布円ＩＡの最終位置を決定する。   58 (a) and 59 (a), next, the image processing unit 3 determines that the ink application circle IA includes at least a part of the defect ERR, and the black matrix region BM and one color filter region. The final position of the ink application circle IA is determined by correcting the initial position of the ink application circle IA so as to overlap with the CF.

より詳細には、画像処理部３は、ブラックマトリックス領域ＢＭの中心線ＭＬから（Ｄ−Ｗ）／２だけブラックマトリックス領域ＢＭの幅方向にインク塗布円ＩＡをシフトした位置を、ブラックマトリックス領域ＢＭの幅方向におけるインク塗布円ＩＡの最終位置に決定する。なお、画像処理部３は、ブラックマトリックス領域ＢＭの延在方向におけるインク塗布円ＩＡの中心座標は、たとえばブラックマトリックス領域ＢＭの延在方向におけるスリットＳＬの中心座標と同じ位置に設定する。   More specifically, the image processing unit 3 determines the position where the ink application circle IA is shifted in the width direction of the black matrix region BM by (D−W) / 2 from the center line ML of the black matrix region BM. The final position of the ink application circle IA in the width direction is determined. The image processing unit 3 sets the center coordinates of the ink application circle IA in the extending direction of the black matrix region BM, for example, at the same position as the center coordinates of the slit SL in the extending direction of the black matrix region BM.

図５８（ｂ）および図５９（ｂ）を参照して、制御用コンピュータ２は、画像処理部３が決定したカット位置すなわちスリットＳＬの最終位置に基づいてレーザ照射部７および位置決め機構５１を制御することにより、カラーフィルタの欠陥箇所にレーザ光を照射する。   58 (b) and 59 (b), control computer 2 controls laser irradiation unit 7 and positioning mechanism 51 based on the cut position determined by image processing unit 3, that is, the final position of slit SL. By doing so, the laser beam is irradiated to the defective portion of the color filter.

図５８（ｃ）および図５９（ｃ）を参照して、制御用コンピュータ２は、画像処理部３が決定したインク塗布領域すなわちインク塗布円ＩＡの最終位置に基づいてインク塗布部９および位置決め機構５１を制御することにより、カラーフィルタの欠陥箇所にブラックマトリックス領域ＢＭと同色のインクを塗布する。このとき、カラーフィルタ領域ＣＦ２にはブラックマトリックス領域ＢＭと同色のインクが食み出しているが、カラーフィルタ領域ＣＦ１には食み出していない。   58 (c) and 59 (c), control computer 2 uses ink application unit 9 and positioning mechanism based on the ink application region determined by image processing unit 3, that is, the final position of ink application circle IA. By controlling 51, ink of the same color as the black matrix region BM is applied to the defective portion of the color filter. At this time, ink of the same color as the black matrix region BM protrudes into the color filter region CF2, but does not protrude into the color filter region CF1.

図５８（ｄ）および図５９（ｄ）を参照して、画像処理部３は、カラーフィルタ領域ＣＦ２に食み出しているインクをカットするためのスリット位置ＳＬを決定する。この場合、画像処理部３は、たとえば、欠陥ＥＲＲの全領域がカラーフィルタ領域ＣＦに存在する場合である前述の図２３〜図３８に示す場合と同様の方法でカット位置すなわちスリット位置ＳＬの最終位置を決定する。   Referring to FIGS. 58D and 59D, the image processing unit 3 determines a slit position SL for cutting the ink protruding into the color filter region CF2. In this case, for example, the image processing unit 3 performs the final cut position, that is, the slit position SL by a method similar to the case shown in FIGS. 23 to 38, which is the case where the entire area of the defect ERR is present in the color filter area CF. Determine the position.

そして、制御用コンピュータ２は、画像処理部３が決定したカット位置すなわちスリットＳＬの最終位置に基づいてレーザ照射部７および位置決め機構５１を制御することにより、カラーフィルタにレーザ光を照射する。   Then, the control computer 2 controls the laser irradiation unit 7 and the positioning mechanism 51 based on the cut position determined by the image processing unit 3, that is, the final position of the slit SL, thereby irradiating the color filter with laser light.

図５８（ｅ）および図５９（ｅ）を参照して、画像処理部３は、たとえば、インク塗布円ＩＡの中心をスリットＳＬの中心と同じ位置に設定する。   58 (e) and 59 (e), for example, the image processing unit 3 sets the center of the ink application circle IA at the same position as the center of the slit SL.

そして、制御用コンピュータ２は、画像処理部３が決定したインク塗布領域すなわちインク塗布円ＩＡの最終位置に基づいてインク塗布部９および位置決め機構５１を制御することにより、図５８（ｄ）および図５９（ｄ）で示すレーザ光の照射領域にカラーフィルタ領域ＣＦ２と同色のインクを塗布する。   Then, the control computer 2 controls the ink application unit 9 and the positioning mechanism 51 based on the ink application region determined by the image processing unit 3, that is, the final position of the ink application circle IA, so that FIG. 58 (d) and FIG. Ink of the same color as the color filter region CF2 is applied to the laser light irradiation region indicated by 59 (d).

以上のように、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置では、ブラックマトリックス領域に欠陥の全領域が存在する場合には、ブラックマトリックス領域ＢＭを介して対向して配置された２つのカラーフィルタ領域ＣＦの両方にインクが食み出すことのないようにカラーフィルタの欠陥修正を行なう。すなわち、ブラックマトリックス領域ＢＭと同色のインクを塗布する際に一方のカラーフィルタ領域ＣＦのみにインクが食み出すようにインク塗布領域を決定する。   As described above, in the color filter defect correcting device according to the embodiment of the present invention, when the entire area of the defect exists in the black matrix region, the two arranged opposite to each other through the black matrix region BM. The defect correction of the color filter is performed so that the ink does not protrude into both of the color filter areas CF. That is, the ink application area is determined so that the ink protrudes only to one color filter area CF when applying the same color ink as the black matrix area BM.

ここで、ブラックマトリックス領域ＢＭの幅Ｗよりも小さいインク塗布円ＩＡの直径Ｄが得られるインク塗布用針１４をインク塗布部９が含む構成とすれば、ブラックマトリックス領域ＢＭに欠陥の全領域が存在する場合において、ブラックマトリックス領域ＢＭと同色のインクがカラーフィルタ領域ＣＦに食み出すことを防ぐことができる。しかしながら、そのような径の小さいインク塗布針を製造することは困難であり、また、製造コストが高くなってしまう。   Here, if the ink application part 14 includes the ink application needle 14 that can obtain the diameter D of the ink application circle IA smaller than the width W of the black matrix area BM, the entire area of the defect is present in the black matrix area BM. When present, it is possible to prevent ink having the same color as the black matrix region BM from protruding into the color filter region CF. However, it is difficult to manufacture such an ink application needle with a small diameter, and the manufacturing cost becomes high.

