JP2009113430A - オフセット印刷機及びオフセット印刷方法 - Google Patents

Abstract

【課題】擬似エンボス印刷を行なうオフセット印刷に関し、熟練を要することなく、ハジキ性（エンボス度）や光沢性（光沢度）を適切に設定することができるようにする。
【解決手段】印刷面上にオフセット印刷により特殊ＯＰニスを転写する印刷ユニット２０と、この特殊ＯＰニスを乾燥させる乾燥装置５２と、この上にクリアニスを塗布する塗布装置３０とを、順に備え、凹凸形状を有する擬似的なエンボス加工を行なうオフセット印刷機であって、エンボス加工の凹凸形状パラメータを調整操作する入力装置６１と、凹凸形状パラメータと印刷機の運転要素の運転状態との最適な対応関係が記録されたデータベース６２と、データベース６２に記録された対応関係に基づいて、入力装置６１を通じた凹凸形状パラメータの操作入力に対応して、凹凸形状に関与する印刷機の運転要素を自動で制御する制御装置６０と、をそなえるように構成する。
【選択図】図１

Description

本発明は、印刷面上に凹凸形状を有する擬似的なエンボス加工を行なうオフセット印刷機及びオフセット印刷方法に関するものである。

近年、印刷物の商品性を高めるために、いわゆる高付加価値印刷と称される印刷技術が開発されている。この高付加価値印刷は、一般的に、インキ及びニスを最大２００〜３０0μｍ程度の大きな膜厚で塗布することのできるスクリーン印刷（シルク印刷とも呼ばれる）で実施されることが多い。これは、インキやニスを厚盛することによって、凹凸した印刷面を形成して印刷面に特有の光沢感や触感を付与したり、更には、インキやニスの内部に香料や蓄光性物質を含んだマイクロカプセルを封入して印刷物に香りや発光性を付与したりすることができるためである。

一方、高速印刷や大量印刷に適したオフセット印刷（平版印刷）は、塗布膜厚が最大で２μｍ程度以下であることから、スクリーン印刷のような厚盛による特殊効果を付与することが難しい。しかし、印刷面に凹凸を形成することで、立体感、高級感、触感を表現する、いわゆる擬似エンボス印刷、或いは、マット加工印刷と称される印刷技術を用いることにより、オフセット印刷においても高付加価値印刷が可能となる。

この擬似エンボス印刷では、例えばシリコン等の特殊オーバープリントニス（特殊ＯＰニス、または、下地ＯＰニス、単に、ＯＰニスとも呼ぶことにする）、及び、光沢性のあるＵＶクリアニスといった２種類の性質が異なるニスを使用することにより、オフセット印刷を用いながら印刷面にエンボス調の凹凸をつくり、立体的に浮かび上がって見えたり、艶消し感を与えたりする（特許文献１，２参照）。

印刷工程としては、例えば、図９に示すように、印刷用のインキで印刷され乾燥させた印刷用紙１の印刷面に対して、通常インキ２ａ〜２ｃを転写した後、この上に、図９（ａ）に示すように、下地として特殊ＯＰニス３を転写してこれを乾燥させ、その上に，図９（ｂ）に示すように、ＵＶクリアニス４を転写する。この結果、図９（ｃ）に示すように、ＯＰニス３が転写された部分はＵＶクリアニス４を弾くため、弾かれたＵＶクリアニスが部分的に集まって肉厚になることから、ＯＰニス３を塗布した部分の上ではスポット的に擬似的なエンボス効果（表面の凹凸感）のある印刷面４ｂが得られる（図１０参照）。一方、ＯＰニス３が転写されない部分はＵＶクリアニス４が均一に塗布され平滑面４ａとなり光沢の高い表面となる。特殊ＯＰニス３やＵＶクリアニス４を転写するには、オフセット印刷を利用することができる。
特開２００３−１８１３７０号公報 特開平６−２７８３５４号公報

ところで、擬似エンボス印刷では、図１１に示すように、凹凸面（エンボス面）の突起の高さＨ（窪みの深さＤでもあり、凹凸の粗さに対応する）や凹凸面（エンボス面）の突起（窪み）のピッチＰ（以下、突起の高さＨやピッチＰを総称してエンボス度という）の違いや突起のつながり具合により、表面形状が変化し、そのエンボス加工の効果も異なるものになる。このような凹凸面の形状は、ＯＰニスがＵＶクリアニスをはじくハジキ度合い（ハジキ性）によって決まる。

このハジキ性が小さいほどは、図１２（ｂ）に示す状態から図１２（ａ）に示す状態へと、エンボス度は小さく、つまり、凹凸面の突起の高さＨは低く（窪みの深さＤは浅く）や突起（窪み）のピッチＰは小さくなり、このハジキ性が大きいほどは、図１２（ｂ）に示す状態から図１２（ｃ）に示す状態へと、エンボス度は大きく、つまり、凹凸面の突起の高さＨは高く（窪みの深さＤは深く）や突起（窪み）のピッチＰは大きくなる。

このエンボス度を左右するハジキ性は、様々な因子（パラメータ）により決まる。また、このハジキ性を左右する因子は、ＯＰニスを塗布しない部分でのＵＶクリアニスの平滑面（光沢面）の光沢性（光沢度）にも大きく影響する。
このようなハジキ性（エンボス度）や光沢性（光沢度）を左右する因子には、印刷用のインキとして用いるＵＶインキの種類、ＯＰニスの種類、ＯＰニスの膜厚、ＯＰニス画線率（模様）、ＯＰニス塗布後のＵＶ照射の出力、ＵＶ照射からＵＶクリアニス塗布までのインターバル時間、ＵＶクリアニスの種類、ＵＶクリアニスの膜厚、ＵＶクリアニスの塗布速度、ＵＶクリアニスの塗布印圧、ＵＶクリアニスの粘度（温度）、ＵＶクリアニスの塗布からＵＶ照射までのインターバル時間などが上げられる。

