JP2009114268A - ポリイミド用剥離剤 - Google Patents
ポリイミド用剥離剤 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009114268A JP2009114268A JP2007286781A JP2007286781A JP2009114268A JP 2009114268 A JP2009114268 A JP 2009114268A JP 2007286781 A JP2007286781 A JP 2007286781A JP 2007286781 A JP2007286781 A JP 2007286781A JP 2009114268 A JP2009114268 A JP 2009114268A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- weight
- polyimide
- release agent
- water
- polyhydric alcohol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 title claims abstract description 52
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 title claims abstract description 49
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 41
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 claims abstract description 18
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 11
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 24
- -1 silane compound Chemical class 0.000 claims description 16
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 claims description 11
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 11
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 claims description 11
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 10
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 7
- KHLRJDNGHBXOSV-UHFFFAOYSA-N 5-trimethoxysilylpentane-1,3-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(N)CCN KHLRJDNGHBXOSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 22
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 abstract description 22
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 abstract description 22
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 abstract description 20
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 20
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 17
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 17
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 13
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 4
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 230000003113 alkalizing effect Effects 0.000 abstract 1
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 11
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 7
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 3
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 3
- 235000010356 sorbitol Nutrition 0.000 description 3
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 3
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N furfural Chemical compound O=CC1=CC=CO1 HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical compound O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 2