しかしながら、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置では、径の大きいインク塗布用針１４を使用しても、２つのカラーフィルタ領域ＣＦの両方にインクが食み出すことを防ぐことができるため、インク塗布後の修正作業を短時間で完了することができる。また、ブラックマトリックス領域ＢＭと同色のインクが食み出した部分にレーザ光を照射する際に同時に除去されてしまうカラーフィルタ領域ＣＦにおける正常な領域を最小限に抑えることができる。   However, in the color filter defect correcting device according to the embodiment of the present invention, even if the ink application needle 14 having a large diameter is used, it is possible to prevent ink from sticking out to both of the two color filter regions CF. Therefore, the correction work after ink application can be completed in a short time. In addition, it is possible to minimize a normal area in the color filter area CF that is removed at the same time when the laser light is applied to the portion where the same color ink as the black matrix area BM protrudes.

ところで、特許文献１および特許文献２記載の構成では、カラーフィルタの欠陥修正に関し、欠陥よりも大きな面積をレーザにてカットする場合があり、この場合には本発明の作業内容と比較して修正作業に時間を要する問題点がある。   By the way, in the configurations described in Patent Document 1 and Patent Document 2, there is a case where an area larger than the defect is cut with a laser in relation to the defect correction of the color filter. In this case, the correction is performed in comparison with the work content of the present invention. There is a problem that takes time to work.

また、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置が行なう上記スリット位置の算出方法の他に、スリットＳＬのサイズを欠陥のサイズに合わせる方法も考えられる。しかしながら、スリットＳＬのサイズは塗布されたインクの広がりを考慮して決定する必要がある。すなわち、スリットＳＬのサイズすなわちカットサイズを小さくするとカラーフィルタにおける正常領域へのインクのはみ出し量が多くなる。そうすると、インクが食み出した領域の膜厚が許容値を超えて大きくなるため、新たに欠陥をつくってしまう場合がある。このため、欠陥のサイズがインク塗布領域より小さい場合には、欠陥のサイズに合わせてスリットＳＬのサイズを小さく変更することは困難である。   In addition to the slit position calculation method performed by the color filter defect correcting apparatus according to the embodiment of the present invention, a method of adjusting the size of the slit SL to the size of the defect is also conceivable. However, the size of the slit SL needs to be determined in consideration of the spread of the applied ink. That is, when the size of the slit SL, that is, the cut size is reduced, the amount of ink protruding to the normal area in the color filter increases. As a result, the film thickness of the area where the ink protrudes becomes larger than the allowable value, and a new defect may be created. For this reason, when the size of the defect is smaller than the ink application region, it is difficult to change the size of the slit SL in accordance with the size of the defect.

また、レーザ光が照射されたカラーフィルタの領域においてインクが塗布されない部分が生じることを防ぐために、かつ正常領域へのインクの食み出しを抑制するために、インク塗布円ＩＡがスリットＳＬの枠に内接するようにスリットＳＬのサイズを設定する場合がある。したがって、欠陥ＥＲＲのサイズがインク塗布円ＩＡより小さい場合、スリットＳＬのサイズを欠陥ＥＲＲのサイズに合わせて変更することは困難である。   Further, in order to prevent a portion where the ink is not applied in the area of the color filter irradiated with the laser light and to prevent the ink from protruding to the normal area, the ink application circle IA is a frame of the slit SL. In some cases, the size of the slit SL is set so as to be inscribed. Therefore, when the size of the defect ERR is smaller than the ink application circle IA, it is difficult to change the size of the slit SL according to the size of the defect ERR.

しかしながら、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置では、画像処理部３は、カラーフィルタの欠陥を検出し、検出された欠陥と、カラーフィルタ領域ＣＦおよびブラックマトリックス領域ＢＭとの位置関係に基づいて、カラーフィルタにおいて修正処理を行なうべき領域を決定する。このように、欠陥が発生した位置に応じて適切にカラーフィルタの修正領域を算出する構成により、スリットＳＬのサイズを欠陥のサイズに合わせて変更することなく、カラーフィルタの正常な領域に対して余計な修正処理が行なわれることを最小限に抑えることができる。したがって、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置では、カラーフィルタの欠陥修正を適切に行なうことができる。   However, in the color filter defect correction device according to the embodiment of the present invention, the image processing unit 3 detects a color filter defect, and the positional relationship between the detected defect and the color filter region CF and the black matrix region BM. Based on the above, an area to be corrected in the color filter is determined. In this way, the configuration in which the correction area of the color filter is appropriately calculated according to the position where the defect has occurred, and the normal area of the color filter can be obtained without changing the size of the slit SL according to the size of the defect. It is possible to minimize the unnecessary correction processing. Therefore, the color filter defect correction apparatus according to the embodiment of the present invention can appropriately perform defect correction of the color filter.

