JP2009098608A

JP2009098608A - 液晶表示装置用基板の製造方法

Info

Publication number: JP2009098608A
Application number: JP2008109861A
Authority: JP
Inventors: Tetsuo Yamashita; 哲夫山下; Haruki Nonaka; 晴支野中
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 2007-09-27
Filing date: 2008-04-21
Publication date: 2009-05-07

Abstract

【課題】平坦化層とパターン化層を膜厚精度よく、一括加工することが出来、液晶表示装置の高性能化、低コスト化を図ることが可能な液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法を提供する。
【解決手段】複数の着色層を有するカラーフィルタ基板上に、非感光性、かつ現像液に対して、難溶、もしくは不溶の平坦化層を塗布、セミキュア後に、感光性樹脂を塗布、セミキュアし、フォトマスクを介した露光を行った後、現像液により、感光性樹脂層のみをエッチングすることで、平坦化層とパターン化層を一括加工することが可能となる。
【選択図】なし

Description

本発明は非感光性樹脂からなる平坦化層と感光性樹脂からなるパターン化層からなる液晶表示装置用基板の製造方法に関する。

現在、液晶表示装置は、軽量、薄型、低消費電力等の特性を生かし、ノートＰＣ、携帯情報端末、デスクトップモニタ、デジタルカメラ、大型液晶テレビなど様々な用途で使用されている。携帯端末では場所を選ばない視認性が重要視され、１つの画素内に透過表示、反射表示それぞれでの表示を可能とする半透過型液晶表示装置が開発されている。また、液晶テレビ用途では、高速応答、広視野角化、高コントラスト化などの特性向上が図られている。

液晶表示装置の性能向上に伴い、従来の遮光層、着色層、平坦化層からなる単純な構成のカラーフィルタに、固定スペーサ、液晶配向制御用の樹脂突起物、セルギャップ調整用の樹脂層などの付加構造物を形成したカラーフィルタが開発されている。

例えば、特許文献１に開示されているように、従来のビーズスペーサを散布した液晶表示装置では、ビーズスペーサ周辺で液晶の配向が乱れ、コントラストが低下していたのに対し、カラーフィルタに固定スペーサを形成した液晶表示装置では、固定スペーサを非表示領域に形成することで、コントラストの向上を図ることができる。

また、非特許文献１に開示されているように、ネガ型の液晶を使用した垂直配向モードの液晶表示装置において、液晶の配向を複数の領域に分割するよう、液晶配向制御用の樹脂突起物を形成することで、視野角の拡大を図ることが可能となっている。

さらに、非特許文献２には、半透過型液晶表示装置において、反射表示領域に透明樹脂層を形成し、反射表示領域のセルギャップを狭くすることで、透過表示領域との光路長をおよそ同じにし、反射表示領域、透過表示領域ともに明るい半透過型液晶表示装置とする構成が開示されている。

液晶表示装置における表示領域と非表示領域の対向基板間距離を一定に保つための構成が、特許文献３に開示されている。この方法によれば、一方の基板の非表示領域における液晶側表面にカラーフィルタの膜厚と同一の透明樹脂膜を形成し、その目的を達成することが記載されている。これらの付加構造体は、パターン加工されており、通常フォトリソ工程を経て、形成される。従って、高性能液晶表示装置に用いられる付加構造物を具備したカラーフィルタでは、単純な構成のカラーフィルタに比べ、フォトリソ工程が多く、コスト増になるという課題があった。

これらの課題を解消する方法としては、カラーフィルタの平坦化層と固定スペーサを一括形成することが可能な紫外線透過率制御機能を有する半透過膜と遮光膜より形成された露光マスクが特許文献２に開示されている。この方法によれば、ＩＴＯ膜からなる紫外線に対する半透過膜とクロム膜等からなる遮光膜の紫外線透過率の差を利用して、ネガ型レジストの光硬化の差を膜べりに反映させ、カラーフィルタの平坦化層と固定スペーサを一括形成している。しかしながら、この方法では膜べり量の大きい半透過露光部、すなわち平坦化層の膜厚の均一性を保つことが困難であった。
特開２００１−３２４７１６号公報特開２００６−１８４３９９号公報特開２００３−２０２５５１号公報 Electronic Journal １９９７年１０月号、３３頁日経マクロデバイス別冊「フラットパネルディスプレイ2003実務編」１０８頁