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 229940073455 tetraethylammonium hydroxide Drugs 0.000 description 2
- LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M tetraethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](CC)(CC)CC LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-NMQOAUCRSA-N 1,2-dideuteriooxyethane Chemical compound [2H]OCCO[2H] LYCAIKOWRPUZTN-NMQOAUCRSA-N 0.000 description 1
- HXKKHQJGJAFBHI-UHFFFAOYSA-N 1-aminopropan-2-ol Chemical compound CC(O)CN HXKKHQJGJAFBHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVRSWMRVYMPTBU-UHFFFAOYSA-M 1-hydroxypropyl(trimethyl)azanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CCC(O)[N+](C)(C)C FVRSWMRVYMPTBU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDLXTDLGTWNUFM-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-methylpropan-2-yl)oxy]ethanol Chemical compound CC(C)(C)OCCO BDLXTDLGTWNUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIZQNNOULOCVDM-UHFFFAOYSA-M 2-hydroxyethyl(trimethyl)azanium;hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)CCO KIZQNNOULOCVDM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZFDNAYFXBJPPEB-UHFFFAOYSA-M 2-hydroxyethyl(tripropyl)azanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CCC[N+](CCC)(CCC)CCO ZFDNAYFXBJPPEB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 3-(3-methoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound COCCCOCCCO QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFKRHJVUCZRDTF-UHFFFAOYSA-N 3-methoxy-3-methylbutan-1-ol Chemical compound COC(C)(C)CCO MFKRHJVUCZRDTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTXUAHIMULPXKY-UHFFFAOYSA-N 3-trihydroxysilylpropan-1-amine Chemical compound NCCC[Si](O)(O)O JTXUAHIMULPXKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOTKGMAKADCEDH-UHFFFAOYSA-N 5-triethoxysilylpentane-1,3-diamine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC(N)CCN ZOTKGMAKADCEDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OPACOAHIHQCHSR-UHFFFAOYSA-N 6-trimethoxysilylhexane-1,4-diamine Chemical compound NCCCC(CC[Si](OC)(OC)OC)N OPACOAHIHQCHSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-KVTDHHQDSA-N D-Mannitol Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-KVTDHHQDSA-N 0.000 description 1
- 229930195725 Mannitol Natural products 0.000 description 1
- TVXBFESIOXBWNM-UHFFFAOYSA-N Xylitol Natural products OCCC(O)C(O)C(O)CCO TVXBFESIOXBWNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- 150000002169 ethanolamines Chemical class 0.000 description 1
