JP2007254259A - 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 - Google Patents
磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007254259A JP2007254259A JP2006182588A JP2006182588A JP2007254259A JP 2007254259 A JP2007254259 A JP 2007254259A JP 2006182588 A JP2006182588 A JP 2006182588A JP 2006182588 A JP2006182588 A JP 2006182588A JP 2007254259 A JP2007254259 A JP 2007254259A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- glass substrate
- magnetic disk
- disk
- plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 303
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 130
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 67
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 42
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 72
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims abstract description 64
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 24
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 26
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 8
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 41
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 29
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 29
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 15
- 238000003426 chemical strengthening reaction Methods 0.000 description 12
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 7
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 7
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 7
- 239000005354 aluminosilicate glass Substances 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 6
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 5
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 239000005329 float glass Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 3
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 3
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 210000004283 incisor Anatomy 0.000 description 2
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N sodium nitrate Chemical compound [Na+].[O-][N+]([O-])=O VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005345 chemically strengthened glass Substances 0.000 description 1
- 238000004883 computer application Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- -1 for example Substances 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 239000010687 lubricating oil Substances 0.000 description 1
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 235000010333 potassium nitrate Nutrition 0.000 description 1
- 239000004323 potassium nitrate Substances 0.000 description 1
- 235000010344 sodium nitrate Nutrition 0.000 description 1
- 239000004317 sodium nitrate Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B33/00—Severing cooled glass
- C03B33/02—Cutting or splitting sheet glass or ribbons; Apparatus or machines therefor
- C03B33/04—Cutting or splitting in curves, especially for making spectacle lenses
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/8404—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers manufacturing base layers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
- Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
- Y02P40/57—Improving the yield, e-g- reduction of reject rates
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T83/00—Cutting
- Y10T83/02—Other than completely through work thickness
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T83/00—Cutting
- Y10T83/04—Processes
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T83/00—Cutting
- Y10T83/04—Processes
- Y10T83/0524—Plural cutting steps
- Y10T83/0529—Blanking and cutting
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T83/00—Cutting
- Y10T83/04—Processes
- Y10T83/0581—Cutting part way through from opposite sides of work
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T83/00—Cutting
- Y10T83/04—Processes
- Y10T83/06—Blanking
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T83/00—Cutting
- Y10T83/04—Processes