本発明は、非感光性樹脂からなる平坦化層と感光性樹脂からなるパターン化層からなる液晶表示装置用基板を低コスト、かつ高品質に得ることができる製造方法を提供することを目的とする。

上記課題を達成するために、本発明は下記の構成からなる。
１．透明基板上に複数の着色層を有し、該着色層上に非感光性樹脂を硬化させてなる第１の層が形成され、さらにその上にパターン加工された感光性樹脂を硬化させてなる第２の層が積層された液晶表示装置用基板の製造方法であって、
少なくとも下記工程をこの順に含むことを特徴とする液晶表示装置用基板の製造方法。
（１）着色層が形成された透明基板上に非感光性樹脂を塗布、セミキュアする工程
（２）該非感光性樹脂層上に感光性樹脂を塗布、セミキュアする工程
（３）該感光性樹脂層にフォトマスクを介して露光する工程
（４）現像液により、感光性樹脂層のみをエッチングする工程
（５）非感光性樹脂層および感光性樹脂層を加熱、硬化させる工程
２．感光性樹脂が、少なくともポリマ、光重合性モノマ、光重合開始剤を含有する樹脂組成物であることを特徴とする（１）に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
３.感光性樹脂が、ナフトキノンジアジド化合物を含有する感光性樹脂組成物であることを特徴とする（１）に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
４.非感光性樹脂が、現像液に対し、不溶性、もしくは難溶性である（１）〜（３）に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
５.パターン加工された感光性樹脂からなる第２の層が垂直配向性液晶の配向制御用の突起物である（１）〜（４）に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
６.パターン加工された感光性樹脂からなる第２の層が固定スペーサである（１）〜（４）に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
７.パターン加工された感光性樹脂からなる第２の層が半透過型液晶表示装置における反射領域の液晶層厚みを調整するギャップ調整層である（１）〜（４）に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
８.パターン加工された感光性樹脂からなる第２の層が液晶表示装置の少なくとも額縁領域の一部に形成されていることを特徴とする（１）〜（４）に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
９.パターン加工された感光性樹脂が黒色顔料、または青色顔料を含むことを特徴とする（８）に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。

本発明の液晶表示装置用基板の製造方法によって、液晶表示装置用カラーフィルタの平坦化層とパターン化層を膜厚精度よく、一括加工することが出来、液晶表示装置の高性能化、低コスト化を図ることができる。

本発明者らは液晶表示装置用カラーフィルタの平坦化層とパターン化層を膜厚精度よく、一括加工する方法について鋭意検討した結果、以下の方法によって可能であることを見出した。

すなわち、複数の着色層を有するカラーフィルタ基板上に、非感光性、かつ現像液に対して、難溶、もしくは不溶の平坦化層を塗布、セミキュア後に、感光性樹脂を塗布、セミキュアする。続いて、フォトマスクを介し、露光した後、現像液により、感光性樹脂層のみをエッチングすることで、平坦化層とパターン化層を一括加工することが可能となる。

カラーフィルタをフォトリソ加工で得る方法としては、非感光ポリイミド法と感光アクリル法があるが、非感光ポリイミド法の製造装置に適用することがより好ましい。非感光ポリイミド法においては、非感光性のポリイミドペーストを塗布、セミキュア後、ポジレジストを塗布、セミキュア、露光後に、現像液で非感光性ポリイミドとポジレジストを一括でパターン加工する。その後、ポジレジストを適当な剥離溶剤で剥離し、加熱硬化させる。このように、非感光ポリイミド法の製造装置においては、１工程内に２つの塗布、セミキュア工程が含まれており、本発明の製造方法を適用しやすい。

本発明におけるセミキュアとは、主に溶剤成分の揮発を目的とした比較的低温での熱処理を指し、具体的には１８０゜Ｃ以下での熱処理のことをいう。セミキュアの温度については、上記範囲であれば特に限定はないが、溶剤の揮発が不十分である場合、感光性樹脂を塗布した際に、溶剤置換が起こり、下地の非感光性平坦化層が膨潤する恐れがあるため１００゜Ｃ以上が好ましい。より好ましくは、１３０゜Ｃ以上であり、さらに好ましくは１５０゜Ｃ以上である。セミキュアをおこなう方法については、下地の非感光性平坦化層に影響がなければ特に制限はなく、ホットプレート、熱風オーブン、ＩＲヒーター等公知の方法を用いることができる。また、同様にセミキュア時間についても特に制限はなく、１分〜９０分程度の時間で行うことができる。