- KVFVBPYVNUCWJX-UHFFFAOYSA-M ethyl(trimethyl)azanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](C)(C)C KVFVBPYVNUCWJX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000003925 fat Substances 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229940102253 isopropanolamine Drugs 0.000 description 1
- 239000000594 mannitol Substances 0.000 description 1
- 235000010355 mannitol Nutrition 0.000 description 1
- HEBKCHPVOIAQTA-UHFFFAOYSA-N meso ribitol Natural products OCC(O)C(O)C(O)CO HEBKCHPVOIAQTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000014593 oils and fats Nutrition 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- LPSKDVINWQNWFE-UHFFFAOYSA-M tetrapropylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CCC[N+](CCC)(CCC)CCC LPSKDVINWQNWFE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GFKCWAROGHMSTC-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(6-trimethoxysilylhexyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCCC[Si](OC)(OC)OC GFKCWAROGHMSTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000811 xylitol Substances 0.000 description 1
- HEBKCHPVOIAQTA-SCDXWVJYSA-N xylitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO HEBKCHPVOIAQTA-SCDXWVJYSA-N 0.000 description 1
- 235000010447 xylitol Nutrition 0.000 description 1
- 229960002675 xylitol Drugs 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/42—Stripping or agents therefor
- G03F7/422—Stripping or agents therefor using liquids only
- G03F7/425—Stripping or agents therefor using liquids only containing mineral alkaline compounds; containing organic basic compounds, e.g. quaternary ammonium compounds; containing heterocyclic basic compounds containing nitrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C41/00—Preparation of ethers; Preparation of compounds having groups, groups or groups
- C07C41/01—Preparation of ethers
- C07C41/05—Preparation of ethers by addition of compounds to unsaturated compounds
- C07C41/06—Preparation of ethers by addition of compounds to unsaturated compounds by addition of organic compounds only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08G73/1042—Copolyimides derived from at least two different tetracarboxylic compounds or two different diamino compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/02—Inorganic compounds
- C11D7/04—Water-soluble compounds
- C11D7/08—Acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/26—Organic compounds containing oxygen
- C11D7/261—Alcohols; Phenols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D2111/00—Cleaning compositions characterised by the objects to be cleaned; Cleaning compositions characterised by non-standard cleaning or washing processes
- C11D2111/10—Objects to be cleaned
- C11D2111/14—Hard surfaces
- C11D2111/22—Electronic devices, e.g. PCBs or semiconductors