今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。   The embodiment disclosed this time should be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置の構成を示す外観図である。It is an external view which shows the structure of the color filter defect correction apparatus which concerns on embodiment of this invention. ＸＹスリット機構の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of an XY slit mechanism. ＸＹスリット機構に含まれるＸ方向の調整機構の構成を示す外観平面図である。It is an external appearance top view which shows the structure of the adjustment mechanism of the X direction contained in an XY slit mechanism. θスリット機構の構成を示す外観平面図である。It is an external appearance top view which shows the structure of (theta) slit mechanism. 本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置のインク塗布部の構成を示す外観図である。It is an external view which shows the structure of the ink application part of the color filter defect correction apparatus which concerns on embodiment of this invention. カラーフィルタにおけるブラックマトリックス領域、カラーフィルタ領域および絵素の関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the black matrix area | region in a color filter, a color filter area | region, and a pixel. 本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置がカラーフィルタの１つの欠陥を修正する際の動作手順を定めたフローチャートである。It is the flowchart which defined the operation | movement procedure at the time of the color filter defect correction apparatus which concerns on embodiment of this invention correcting one defect of a color filter. 入力画像および２値化入力画像を示す図である。It is a figure which shows an input image and a binarization input image. （ａ）は、登録画像を示す図である。（ｂ）は、２値化入力画像を示す図である。（ｃ）は、カラーフィルタ領域のマスク画像を示す図である。(A) is a figure showing a registered image. (B) is a figure which shows a binarized input image. (C) is a figure which shows the mask image of a color filter area | region. （ａ）および（ｂ）は、画像処理部が入力画像の水平方向に欠陥検出を行なう際の動作を示す図である。(A) And (b) is a figure which shows the operation | movement at the time of an image processing part detecting a defect in the horizontal direction of an input image. （ａ）および（ｂ）は、画像処理部が入力画像の垂直方向に欠陥検出を行なう際の動作を示す図である。(A) And (b) is a figure which shows the operation | movement when an image process part performs a defect detection in the orthogonal | vertical direction of an input image. （ａ）および（ｂ）は、ブラックマトリックス領域、ＲＧＢ各画素および黒欠陥のスライスレベルＴｄの関係を示す図である。(A) And (b) is a figure which shows the relationship between the black matrix area | region, each RGB pixel, and the slice level Td of a black defect. （ａ）および（ｂ）は、ブラックマトリックス領域、ＲＧＢ各画素および白欠陥のスライスレベルＴｄの関係を示す図である。(A) And (b) is a figure which shows the relationship between the black matrix area | region, each RGB pixel, and the slice level Td of a white defect. （ａ）は、欠陥の存在するカラーフィルタの入力画像を示す図である。（ｂ）は、画像処理部が生成した黒欠陥抽出画像を示す図である。(A) is a figure which shows the input image of the color filter in which a defect exists. (B) is a figure which shows the black defect extraction image which the image process part produced | generated. （ａ）は、欠陥の存在するカラーフィルタの入力画像を示す図である。（ｂ）は、画像処理部が生成した白欠陥抽出画像を示す図である。(A) is a figure which shows the input image of the color filter in which a defect exists. (B) is a figure which shows the white defect extraction image which the image process part produced | generated. 画像処理部がカラーフィルタ領域における白欠陥抽出画像を生成する動作を示す図である。It is a figure which shows the operation | movement which an image process part produces | generates the white defect extraction image in a color filter area | region. 画像処理部がブラックマトリックス領域における白欠陥抽出画像を生成する動作を示す図である。It is a figure which shows the operation | movement which an image process part produces | generates the white defect extraction image in a black matrix area | region. 画像処理部が欠陥マスク画像を生成する動作を示す図である。It is a figure which shows the operation | movement which an image process part produces | generates a defect mask image. 欠陥抽出画像の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a defect extraction image. ＲＧＢ各絵素の色相ヒストグラムを示す図である。It is a figure which shows the hue histogram of each RGB picture element. 画像処理部が色相情報計算マスク画像を生成する動作を示す図である。It is a figure which shows the operation | movement which an image process part produces | generates a hue information calculation mask image. （ａ）および（ｂ）は、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置において絵素の色判定の信頼度が低い場合において行なわれる色判定の様子を示す図である。(A) And (b) is a figure which shows the mode of the color determination performed when the reliability of the color determination of a pixel is low in the color filter defect correction apparatus which concerns on embodiment of this invention. （ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図２３（ａ）におけるＸＸＩＩＩＢ−ＸＸＩＩＩＢ断面を示す断面図である。(A) is a figure which shows an example of the initial position of a slit, a color filter area | region, a black matrix area | region, and a defect position. (B) is sectional drawing which shows the XXIIIB-XXIIIB cross section in Fig.23 (a). （ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図２４（ａ）におけるＸＸＩＶＢ−ＸＸＩＶＢ断面を示す断面図である。(A) is a figure which shows an example of the final position of a slit, a color filter area | region, a black matrix area | region, and a defect position. (B) is sectional drawing which shows the XXIVB-XXIVB cross section in Fig.24 (a). （ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図２５（ａ）におけるＸＸＶＢ−ＸＸＶＢ断面を示す断面図である。(A) is a figure which shows an example of the initial position of a slit, a color filter area | region, a black matrix area | region, and a defect position. (B) is sectional drawing which shows the XXVB-XXVB cross section in Fig.25 (a). （ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図２６（ａ）におけるＸＸＶＩＢ−ＸＸＶＩＢ断面を示す断面図である。(A) is a figure which shows an example of the final position of a slit, a color filter area | region, a black matrix area | region, and a defect position. (B) is sectional drawing which shows the XXVIB-XXVIB cross section in Fig.26 (a). （ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図２７（ａ）におけるＸＸＶＩＩＢ−ＸＸＶＩＩＢ断面を示す断面図である。(A) is a figure which shows an example of the initial position of a slit, a color filter area | region, a black matrix area | region, and a defect position. (B) is sectional drawing which shows the XXVIIB-XXVIIB cross section in Fig.27 (a). （ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図２８（ａ）におけるＸＸＶＩＩＩＢ−ＸＸＶＩＩＩＢ断面を示す断面図である。