本発明における非感光性の平坦化層については、その樹脂成分について特に限定はなく、エポキシ樹脂、アクリルエポキシ樹脂、アクリル樹脂、シロキサンポリマ、ポリイミド、ケイ素含有ポリイミド、ポリイミドシロキサン等を用いることができる。

感光性樹脂についても、特に制限なく使用することが出来、ポリマ、光重合性モノマ、光重合開始剤等を含有する、いわゆるネガ型の感光性樹脂組成物であってもよく、ナフトキノンジアジド化合物等の光酸発生剤を含有するポジ型の感光性樹脂組成物であってもよい。感光性樹脂組成物に用いられる溶剤としては、樹脂成分を溶解し、下地となるセミキュア後の非感光性樹脂層を膨潤、溶解させないものであれば、特に制限なく使用することができる。

例えばメチルセロソルブ、エチルセロソルブ、メチルカルビトール、エチルカルビトール、プロピレングリコールモノエチルエーテルなどのエチレングリコールあるいはプロピレングリコール誘導体、あるいは、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、アセト酢酸エチル、メチル―３―メトキシプロピオネート、３―メチル―３―メトキシブチルアセテートなどの脂肪族エステル類、あるいは、エタノール、３―メチル―３―メトキシブタノールなどの脂肪族アルコール類、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなどのケトン類、Ｎ―メチル―２―ピロリドン、Ｎ，Ｎ―ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ―ジメチルホルムアミドなどのアミド系極性溶媒、β―プロピオラクトン、γ―ブチロラクトン、γ―バレロラクトン、δ―バレロラクトン、γ―カプロラクトン、ε―カプロラクトンなどのラクトン類を用いることができる。これら樹脂成分を溶解する単独あるいは２種類以上の溶媒の混合溶媒を、適宜組み合わせて使用するのが好ましい。この場合は、副溶剤として、使用する樹脂に対する貧溶媒を用いることも可能である。好ましい溶媒としては、特に限定されるわけではないが、例えばロピレングリコールモノエチルエーテルなどのエチレングリコールあるいはプロピレングリコール誘導体とシクロヘキサノンなどのケトン類との混合溶媒などがあげられる。

非感光性樹脂組成物、ならびに感光性樹脂組成物を塗布する方法としては、ディップ法、ロールコーティング法、スピンコーティング法、ダイコーティング法、ダイコーティングとスピンコーティング併用法、ワイヤーバーコーティング法などが好適に用いられる。基板上に感光性樹脂組成物を塗布した後、風乾、減圧乾燥、加熱乾燥などにより、溶媒を除去し、感光性樹脂組成物の塗膜を形成する。オーブンあるいはホットプレートでセミキュアを行う前に、減圧乾燥工程を設けることにより、対流によって生じる塗布欠点が解消されより好ましい。続いて、フォトリソグラフ加工の露光工程を行う。該感光性樹脂組成物の塗膜上にマスクを設置し、超高圧水銀灯、ケミカル灯、高圧水銀灯等を用いて、紫外線により選択的に露光する。

露光量は特に限定されるわけではないが、３６５ｎｍにおける放射照度の時間積分値で表した場合、好ましくは３０〜５００ｍＪ／ｃｍ^２である。露光ギャップは特に限定されるわけではないが、マスク汚れの点から５０μｍ以上が好ましい。

アルカリ現像液は有機アルカリ現像液と無機アルカリ現像液のどちらも用いることができる。無機アルカリ現像液では炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムの水溶液などが好適に用いられる。有機アルカリ現像液ではテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液、メタノールアミンなどのアミン系水溶液が好適に用いられる。

これら現像液のアルカリ性物質の濃度は特に限定されるわけではないが、通常０．０１〜５０質量％、好ましくは０．０５〜５質量％である。また、現像液には界面活性剤も好ましく用いられ、非イオン系界面活性剤などを０．０１〜１０質量％、より好ましくは０．１〜５質量％添加することでパターン形状を向上させることもできる。