現状の擬似エンボス印刷の技術では、デザイナーや印刷オペレータといった印刷技術者が、このようにハジキ性（エンボス度）や光沢性（光沢度）を決定する多数の因子を操作しながら、トライ＆エラーを重ねていって各因子を設定している。
しかしながら、このようにトライ＆エラーを重ねていって各因子を設定するのでは、擬似エンボス印刷のために多くの時間とコストを要すことになる。もちろん、印刷技術者がノウハウを蓄積し熟練していけばこうした時間やコストを削減し得るが、かかる熟練した印刷技術者は容易に育つことはないため、時間とコストを要してしまうという課題はなかなか解消することはできない。

本発明はこのような課題に鑑み案出されたもので、擬似エンボス印刷において、熟練を要することなく、ハジキ性（エンボス度）や光沢性（光沢度）を適切に設定することができるようにした、オフセット印刷により擬似エンボス印刷を行うためのオフセット印刷機及びオフセット印刷方法を提供することを目的とする。

上記目的を達成するために、本発明のオフセット印刷機は、印刷用紙の印刷面上にオフセット印刷により特殊ＯＰニスを転写する印刷ユニットと、前記印刷面上に転写された前記特殊ＯＰニスを乾燥させる第１の乾燥装置と、前記印刷面上にクリアニスを塗布する塗布装置とを、前記印刷用紙の走行方向に沿って備え、凹凸形状を有する擬似的なエンボス加工を行なうオフセット印刷機であって、前記エンボス加工の凹凸形状パラメータを調整操作する入力装置と、前記凹凸形状パラメータの調整操作と前記印刷機の運転要素の運転状態変更との最適な対応関係が記録されたデータベースと、前記データベースに記録された前記対応関係に基づいて、前記入力装置を通じた前記凹凸形状パラメータの操作入力に対応して、前記凹凸形状に関与する前記印刷機の運転要素を自動で制御する制御装置と、をそなえていることを特徴としている（請求項１）。

前記特殊ＯＰニス及び前記クリアニスはＵＶ硬化性のニスであって、前記塗布装置は、前記印刷面上に塗布された前記クリアニスを乾燥させる第２の乾燥装置をそなえ、前記第１及び第２の乾燥装置は、ＵＶ照射式乾燥装置であることが好ましい（請求項２）。
前記特殊ＯＰニスは前記印刷面上に部分的に転写され、前記クリアニスは前記印刷面上全面に塗布され、前記印刷面上の前記特殊ＯＰニスが転写されず前記クリアニスのみ塗布された部分の表面は、光沢面に形成されるように構成され、前記調整操作装置は前記光沢面にかかる平滑性パラメータの調整操作も可能であって、前記データベースには、前記凹凸形状パラメータ及び平滑性パラメータの調整操作と、前記印刷機の運転要素の運転状態変更との最適な対応関係が記録され、前記制御装置は、前記データベースに記録された前記対応関係に基づいて、前記調整操作装置を通じた操作入力に対応して、前記凹凸形状及び前記光沢面に関与する前記印刷機の運転要素を自動で制御することが好ましい（請求項３）。

前記印刷機の運転要素には、印刷機運転速度及びクリアニスの塗布膜厚が含まれていることが好ましい（請求項４）。
前記入力装置は、印刷前に、前記エンボス加工の凹凸形状を選択設定することが可能に構成され、前記データベースには、前記凹凸形状と、前記印刷機の運転要素の運転状態との最適な対応関係が記録され、前記制御装置は、前記データベースに記録された前記対応関係に基づいて、前記入力装置を通じた選択設定に対応して、前記凹凸形状に関連する前記印刷機の運転要素を自動でプリセットすることが好ましい（請求項５）。

前記印刷ユニットの直上流には、プロセスインキにより通常印刷を行なう印刷ユニットが備えられていることが好ましい（請求項６）。
本発明のもう一つのオフセット印刷機は、印刷用紙の印刷面上にオフセット印刷により特殊ＯＰニスを転写する印刷ユニットと、前記印刷面上に転写された前記特殊ＯＰニスを乾燥させる第１の乾燥装置と、前記印刷面上にクリアニスを塗布する塗布装置とを、前記印刷用紙の走行方向に沿って備え、凹凸形状を有する擬似的なエンボス加工を行なうオフセット印刷機であって、印刷前に、前記エンボス加工の凹凸形状を選択設定する入力装置と、前記凹凸形状と前記印刷機の運転要素の運転状態との最適な対応関係が記録されたデータベースと、前記データベースに記録された前記対応関係に基づいて、前記入力装置を通じて設定入力された前記凹凸形状に対応して、前記凹凸形状に関与する前記印刷機の運転要素を自動でプリセットする制御装置と、をそなえていることを特徴としている（請求項７）。

前記塗布装置の下流に、エンボス加工の凹凸形状を検出する検出装置をそなえ、前記データベースには、前記凹凸形状の変更と前記印刷機の運転要素の運転状態の変更との対応関係が記録され、前記制御装置は、前記データベースに記録された前記対応関係に基づいて、前記検出装置の検出した凹凸形状が、前記入力装置を通じて設定入力された凹凸形状に接近するように、前記凹凸形状に関与する前記印刷機の運転要素を自動で制御することが好ましい（請求項８）。

また、本発明のオフセット印刷方法は、オフセット印刷機を用い、印刷用紙の印刷面上にオフセット印刷により特殊ＯＰニスを転写し該特殊ＯＰニスを乾燥させ、その上にクリアニスを塗布することにより、凹凸形状を有する擬似的なエンボス加工を行なうオフセット印刷方法であって、印刷中に印刷結果を参照しながら、前記エンボス加工の凹凸形状パラメータを調整操作する調整操作ステップと、データベースに記録された前記凹凸形状パラメータの調整操作と前記印刷機の運転要素の運転状態変更との最適な対応関係に基づいて、前記入力ステップを通じた前記凹凸形状パラメータの操作入力に対応して、前記凹凸形状に関与する前記印刷機の運転要素を自動で制御する自動制御ステップと、をそなえていることを特徴としている（請求項９）。