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
【課題】金属(特にアルミニウムおよびモリブデン)の腐食を抑えつつ、優れた洗浄性を有するポリイミド用剥離剤を提供する。
【解決の手段】水、アルカリ剤[B]、多価アルコールを除く水溶性有機溶剤[C]、多価アルコール[D]、下記一般式(1)で表わされるシラン系化合物[A]を含有し、前記[C]成分の含有量が30〜95重量%であるポリイミド用剥離剤。
[(X2N−(CH2)l−)mNH2−m−(CH2)k−]nSi(OR)4−n (1)
[但し、式中k、lは1〜4の整数、mは0〜2の整数、nは1〜3の整数を表す。Rは水素又は炭素数1〜4のアルキル基、Xは水素又は炭素1〜4のアルキル基である。]
【選択図】なし
【解決の手段】水、アルカリ剤[B]、多価アルコールを除く水溶性有機溶剤[C]、多価アルコール[D]、下記一般式(1)で表わされるシラン系化合物[A]を含有し、前記[C]成分の含有量が30〜95重量%であるポリイミド用剥離剤。
[(X2N−(CH2)l−)mNH2−m−(CH2)k−]nSi(OR)4−n (1)
[但し、式中k、lは1〜4の整数、mは0〜2の整数、nは1〜3の整数を表す。Rは水素又は炭素数1〜4のアルキル基、Xは水素又は炭素1〜4のアルキル基である。]
【選択図】なし
Description
本発明は金属配線(特にアルミニウムおよびモリブデン)を有する液晶基板や半導体基板上のポリイミド配向膜や半導体素子回路の製造に用いられるポリイミド系フォトレジスト等を剥離する際に使用されるポリイミド用剥離剤に関する。
従来から、アルカリ洗浄液は、油脂類、樹脂、微粒子、樹脂などを除去する能力に優れているので、電子部品、金属部品などの洗浄に多く使用されている。しかし、一般のアルカリ洗浄液はアルミニウムおよびモリブデンを溶解する作用が強く、アルミニウムおよびモリブデンを使用している電子部品などの洗浄には適用しにくいのが現状である。例えばTFT側液晶パネルのポリイミド配向膜を剥離しようとした場合、TFT回路のモリブデン/アルミの積層配線が溶解してしまう。そこで配線部分をワックス等で保護して洗浄し、炭化水素などの溶剤でワックスを除去してガラス基板を再生させる方法等が取られているが、工程が煩雑である。
また、アルカリ洗浄剤の一種として、半導体素子回路等の製造工程において、フォトレジスト残渣を除去する目的で従来よりアルカリ系剥離剤が使用されてきた。アルカリ系剥離剤には無水のものと含水のものがあり、剥離性の観点から、含水のものが好ましい。しかし、含水アルカリ系剥離剤は基板上の金属配線を溶解するという問題があった。この問題を解決し金属配線などを溶解しないレジスト剥離剤として、第4級アンモニウム水酸化物に各種アルコールを含有する水溶液等が提案されている(例えば、特許文献1参照)。また、金属防食性を向上させる目的で、Si原子を含む化合物を含有するレジスト用剥離剤が知られている(特許文献2参照)。しかし、これらのレジスト剥離剤は、ポリイミドに対する剥離性が不十分である。
特開2005−336470号公報
特許3410369号公報
このように、これら従来技術を用いてもポリイミド配向膜の剥離性及び金属(特にアルミニウムおよびモリブデン)の防食性を両立できていないのが現状であり、これらの諸問題の改善が要望されていた。
したがって、本発明は、金属(特にアルミニウムおよびモリブデン)の腐食を抑えつつ、優れた洗浄性を有するポリイミド用剥離剤を提供することを目的とする。
本発明は、水、アルカリ剤[B]、多価アルコールを除く水溶性有機溶剤[C]、多価アルコール[D]、及び、下記一般式(1)で表わされるシラン系化合物[A]を含有し、前記[C]成分の含有量が30〜95重量%であるポリイミド用剥離剤である。
[(X2N−(CH2)l−)mNH2−m−(CH2)k−]nSi(OR)4−n (1)
但し、式中k、lは1〜4の整数、mは0〜2の整数、nは1〜3の整数を表す。Rは水素又は炭素数1〜4のアルキル基、Xは水素又は炭素1〜4のアルキル基である。
[(X2N−(CH2)l−)mNH2−m−(CH2)k−]nSi(OR)4−n (1)
但し、式中k、lは1〜4の整数、mは0〜2の整数、nは1〜3の整数を表す。Rは水素又は炭素数1〜4のアルキル基、Xは水素又は炭素1〜4のアルキル基である。
本発明のポリイミド用剥離剤はポリイミド剥離性に優れ、かつ、金属(特にアルミニウムおよびモリブデン)防食性に優れている。そのため液晶パネル用ガラス基板のTFT側の金属配線にダメージを与えず、ポリイミド配向膜を容易に剥離洗浄することが出来る。また、本発明のポリイミド用剥離剤はカラーフィルターに損傷を与えず、カラーフィルター側のポリイミド配向膜も同様に剥離洗浄できる。さらに、本発明のポリイミド用剥離剤は油分、指紋、樹脂及び微粒子の洗浄性にも優れている。
上記シラン系化合物[A]としては、上記一般式(1)で表される化合物であれば特に限定されず、具体的には、例えば、γ−アミノプロピルトリヒドロキシシランおよびその縮合物、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−(3−アミノプロピル)アミノプロピルトリメトキシシラン等を挙げることができる。その中でも特に好ましいのはγ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシランである。上記シラン系化合物[A]は1種を使用してもよく又は2種以上を併用してもよい。
本発明においては、上記シラン系化合物[A]の含有量は、0.1〜10重量%が好ましい。シラン系化合物[A]の含有量が0.1重量%未満ではアルミニウムおよびモリブデン防食性が不十分となるおそれがあり、10重量%を超えるとポリイミド剥離性が低下するおそれがある。より好ましくは0.2〜5重量%である。