- Y10T83/0605—Cut advances across work surface
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
【解決手段】溶融金属の上で板状とされたガラス素材1の一面側に切筋2、3を形成し、この切筋を前記ガラス素材の厚み方向に進行させることにより前記ガラス素材からガラス板を切断してガラス基板10を製造する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、前記切筋2、3は、前記ガラス素材1が前記溶融金属に接触した側の面1Aに形成するものである。
【選択図】図1
Description
第1の構成は、溶融金属の上で板状とされたガラス素材の一面側に切筋を形成し、この切筋を前記ガラス素材の厚み方向に進行させることにより前記ガラス素材からガラス板を切断し、切断された前記ガラス板からガラス基板を製造する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記切筋は、前記ガラス素材が前記溶融金属に接触した側の面に形成することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。
前記切筋を形成する面は、表面うねりの最大高さが50nm以下の面であることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。
前記ガラス素材から複数の角型ガラス板を切断することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。
磁気ディスク用ガラス基板となされる領域の略周縁をなす曲線を描く切筋を、前記ガラス素材に形成することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。
磁気ディスク用ガラス基板は、狭隘なハードディスクドライブの筐体内に搭載すべく板厚が設計される。通常は、ディスプレー用のガラス素材や、フォトマスク用ガラス素材等に比べて薄板のガラス素材が利用されるのである。
上記切筋の深さが、上記板厚の50%よりも小さい、または、85%よりも多い場合には、がラス素材からガラス板を切り出す(切断する)際に、ヒビやかけが発生する恐れがある。従って、ヒビやカケ、ワレといった不良品を発生させないためには、ガラス素材からガラス板を切り出す際に形成する切筋の深さをガラス素材の板厚に対して、50〜85%の範囲内とすることが好ましい。
以下に実施例を挙げて、本発明について具体的に説明する。なお、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
フロート法で製造した厚さ1mmのアルミノシリケートガラスからなる板状のアモルファスガラス素材を準備した。フロート成形に際して、溶融金属であるスズに接触した側の面をボトム面、このボトム面に対向する面をトップ面と呼称する。
1)測定領域 内周の半径が16mm、外周の半径が29mmであるドーナツ状の領域
2)測定面積 1837mm2
2)選択した形状波長 0.1mm以上5mm以下である形状波長帯域
この板状のフロートガラス素材をカッターで裁断し、多数の角型状のガラス板を製造する。カッターとしてダイヤモンドカッターを用いた。
具体的には、板厚に対して50%の深さとなるようにカッターの刃を押圧する力を設定して切筋を形成した。
次に、このガラス板のボトム面にガラスカッターで、磁気ディスク用ガラス基板となされる領域の外周側及び内周側の略周縁を描くそれぞれ円形の切筋を形成した。この場合の切筋は、外周側及び内周側の何れも板厚方向に対して外側へ斜めに形成し、ガラス板面の法線方向に対する切筋の傾斜角度は10度程度とした。また、板厚に対して50%の深さとなるようにカッターの刃を押圧する力を設定して切筋を形成した。次いで、上記切筋を形成したガラス板のボトム面側を全体的にヒータで加熱し、上記切筋を板状ガラスのトップ面側に進行させて、中心部に円孔を備えたガラスディスクを切り出した。
次に、外周端面及び内周端面の研削をして外径を65mmφ、内径(中心部の円孔の直径)を20mmφとした後、外周端面および内周端面に所定の面取り加工を施した。このときのガラスディスク端面の表面粗さは、Rmaxで4μm程度であった。なお、一般に、2.5(インチ)型HDD(ハードディスクドライブ)では、外径が65mmの磁気ディスクを用いる。
次に、両面ラッピング装置により、粒度#1000のアルミナ砥粒を用いて、ガラスディスク表面をラッピングすることにより、表面粗さをRmaxで2μm程度、Raで0.2μm程度とした。上記ラッピング工程を終えたガラスディスクを、中性洗剤、水の各洗浄槽(超音波印加)に順次浸漬して、超音波洗浄を行なった。
次いで、ブラシ研磨により、ガラスディスクを回転させながらガラスディスクの端面(内周、外周)の表面の粗さを、Rmaxで1μm、Raで0.3μm程度に研磨した。そして、上記端面研磨を終えたガラスディスクの表面を水洗浄した。
次に、上述したラッピング工程で残留した傷や歪みを除去するための第1研磨工程を両面研磨装置を用いて行なった。両面研磨装置においては、研磨パッドが貼り付けられた上下研磨定盤の間にキャリアにより保持したガラスディスクを密着させ、このキャリアを太陽歯車と内歯歯車とに噛合させ、上記ガラスディスクを上下研磨定盤によって挟圧する。
次に、上記洗浄を終えたガラスディスクに化学強化を施した。化学強化は硝酸カリウムと硝酸ナトリウムを混合した化学強化液を用意し、この化学強化溶液を380℃に加熱し、上記洗浄・乾燥済みのガラスディスクを約4時間浸漬して化学強化処理を行なった。化学強化を終えたガラスディスクを硫酸、中性洗剤、純水、純水、IPA、IPA(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬して、超音波洗浄し、乾燥した。
前記実施例においては、第1切断処理及び第2切断処理において、ボトム面に切筋を形成したが、この比較例では第1切断処理及び第2切断処理においてトップ面に切筋を形成しガラス板を切断した。
以下に、実施例、比較例の結果を表1に示す。なお、表1中の不良品率は、N=10000の場合のデータである。
以上、本発明についての実施形態及び実施例を説明した。本実施形態及び実施例から把握できる本発明の他の構成について以下に付記する。
前記ガラス素材の前記溶融金属に接触した側の主表面に対して、該ガラス素材において磁気ディスク用ガラス基板となされる領域の略周縁をなす曲線を描く切筋を前記ガラス素材の板厚方向に対し斜めに形成した後、該切筋を進行させてディスク状のガラス基板を切り出すことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。
前記磁気ディスク用ガラス基板は中心部に円孔を備えており、
前記ガラス素材の前記溶融金属に接触した側の主表面に対して、該ガラス素材において磁気ディスク用ガラス基板となされる領域の内周側の略周縁をなす曲線を描く切筋を前記ガラス素材の板厚方向に対し斜めに形成した後、該切筋を進行させて、ディスク状のガラス基板の中心部に円孔を形成する工程を含むことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。
前記ガラス素材の主表面に前記切筋を形成した後に、前記ガラス素材を加熱及び/又は冷却し、前記切筋を前記ガラス素材の溶融金属に接触した側の主表面と対向する主表面に向かって進行させることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。
前記ガラス基板は、直径が65mm以下となされる小型の磁気ディスク用ガラス基板であることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。
前記ガラス基板は、ロードアンロード方式の磁気ディスク装置に搭載される磁気ディスクに用いるガラス基板であることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。
2、3 切筋
10 ディスク状のガラス板(ディスク状ガラス基板)
Claims (5)