前記特殊ＯＰニス及び前記クリアニスはＵＶ硬化性のニスであって、前記クリアニスを塗布した後、前記印刷面上に塗布された前記クリアニスを乾燥させる工程を備え、前記特殊ＯＰニスの乾燥工程及び前記クリアニスの乾燥工程では、ＵＶ照射によって乾燥を行なうことが好ましい（請求項１０）。
前記特殊ＯＰニスを前記印刷面上に部分的に転写し、前記クリアニスを前記印刷面上全面に塗布することにより、前記印刷面上の前記特殊ＯＰニスが転写されず前記クリアニスのみ塗布された部分の表面は、光沢面に形成し、前記調整操作ステップでは前記光沢面にかかる平滑性パラメータをも調整操作すると共に、前記データベースには、前記凹凸形状パラメータ及び平滑性パラメータの調整操作と、前記印刷機の運転要素の運転状態変更との最適な対応関係が記録され、前記自動制御ステップでは、前記データベースに記録された前記対応関係に基づいて、前記調整操作ステップによる調整操作に応じて、前記凹凸形状及び前記光沢面に関与する前記印刷機の運転要素を自動で制御することが好ましい（請求項１１）。

前記印刷機の運転要素には、印刷機運転速度及びクリアニスの塗布膜厚が含まれていることが好ましい（請求項１２）。
さらに、前記データベースには、前記エンボス加工の凹凸形状と、前記印刷機の運転要素の運転状態との最適な対応関係が記録され、印刷前に、前記凹凸形状を選択設定する事前設定ステップと、前記データベースに記録された前記対応関係に基づいて、前記事前設定ステップによる選択設定に対応して、前記凹凸形状に関連する前記印刷機の運転要素を自動でプリセットするプリセットステップと、をさらにそなえていることが好ましい（請求項１３）。

前記印刷用紙の印刷面上に、前記特殊ＯＰニスを転写する直前に、プロセスインキにより通常印刷を行なうことが好ましい（請求項１４）。
本発明のもう一つのオフセット印刷方法は、オフセット印刷機を用い、印刷用紙の印刷面上にオフセット印刷により特殊ＯＰニスを転写し該特殊ＯＰニスを乾燥させ、その上にクリアニスを塗布することにより、凹凸形状を有する擬似的なエンボス加工を行なうオフセット印刷方法であって、印刷前に、前記エンボス加工の凹凸形状を選択設定する選択設定ステップと、データベースに記録された前記凹凸形状と前記印刷機の運転要素の運転状態との最適な対応関係に基づいて、前記入力ステップを通じて選択設定された前記凹凸形状に対応して、前記凹凸形状に関与する前記印刷機の運転要素を自動でプリセットするプリセットステップと、をそなえていることを特徴としている（請求項１５）。

前記クリアニスの塗布後に、エンボス加工の凹凸形状を検出する検出装置をそなえ、前記データベースには、前記凹凸形状の変更と前記印刷機の運転要素の運転状態の変更との対応関係が記録され、印刷開始後に、前記データベースに記録された前記対応関係に基づいて、前記検出装置の検出した凹凸形状が、前記設定入力された凹凸形状に接近するように、前記凹凸形状に関与する前記印刷機の運転要素を自動で制御する自動制御ステップを備えていることが好ましい（請求項１６）。

本発明のオフセット印刷機（請求項１）及びオフセット印刷方法（請求項９）によれば、印刷面上にオフセット印刷により特殊ＯＰニスを転写し、転写された特殊ＯＰニスを乾燥させ、この上にクリアニスを塗布して、凹凸形状を有する擬似的なエンボス加工を行なうが、この印刷時に、エンボス加工の凹凸形状パラメータを調整操作すると、データベースに記録された凹凸形状パラメータの調整操作と前記刷機の運転要素の運転状態変更との最適な対応関係に基づいて、凹凸形状パラメータの操作入力に対応して、凹凸形状に関与する印刷機の運転要素を自動で制御する。したがって、熟練を要すことなく、凹凸形状パラメータを所望の状態にするよう印刷機の運転要素の運転状態を制御することができ、所望の擬似エンボス印刷を容易に実施することが可能になる。

特殊ＯＰニス及びクリアニスはＵＶ硬化性のニスであって、特殊ＯＰニスの乾燥及びクリアニスの乾燥をＵＶ照射によって乾燥を行なえば、速やかな乾燥を実現でき、印刷機の運刷速度を高めて効率良い印刷が可能になる（請求項２，１０）。
特殊ＯＰニスを印刷面上に部分的に転写し、クリアニスを印刷面上全面に塗布することにより、印刷面上の特殊ＯＰニスが転写されずクリアニスのみ塗布された部分の表面は光沢面となるように構成され、データベースには、凹凸形状パラメータ及び平滑性パラメータの調整操作と、印刷機の運転要素の運転状態変更との最適な対応関係が記録され、印刷時に、この光沢面にかかる平滑性パラメータをも調整操作し、これらの調整操作に応じて、凹凸形状及び光沢面に関与する印刷機の運転要素を自動で制御することにより、熟練を要すことなく、凹凸形状パラメータ及び平滑性パラメータを所望の状態にするよう印刷機の運転要素の運転状態を制御することができ、所望の擬似エンボス印刷と光沢面印刷とを容易に実施することが可能になる（請求項３，１１）。

印刷機の運転要素に、印刷機運転速度及びクリアニスの塗布膜厚を含めることにより、所望の擬似エンボス印刷や光沢面印刷を容易に実施することが可能になる（請求項４，１２）。
さらに、印刷前に、エンボス加工の凹凸形状を事前に選択設定、設定した凹凸形状に関連する印刷機の運転要素を自動でプリセットしておけば、印刷開始時から所望の擬似エンボス印刷や光沢面印刷を容易に実施することが可能になる（請求項５，１３）。

印刷用紙の印刷面上に、特殊ＯＰニスを転写する直前に、プロセスインキにより通常印刷を行なえば、通常印刷と擬似エンボス印刷と光沢面印刷とを連続的に効率良く行なうことができる（請求項６，１４）。
本発明のもう一つのオフセット印刷機（請求項７）及びオフセット印刷方法（請求項１５）によれば、印刷面上にオフセット印刷により特殊ＯＰニスを転写し、転写された特殊ＯＰニスを乾燥させ、この上にクリアニスを塗布して、凹凸形状を有する擬似的なエンボス加工を行なうが、この印刷前に、エンボス加工の凹凸形状を選択設定し、データベースに記録された凹凸形状と印刷機の運転要素の運転状態との最適な対応関係に基づいて、選択設定された凹凸形状に対応して、印刷機の運転要素を自動でプリセットするので、印刷開始時から所望の擬似エンボス印刷や光沢面印刷を容易に実施することが可能になる（請求項７，１５）。