アルカリ現像はディップ現像、シャワー現像、パドル現像などの方法が可能であり、これらを組み合わせても良い。現像後はアルカリ現像液を除去するために適宜純水などによる洗浄工程を加えても良い。

現像工程を経て得られた平坦化膜と感光性樹脂より得られたパターン化層の積層樹脂層を、その後、加熱処理する。加熱処理は通常、空気中、窒素雰囲気中、あるいは、真空中などで、１７０〜３００℃、好ましくは１８０〜２６０℃の温度のもとで、０．２５〜５時間、連続的または段階的に行われる。

感光性樹脂をパターン加工して得られるパターン化層については、その機能、形状等に特に制限はなく、固定スペーサ、透明樹脂層、液晶配向制御用突起等、さまざまな機能、形状等を持つものであって良い。

例えば、半透過型液晶表示装置用のカラーフィルタにおいて、基板全面に非感光性樹脂からなる平坦化層と、対向基板の反射電極と対向する位置に液晶層の厚さを調整するための透明樹脂層からなるパターン化層を一括加工してもよいし、液晶表示装置用のカラーフィルタにおいて、基板全面に非感光性樹脂からなる平坦化層と、表示領域と額縁領域の総膜厚を等しくし、すなわちセルギャップを均一とする様に、額縁領域に透明樹脂層からなるパターン化層を一括加工してもよい。
なお、ここで額縁領域とは、表示領域の周縁部に形成される遮光部のことをいう。

実施例１
［非感光性樹脂組成物（平坦化層用）の調製］
トリメリット酸６５．０５ｇをγ−ブチロラクトン２８０ｇに溶解した後に、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン７４．９５ｇを添加し、１２０℃で２時間加熱した。得られた溶液２０ｇに、ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル７ｇ、ジエチレングリコールジメチルエーテル１５ｇを加えて、室温（約２３℃）で、２時間攪拌して、カラーフィルター用非感光性樹脂溶液組成物を得た。

［非感光性樹脂組成物の塗布、セミキュア］
得られたカラーフィルター用非感光性樹脂溶液組成物を別途用意した樹脂ブラックマトリクス層、着色層からなるカラーフィルター基板に本キュア後の厚さが１．５μｍとなるようにスピンコートし、熱風オーブンで１３０℃で５分加熱することにより、セミキュア処理した非感光性樹脂組成物の塗膜を得た。

［感光性樹脂組成物（透明樹脂層用）の調製］
アクリル共重合体溶液（ダイセル化学工業株式会社製サイクロマーＰ、ＡＣＡ−２５０、４３質量％溶液）７０．０ｇ、多官能モノマとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３０．０ｇ、光重合開始剤として２−メリル−１−「４−（メチルチオ）フェニル」−２−モルフォリノプロパン−１−オンを１０．０ｇ、紫外線吸収剤に２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１、１、３、３−テトラメチルブチル）フェノールを３ｇ、溶剤としてシクロペンタノン２１７．５ｇを加え、アクリル樹脂濃度（アクリル共重合体とモノマの合計濃度）２０質量％の感光性透明樹脂組成物（Ａ）を得た。

［感光性樹脂組成物の塗布、セミキュア］
非感光性樹脂溶液組成物を塗布、セミキュアして得られたカラーフィルター基板に、感光性透明樹脂組成物（Ａ）を本キュア後の膜厚が厚さ２．０μｍとなるようにスピンコートし、熱風オーブンで９０℃で５分加熱することにより、セミキュア処理した非感光性樹脂組成物からなる平坦化層と感光性樹脂組成物（Ａ）からなる樹脂層の積層塗膜を得た。