(A) is a figure which shows an example of the final position of a slit, a color filter area | region, a black matrix area | region, and a defect position. (B) is sectional drawing which shows the XXVIIIB-XXVIIIB cross section in Fig.28 (a). （ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図２９（ａ）におけるＸＸＩＸＢ−ＸＸＩＸＢ断面を示す断面図である。(A) is a figure which shows an example of the initial position of a slit, a color filter area | region, a black matrix area | region, and a defect position. (B) is sectional drawing which shows the XXIXB-XXIXB cross section in Fig.29 (a). （ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図３０（ａ）におけるＸＸＸＢ−ＸＸＸＢ断面を示す断面図である。(A) is a figure which shows an example of the final position of a slit, a color filter area | region, a black matrix area | region, and a defect position. (B) is sectional drawing which shows the XXXB-XXXB cross section in Fig.30 (a). （ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図３１（ａ）におけるＸＸＸＩＢ−ＸＸＸＩＢ断面を示す断面図である。（ｃ）は、図３１（ａ）におけるＸＸＸＩＣ−ＸＸＸＩＣ断面を示す断面図である。(A) is a figure which shows an example of the initial position of a slit, a color filter area | region, a black matrix area | region, and a defect position. FIG. 31B is a sectional view showing a XXXIB-XXXIB section in FIG. (C) is sectional drawing which shows the XXXIC-XXXIC cross section in Fig.31 (a). （ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図３２（ａ）におけるＸＸＸＩＩＢ−ＸＸＸＩＩＢ断面を示す断面図である。（ｃ）は、図３２（ａ）におけるＸＸＸＩＩＣ−ＸＸＸＩＩＣ断面を示す断面図である。(A) is a figure which shows an example of the final position of a slit, a color filter area | region, a black matrix area | region, and a defect position. (B) is sectional drawing which shows the XXXIIB-XXXIIB cross section in Fig.32 (a). (C) is sectional drawing which shows the XXXIIC-XXXIIC cross section in Fig.32 (a). （ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図３３（ａ）におけるＸＸＸＩＩＩＢ−ＸＸＸＩＩＩＢ断面を示す断面図である。（ｃ）は、図３３（ａ）におけるＸＸＸＩＩＩＣ−ＸＸＸＩＩＩＣ断面を示す断面図である。(A) is a figure which shows an example of the initial position of a slit, a color filter area | region, a black matrix area | region, and a defect position. (B) is sectional drawing which shows the XXXIIIB-XXXIIIB cross section in Fig.33 (a). (C) is sectional drawing which shows the XXXIIIC-XXXIIIC cross section in Fig.33 (a). （ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図３４（ａ）におけるＸＸＸＩＶＢ−ＸＸＸＩＶＢ断面を示す断面図である。（ｃ）は、図３４（ａ）におけるＸＸＸＩＶＣ−ＸＸＸＩＶＣ断面を示す断面図である。(A) is a figure which shows an example of the final position of a slit, a color filter area | region, a black matrix area | region, and a defect position. (B) is sectional drawing which shows the XXXIVB-XXXIVB cross section in Fig.34 (a). (C) is sectional drawing which shows the XXXIVC-XXXIVC cross section in Fig.34 (a). （ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図３５（ａ）におけるＸＸＸＶＢ−ＸＸＸＶＢ断面を示す断面図である。（ｃ）は、図３５（ａ）におけるＸＸＸＶＣ−ＸＸＸＶＣ断面を示す断面図である。(A) is a figure which shows an example of the initial position of a slit, a color filter area | region, a black matrix area | region, and a defect position. (B) is sectional drawing which shows the XXXVB-XXXVB cross section in Fig.35 (a). (C) is sectional drawing which shows the XXXVC-XXXVC cross section in Fig.35 (a). （ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図３６（ａ）におけるＸＸＸＶＩＢ−ＸＸＸＶＩＢ断面を示す断面図である。（ｃ）は、図３６（ａ）におけるＸＸＸＶＩＣ−ＸＸＸＶＩＣ断面を示す断面図である。(A) is a figure which shows an example of the final position of a slit, a color filter area | region, a black matrix area | region, and a defect position. (B) is sectional drawing which shows the XXXVIB-XXXVIB cross section in Fig.36 (a). (C) is sectional drawing which shows XXXVIC-XXXVIC cross section in Fig.36 (a). （ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図３７（ａ）におけるＸＸＸＶＩＩＢ−ＸＸＸＶＩＩＢ断面を示す断面図である。（ｃ）は、図３７（ａ）におけるＸＸＸＶＩＩＣ−ＸＸＸＶＩＩＣ断面を示す断面図である。(A) is a figure which shows an example of the initial position of a slit, a color filter area | region, a black matrix area | region, and a defect position. (B) is sectional drawing which shows the XXXVIIB-XXXVIIB cross section in Fig.37 (a). (C) is sectional drawing which shows XXXVIIC-XXXVIIC cross section in Fig.37 (a). （ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図３８（ａ）におけるＸＸＸＶＩＩＩＢ−ＸＸＸＶＩＩＩＢ断面を示す断面図である。（ｃ）は、図３８（ａ）におけるＸＸＸＶＩＩＩＣ−ＸＸＸＶＩＩＩＣ断面を示す断面図である。(A) is a figure which shows an example of the final position of a slit, a color filter area | region, a black matrix area | region, and a defect position. (B) is sectional drawing which shows the XXXVIIIB-XXXVIIIB cross section in Fig.38 (a). (C) is sectional drawing which shows the XXXVIIIC-XXXVIIIC cross section in Fig.38 (a). （ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図３９（ａ）におけるＸＸＸＩＸＢ−ＸＸＸＩＸＢ断面を示す断面図である。(A) is a figure which shows an example of the initial position of a slit, a color filter area | region, a black matrix area | region, and a defect position. (B) is sectional drawing which shows the XXXIXB-XXXIXB cross section in Fig.39 (a). （ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図４０（ａ）におけるＸＬＢ−ＸＬＢ断面を示す断面図である。(A) is a figure which shows an example of the final position of a slit, a color filter area | region, a black matrix area | region, and a defect position. (B) is sectional drawing which shows the XLB-XLB cross section in Fig.40 (a). （ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図４１（ａ）におけるＸＬＩＢ−ＸＬＩＢ断面を示す断面図である。(A) is a figure which shows an example of the initial position of a slit, a color filter area | region, a black matrix area | region, and a defect position. (B) is sectional drawing which shows the XLIB-XLIB cross section in Fig.41 (a). （ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図４２（ａ）におけるＸＬＩＩＢ−ＸＬＩＩＢ断面を示す断面図である。(A) is a figure which shows an example of the final position of a slit, a color filter area | region, a black matrix area | region, and a defect position. (B) is sectional drawing which shows the XLIIB-XLIIB cross section in Fig.42 (a). （ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図４３（ａ）におけるＸＬＩＩＩＢ−ＸＬＩＩＩＢ断面を示す断面図である。