クリアニスの塗布後に、エンボス加工の凹凸形状を検出する検出装置をそなえ、データベースに、凹凸形状の変更と印刷機の運転要素の運転状態の変更との対応関係が記録されており、印刷開始後に、前記データベースに記録された対応関係に基づいて、検出した凹凸形状が、設定入力された凹凸形状に接近するように、印刷機の運転要素を自動で制御することにより、熟練を要すことなく、所望の凹凸形状の擬似エンボス印刷を容易にしかも確実に実施することが可能になる（請求項８，１６）。

以下、図面により、本発明の実施の形態について説明する。
［第１実施形態］
図１〜図７は本発明の第１実施形態に係るオフセット印刷機及びオフセット印刷方法を示すもので、図１はそのオフセット印刷機を示す模式的構成図、図２はそのクリアニス塗布装置を示す模式的構成図、図３はその変形例にかかるクリアニス塗布装置を示す模式的構成図、図４はその入力装置を説明する模式図、図５はそのオフセット印刷方法を説明するフローチャート、図６，図７はそのデータベースに記録された対応関係をするグラフである。

まず、本実施形態にかかるオフセット印刷機について説明する。
図１に示すように、このオフセット印刷機は、図示しない給紙部と、通常のプロセスインキ２によりオフセット印刷する印刷部１０と、印刷用紙１の印刷面上にオフセット印刷により特殊ＯＰニス（オーバープリントニス）３を転写する印刷ユニット２０と、印刷面上にクリアニス４を塗布する塗布装置３０と、排紙部４０と、を備えて構成されている。なお、特殊ＯＰニス３は上塗りされるクリアニスをはじく性質がある透明ニスであって、例えば、シリコン樹脂が内蔵される。

印刷部１０の最下流部、印刷ユニット２０の下流部、及び、塗布装置３０の下流部には、印刷面上のインキ２，特殊ＯＰニス３，クリアニス４をそれぞれ乾燥させる乾燥装置５１，５２，５３が装備されている。本実施形態にかかるインキ２，特殊ＯＰニス３，クリアニス４は、何れもＵＶ（紫外線）硬化性のＵＶインキ，ＵＶＯＰニス，ＵＶクリアニスである。

また、ここでは、印刷部（通常印刷部）１０は、ｃ（シアン，藍色），ｍ（マゼンタ，深紅色），ｙ（イエロー，黄色），ｋ（ブラック，黒）の４色のプロセスインキをそれぞれ用いる印刷ユニット１１，１２，１３，１４を備えてカラー印刷を行なえるように構成される。

各印刷ユニット１１，１２，１３，１４及び印刷ユニット２０には、版胴１１ａ，１２ａ，１３ａ，１４ａ，２１ａ及びブランケット胴１１ｂ，１２ｂ，１３ｂ，１４ｂ，２１ｂが備えられ、版胴１１ａ，１２ａ，１３ａ，１４ａ，２１ａには図示しないインキ供給系統からそれぞれのインキ２又は特殊ＯＰニス３が供給され、それぞれに備えられた刷版の絵柄パターンに応じたインキ２又は特殊ＯＰニス３が各ブランケット胴１１ｂ，１２ｂ，１３ｂ，１４ｂ，２１ｂに転写されるようになっている。

また、各ブランケット胴１１ｂ，１２ｂ，１３ｂ，１４ｂ，２１ｂに対向して、圧胴１１ｃ，１２ｃ，１３ｃ，１４ｃ，２１ｃが装備され、印刷対象のシート（印刷用シート）が、各ブランケット胴１１ｂ，１２ｂ，１３ｂ，１４ｂ，２１ｂと各圧胴１１ｃ，１２ｃ，１３ｃ，１４ｃ，２１ｃとの間を走行しながら、各ブランケット胴１１ｂ，１２ｂ，１３ｂ，１４ｂ，２１ｂから刷版の絵柄パターンに応じたそれぞれのインキを転写されるようになっている。

また、各圧胴１１ｃ，１２ｃ，１３ｃ，１４ｃ，２１ｃの相互間には、中間胴１５ａ〜１５ｇ，１６が介装され、印刷用紙１の印刷面を所要方向に向けながら移送するようになっている。
また、印刷面上にクリアニス４を塗布する塗布装置３０には、図２（ａ）に示すようなチャンバコータ又は図３（ａ）に示すようなロールコータを適用することができる。

チャンバコータの場合、図２（ｂ）に示すように、周面に溝３１ｄを有する第１ロール３１ａに、図２（ａ）に示すように、チャンバ式供給装置３３からクリアニス４を供給し、第１ロール３１ａ周面のクリアニスを第２ロール３１ｂ周面に転写し、印刷面に塗布するようになっている。印刷面上に塗布されるクリアニス４の膜厚ｔは、クリアニス供給装置から第１ロール３１ａ周面の溝３１ｄ内へのクリアニス４の供給量と、第２ロール３１ｂと印刷用紙１を介して第２ロール３１ｂに対向する厚胴３１ｃとの距離（つまり、印刷用紙１の印刷面と第２ロール３１ｂ周面との距離）とを制御することにより調整することができる（この説明は創作したものです）。

ロールコータの場合、図３（ａ），（ｂ）に示すように、クリアニス４を収容する容器３４から、第１ロール３２ａ周面にクリアニスを転写し、さらに、第２ロール３２ｂを介して、第３ロール３２ｃ周面にクリアニスを転写し、印刷面に塗布するようになっている。印刷面上に塗布されるクリアニス４の膜厚ｔは、第１ロール３２ａの回転数を制御することにより調整することができる。

さらに、特殊ＯＰニス３上に形成されるエンボス加工の凹凸形状パラメータとしての凹凸面（エンボス面）の突起の高さＨ（窪みの深さＤ、凹凸の粗さであり、以下、エンボス面粗さという）や凹凸面（エンボス面）の突起（窪み）のピッチ（以下、エンボス面ピッチという）Ｐ等のエンボス度と、特殊ＯＰニス３が塗布されないクリアニス４で形成される光沢面（平滑面）にかかる平滑性パラメータとしての光沢度（平滑度）とを調整操作するための入力装置６１、及び、凹凸形状や光沢面にかかる印刷機の運転要素を自動で制御する制御装置６０をそなえている。