［平坦化層と透明樹脂層の一括形成］
キャノン株式会社製紫外線露光機ＰＬＡ−５０１Ｆを用い、フォトマスクパターンを介して３００ｍＪ/ｃｍ^２（３６５ｎｍの紫外線強度）露光した。露光後、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの０．５％の水溶液からなる現像液に浸漬し、現像した。２３０℃で３０分熱処理し、膜厚１．５μｍの平坦化層上に、膜厚２．０μｍ、幅３０μｍの透明樹脂層が半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの反射領域にストライプ状に形成されたカラーフィルタ基板を一括形成により得ることができた。
実施例２
［感光性樹脂組成物（固定スペーサ用）の調製］
アクリル共重合体溶液（ダイセル化学工業株式会社製サイクロマーＰ、ＡＣＡ−２５０、４３質量％溶液）７０．０ｇ、多官能モノマとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３０．０ｇ、光重合開始剤として２−メリル−１−「４−（メチルチオ）フェニル」−２−モルフォリノプロパン−１−オンを１０．０ｇ、溶剤としてシクロペンタノン２１７．５ｇを加え、アクリル樹脂濃度（アクリル共重合体とモノマの合計濃度）２０質量％の感光性透明樹脂組成物（Ｂ）を得た。

［平坦化層と透明樹脂層（固定スペーサ用）の一括形成］
実施例１と同様にして作成した非感光性樹脂溶液組成物を塗布、セミキュアして得られたカラーフィルター基板に、感光性透明樹脂組成物（Ｂ）を本キュア後の膜厚が厚さ４．０μｍとなるようにスピンコートし、熱風オーブンで９０℃で５分加熱することにより、セミキュア処理した非感光性樹脂組成物からなる平坦化層と感光性樹脂組成物（Ｂ）からなる樹脂層の積層塗膜を得た。

続いて、キャノン株式会社製紫外線露光機ＰＬＡ−５０１Ｆを用い、フォトマスクパターンを介して３００ｍＪ/ｃｍ^２（３６５ｎｍの紫外線強度）露光した。露光後、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの０．５％の水溶液からなる現像液に浸漬し、現像した。２３０℃で３０分熱処理し、膜厚１．５μｍの平坦化層上に、膜厚４．０μｍ、直径１５μｍの透明樹脂層が非表示領域に形成されたカラーフィルタ基板を一括形成により得ることができた。
実施例３
［平坦化層と液晶配向制御用突起の一括形成］
実施例１と同様にして作成した非感光性樹脂溶液組成物を塗布、セミキュアして得られたカラーフィルター基板に、シプレイファーイースト製ポジレジスト“ＳＲＣ−２００”を本キュア後の膜厚が厚さ１．５μｍとなるように塗布し、９０℃のオーブンで１０分間乾燥し、セミキュア処理した非感光性樹脂組成物からなる平坦化層とポジレジストからなる樹脂層の積層塗膜を得た。

続いて、キャノン株式会社製紫外線露光機ＰＬＡ−５０１Ｆを用い、フォトマスクパターンを介して５０ｍＪ/ｃｍ^２（３６５ｎｍの紫外線強度）露光した。露光後、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの２．０％の水溶液からなる現像液に浸漬し、現像した。２３０℃で３０分熱処理し、膜厚１．５μｍの平坦化層上に、膜厚１．５μｍ、幅１５μｍのストライプ状の液晶配向制御用突起が形成されたカラーフィルタ基板を一括形成により得ることができた。
実施例４
［平坦化層と額縁上透明樹脂層の一括形成］
実施例１と同様にして作成した非感光性樹脂溶液組成物を塗布、セミキュアして得られたカラーフィルター基板に、感光性透明樹脂組成物（Ａ）を本キュア後の膜厚が厚さ２．０μｍとなるようにスピンコートし、熱風オーブンで９０℃で５分加熱することにより、セミキュア処理した非感光性樹脂組成物からなる平坦化層と感光性樹脂組成物（Ａ）からなる樹脂層の積層塗膜を得た。