(A) is a figure which shows an example of the initial position of a slit, a color filter area | region, a black matrix area | region, and a defect position. (B) is sectional drawing which shows the XLIIIB-XLIIIB cross section in Fig.43 (a). （ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図４４（ａ）におけるＸＬＩＶＢ−ＸＬＩＶＢ断面を示す断面図である。(A) is a figure which shows an example of the final position of a slit, a color filter area | region, a black matrix area | region, and a defect position. (B) is sectional drawing which shows the XLIVB-XLIVB cross section in Fig.44 (a). （ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図４５（ａ）におけるＸＬＶＢ−ＸＬＶＢ断面を示す断面図である。(A) is a figure which shows an example of the initial position of a slit, a color filter area | region, a black matrix area | region, and a defect position. (B) is sectional drawing which shows the XLVB-XLVB cross section in Fig.45 (a). （ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図４６（ａ）におけるＸＬＶＩＢ−ＸＬＶＩＢ断面を示す断面図である。(A) is a figure which shows an example of the final position of a slit, a color filter area | region, a black matrix area | region, and a defect position. (B) is sectional drawing which shows the XLVIB-XLVIB cross section in Fig.46 (a). （ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図４７（ａ）におけるＸＬＶＩＩＢ−ＸＬＶＩＩＢ断面を示す断面図である。（ｃ）は、図４７（ａ）におけるＸＬＶＩＩＣ−ＸＬＶＩＩＣ断面を示す断面図である。(A) is a figure which shows an example of the initial position of a slit, a color filter area | region, a black matrix area | region, and a defect position. (B) is sectional drawing which shows the XLVIIB-XLVIIB cross section in Fig.47 (a). (C) is sectional drawing which shows the XLVIIC-XLVIIC cross section in Fig.47 (a). （ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図４８（ａ）におけるＸＬＶＩＩＩＢ−ＸＬＶＩＩＩＢ断面を示す断面図である。（ｃ）は、図４８（ａ）におけるＸＬＶＩＩＩＣ−ＸＬＶＩＩＩＣ断面を示す断面図である。(A) is a figure which shows an example of the final position of a slit, a color filter area | region, a black matrix area | region, and a defect position. (B) is sectional drawing which shows the XLVIIIB-XLVIIIB cross section in Fig.48 (a). (C) is sectional drawing which shows the XLVIIIC-XLVIIIC cross section in Fig.48 (a). （ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図４９（ａ）におけるＸＬＩＸＢ−ＸＬＩＸＢ断面を示す断面図である。（ｃ）は、図４９（ａ）におけるＸＬＩＸＣ−ＸＬＩＸＣ断面を示す断面図である。(A) is a figure which shows an example of the initial position of a slit, a color filter area | region, a black matrix area | region, and a defect position. (B) is sectional drawing which shows the XLIXB-XLIXB cross section in Fig.49 (a). (C) is sectional drawing which shows the XLIXC-XLIXC cross section in Fig.49 (a). （ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図５０（ａ）におけるＬＢ−ＬＢ断面を示す断面図である。（ｃ）は、図５０（ａ）におけるＬＣ−ＬＣ断面を示す断面図である。(A) is a figure which shows an example of the final position of a slit, a color filter area | region, a black matrix area | region, and a defect position. (B) is sectional drawing which shows the LB-LB cross section in Fig.50 (a). (C) is sectional drawing which shows the LC-LC cross section in Fig.50 (a). （ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図５１（ａ）におけるＬＩＢ−ＬＩＢ断面を示す断面図である。（ｃ）は、図５１（ａ）におけるＬＩＣ−ＬＩＣ断面を示す断面図である。(A) is a figure which shows an example of the initial position of a slit, a color filter area | region, a black matrix area | region, and a defect position. (B) is sectional drawing which shows the LIB-LIB cross section in Fig.51 (a). (C) is sectional drawing which shows the LIC-LIC cross section in Fig.51 (a). （ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図５２（ａ）におけるＬＩＩＢ−ＬＩＩＢ断面を示す断面図である。（ｃ）は、図５２（ａ）におけるＬＩＩＣ−ＬＩＩＣ断面を示す断面図である。(A) is a figure which shows an example of the final position of a slit, a color filter area | region, a black matrix area | region, and a defect position. (B) is sectional drawing which shows the LIIB-LIIB cross section in Fig.52 (a). (C) is sectional drawing which shows the LIIC-LIIC cross section in Fig.52 (a). （ａ）は、スリットの初期位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図５３（ａ）におけるＬＩＩＩＢ−ＬＩＩＩＢ断面を示す断面図である。（ｃ）は、図５３（ａ）におけるＬＩＩＩＣ−ＬＩＩＩＣ断面を示す断面図である。(A) is a figure which shows an example of the initial position of a slit, a color filter area | region, a black matrix area | region, and a defect position. (B) is sectional drawing which shows the LIIIB-LIIIB cross section in Fig.53 (a). (C) is sectional drawing which shows the LIIIC-LIIIC cross section in Fig.53 (a). （ａ）は、スリットの最終位置、カラーフィルタ領域、ブラックマトリックス領域および欠陥位置の一例を示す図である。（ｂ）は、図５４（ａ）におけるＬＩＶＢ−ＬＩＶＢ断面を示す断面図である。（ｃ）は、図５４（ａ）におけるＬＩＶＣ−ＬＩＶＣ断面を示す断面図である。(A) is a figure which shows an example of the final position of a slit, a color filter area | region, a black matrix area | region, and a defect position. (B) is sectional drawing which shows the LIVB-LIVB cross section in Fig.54 (a). (C) is sectional drawing which shows the LIVC-LIVC cross section in Fig.54 (a). ブラックマトリックス領域およびカラーフィルタ領域にまたがって欠陥が存在する状態を示す図である。It is a figure which shows the state in which a defect exists ranging over a black matrix area | region and a color filter area | region. ブラックマトリックス領域およびカラーフィルタ領域にまたがって欠陥が存在する状態を示す図である。It is a figure which shows the state in which a defect exists ranging over a black matrix area | region and a color filter area | region. （ａ）〜（ｃ）は、ブラックマトリックス領域に欠陥の全領域が存在する場合におけるスリット位置ＳＬを示す図である。(A)-(c) is a figure which shows the slit position SL in case the whole area | region of a defect exists in a black matrix area | region. （ａ）〜（ｅ）は、紙面縦方向に延在するブラックマトリックス領域に欠陥の全領域が存在する場合において、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置が欠陥を修正する際の動作を示す図である。(A)-(e) is a case where the color filter defect correcting device according to the embodiment of the present invention corrects a defect when the entire area of the defect exists in the black matrix area extending in the vertical direction on the paper surface. It is a figure which shows operation | movement. （ａ）〜（ｅ）は、紙面横方向に延在するブラックマトリックス領域に欠陥の全領域が存在する場合において、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ欠陥修正装置が欠陥を修正する際の動作を示す図である。(A)-(e) is a case where the color filter defect correcting device according to the embodiment of the present invention corrects a defect when the entire area of the defect exists in the black matrix area extending in the horizontal direction of the paper surface. It is a figure which shows operation | movement.