なお、入力装置６１は、印刷前に、エンボス加工による凹凸形状をエンボス見本を参照して選択設定することも可能に構成される。ここでは、印刷機の運転を管理する制御端末のディスプレイ（図示略）にタッチパネルとして入力装置６１が設けられておる。つまり、印刷前モードとして、図４（ａ）に示すように、エンボス加工による凹凸形状（エンボスパターン）をいずれの段階に設定するかを選択しうるようにタッチパネルを構成している。ここでは、１〜５の５段階からエンボスパターンを選択設定できるようになっており、１〜５の順に凹凸形状が大きく、つまり、エンボス面粗さは粗く（突起の高さＨは高く）、エンボス面ピッチＰは大きくなっている。

また、印刷中モードとして、図４（ｂ）に示すように、凹凸形状パラメータとしてのエンボス面粗さ（突起の高さＨ）及びエンボス面ピッチＰと、光沢面の光沢度とを、変更操作できるようにタッチパネルを構成している。つまり、エンボス面粗さを大とすれば、エンボス面は粗く（突起の高さＨは高く）変更設定され、エンボス面粗さを小とすれば、エンボス面は細かく（突起の高さＨは低く）変更設定される。エンボス面ピッチＰを大とすれば、突起（窪み）のピッチは大きく変更設定され、エンボス面ピッチＰを小とすれば、突起（窪み）のピッチは小さく設定変更される。また、光沢度を大とすれば、光沢がより強くなるように変更設定され、光沢度を小とすれば、光沢がより弱くなるように変更設定される。

また、制御装置６０では、印刷機の運転要素として印刷速度及びクリアニス膜厚の状態を制御するようになっており、制御装置６０には、データベース６２が接続されている。このデータベース６２には、凹凸形状（エンボスパターン）と印刷機の運転要素の運転状態との最適な対応関係と、凹凸形状パラメータ及び平滑性パラメータの調整操作と、印刷機の運転要素の運転状態変更との最適な対応関係が記録されている。

つまり、データベース６２には、凹凸形状（エンボスパターン）と印刷速度及びクリアニス膜厚との最適な対応関係が記録されると共に、凹凸形状パラメータ［エンボス面粗さ（突起の高さＨ）及びエンボス面ピッチＰ］と及び平滑性パラメータ［光沢度］の調整操作と印刷速度及びクリアニス膜厚の変更量との最適な対応関係が記録されている。
ここで、データベース６２に記録された対応関係について説明する。

凹凸形状（エンボスパターン）や平滑性を決める要因には、表１に示すように、印刷用のインキとして用いるＵＶインキの種類、ＯＰニスの種類、ＯＰニスの膜厚、ＯＰニス画線率（模様）、ＯＰニス塗布後のＵＶ照射の出力、ＵＶ照射からＵＶクリアニス塗布までのインターバル時間、ＵＶクリアニスの種類、ＵＶクリアニスの膜厚、ＵＶクリアニスの塗布速度、ＵＶクリアニスの塗布印圧、ＵＶクリアニスの粘度（温度）、ＵＶクリアニスの塗布からＵＶ照射までのインターバル時間などが上げられる。

ＵＶインキの種類によって光沢面の光沢性（平滑性）が変化し、例えばハイブリッドインキであれば光沢性が小（低く）になり、ＵＶインキであれば光沢性が大（高く）になる。
また、ＯＰニスの種類によってハジキ性（エンボス度）が変化し、例えばＯＰニスをシリコン添加量の小さいものにすればハジキ性（エンボス度）が低下し、ＯＰニスをシリコン添加量の大きいものにすればハジキ性（エンボス度）が上昇する。

ＯＰニスの膜厚によってもハジキ性（エンボス度）が変化し、例えばＯＰニスの膜厚を小さくすればハジキ性（エンボス度）が低下し、ＯＰニスの膜厚を大きくすればハジキ性（エンボス度）が上昇する。
ＯＰニス画線率（模様）の場合は、画線率を低くすればハジキ性（エンボス度）が低下し、画線率を高くすればハジキ性（エンボス度）が上昇する。

ＯＰニス塗布後のＵＶ照射の出力の場合、ＵＶ照射の出力を小さくすればハジキ性（エンボス度）が低下し光沢性が小（低く）になり、ＵＶ照射の出力を高くすればハジキ性（エンボス度）が上昇し光沢性が大（高く）になる。
ＵＶ照射からＵＶクリアニス塗布までのインターバル時間の場合、インターバル時間を短くすればハジキ性（エンボス度）が低下し、インターバル時間を長くすればハジキ性（エンボス度）が上昇する。

ＵＶクリアニスの種類については、汎用品はハジキ性（エンボス度）が低下し、専用品はハジキ性（エンボス度）が上昇する。また、ハイブリッドインキであれば光沢性が小（低く）になり、ＵＶインキであれば光沢性が大（高く）になる。
ＵＶクリアニスの膜厚については、膜厚が小さいとハジキ性（エンボス度）が低下し光沢性が小（低く）になり、膜厚が大きいとハジキ性（エンボス度）が上昇し光沢性が大（高く）になる。

ＵＶクリアニスの塗布速度については、塗布速度が低いとハジキ性（エンボス度）が低下し光沢性が大（高く）になり、塗布速度が高いとハジキ性（エンボス度）が向上し光沢性が小（低く）になる。
ＵＶクリアニスの塗布印圧については、塗布印圧が低いとハジキ性（エンボス度）が低下しり、塗布印圧が高いとハジキ性（エンボス度）が向上する。

ＵＶクリアニスの粘度（温度）については、粘度が大きい（温度が低い）とハジキ性（エンボス度）が低下し光沢性が大（高く）になり、粘度が小さい（温度が高い）とハジキ性（エンボス度）が上昇し光沢性が小（低く）になる。
また、ＵＶクリアニスの塗布からＵＶ照射までのインターバル時間については、時間が短いとハジキ性（エンボス度）が低下し光沢性が小（低く）になり、時間が長いとハジキ性（エンボス度）が上昇し光沢性が大（高く）になる。