- 溶融金属の上で板状とされたガラス素材の一面側に切筋を形成し、この切筋を前記ガラス素材の厚み方向に進行させることにより前記ガラス素材からガラス板を切断し、切断された前記ガラス板からガラス基板を製造する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記切筋は、前記ガラス素材が前記溶融金属に接触した側の面に形成することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 請求項1に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記切筋を形成する面は、表面うねりの最大高さが50nm以下の面であることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 請求項1または2に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記ガラス素材から複数の角型ガラス板を切断することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 請求項1または2に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記ガラス素材に、磁気ディスク用ガラス基板となされる領域の略周縁をなす曲線を描く切筋を形成することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 請求項1乃至4のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により製造されたガラス基板上に、少なくとも磁性層を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US12/088,843 US8383196B2 (en) | 2006-03-24 | 2007-03-23 | Method for producing glass substrate for magnetic disk and method for producing magnetic disk |
CN2007800012280A CN101356124B (zh) | 2006-03-24 | 2007-03-23 | 磁盘用玻璃衬底的制造方法和磁盘的制造方法 |
PCT/JP2007/056035 WO2007111253A1 (ja) | 2006-03-24 | 2007-03-23 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
CN201210158015.1A CN102701581B (zh) | 2006-03-24 | 2007-03-23 | 磁盘用玻璃衬底的制造方法和磁盘的制造方法 |
US13/459,337 US8715777B2 (en) | 2006-03-24 | 2012-04-30 | Method for producing glass substrate for magnetic disk and method for producing magnetic disk |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US78528206P | 2006-03-24 | 2006-03-24 | |
US60/785282 | 2006-03-24 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007254259A true JP2007254259A (ja) | 2007-10-04 |
JP5371183B2 JP5371183B2 (ja) | 2013-12-18 |
Family
ID=38628876
Family Applications (4)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006182588A Active JP5371183B2 (ja) | 2006-03-24 | 2006-06-30 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
JP2006182702A Active JP5467706B2 (ja) | 2006-03-24 | 2006-06-30 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
JP2006182710A Active JP5467707B2 (ja) | 2006-03-24 | 2006-06-30 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
JP2006182690A Active JP5467705B2 (ja) | 2006-03-24 | 2006-06-30 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
Family Applications After (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006182702A Active JP5467706B2 (ja) | 2006-03-24 | 2006-06-30 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
JP2006182710A Active JP5467707B2 (ja) | 2006-03-24 | 2006-06-30 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
JP2006182690A Active JP5467705B2 (ja) | 2006-03-24 | 2006-06-30 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8383196B2 (ja) |
JP (4) | JP5371183B2 (ja) |
CN (2) | CN102701581B (ja) |
WO (1) | WO2007111253A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016194970A (ja) * | 2011-04-27 | 2016-11-17 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5111818B2 (ja) * | 2005-09-30 | 2013-01-09 | ホーヤ ガラスディスク タイランド リミテッド | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
JP5306758B2 (ja) * | 2008-09-27 | 2013-10-02 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
WO2010038741A1 (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-08 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスク |
KR101626638B1 (ko) | 2009-02-24 | 2016-06-13 | 닛산 지도우샤 가부시키가이샤 | 배터리 탑재 구조 |
CA2753114C (en) | 2009-02-24 | 2013-09-10 | Nissan Motor Co., Ltd. | Vehicle battery mounting structure |
KR101606612B1 (ko) | 2009-02-24 | 2016-03-25 | 닛산 지도우샤 가부시키가이샤 | 배터리 탑재 구조 |
CN102473421B (zh) * | 2009-09-29 | 2015-07-29 | Hoya株式会社 | 磁盘用玻璃基板的制造方法及磁盘 |
JP5780155B2 (ja) * | 2010-06-07 | 2015-09-16 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス板の切断方法 |
JP4970590B2 (ja) * | 2010-12-17 | 2012-07-11 | 旭硝子株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
JP5109095B2 (ja) * | 2012-04-02 | 2012-12-26 | 旭硝子株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
KR101421353B1 (ko) * | 2012-11-30 | 2014-07-18 | (주)제일로닉 | 취성 재료 판부재의 절단 장치 |
WO2015099178A1 (ja) * | 2013-12-26 | 2015-07-02 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用基板、磁気ディスク、及び磁気ディスクドライブ装置 |
JP2015178453A (ja) * | 2014-02-25 | 2015-10-08 | 坂東機工株式会社 | ガラス板の加工方法及び加工装置 |
JP2016079077A (ja) * | 2014-10-20 | 2016-05-16 | 坂東機工株式会社 | スクライブ方法及びスクライブ装置 |
JP5939290B2 (ja) * | 2014-10-15 | 2016-06-22 | 坂東機工株式会社 | スクライブ方法及びスクライブ装置 |