符号の説明Explanation of symbols

１ ホストコンピュータ、２ 制御用コンピュータ（制御部）、３ 画像処理部、４ Ｚ軸ステージ、５ ＸＹテーブル、６ チャック台、７ レーザ照射部、８ 可変スリット部、９ インク塗布部、１０ モニタ、１１ インク塗布用位置決めシリンダ、１２ インクタンクテーブル、１３ インクタンク、１４ インク塗布用針、２１ 対物レンズ、３１ Ｘ方向サイズ調整用モータ、３２ Ｙ方向サイズ調整用モータ、３３〜３４ 開閉部、３５ 回転角度調整用モータ、３６ ベルト、３７ 回転テーブル、５０ 修正処理部、５１ 位置決め機構、６１ ＸＹスリット機構、６２ θスリット機構。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Host computer, 2 Control computer (control part), 3 Image processing part, 4 Z-axis stage, 5 XY table, 6 Chuck stand, 7 Laser irradiation part, 8 Variable slit part, 9 Ink application part, 10 monitor, 11 Ink application positioning cylinder, 12 Ink tank table, 13 Ink tank, 14 Ink application needle, 21 Objective lens, 31 X direction size adjustment motor, 32 Y direction size adjustment motor, 33-34 Opening / closing section, 35 Rotation angle Adjustment motor, 36 belt, 37 rotary table, 50 correction processing unit, 51 positioning mechanism, 61 XY slit mechanism, 62 θ slit mechanism.