このような因子のうち、ＵＶインキの種類、ＯＰニスの種類、ＯＰニス画線率（模様）、ＵＶクリアニスの種類は、予め設定されるため、リモートコントロールの対象とならないため、リモートコントロールの対象となりうるのは、ＯＰニスの膜厚、ＯＰニス塗布後のＵＶ照射の出力、ＵＶ照射からＵＶクリアニス塗布までのインターバル時間、ＵＶクリアニスの膜厚、ＵＶクリアニスの塗布速度、ＵＶクリアニスの塗布印圧、ＵＶクリアニスの粘度（温度）、ＵＶクリアニスの塗布からＵＶ照射までのインターバル時間などが上げられる。

さらに、本実施形態の場合、ＯＰニスをオフセット印刷で行なうため、ＯＰニスの膜厚調整は十分に行なえないので、リモートコントロールの対象から除外し、ＯＰニス塗布後のＵＶ照射の出力についても、簡便なＵＶ照射出力固定式の用いる場合を想定し、リモートコントロールの対象から除外し、ＵＶクリアニスの塗布印圧についても、簡便な塗布印圧一定のものを用いる場合を想定し、リモートコントロールの対象から除外し、ＵＶクリアニスの粘度（温度）も温度を適温に設定することを考慮して、リモートコントロールの対象から除外している。

残った因子のうち、ＵＶ照射からＵＶクリアニス塗布までのインターバル時間、ＵＶクリアニスの塗布速度、ＵＶクリアニスの塗布からＵＶ照射までのインターバル時間については、印刷速度に依存するので、印刷機の運転要素として印刷速度に着目し、もうひとつ調整可能な因子としてクリアニス膜厚に着目する。
印刷速度に対する、エンボス面のピッチＰ，エンボス面の粗さ，及び光沢面の光沢度（光沢値）は、図６（ａ）〜（ｃ）に示すような特性となり、クリアニス膜厚に対する、エンボス面のピッチＰ，エンボス面の粗さ，及び光沢面の光沢度（光沢値）は、図７（ａ）〜（ｃ）に示すような特性となる。これらの関係は、ＵＶインキの種類、ＯＰニスの種類、ＯＰニス画線率（模様）、ＵＶクリアニスの種類、ＯＰニスの膜厚、ＯＰニス塗布後のＵＶ照射の出力、ＵＶクリアニスの塗布印圧、ＵＶクリアニスの粘度（温度）毎に、データベース６２に記録されている。

したがって、印刷前に、入力装置６１を通じてエンボス加工による凹凸形状（エンボスパターン）が選択設定されたら、データベース６２のデータに基づいて、このエンボスパターンに対応した印刷速度及びクリアニス膜厚を選択できるようになっている。また、印刷中に、入力装置６１を通じて、凹凸形状パラメータとしてのエンボス面粗さ（突起の高さＨ），エンボス面ピッチＰ，光沢面の光沢度が調整操作されたら、この調整量に応じて、データベース６２のデータに基づいて、調整操作に対応した印刷速度及びクリアニス膜厚に変更できるようになっている。

本発明の第１実施形態にかかるオフセット印刷機は上述のように構成されているので、図５に示すような手順（オフセット印刷方法）で印刷を実施することができる。
まず、印刷前に、プリセットを行なう場合には、印刷オペレータがエンボス見本から印刷したいエンボスパターンを選定し（ステップＳ１０）、コントロールパネル（タッチパネル）［図４（ａ）参照］上でエンボスパターンを選択操作する（ステップＳ２０）。制御装置６０は、選択されたエンボスパターンに応じて、印刷条件（印刷速度及びクリアニス膜厚）をプリセットする（ステップＳ３０）。

この後、印刷を開始すると（ステップＳ４０）、印刷サンプルを採取して（ステップＳ５０）、エンボス，光沢の状態がＯＫかを判定する（ステップＳ６０）。エンボス，光沢の状態がＯＫならそのままの条件で印刷を続行し（ステップＳ７０）、所定数が印刷されたら刷了となるが、エンボス，光沢の状態がＯＫでないコントロールパネル（タッチパネル）［図４（ｂ）参照］を操作して、エンボス面粗さ，エンボス面ピッチＰ，光沢面の光沢度を調整操作する（ステップＳ８０）。制御装置６０は、調整操作に応じて、印刷条件（印刷速度及びクリアニス膜厚）を変更する（ステップＳ９０）。

したがって、熟練を要すことなく、エンボス面粗さ，エンボス面ピッチＰ，光沢面の光沢度を所望の状態にして、所望の擬似エンボス印刷を容易に実施することが可能になる。
また、プロセスインキ２，特殊ＯＰ３及びクリアニス４をＵＶ硬化性として、これらの乾燥をＵＶ照射によって行なうことで、速やかな乾燥を実現でき、印刷生産性を向上することが可能になる。

さらに、印刷前に、エンボス加工の凹凸形状を事前に選択設定、設定した凹凸形状に関連する印刷機の運転条件を自動でプリセットしておくため、印刷開始時から所望の擬似エンボス印刷や光沢面印刷を容易に実施することが可能になる。
また、印刷用紙の印刷面上に、特殊ＯＰニスを転写する直前に、プロセスインキにより通常印刷を行なうので、通常印刷と擬似エンボス印刷と光沢面印刷とを連続的に効率良く行なうことができる。

［第２実施形態］
次に、本発明の第２実施形態にかかるオフセット印刷機及びオフセット印刷方法を説明する。
本実施形態にかかるオフセット印刷機は、図８に示すように、第１実施形態のものに、エンボス加工された印刷面の凹凸形状（エンボス）及び光沢面を検出する検出装置としてカメラ６３を備え、制御装置６０は、第１実施形態の制御機能に加えて、データベース６２に記録された対応関係に基づいて、カメラ６３の検出した凹凸形状及び光沢面が、入力装置６１を通じて設定入力された凹凸形状及び／又は光沢面に接近するように、印刷機の運転条件（印刷速度及びクリアニス膜厚）を自動で制御するようになっている。

