JP2009104703A - 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】磁気ディスク用ガラス基板1の化学強化処理を行う化学強化工程の後に磁気ディスク用ガラス基板1の端部形状が変化する化学強化後研磨工程を実行する磁気ディスク用ガラス基板1の製造方法及び磁気ディスクの製造方法において、化学強化工程は、化学強化後研磨工程後における端部形状と該端部形状の目標形状との差分が化学強化後研磨工程によって取り除かれる形状を残す制御を行うこととした。
【選択図】図5
Description
本発明に係る磁気ディスクの製造方法は、例えば、ハードディスクドライブ(HDD)等に搭載される磁気ディスクを製造するものである。この磁気ディスクは、例えば、垂直磁気記録方式によって高密度の情報信号記録及び再生を行うことができる記録媒体である。また、本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、上記磁気ディスクに用いられるガラス基板を製造するものである。
1a、1b 主表面
2 中心孔
10 化学強化処理装置
11 貯留槽
12 開口部
13 搬送手段
13a 保持部
14 化学強化液
15 化学強化用塩浴炉
19 加熱手段
30 研磨装置
31 上定盤
32 下定盤
33 研磨用キャリア
35 太陽ギア
40 研磨パッド
S5 スキージャンプ値
R5 ロールオフ値
Claims (6)
- 磁気ディスク用ガラス基板の化学強化処理を行う化学強化工程の後に前記磁気ディスク用ガラス基板の端部形状が変化する化学強化後研磨工程を実行する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記化学強化工程は、前記化学強化後研磨工程の後における前記端部形状と該端部形状の目標形状との差分が前記化学強化後研磨工程によって取り除かれる形状を残す制御を行うことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 前記制御は、前記化学強化工程における、化学強化処理時間の制御、前記化学強化処理に用いられる化学強化液の温度制御又は前記化学強化液の溶融塩組成の制御のいずれかであることを特徴とする請求項1に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記化学強化工程における制御は、前記磁気ディスク用ガラス基板の端部に発生する***量の制御であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 磁気ディスク用ガラス基板の化学強化処理を行う化学強化工程の後に前記磁気ディスク用ガラス基板の端部形状が変化する化学強化後研磨工程を実行する工程と、前記磁気ディスク用ガラス基板の主表面に磁性体薄膜からなる磁気記録層を形成する工程とを含む磁気ディスクの製造方法であって、
前記化学強化工程は、前記化学強化後研磨工程の後における前記端部形状と該端部形状の目標形状との差分が前記化学強化後研磨工程によって取り除かれる形状を残す制御を行うことを特徴とする磁気ディスクの製造方法。 - 前記制御は、前記化学強化工程における、化学強化処理時間の制御、前記化学強化処理に用いられる化学強化液の温度制御又は前記化学強化液の溶融塩組成の制御のいずれかであることを特徴とする請求項4に記載の磁気ディスクの製造方法。
- 前記化学強化工程における制御は、前記磁気ディスク用ガラス基板の端部に発生する***量の制御であることを特徴とする請求項4又は請求項5に記載の磁気ディスクの製造方法。
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