続いて、キャノン株式会社製紫外線露光機ＰＬＡ−５０１Ｆを用い、フォトマスクパターンを介して３００ｍＪ/ｃｍ^２（３６５ｎｍの紫外線強度）露光した。露光後、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの０．５％の水溶液からなる現像液に浸漬し、現像した。２３０℃で３０分熱処理し、膜厚１．５μｍの平坦化層上に、膜厚２．０μｍの透明樹脂層が額縁領域に形成され、表示領域と額縁領域の総膜厚が互いに等しいカラーフィルタ基板を一括形成により得ることができた。
実施例５
［感光性黒色樹脂組成物の調製］
三菱マテリアル（株）製チタンブラック１３Ｍ−Ｔ（窒化チタン）３００ｇ、アクリルポリマー（Ｐ３）の３―メチル―３―メトキシブタノール４５質量％溶液１５０ｇ、およびプロピレングリコールターシャリーブチルエーテル１０５０ｇを秤量し、ジルコニアビーズが充填されたミル型分散機を用いて２０００ｒｐｍで４時間分散し、顔料濃度２０質量％の顔料分散液（ＴＢ１）を得た。この顔料分散液（ＴＢ１）５３３ｇにビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレートのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５０質量％溶液３２．６ｇ、多官能モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬（株）製ＤＨＰＡ）のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５０質量％溶液３２．６ｇ、光重合開始剤として“イルガキュア”３６９１５．５ｇ、旭電化工業（株）“アデカ（登録商標）オプトマー”Ｎ−１９１９４．３ｇおよびＮ，Ｎ’−テトラエチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン１．６ｇ、接着性改良剤としてＥ２−ＡＰ１（５０％溶液）８．５７ｇ（対固形分２質量％）、シリコーン系界面活性剤のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１０質量％溶液５．３６ｇを３―メチル―３−メトキシ−ブチルアセテート４３９ｇおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１６ｇにに溶解した溶液を添加、混合し、黒色カラーレジスト（固形分濃度１８質量％）を調製し、感光性黒色樹脂組成物（Ｃ）を得た。

［平坦化層と額縁上黒色樹脂層の一括形成］
実施例１と同様にして作成した非感光性樹脂溶液組成物を塗布、セミキュアして得られたカラーフィルター基板に、感光性黒色樹脂組成物（Ｃ）を本キュア後の膜厚が厚さ２．０μｍとなるようにスピンコートし、熱風オーブンで９０℃で５分加熱することにより、セミキュア処理した非感光性樹脂組成物からなる平坦化層と感光性樹脂組成物（Ｃ）からなる樹脂層の積層塗膜を得た。

続いて、キャノン株式会社製紫外線露光機ＰＬＡ−５０１Ｆを用い、フォトマスクパターンを介して３００ｍＪ/ｃｍ^２（３６５ｎｍの紫外線強度）露光した。露光後、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの０．５％の水溶液からなる現像液に浸漬し、現像した。２３０℃で３０分熱処理し、膜厚１．５μｍの平坦化層上に、膜厚２．０μｍの黒色樹脂層が額縁領域に形成され、表示領域と額縁領域の総膜厚が互いに等しいカラーフィルタ基板を一括形成により得ることができた。

Claims

透明基板上に複数の着色層を有し、該着色層上に非感光性樹脂を硬化させてなる第１の層が形成され、さらにその上にパターン加工された感光性樹脂を硬化させてなる第２の層が積層された液晶表示装置用基板の製造方法であって、
少なくとも下記工程をこの順に含むことを特徴とする液晶表示装置用基板の製造方法。
（１）着色層が形成された透明基板上に非感光性樹脂を塗布、セミキュアする工程
（２）該非感光性樹脂層上に感光性樹脂を塗布、セミキュアする工程
（３）該感光性樹脂層にフォトマスクを介して露光する工程
（４）現像液により、感光性樹脂層のみをエッチングする工程
（５）非感光性樹脂層および感光性樹脂層を加熱、硬化させる工程
感光性樹脂が、少なくともポリマ、光重合性モノマ、光重合開始剤を含有する樹脂組成物であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
感光性樹脂が、ナフトキノンジアジド化合物を含有する感光性樹脂組成物であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
非感光性樹脂が、現像液に対し、不溶性、もしくは難溶性である請求項１〜３に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
パターン加工された感光性樹脂からなる第２の層が垂直配向性液晶の配向制御用の突起物である請求項１〜４に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
パターン加工された感光性樹脂からなる第２の層が固定スペーサである請求項１〜４に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
パターン加工された感光性樹脂からなる第２の層が半透過型液晶表示装置における反射領域の液晶層厚みを調整するギャップ調整層である請求項１〜４に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
パターン加工された感光性樹脂からなる第２の層が液晶表示装置の少なくとも額縁領域の一部に形成されていることを特徴とする請求項１〜４に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
パターン加工された感光性樹脂が黒色顔料、または青色顔料を含むことを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。