本実施形態によれば、予め入力装置６１を通じて凹凸形状及び／又は光沢面を設定入力すれば、印刷機の運転条件（印刷速度及びクリアニス膜厚）をプリセットし、印刷後は、設定入力した凹凸形状及び／又は光沢面となるように自動的に印刷機の運転条件（印刷速度及びクリアニス膜厚）をフィードバック制御するので、熟練を要すことなく、より簡便に、所望の擬似エンボス印刷を容易に実施することが可能になる。

［その他］
以上、本発明の各実施形態について説明したが、本発明はかかる実施形態に限定されることなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更して実施しうるものである。
例えば、図５において、ステップＳ１０〜Ｓ３０のプリセット制御を省略し、ステップＳ４０〜Ｓ８０の制御のみ実施することもできる。

本発明の第１実施形態にかかるオフセット印刷機を示す模式的構成図である。 本発明の第１実施形態にかかるクリアニス塗布装置を示す模式的構成図であって、（ａ）は全体構成図、（ｂ）は要部構成図である。 本発明の第１実施形態の変形例にかかるクリアニス塗布装置を示す模式的構成図であって、（ａ）は全体構成図、（ｂ）は要部構成図である。 本発明の一実施形態にかかる入力装置を説明する模式図であって、（ａ）はプリセット用の入力スイッチを、（ｂ）は印刷時用の入力スイッチを、それぞれ示す。 本発明の第１実施形態にかかるオフセット印刷方法を説明するフローチャートである。 本発明の第１実施形態にかかるデータベースに記録された対応関係をするグラフであって、（ａ）は印刷速度とエンボス面のピッチとの関係を示し、（ｂ）は印刷速度とエンボス面の粗さとの関係を示し、（ｃ）は印刷速度と光沢面の平滑値との関係を示す。 本発明の第１実施形態にかかるデータベースに記録された対応関係をするグラフであって、（ａ）はクリアニス膜厚とエンボス面のピッチとの関係を示し、（ｂ）はクリアニス膜厚とエンボス面の粗さとの関係を示し、（ｃ）はクリアニス膜厚と光沢面の平滑値との関係を示す。 本発明の第２実施形態にかかるオフセット印刷機を示す模式的構成図である。 擬似エンボス印刷の工程を（ａ），（ｂ），（ｃ）の順に説明する図である。 擬似エンボス印刷による印刷面を示す図面代用写真である。 擬似エンボス印刷による印刷面の模式的断面を示す図である。 擬似エンボス印刷による印刷面の状態の種類を示す図面代用写真であって、（ａ），（ｂ），（ｃ）の順にエンボス面のピッチが大きくなっている。

符号の説明

１ 印刷用紙
２ プロセスインキ
３ 特殊ＯＰニス
４ クリアニス
１０ 印刷部
１１，１２，１３，１４ 印刷ユニット
１１ａ，１２ａ，１３ａ，１４ａ，２１ａ 版胴
１１ｂ，１２ｂ，１３ｂ，１４ｂ，２１ｂ ブランケット胴
１１ｃ，１２ｃ，１３ｃ，１４ｃ，２１ｃ 圧胴
１５ａ〜１５ｇ，１６ 中間胴
２０ 印刷ユニット
３０ 塗布装置
３１ｄ 溝
３３ クリアニス供給装置
３４ 容器
４０ 排紙部
５１，５２，５３ 乾燥装置
６０ 制御装置
６１ 入力装置
６２ データベース
６３ 検出装置としてカメラ

Claims (16)