Claims (16)

光透過領域および前記光透過領域に隣接する遮光領域を有するカラーフィルタの欠陥を修正するカラーフィルタ欠陥修正装置であって、
前記カラーフィルタの欠陥を検出し、前記検出された欠陥と、前記光透過領域および前記遮光領域との位置関係に基づいて、前記カラーフィルタにおいて修正処理を行なうべき領域を決定する画像処理部と、
前記カラーフィルタにおける前記決定された領域へのレーザ光の照射およびインク塗布のうち少なくともいずれか一方の修正処理を行なう修正処理部とを備えるカラーフィルタ欠陥修正装置。 A color filter defect correcting device for correcting a defect of a color filter having a light transmission region and a light shielding region adjacent to the light transmission region,
An image processing unit that detects a defect of the color filter and determines a region to be corrected in the color filter based on a positional relationship between the detected defect and the light transmission region and the light shielding region;
A color filter defect correction apparatus comprising: a correction processing unit that performs correction processing of at least one of laser light irradiation and ink application to the determined region of the color filter. 前記修正処理部は、
スリットを形成するスリット部と、
前記スリットを介して前記カラーフィルタにレーザ光を照射するレーザ照射部とを含み、
前記画像処理部は、前記検出された欠陥の全領域が前記光透過領域に存在する場合には、前記レーザ光が照射される前記カラーフィルタの領域が前記検出された欠陥の少なくとも一部を含み、かつ前記遮光領域と重ならないように前記スリットの位置を決定し、
前記レーザ照射部は、前記決定された位置における前記スリットを介して前記カラーフィルタにレーザ光を照射する請求項１記載のカラーフィルタ欠陥修正装置。 The correction processing unit
A slit part forming a slit;
A laser irradiation unit that irradiates the color filter with laser light through the slit,
When the entire area of the detected defect exists in the light transmission area, the image processing unit includes at least a part of the detected defect in the area of the color filter irradiated with the laser light. And determining the position of the slit so as not to overlap the light shielding area,
The color filter defect correction device according to claim 1, wherein the laser irradiation unit irradiates the color filter with laser light through the slit at the determined position. 前記修正処理部は、
スリットを形成するスリット部と、
前記スリットを介して前記カラーフィルタにレーザ光を照射するレーザ照射部とを含み、
前記画像処理部は、前記検出された欠陥が前記遮光領域および前記光透過領域にまたがって存在する場合には、前記レーザ光が照射される前記カラーフィルタの領域が前記検出された欠陥の少なくとも一部を含み、かつ前記レーザ光が照射される前記カラーフィルタの領域と前記遮光領域との重なり領域が最小になるように前記スリットの位置を決定し、
前記レーザ照射部は、前記決定された位置における前記スリットを介して前記カラーフィルタにレーザ光を照射する請求項１記載のカラーフィルタ欠陥修正装置。 The correction processing unit
A slit part forming a slit;
A laser irradiation unit that irradiates the color filter with laser light through the slit,
In the case where the detected defect exists across the light-shielding region and the light transmission region, the image processing unit determines that the region of the color filter irradiated with the laser light is at least one of the detected defects. And determining the position of the slit so that the overlapping region between the color filter region irradiated with the laser light and the light shielding region is minimized,
The color filter defect correction device according to claim 1, wherein the laser irradiation unit irradiates the color filter with laser light through the slit at the determined position. 前記画像処理部は、さらに、前記検出された欠陥が前記遮光領域および前記光透過領域にまたがって存在する場合には、前記検出された欠陥のうちの前記遮光領域における欠陥の大きさと前記光透過領域における欠陥の大きさとを比較し、
前記修正処理部は、
前記遮光領域および前記光透過領域のうち、前記欠陥の大きい方の領域に対応する色のインクを選択し、前記カラーフィルタにおける前記決定された領域に前記選択した色のインクを塗布するインク塗布部を含む請求項１記載のカラーフィルタ欠陥修正装置。 In the case where the detected defect exists across the light shielding region and the light transmission region, the image processing unit further determines the size of the defect in the light shielding region and the light transmission among the detected defects. Compare the size of the defects in the area,
The correction processing unit
An ink application unit that selects ink of a color corresponding to the region having the larger defect among the light shielding region and the light transmission region, and applies the ink of the selected color to the determined region in the color filter. The color filter defect correcting device according to claim 1, comprising: 前記カラーフィルタは、前記遮光領域を介して対向して配置される第１の光透過領域および第２の光透過領域を有し、
前記修正処理部は、
前記第１の光透過領域および前記第２の光透過領域間の距離より大きい幅を有するスリットを形成するスリット部と、
前記スリットを介して前記カラーフィルタにレーザ光を照射するレーザ照射部とを含み、
前記画像処理部は、前記検出された欠陥の全領域が前記遮光領域に存在する場合には、前記レーザ光が照射される前記カラーフィルタの領域が前記検出された欠陥の少なくとも一部を含み、かつ前記遮光領域および１つの前記光透過領域と重なるように前記スリットの位置を決定し、
前記レーザ照射部は、前記決定された位置における前記スリットを介して前記カラーフィルタにレーザ光を照射する請求項１記載のカラーフィルタ欠陥修正装置。 The color filter has a first light transmission region and a second light transmission region that are arranged to face each other with the light shielding region interposed therebetween,
The correction processing unit
A slit part forming a slit having a width larger than the distance between the first light transmission region and the second light transmission region;
A laser irradiation unit that irradiates the color filter with laser light through the slit,
In the case where the entire area of the detected defect exists in the light shielding area, the image processing unit includes at least a part of the detected defect in the area of the color filter irradiated with the laser beam, And determining the position of the slit so as to overlap the light shielding region and the one light transmission region,
The color filter defect correction device according to claim 1, wherein the laser irradiation unit irradiates the color filter with laser light through the slit at the determined position. 前記カラーフィルタは、前記遮光領域を介して対向して配置される第１の光透過領域および第２の光透過領域を有し、
前記修正処理部は、
前記カラーフィルタにおいて、前記第１の光透過領域および前記第２の光透過領域間の距離より大きい幅を有する領域にインクを塗布するインク塗布部を含み、
前記画像処理部は、前記検出された欠陥の全領域が前記遮光領域に存在する場合には、前記インクが塗布される前記カラーフィルタの領域が前記検出された欠陥の少なくとも一部を含み、かつ前記遮光領域および１つの前記光透過領域と重なるように前記インク塗布部の位置を決定し、
前記インク塗布部は、前記決定された位置において前記カラーフィルタにインクを塗布する請求項１記載のカラーフィルタ欠陥修正装置。 The color filter has a first light transmission region and a second light transmission region that are arranged to face each other with the light shielding region interposed therebetween,
The correction processing unit
The color filter includes an ink application unit that applies ink to a region having a width larger than a distance between the first light transmission region and the second light transmission region,
The image processing unit includes at least a part of the detected defect when the entire area of the detected defect exists in the light shielding area, and the area of the color filter to which the ink is applied; and Determining the position of the ink application part so as to overlap the light-shielding region and the one light transmission region;
The color filter defect correction device according to claim 1, wherein the ink application unit applies ink to the color filter at the determined position. 前記修正処理部は、
スリットを形成するスリット部と、
前記スリットを介して前記カラーフィルタにレーザ光を照射するレーザ照射部とを含み、
前記画像処理部は、前記検出された欠陥の位置に基づいて前記スリットの第１の位置を決定し、前記検出された欠陥の全領域が前記光透過領域に存在する場合には、前記第１の位置における前記スリットを介して前記レーザ光が照射されるであろう前記カラーフィルタの領域と前記遮光領域との重なり領域に基づいて前記第１の位置を補正することにより前記スリットの第２の位置を決定し、
前記レーザ照射部は、前記第２の位置における前記スリットを介して前記カラーフィルタにレーザ光を照射する請求項１記載のカラーフィルタ欠陥修正装置。 The correction processing unit
A slit part forming a slit;
A laser irradiation unit that irradiates the color filter with laser light through the slit,
The image processing unit determines a first position of the slit based on the position of the detected defect, and when the entire area of the detected defect exists in the light transmission region, the first processing unit determines the first position of the slit. The second position of the slit is corrected by correcting the first position based on the overlapping region of the color filter region and the light-shielding region that will be irradiated with the laser light through the slit at the position. Determine the position,
The color filter defect correction apparatus according to claim 1, wherein the laser irradiation unit irradiates the color filter with laser light through the slit at the second position. 前記修正処理部は、
スリットを形成するスリット部と、
前記スリットを介して前記カラーフィルタにレーザ光を照射するレーザ照射部とを含み、
前記画像処理部は、前記検出された欠陥の位置に基づいて前記スリットの第１の位置を決定し、前記検出された欠陥の全領域が前記遮光領域に存在する場合には、前記第１の位置における前記スリットを介して前記レーザ光が照射されるであろう前記カラーフィルタの領域と前記光透過領域との重なり領域に基づいて前記第１の位置を補正することにより前記スリットの第２の位置を決定し、
前記レーザ照射部は、前記第２の位置における前記スリットを介して前記カラーフィルタにレーザ光を照射する請求項１記載のカラーフィルタ欠陥修正装置。 The correction processing unit
A slit part forming a slit;
A laser irradiation unit that irradiates the color filter with laser light through the slit,
The image processing unit determines a first position of the slit based on the position of the detected defect, and when the entire area of the detected defect exists in the light shielding area, the first processing unit determines the first position of the slit. The second position of the slit is corrected by correcting the first position based on an overlapping area between the color filter area and the light transmission area that will be irradiated with the laser light through the slit at the position. Determine the position,