本発明で使用されるアルカリ剤[B]としては、アルカリ洗浄に使用可能なものであれば特に限定はなく、公知のアルカリ剤を使用可能であるが、第4級アンモニウム水酸化物[B1]、沸点150℃以上のアルカノールアミン[B2]が好適な例として挙げられる。上記第4級アンモニウム水酸化物[B1]及び沸点150℃以上のアルカノールアミン[B2]は、それぞれ単独でも、又は、両方を併用してもよい。上記第4級アンモニウム水酸化物[B1]は下記一般式(2)で表される。
式中Rは炭素数1〜3のアルキル基、または炭素数1〜3のヒドロキシ置換アルキル基を表し、R1、R2、R3は、同一又は異なった、炭素数1〜3のアルキル基を表す。第4級アンモニウム水酸化物[B1]としては、具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルエチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチル(2−ヒドロキシエチル)アンモニウムヒドロキシド、トリプロピル(2−ヒドロキシエチル)アンモニウムヒドロキシド、トリメチル(1−ヒドロキシプロピル)アンモニウムヒドロキシド等が例示できる。これらの中で特に好ましいのはテトラメチルアンモニウムヒドロキシド(以下TMAHと略称する)、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチル(2−ヒドロキシエチル)アンモニウムヒドロキシドである。上記第4級アンモニウム水酸化物[B1]は1種を使用してもよく又は2種以上を併用してもよい。
上記アルカノールアミン[B2]は沸点150℃以上のものが好ましい。沸点150℃未満では使用温度条件40〜80℃で飛散しやすく、臭気の点で好ましくない。沸点150℃以上のアルカノールアミン[B2]としては、例えば、同一分子中にアミノ基とアルコール性水酸基を持つ化合物でモノ、ジ、トリ等のエタノールアミン、イソプロパノールアミン等が挙げられる。これらの中でモノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンが特に好ましい。上記アルカノールアミン[B2]は1種を使用してもよく又は2種以上を併用してもよい。
本発明において、アルカリ剤[B]の含有量は、0.1〜60重量%が好ましく、より好ましくは0.2〜50重量%である。アルカリ剤の含有量が0.1重量%未満ではポリイミド剥離性が不十分である場合があり、60重量%を超えると、粘度が上がり作業性が低下する場合がある。第4級アンモニウム水酸化物[B1]の含有量は、0.1〜10重量%、より好ましくは0.2〜5重量%、沸点150℃以上のアルカノールアミン[B2]の含有量は、5〜55重量%、より好ましくは10〜50重量%である。第4級アンモニウム水酸化物[B1]の含有量が10重量%を超えると、金属腐食性が抑えられない、第4級アンモニウム水酸化物が溶解しない場合がある。
本発明において、水の含有量は、1〜50重量%が好ましく、より好ましくは5〜30重量%である。水の含有量が1重量%未満では第4級アンモニウム水酸化物が溶解せず、50重量%を超えると金属防食性が不十分となるおそれがある。
本発明における多価アルコールを除く水溶性有機溶剤[C]としては、水溶性有機溶剤であって多価アルコール(2価以上のアルコール)でないものであれば特に限定されないが、25℃の水に対する溶解度(g/100gH2O)が100以上であり、沸点が150℃以上のものが好適に利用できる。沸点150℃未満では使用温度条件(40〜80℃)で飛散しやすく、臭気、安全性の点で好ましくない。具体的にはグリコールエーテル、極性溶剤等が挙げられる。グリコールエーテルとしてはエチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチレングリコールモノターシャルブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル等、極性溶剤としてはジメチルスルホキシド(以下DMSOと略す)、スルホラン、N−メチル−2ピロリドン、γ−ブチロラクタム、フルフラール等が挙げられる。これらの中で、3−メトキシ−3−メチル−1−ブタノール、プロピレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、DMSO等が好ましく使用できる。これら水溶性有機溶剤は単独または混合して用いてもよい。
本発明において、多価アルコールを除く水溶性有機溶剤[C]の含有量は、30〜95重量%、好ましくは40〜90重量%である。水溶性極性溶剤[C]の含有量が30重量%未満では油脂類、樹脂に対する溶解性が低下し、95重量%を超えると他の成分が少なくなりポリイミド剥離性とアルミニウムおよびモリブデン防食性の両立が困難になるおそれがある。
本発明における多価アルコール[D]としては、アルカリ洗浄に使用可能なものであれば特に限定はないが、2〜8価のものが好ましく、具体例としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、キシリトール、ソルビトール、マンニトール等が挙げられる。この中で、特に好ましいのはエチレングリコール、グリセリン、ソルビトールである。
本発明において、多価アルコール[D]の含有量は、好ましくは1〜50重量%、より好ましくは3〜20重量%である。多価アルコール[D]の含有量が1重量%未満ではアルミニウムおよびモリブデン防食性が不十分となるおそれがあり、50重量%を超えるとポリイミド剥離性が低下するおそれがある。
シラン系化合物[A]と2〜8価の多価アルコール[D]は、併用することにより、金属に対する防食性、特にモリブデンに対する防食性が大幅に向上する。
本発明においては、水、上述の[A]、[B1]及び/又は[B2]、25℃の水に対する溶解度(g/100gH2O)が100以上であり、沸点が150℃以上の[C]、並びに、2〜8価の[D]成分の組合せが好ましい。
本発明においては、上述の水、[A]、[B]、[C]、及び[D]成分以外に、本発明の目的を損なわない範囲内で、界面活性剤等一般のアルカリ洗浄液に使用されている添加剤をその他成分[E]として加えることができる。上記成分[E]としては、例えば、炭素数6〜12の分岐脂肪酸石鹸をあげることができる。これら他の成分の配合量は、通常、組成物中、0.01〜10重量%であってよい。