1. 印刷用紙の印刷面上にオフセット印刷により特殊ＯＰニスを転写する印刷ユニットと、前記印刷面上に転写された前記特殊ＯＰニスを乾燥させる第１の乾燥装置と、前記印刷面上にクリアニスを塗布する塗布装置とを、前記印刷用紙の走行方向に沿って備え、凹凸形状を有する擬似的なエンボス加工を行なうオフセット印刷機であって、
   前記エンボス加工の凹凸形状パラメータを調整操作する入力装置と、
   前記凹凸形状パラメータの調整操作と前記印刷機の運転要素の運転状態変更との最適な対応関係が記録されたデータベースと、
   前記データベースに記録された前記対応関係に基づいて、前記入力装置を通じた前記凹凸形状パラメータの操作入力に対応して、前記凹凸形状に関与する前記印刷機の運転要素を自動で制御する制御装置と、をそなえている
   ことを特徴とする、オフセット印刷機。
2. 前記特殊ＯＰニス及び前記クリアニスはＵＶ硬化性のニスであって、
   前記塗布装置は、前記印刷面上に塗布された前記クリアニスを乾燥させる第２の乾燥装置をそなえ、
   前記第１及び第２の乾燥装置は、ＵＶ照射式乾燥装置である
   ことを特徴とする、請求項１記載のオフセット印刷機。
3. 前記特殊ＯＰニスは前記印刷面上に部分的に転写され、前記クリアニスは前記印刷面上全面に塗布され、前記印刷面上の前記特殊ＯＰニスが転写されず前記クリアニスのみ塗布された部分の表面は、光沢面に形成されるように構成され、
   前記調整操作装置は前記光沢面にかかる平滑性パラメータの調整操作も可能であって、
   前記データベースには、前記凹凸形状パラメータ及び平滑性パラメータの調整操作と、前記印刷機の運転要素の運転状態変更との最適な対応関係が記録され、
   前記制御装置は、前記データベースに記録された前記対応関係に基づいて、前記調整操作装置を通じた操作入力に対応して、前記凹凸形状及び前記光沢面に関与する前記印刷機の運転要素を自動で制御する
   ことを特徴とする、請求項１又は２記載のオフセット印刷機。
4. 前記印刷機の運転要素には、印刷機運転速度及びクリアニスの塗布膜厚が含まれている
   ことを特徴とする、請求項１〜３の何れか１項に記載のオフセット印刷機。
5. 前記入力装置は、印刷前に、前記エンボス加工の凹凸形状を選択設定することが可能に構成され、
   前記データベースには、前記凹凸形状と、前記印刷機の運転要素の運転状態との最適な対応関係が記録され、
   前記制御装置は、前記データベースに記録された前記対応関係に基づいて、前記入力装置を通じた選択設定に対応して、前記凹凸形状に関連する前記印刷機の運転要素を自動でプリセットする
   ことを特徴とする、請求項１〜４の何れか１項に記載のオフセット印刷機。
6. 前記印刷ユニットの直上流には、プロセスインキにより通常印刷を行なう印刷ユニットが備えられている
   ことを特徴とする、請求項１〜５の何れか１項に記載のオフセット印刷機。
7. 印刷用紙の印刷面上にオフセット印刷により特殊ＯＰニスを転写する印刷ユニットと、前記印刷面上に転写された前記特殊ＯＰニスを乾燥させる第１の乾燥装置と、前記印刷面上にクリアニスを塗布する塗布装置とを、前記印刷用紙の走行方向に沿って備え、凹凸形状を有する擬似的なエンボス加工を行なうオフセット印刷機であって、
   印刷前に、前記エンボス加工の凹凸形状を選択設定する入力装置と、
   前記凹凸形状と前記印刷機の運転要素の運転状態との最適な対応関係が記録されたデータベースと、
   前記データベースに記録された前記対応関係に基づいて、前記入力装置を通じて設定入力された前記凹凸形状に対応して、前記凹凸形状に関与する前記印刷機の運転要素を自動でプリセットする制御装置と、をそなえている
   ことを特徴とする、オフセット印刷機。
8. 前記塗布装置の下流に、エンボス加工の凹凸形状を検出する検出装置をそなえ、
   前記データベースには、前記凹凸形状の変更と前記印刷機の運転要素の運転状態の変更との対応関係が記録され、
   前記制御装置は、前記データベースに記録された前記対応関係に基づいて、前記検出装置の検出した凹凸形状が、前記入力装置を通じて設定入力された凹凸形状に接近するように、前記凹凸形状に関与する前記印刷機の運転要素を自動で制御する
   ことを特徴とする、請求項７記載のオフセット印刷機。
9. オフセット印刷機を用い、印刷用紙の印刷面上にオフセット印刷により特殊ＯＰニスを転写し該特殊ＯＰニスを乾燥させ、その上にクリアニスを塗布することにより、凹凸形状を有する擬似的なエンボス加工を行なうオフセット印刷方法であって、
   印刷中に印刷結果を参照しながら、前記エンボス加工の凹凸形状パラメータを調整操作する調整操作ステップと、
   データベースに記録された前記凹凸形状パラメータの調整操作と前記印刷機の運転要素の運転状態変更との最適な対応関係に基づいて、前記入力ステップを通じた前記凹凸形状パラメータの操作入力に対応して、前記凹凸形状に関与する前記印刷機の運転要素を自動で制御する自動制御ステップと、をそなえている
   ことを特徴とする、オフセット印刷方法。
10. 前記特殊ＯＰニス及び前記クリアニスはＵＶ硬化性のニスであって、
    前記クリアニスを塗布した後、前記印刷面上に塗布された前記クリアニスを乾燥させる工程を備え、
    前記特殊ＯＰニスの乾燥工程及び前記クリアニスの乾燥工程では、ＵＶ照射によって乾燥を行なう
    ことを特徴とする、請求項９記載のオフセット印刷機。
11. 前記特殊ＯＰニスを前記印刷面上に部分的に転写し、前記クリアニスを前記印刷面上全面に塗布することにより、前記印刷面上の前記特殊ＯＰニスが転写されず前記クリアニスのみ塗布された部分の表面は、光沢面に形成し、
    前記調整操作ステップでは前記光沢面にかかる平滑性パラメータをも調整操作すると共に、
    前記データベースには、前記凹凸形状パラメータ及び平滑性パラメータの調整操作と、前記印刷機の運転要素の運転状態変更との最適な対応関係が記録され、
    前記自動制御ステップでは、前記データベースに記録された前記対応関係に基づいて、前記調整操作ステップによる調整操作に応じて、前記凹凸形状及び前記光沢面に関与する前記印刷機の運転要素を自動で制御する
    ことを特徴とする、請求項９又は１０記載のオフセット印刷方法。
12. 前記印刷機の運転要素には、印刷機運転速度及びクリアニスの塗布膜厚が含まれている
    ことを特徴とする、請求項９〜１１の何れか１項に記載のオフセット印刷方法。
13. 前記データベースには、前記エンボス加工の凹凸形状と、前記印刷機の運転要素の運転状態との最適な対応関係が記録され、
    印刷前に、前記凹凸形状を選択設定する事前設定ステップと、
    前記データベースに記録された前記対応関係に基づいて、前記事前設定ステップによる選択設定に対応して、前記凹凸形状に関連する前記印刷機の運転要素を自動でプリセットするプリセットステップと、をさらにそなえている
    ことを特徴とする、請求項９〜１２の何れか１項に記載のオフセット印刷方法。
14. 前記印刷用紙の印刷面上に、前記特殊ＯＰニスを転写する直前に、プロセスインキにより通常印刷を行なう
    ことを特徴とする、請求項９〜１３の何れか１項に記載のオフセット印刷方法。
15. オフセット印刷機を用い、印刷用紙の印刷面上にオフセット印刷により特殊ＯＰニスを転写し該特殊ＯＰニスを乾燥させ、その上にクリアニスを塗布することにより、凹凸形状を有する擬似的なエンボス加工を行なうオフセット印刷方法であって、
    印刷前に、前記エンボス加工の凹凸形状を選択設定する選択設定ステップと、
    データベースに記録された前記凹凸形状と前記印刷機の運転要素の運転状態との最適な対応関係に基づいて、前記入力ステップを通じて選択設定された前記凹凸形状に対応して、前記凹凸形状に関与する前記印刷機の運転要素を自動でプリセットするプリセットステップと、をそなえている
    ことを特徴とする、オフセット印刷方法。
16. 前記クリアニスの塗布後に、エンボス加工の凹凸形状を検出する検出装置をそなえ、
    前記データベースには、前記凹凸形状の変更と前記印刷機の運転要素の運転状態の変更との対応関係が記録され、
    印刷開始後に、前記データベースに記録された前記対応関係に基づいて、前記検出装置の検出した凹凸形状が、前記設定入力された凹凸形状に接近するように、前記凹凸形状に関与する前記印刷機の運転要素を自動で制御する自動制御ステップを備えている
    ことを特徴とする、請求項１５記載のオフセット印刷方法。