The color filter defect correction apparatus according to claim 1, wherein the laser irradiation unit irradiates the color filter with laser light through the slit at the second position. 光透過領域および前記光透過領域に隣接する遮光領域を有するカラーフィルタの欠陥を修正するカラーフィルタ欠陥修正方法であって、
前記カラーフィルタの欠陥を検出するステップと、
前記検出された欠陥と、前記光透過領域および前記遮光領域との位置関係に基づいて、前記カラーフィルタにおいて修正処理を行なうべき領域を決定するステップと、
前記カラーフィルタにおける前記決定された領域へのレーザ光の照射およびインク塗布のうち少なくともいずれか一方の修正処理を行なうステップとを含むカラーフィルタ欠陥修正方法。 A color filter defect correction method for correcting a defect of a color filter having a light transmission region and a light shielding region adjacent to the light transmission region,
Detecting defects in the color filter;
Determining a region to be corrected in the color filter based on a positional relationship between the detected defect and the light transmission region and the light shielding region;
And a step of correcting at least one of laser light irradiation and ink application to the determined area of the color filter. 前記カラーフィルタ欠陥修正方法は、さらに、
スリットを形成するステップを含み、
前記修正処理を行なうべき領域を決定するステップにおいては、前記検出された欠陥の全領域が前記光透過領域に存在する場合には、前記レーザ光が照射される前記カラーフィルタの領域が前記検出された欠陥の少なくとも一部を含み、かつ前記遮光領域と重ならないように前記スリットの位置を決定し、
前記修正処理を行なうステップにおいては、前記決定された位置における前記スリットを介して前記カラーフィルタにレーザ光を照射する請求項９記載のカラーフィルタ欠陥修正方法。 The color filter defect correction method further includes:
Forming a slit,
In the step of determining the area to be subjected to the correction process, if the entire area of the detected defect exists in the light transmission area, the area of the color filter irradiated with the laser light is detected. Determining the position of the slit so as to include at least a part of the defect and not to overlap with the light shielding region,
The color filter defect correction method according to claim 9, wherein, in the step of performing the correction process, the color filter is irradiated with laser light through the slit at the determined position. 前記カラーフィルタ欠陥修正方法は、さらに、
スリットを形成するステップを含み、
前記修正処理を行なうべき領域を決定するステップにおいては、前記検出された欠陥が前記遮光領域および前記光透過領域にまたがって存在する場合には、前記レーザ光が照射される前記カラーフィルタの領域が前記検出された欠陥の少なくとも一部を含み、かつ前記レーザ光が照射される前記カラーフィルタの領域と前記遮光領域との重なり領域が最小になるように前記スリットの位置を決定し、
前記修正処理を行なうステップにおいては、前記決定された位置における前記スリットを介して前記カラーフィルタにレーザ光を照射する請求項９記載のカラーフィルタ欠陥修正方法。 The color filter defect correction method further includes:
Forming a slit,
In the step of determining the region to be subjected to the correction process, if the detected defect exists across the light shielding region and the light transmission region, the region of the color filter irradiated with the laser light is determined. Determining the position of the slit so as to include at least a part of the detected defect and minimizing an overlap region between the color filter region irradiated with the laser light and the light shielding region;
The color filter defect correction method according to claim 9, wherein in the correction process, the color filter is irradiated with laser light through the slit at the determined position. 前記修正処理を行なうべき領域を決定するステップにおいては、さらに、前記検出された欠陥が前記遮光領域および前記光透過領域にまたがって存在する場合には、前記検出された欠陥のうちの前記遮光領域における欠陥の大きさと前記光透過領域における欠陥の大きさとを比較し、
前記修正処理を行なうステップにおいては、前記遮光領域および前記光透過領域のうち、前記欠陥の大きい方の領域に対応する色のインクを選択し、前記カラーフィルタにおける前記決定された領域に前記選択した色のインクを塗布する請求項９記載のカラーフィルタ欠陥修正方法。 In the step of determining the region to be subjected to the correction process, if the detected defect exists across the light-shielding region and the light transmission region, the light-shielding region of the detected defects. Comparing the size of the defect in and the size of the defect in the light transmission region,
In the step of performing the correction process, an ink having a color corresponding to the larger defect area of the light shielding area and the light transmission area is selected, and the selected area in the color filter is selected. The color filter defect correcting method according to claim 9, wherein a color ink is applied. 前記カラーフィルタは、前記遮光領域を介して対向して配置される第１の光透過領域および第２の光透過領域を有し、
前記カラーフィルタ欠陥修正方法は、さらに、
前記第１の光透過領域および前記第２の光透過領域間の距離より大きい幅を有するスリットを形成するステップを含み、
前記修正処理を行なうべき領域を決定するステップにおいては、前記検出された欠陥の全領域が前記遮光領域に存在する場合には、前記レーザ光が照射される前記カラーフィルタの領域が前記検出された欠陥の少なくとも一部を含み、かつ前記遮光領域および１つの前記光透過領域と重なるように前記スリットの位置を決定し、
前記修正処理を行なうステップにおいては、前記決定された位置における前記スリットを介して前記カラーフィルタにレーザ光を照射する請求項９記載のカラーフィルタ欠陥修正方法。 The color filter has a first light transmission region and a second light transmission region that are arranged to face each other with the light shielding region interposed therebetween,
The color filter defect correction method further includes:
Forming a slit having a width greater than the distance between the first light transmissive region and the second light transmissive region;
In the step of determining the area to be subjected to the correction process, if the entire area of the detected defect exists in the light shielding area, the area of the color filter irradiated with the laser light is detected. Determining the position of the slit so as to include at least a part of the defect and overlap the light shielding region and the one light transmission region;
The color filter defect correction method according to claim 9, wherein in the correction process, the color filter is irradiated with laser light through the slit at the determined position. 前記カラーフィルタは、前記遮光領域を介して対向して配置される第１の光透過領域および第２の光透過領域を有し、
前記修正処理を行なうステップにおいては、前記第１の光透過領域および前記第２の光透過領域間の距離より大きい幅を有する前記カラーフィルタの領域にインクを塗布し、
前記修正処理を行なうべき領域を決定するステップにおいては、前記検出された欠陥の全領域が前記遮光領域に存在する場合には、前記インクが塗布される前記カラーフィルタの領域が前記検出された欠陥の少なくとも一部を含み、かつ前記遮光領域および１つの前記光透過領域と重なるようにインクを塗布する位置を決定し、
前記修正処理を行なうステップにおいては、前記決定された位置において、前記カラーフィルタの領域にインクを塗布する請求項９記載のカラーフィルタ欠陥修正方法。 The color filter has a first light transmission region and a second light transmission region that are arranged to face each other with the light shielding region interposed therebetween,
In the step of performing the correction process, an ink is applied to a region of the color filter having a width larger than a distance between the first light transmission region and the second light transmission region,
In the step of determining the area to be subjected to the correction process, if the entire area of the detected defect exists in the light shielding area, the area of the color filter to which the ink is applied is the detected defect. A position where the ink is applied so as to overlap with the light shielding region and the one light transmission region,
The color filter defect correcting method according to claim 9, wherein in the correcting process, ink is applied to the area of the color filter at the determined position. 前記カラーフィルタ欠陥修正方法は、さらに、
スリットを形成するステップを含み、
前記修正処理を行なうべき領域を決定するステップは、
前記検出された欠陥の位置に基づいて前記スリットの第１の位置を決定するステップと、
前記検出された欠陥の全領域が前記光透過領域に存在する場合には、前記第１の位置における前記スリットを介して前記レーザ光が照射されるであろう前記カラーフィルタの領域と前記遮光領域との重なり領域に基づいて前記第１の位置を補正することにより前記スリットの第２の位置を決定するステップとを含み、
前記修正処理を行なうステップにおいては、前記第２の位置における前記スリットを介して前記カラーフィルタにレーザ光を照射する請求項９記載のカラーフィルタ欠陥修正方法。 The color filter defect correction method further includes:
Forming a slit,
The step of determining a region to be subjected to the correction process includes
Determining a first position of the slit based on the position of the detected defect;
When the entire area of the detected defect exists in the light transmission area, the color filter area and the light shielding area that will be irradiated with the laser light through the slit at the first position. Determining a second position of the slit by correcting the first position based on an overlapping region with
The color filter defect correction method according to claim 9, wherein, in the step of performing the correction process, the color filter is irradiated with laser light through the slit at the second position. 前記カラーフィルタ欠陥修正方法は、さらに、
スリットを形成するステップを含み、
前記修正処理を行なうべき領域を決定するステップは、
前記検出された欠陥の位置に基づいて前記スリットの第１の位置を決定するステップと、
前記検出された欠陥の全領域が前記遮光領域に存在する場合には、前記第１の位置における前記スリットを介して前記レーザ光が照射されるであろう前記カラーフィルタの領域と前記光透過領域との重なり領域に基づいて前記第１の位置を補正することにより前記スリットの第２の位置を決定するステップとを含み、
前記修正処理を行なうステップにおいては、前記第２の位置における前記スリットを介して前記カラーフィルタにレーザ光を照射する請求項９記載のカラーフィルタ欠陥修正方法。 The color filter defect correction method further includes:
Forming a slit,
The step of determining a region to be subjected to the correction process includes
Determining a first position of the slit based on the position of the detected defect;
When the entire area of the detected defect exists in the light shielding area, the color filter area and the light transmission area that are to be irradiated with the laser light through the slit at the first position. Determining a second position of the slit by correcting the first position based on an overlapping region with
The color filter defect correction method according to claim 9, wherein, in the step of performing the correction process, the color filter is irradiated with laser light through the slit at the second position.
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