本発明のポリイミド用剥離剤は、pH12以上であることが好ましい。pHが11未満の場合、十分なポリイミド剥離性を得られない場合がある。
本発明のポリイミド用剥離剤は、その粘度が、作業性、剥離性の観点から、20mPa・s(25℃)以下が望ましい。
本発明のポリイミド用剥離剤は、上記各成分を混合して製造することができる。例えば、[A]、[B1]及び/又は[B2]、[C]、[D]、該当する場合は[E]、並びに水を混合して調製できる。
本発明のポリイミド用剥離剤の使用方法を以下に例示する。ただし、本発明はこの例に限定されるものではない。まず、ポリイミド配向膜が形成された基板(ガラス等の基板)を用意する。上記ポリイミド配向膜の材料としては、例えば、ポリイミド樹脂、カップリング剤、エチレングリコールモノブチルエーテル及びN−メチル−2−ピロリドン(NMP)を主成分とするポリイミド配向膜材料等のポリイミド系材料であってよい。次に、この基板のポリイミド配向膜を本発明のポリイミド用剥離剤中に、例えば室温〜80℃、1〜10分間浸せきする。このとき、必要により剥離剤を攪拌するか、又は基板を振動してもよい。または、本発明の剥離剤を基板にシャワーやスプレー等で吹き付けることもできる。この際、ブラシ洗浄を併用することにより、ポリイミド配向膜除去性を向上させることもできる。ポリイミド配向膜を溶解又は剥離した後、好ましくは純水で、溶解したポリイミド配向膜を含む剥離剤を洗浄除去し、ポリイミド配向膜を基板上から除去する。その後、エアナイフ等で、基板上の液体を吹き飛ばし、基板を乾燥させる。
次に本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれら実施例により限定されるものではない。
実施例1〜7、比較例1〜10
表1記載の各成分部数(重量部)(純分表示)を1Lビーカー中に入れ、室温で充分攪拌して実施例及び比較例のポリイミド用剥離剤を調製した。
表1中の略号は以下の通りである。
A成分(シラン系化合物)
A1:γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン
A2:1,6−ビス(トリメトキシシリル)ヘキサン
B成分(アルカリ剤)
B1:テトラメチルアンモニウムヒドロキシド
B2a:エタノールアミン
B2b:トリエタノールアミン
C成分(水溶性有機溶剤)
C1:DMSO
C2:ジエチレングリコールモノメチルエーテル
D成分(多価アルコール)
D1:エチレングリコール
D2:グリセリン
D3:ソルビトール
表1記載の各成分部数(重量部)(純分表示)を1Lビーカー中に入れ、室温で充分攪拌して実施例及び比較例のポリイミド用剥離剤を調製した。
表1中の略号は以下の通りである。
A成分(シラン系化合物)
A1:γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン
A2:1,6−ビス(トリメトキシシリル)ヘキサン
B成分(アルカリ剤)
B1:テトラメチルアンモニウムヒドロキシド
B2a:エタノールアミン
B2b:トリエタノールアミン
C成分(水溶性有機溶剤)
C1:DMSO
C2:ジエチレングリコールモノメチルエーテル
D成分(多価アルコール)
D1:エチレングリコール
D2:グリセリン
D3:ソルビトール
実施例及び比較例で得られたポリイミド用剥離剤の評価試験方法を以下に示し、評価結果を表1に示す。
1.ポリイミド配向膜(以下、単に配向膜)剥離性
ポリイミド樹脂、カップリング剤、エチレングリコールモノブチルエーテル及びNMPを主成分とする配向膜材料をガラス基板上に塗布し、120℃で60分間焼成した1μmのポリイミド膜を剥離対象物とした。この1×4cmに切断した基板の塗布面を上にしてアルカリ洗浄液中に40℃で所定時間(1分、2分)、浸漬した。その後、取り出し、純水で洗浄し、N2ガスを用いたエアーガンで純水を吹き飛ばし、自然乾燥させた。それぞれ、処理後の基板を顕微鏡で観察し配向膜剥離性を次の5段階で評価した。
<評価基準>
5:ガラス基板上に配向膜が全くなし
4:ガラス基板上に配向膜が痕跡程度残っている
3:ガラス基板上の一部に配向膜が少し残っている
2:ガラス基板上の大部分に配向膜が残っている
1:ガラス基板上の全面に配向膜が残っている
1.ポリイミド配向膜(以下、単に配向膜)剥離性
ポリイミド樹脂、カップリング剤、エチレングリコールモノブチルエーテル及びNMPを主成分とする配向膜材料をガラス基板上に塗布し、120℃で60分間焼成した1μmのポリイミド膜を剥離対象物とした。この1×4cmに切断した基板の塗布面を上にしてアルカリ洗浄液中に40℃で所定時間(1分、2分)、浸漬した。その後、取り出し、純水で洗浄し、N2ガスを用いたエアーガンで純水を吹き飛ばし、自然乾燥させた。それぞれ、処理後の基板を顕微鏡で観察し配向膜剥離性を次の5段階で評価した。
<評価基準>
5:ガラス基板上に配向膜が全くなし
4:ガラス基板上に配向膜が痕跡程度残っている
3:ガラス基板上の一部に配向膜が少し残っている
2:ガラス基板上の大部分に配向膜が残っている
1:ガラス基板上の全面に配向膜が残っている
2.アルミ防食性
3cm×4cmの純アルミ板をポリイミド用剥離剤中に70℃24時間浸せきし、水素ガス発生状況及び重量減少率を測定した。算出方法は以下のとおり。
重量減少率(%)=100×(W0−W1)/W0
[W0:元のアルミ板重量(g)、W1:70℃、24時間浸せき後のアルミ板重量(g)]
また、重量減少率と同時に、水素ガスの発生状況も、下記の評価基準で観察した。
<評価基準>
5:水素ガスの発生が全くない
4:水素ガスの発生が極わずかに認められる
3:水素ガスの発生がやや認められる
2:水素ガスの発生がかなり認められる
1:水素ガスの発生が激しく認められる
3cm×4cmの純アルミ板をポリイミド用剥離剤中に70℃24時間浸せきし、水素ガス発生状況及び重量減少率を測定した。算出方法は以下のとおり。
重量減少率(%)=100×(W0−W1)/W0