WO2016059794A1 (ja) * | 2014-10-15 | 2016-04-21 | 坂東機工株式会社 | スクライブ方法及びスクライブ装置 |
CN110751961B (zh) * | 2015-12-28 | 2021-10-26 | Hoya株式会社 | 圆环状的玻璃坯板及制造方法、圆环状的玻璃基板的制造方法和磁盘用玻璃基板的制造方法 |
WO2019151185A1 (ja) * | 2018-01-31 | 2019-08-08 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
JP7009572B1 (ja) | 2020-08-21 | 2022-01-25 | 株式会社Uacj | 磁気ディスク用基板の製造方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001026437A (ja) * | 1999-07-12 | 2001-01-30 | Asahi Glass Co Ltd | ディスプレイ基板用フロートガラスおよびその製造方法 |
JP2001139337A (ja) * | 1999-11-11 | 2001-05-22 | Toshiba Corp | 加工装置、ガラススクライブ装置及びガラス切断方法 |
JP2002316829A (ja) * | 2001-04-17 | 2002-10-31 | Seiko Epson Corp | ガラス基板の切断方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器、およびスクライブ溝形成装置 |
JP2004501052A (ja) * | 2000-06-21 | 2004-01-15 | カール−ツァイス−スティフツング | 平板ガラスから任意の輪郭のガラス板を製造する方法 |
JP2005225713A (ja) * | 2004-02-12 | 2005-08-25 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
Family Cites Families (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR1195715A (fr) * | 1958-05-07 | 1959-11-19 | Saint Gobain | Perfectionnement à la fabrication en continu de carreaux de glace à partir d'un ruban de verre |
US3756104A (en) * | 1972-06-23 | 1973-09-04 | Ppg Industries Inc | Cutting of glass |
US4162907A (en) * | 1978-04-07 | 1979-07-31 | Frank Anderson | Glass sheet manufacturing method and apparatus |
GB2171990B (en) * | 1985-03-08 | 1988-12-07 | Central Glass Co Ltd | Method of strengthening glass article formed of float glass by ion exchange and strengthened glass article |
JPS62259046A (ja) * | 1986-05-02 | 1987-11-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気デイスク表面検査方法 |
JPH01219029A (ja) * | 1988-02-29 | 1989-09-01 | Hoya Corp | 薄板ガラスの成形方法 |
JP3227800B2 (ja) * | 1992-06-30 | 2001-11-12 | 富士ゼロックス株式会社 | 脆性板切断方法およびその装置 |
US5569518A (en) * | 1993-07-07 | 1996-10-29 | Ag Technology Co., Ltd. | Glass substrate for a magnetic disk with roughened edges |
JP2785906B2 (ja) * | 1994-02-14 | 1998-08-13 | 日本板硝子株式会社 | ガラス板の切断方法 |
SG49584A1 (en) * | 1994-12-28 | 1998-06-15 | Hoya Corp | Plate glass flattening method method of manufacturing an information recording glass substrate using flattened glass method of manufacturing a magnetic |
JPH09102125A (ja) * | 1995-10-05 | 1997-04-15 | Ngk Insulators Ltd | 磁気ディスク用結晶化ガラス基板の製造方法 |
JP2973354B2 (ja) * | 1996-04-18 | 1999-11-08 | 日本板硝子株式会社 | ディスク用ガラス基板 |
DE69718584T2 (de) * | 1996-09-30 | 2003-07-03 | Hoya Corp., Tokio/Tokyo | Magnetisches Aufzeichnungsmedium und Verfahren zur Herstellung des magnetischen Aufzeichnungsmediums |
US6537648B1 (en) * | 1999-03-31 | 2003-03-25 | Hoya Corporation | Substrate for an information recording medium, information recording medium using the substrate and method of producing the substrate |
JP4123631B2 (ja) * | 1999-05-10 | 2008-07-23 | 旭硝子株式会社 | ガラス基板の作成方法 |
DE10194790T1 (de) | 2000-01-05 | 2003-12-04 | Schott Glass Tech Inc | Erdalkalifreies Boralkalisilikatglas |
JP3351419B2 (ja) * | 2000-06-16 | 2002-11-25 | 日本板硝子株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
JP4947754B2 (ja) * | 2001-03-27 | 2012-06-06 | 日本板硝子株式会社 | 情報記録媒体用基板及びその製造方法、情報記録媒体、並びにガラス素板 |
US20030110803A1 (en) * | 2001-09-04 | 2003-06-19 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Method of manufacturing glass substrate for magnetic disks, and glass substrate for magnetic disks |
JP2003160348A (ja) * | 2001-11-21 | 2003-06-03 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法 |
JP4032857B2 (ja) * | 2002-07-24 | 2008-01-16 | ソニー株式会社 | タッチパネル用のガラス基板、タッチパネル及び携帯端末 |
US7131211B2 (en) * | 2003-08-18 | 2006-11-07 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for measurement of thickness and warpage of substrates |
JP2005141824A (ja) | 2003-11-06 | 2005-06-02 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
JP3981374B2 (ja) * | 2004-09-29 | 2007-09-26 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
-
2006
- 2006-06-30 JP JP2006182588A patent/JP5371183B2/ja active Active
- 2006-06-30 JP JP2006182702A patent/JP5467706B2/ja active Active