[W0:元のアルミ板重量(g)、W1:70℃、24時間浸せき後のアルミ板重量(g)]
また、重量減少率と同時に、水素ガスの発生状況も、下記の評価基準で観察した。
<評価基準>
5:水素ガスの発生が全くない
4:水素ガスの発生が極わずかに認められる
3:水素ガスの発生がやや認められる
2:水素ガスの発生がかなり認められる
1:水素ガスの発生が激しく認められる
3.モリブデン防食性
モリブデンが蒸着されたガラス基板10mm×10mmと、ポリイミド用剥離剤を70mLの広口瓶に入れ、モリブデン蒸着面を上にした状態で70℃に保持した。処理開始から24時間経過後のモリブデン蒸着面の外観変化を下記の評価基準で観察した。
<評価基準>
○:変化なし
△:黒色に変化する
×:モリブデン膜が溶解して消失する。
モリブデンが蒸着されたガラス基板10mm×10mmと、ポリイミド用剥離剤を70mLの広口瓶に入れ、モリブデン蒸着面を上にした状態で70℃に保持した。処理開始から24時間経過後のモリブデン蒸着面の外観変化を下記の評価基準で観察した。
<評価基準>
○:変化なし
△:黒色に変化する
×:モリブデン膜が溶解して消失する。
表1の結果から、シラン化合物[A]、アルカリ剤[B]、多価アルコールを除く水溶性有機溶剤[C]、多価アルコール[D]、水を用いた本発明のポリイミド用剥離剤はpHが12以上あるにもかかわらず、アルミニウムおよびモリブデン防食性が極めて良好で、配向膜剥離性/アルミニウムおよびモリブデン防食性を両立することが判る(実施例1〜7)。一方[A]成分と[D]成分を含まない組成物(比較例1)および[A]成分を含まず、[B]成分を大量に含む組成物(比較例8)はアルミ防食性およびモリブデン防食性が劣る。[D]成分を含むが[A]成分を含まない組成物(比較例2)および、[A]成分を含むが[D]成分を含まない組成物(比較例5および7)は、アルミ防食性には優れるものの、モルブデン防食性が劣る。[A]、[B]、[D]の各成分を含むが[C]成分を含まない組成物(比較例3)および[A]、[B]、[C]、[D]の各成分を含むが[C]成分の含有量が少ない組成物(比較例10)、は、アルミ防食性に優れるが、モリブデン防食性に劣り、配向膜の剥離ができない。先行文献1(特開2005−336470号公報)記載の組成物(比較例4)は配向膜剥離性とアルミ防食性が共に不十分である。先行文献2(特許3410369号公報)に記載されているが本発明には該当しないシラン系化合物を含む組成物(比較例6および9)は、モリブデン防食性が劣る。
Claims (6)
- 水、アルカリ剤[B]、多価アルコールを除く水溶性有機溶剤[C]、多価アルコール[D]、及び、下記一般式(1)で表わされるシラン系化合物[A]を含有し、前記[C]成分の含有量が30〜95重量%であるポリイミド用剥離剤。
[(X2N−(CH2)l−)mNH2−m−(CH2)k−]nSi(OR)4−n (1)
[但し、式中k、lは1〜4の整数、mは0〜2の整数、nは1〜3の整数を表す。Rは水素又は炭素数1〜4のアルキル基、Xは水素又は炭素1〜4のアルキル基である。] - シラン系化合物[A]がγ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシランである請求項1記載のポリイミド用剥離剤。
- アルカリ剤[B]が第4級アンモニウム水酸化物[B1]及び/又は沸点150℃以上のアルカノールアミン[B2]であり、水溶性有機溶剤[C]が25℃における水に対する溶解度が100以上でかつ、沸点150℃以上であり、多価アルコール[D]が2〜8価のアルコールである請求項1又は2記載のポリイミド用剥離剤。
- シラン系化合物[A]を0.1〜10重量%、アルカリ剤[B]を0.1〜60重量%、水溶性有機溶剤[C]を30〜95重量%、多価アルコール[D]を1〜50重量%、水を1〜50重量%含有する請求項1〜3のいずれか記載のポリイミド用剥離剤。
- pHが12以上である請求項1〜4のいずれか記載のポリイミド用剥離剤。
- 液晶基板上のポリイミド配向膜用剥離剤である請求項1〜5のいずれか記載のポリイミド用剥離剤。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007286781A JP2009114268A (ja) | 2007-11-02 | 2007-11-02 | ポリイミド用剥離剤 |
KR1020080106459A KR20090045859A (ko) | 2007-11-02 | 2008-10-29 | 폴리이미드용 박리제 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007286781A JP2009114268A (ja) | 2007-11-02 | 2007-11-02 | ポリイミド用剥離剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009114268A true JP2009114268A (ja) | 2009-05-28 |
Family
ID=40781772
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007286781A Pending JP2009114268A (ja) | 2007-11-02 | 2007-11-02 | ポリイミド用剥離剤 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2009114268A (ja) |
KR (1) | KR20090045859A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013049753A (ja) * | 2011-08-30 | 2013-03-14 | Dongwoo Fine-Chem Co Ltd | 洗浄剤組成物及びそれを用いた液晶表示装置用アレイ基板の製造方法 |
CN110423202A (zh) * | 2019-08-22 | 2019-11-08 | 四川羽玺电子科技有限公司 | 一种含氟离型剂及其制备方法 |
WO2022024820A1 (ja) * | 2020-07-29 | 2022-02-03 | 東洋紡株式会社 | フレキシブル電子デバイスの製造方法 |
WO2023243666A1 (ja) * | 2022-06-17 | 2023-12-21 | 花王株式会社 | 半導体基板の製造方法 |
WO2023243661A1 (ja) * | 2022-06-17 | 2023-12-21 | 花王株式会社 | 接着剤用洗浄剤組成物 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101880308B1 (ko) | 2012-05-24 | 2018-07-19 | 동우 화인켐 주식회사 | Tft 제조용 레지스트 박리제 조성물 및 이를 이용한 tft의 제조방법 |
CN113176718B (zh) * | 2021-05-06 | 2021-12-14 | 肇庆微纳芯材料科技有限公司 | 聚酰亚胺剥离液、其制备方法及聚酰亚胺膜的清洗方法 |
-
2007
- 2007-11-02 JP JP2007286781A patent/JP2009114268A/ja active Pending
-
2008
- 2008-10-29 KR KR1020080106459A patent/KR20090045859A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013049753A (ja) * | 2011-08-30 | 2013-03-14 | Dongwoo Fine-Chem Co Ltd | 洗浄剤組成物及びそれを用いた液晶表示装置用アレイ基板の製造方法 |
CN110423202A (zh) * | 2019-08-22 | 2019-11-08 | 四川羽玺电子科技有限公司 | 一种含氟离型剂及其制备方法 |
WO2022024820A1 (ja) * | 2020-07-29 | 2022-02-03 | 東洋紡株式会社 | フレキシブル電子デバイスの製造方法 |
WO2023243666A1 (ja) * | 2022-06-17 | 2023-12-21 | 花王株式会社 | 半導体基板の製造方法 |
WO2023243661A1 (ja) * | 2022-06-17 | 2023-12-21 | 花王株式会社 | 接着剤用洗浄剤組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20090045859A (ko) | 2009-05-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI390032B (zh) | 用於微電子基板之清潔組合物 | |
JP5662365B2 (ja) | クリーニング調合物およびそのクリーニング調合物の使用方法 | |
JP2009114268A (ja) | ポリイミド用剥離剤 | |
CN101076760B (zh) | 含有聚合物腐蚀抑制剂的非水的、无腐蚀性的微电子清洁组合物 | |
TWI275904B (en) | Photoresist stripper composition, and exfoliation method of a photoresist using it | |
JP5824249B2 (ja) | 洗浄液組成物 | |
JP2008509554A5 (ja) | ||
JP6412143B2 (ja) | フォトレジスト除去用ストリッパー組成物およびこれを利用したフォトレジストの剥離方法 | |
CN110597024B (zh) | 防止污渍的光刻胶剥离剂组合物及平板显示器基板的制法 | |
KR101749610B1 (ko) | 다중-금속 소자 처리를 위한 글루콘산 함유 포토레지스트 세정 조성물 | |
WO2009073588A1 (en) | Fluoride-containing photoresist stripper or residue removing cleaning compositions containing conjugate oligomeric or polymeric material of alpha-hydroxycarbonyl compound/amine or ammonia reaction | |
JP2007003617A (ja) | 剥離液組成物 | |
JP2009115929A (ja) | カラーレジスト用剥離剤 | |
JP2009527126A (ja) | 超小型電子基板のための、安定化された非水性洗浄組成物 | |
KR20090060104A (ko) | 알파-하이드록시카보닐 화합물/아민 또는 암모니아 반응의올리고머 또는 중합체 접합체 물질을 함유하는불화물-무함유 포토레지스트 박리제 또는 잔류물 제거용세정 조성물 | |
WO2014079145A1 (zh) | 一种去除光刻胶的清洗液 | |
JP5143379B2 (ja) | アルカリ洗浄液 | |
KR20130019729A (ko) | 평판표시장치용 세정액 조성물 및 평판표시장치의 세정 방법 | |
KR20080054714A (ko) | 레지스트 박리용 알칼리 조성물 | |
JP5603948B2 (ja) | 平板表示装置のガラス基板用洗浄剤組成物 | |
TWI748369B (zh) | 用於鋁氮化物的蝕刻溶液及方法 | |
KR20130139482A (ko) | 레지스트 박리액 조성물 | |
KR101799592B1 (ko) | 평판 디스플레이 기판용 세정제 조성물 및 이를 이용한 세정방법 | |
TWI812342B (zh) | 移除光阻之剝離劑組成物以及使用其之剝離光阻方法 | |
KR20150028526A (ko) | 레지스트 박리액 조성물 및 이를 이용한 평판표시장치의 제조방법 |