- 2006-06-30 JP JP2006182710A patent/JP5467707B2/ja active Active
- 2006-06-30 JP JP2006182690A patent/JP5467705B2/ja active Active
-
2007
- 2007-03-23 US US12/088,843 patent/US8383196B2/en active Active
- 2007-03-23 CN CN201210158015.1A patent/CN102701581B/zh active Active
- 2007-03-23 WO PCT/JP2007/056035 patent/WO2007111253A1/ja active Application Filing
- 2007-03-23 CN CN2007800012280A patent/CN101356124B/zh active Active
-
2012
- 2012-04-30 US US13/459,337 patent/US8715777B2/en active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001026437A (ja) * | 1999-07-12 | 2001-01-30 | Asahi Glass Co Ltd | ディスプレイ基板用フロートガラスおよびその製造方法 |
JP2001139337A (ja) * | 1999-11-11 | 2001-05-22 | Toshiba Corp | 加工装置、ガラススクライブ装置及びガラス切断方法 |
JP2004501052A (ja) * | 2000-06-21 | 2004-01-15 | カール−ツァイス−スティフツング | 平板ガラスから任意の輪郭のガラス板を製造する方法 |
JP2002316829A (ja) * | 2001-04-17 | 2002-10-31 | Seiko Epson Corp | ガラス基板の切断方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器、およびスクライブ溝形成装置 |
JP2005225713A (ja) * | 2004-02-12 | 2005-08-25 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016194970A (ja) * | 2011-04-27 | 2016-11-17 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007254260A (ja) | 2007-10-04 |
JP2007254261A (ja) | 2007-10-04 |
US8715777B2 (en) | 2014-05-06 |
CN102701581A (zh) | 2012-10-03 |
CN101356124B (zh) | 2012-11-28 |
JP5467706B2 (ja) | 2014-04-09 |
CN102701581B (zh) | 2014-11-05 |
WO2007111253A1 (ja) | 2007-10-04 |
US8383196B2 (en) | 2013-02-26 |
JP5371183B2 (ja) | 2013-12-18 |
CN101356124A (zh) | 2009-01-28 |
US20120213921A1 (en) | 2012-08-23 |
JP2007254262A (ja) | 2007-10-04 |
JP5467705B2 (ja) | 2014-04-09 |
JP5467707B2 (ja) | 2014-04-09 |
US20090136659A1 (en) | 2009-05-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5371183B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP5593224B2 (ja) | 磁気ディスク用基板及びその製造方法並びに磁気ディスク | |
JPWO2005093720A1 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板 | |
JP4790973B2 (ja) | 研磨パッドを使用した情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及びその方法で得られた情報記録媒体用ガラス基板 | |
US20060042317A1 (en) | Method of producing a glass substrate for a magnetic disk, Method of producing a magnetic disk, and a cylindrical glass material for a glass substrate | |
JP5661950B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP3981374B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP2010080025A (ja) | 磁気ディスク用基板及び磁気ディスク | |
JP2010005772A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の加工方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、及び磁気ディスク用ガラス基板、並びに磁気ディスクの製造方法 | |
JP5306758B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP4347146B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP5111818B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP5870187B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスク、磁気ディスクドライブ装置 | |
JP5036323B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法およびガラス基板ホルダ | |
JP5600321B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、及び、磁気ディスクの製造方法 | |
JP2012064294A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
CN109285565B (zh) | 磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法 | |
JP2008226407A (ja) | 磁気ディスク用基板の製造方法および化学強化装置ならびに磁気ディスクの製造方法 | |
JP2006095636A (ja) | 磁気記録媒体用のガラス基板キャリア、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP2006338817A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP2013140649A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板、及び化学強化用かご | |
JP2006338815A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090601 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120531 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120830 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130219 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130520 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130910 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130917 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5371183 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |