JP2009094406A - 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板の表面にレジストを塗布してする塗布モジュールと、レジスト塗布後、露光処理された基板の表面に現像液を供給し、前記レジストを現像処理してレジストにパターンを形成する現像モジュールと、レジストを変質させずにレジストの表面の親水性を高めて、前記現像処理後に当該レジストに付着した残渣を除去するための薬液を前記基板に供給する薬液ノズルと、を備えるように塗布、現像装置を構成する。前記薬液としては例えばアルコールや酸を含んだアルコールが用いられる。
【選択図】図6
Description
D 残渣
DEV 現像モジュール
L 酸性アルコール
100 制御部
3 薬液リンスモジュール
4 アルコール再生部
41 薬液ノズル
42 吐出口
5 酸性アルコール供給部
51 酸性アルコール貯留タンク
64 酸性度モニタ
71 酸性溶液貯留タンク
Claims (23)
- 基板の表面にレジストを塗布する塗布モジュールと、
レジスト塗布後、露光処理された基板の表面に現像液を供給し、前記レジストを現像処理してレジストにパターンを形成する現像モジュールと、
レジストを変質させずにレジストの表面の親水性を高めて、前記現像処理後に当該レジストに付着した残渣を除去するための薬液を前記基板に供給する薬液ノズルと、
を備えたことを特徴とすることを特徴とする塗布、現像装置。 - 前記薬液ノズルは、前記現像モジュールとは別個の薬液リンスモジュールに設けられ、この薬液リンスモジュールは、薬液を供給するときに基板を保持する基板保持部を備えていることを特徴とする請求項1記載の塗布、現像装置。
- 前記薬液ノズルは、前記現像モジュールに設けられていることを特徴とする請求項1記載の塗布、現像装置。
- 基板から薬液を除去する薬液除去手段を備えたことを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一に記載の塗布、現像装置。
- 前記薬液除去手段は、基板に供給された薬液を乾燥させるための乾燥手段を備えていることを特徴とする請求項4記載の塗布、現像装置。
- 前記乾燥手段は、基板をスピン乾燥するために前記基板を保持する基板保持部を回転させる手段であることを特徴とする請求項5記載の塗布、現像装置。
- 前記薬液はアルコールであることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか一に記載の塗布、現像装置。
- 前記薬液は酸を含むアルコールであることを特徴とする請求項7記載の塗布、現像装置。
- 前記薬液を貯留する薬液貯留部と、この薬液貯留部に貯留された薬液中の酸性度を検出する酸性度検出部と、
この酸性度検出部の酸性度の検出値が予め設定した酸性度を越えるように薬液貯留部への酸性溶液の供給を制御する手段と、
を備えたことを特徴とする請求項1ないし8のいずれか一に記載の塗布、現像装置。 - 基板に供給された薬液を回収し、薬液中のパーティクルを除去して、薬液ノズルに供給する薬液再生手段を備えたことを特徴とする請求項1ないし9のいずれか一に記載の塗布、現像装置。
- 前記露光処理はレジストの表面に光を透過する液層を形成した状態で露光する液浸露光処理であり、レジストはその液浸露光処理に用いられるレジストであることを特徴とする請求項1ないし10のいずれか一に記載の塗布、現像装置。
- 前記薬液が供給された基板を加熱し、前記薬液により膨潤したレジストを乾燥させるための加熱モジュールが設けられていることを特徴とする請求項1ないし11のいずれか一に記載の塗布、現像装置。
- 前記薬液ノズルはスリット状に開口した吐出口を備え、基板の径方向に薬液を吐出することを特徴とする請求項1ないし12のいずれか一に記載の塗布、現像装置。
- 前記薬液ノズルは横方向に配列された複数の吐出口を備え、基板の径方向に薬液を吐出することを特徴とする請求項1ないし12のいずれか一に記載の塗布、現像装置。
- 前記薬液ノズルは基板の一端側から他端側へ向けて移動しつつ、当該基板に薬液を吐出することを特徴とする請求項1ないし14のいずれか一に記載の塗布、現像装置。
- 前記薬液ノズルから基板に吐出される薬液の吐出方向と当該基板とのなす角度が15度であることを特徴とする請求項1ないし15のいずれか一に記載の塗布、現像装置。
- 基板の表面にレジストを塗布する工程と、
前記レジストを露光する露光工程と、
露光処理された基板の表面に現像液を供給して前記レジストにパターンを形成する工程と、
レジストを変質させずにレジストの表面の親水性を高めて、前記現像処理後に当該レジストに付着した残渣を除去する薬液が貯留された薬液貯留部から当該薬液を薬液ノズルに供給する工程と、
前記薬液ノズルから薬液を基板保持部に保持された基板に吐出する工程と、
を備えたことを特徴とすることを特徴とする塗布、現像方法。 - 前記薬液はアルコールであることを特徴とする請求項17記載の塗布、現像方法。
- 前記薬液は酸を含むアルコールであることを特徴とする請求項18記載の塗布、現像方法。
- 前記薬液貯留部に貯留された薬液中の酸性度を検出する工程と、
前記酸性度の検出値が予め設定した酸性度を越えるように薬液貯留部への酸性溶液の供給を制御する工程と、
を備えたことを特徴とする請求項17ないし19のいずれか一に記載の塗布、現像方法。 - 基板に供給された薬液を回収し、薬液中のパーティクルを除去して、薬液ノズルに供給する工程を備えたことを特徴とする請求項17ないし20のいずれか一に記載の塗布、現像方法。
- 前記薬液が供給された基板を加熱し、前記薬液により膨潤したレジストを乾燥する工程を備えることを特徴とする請求項17ないし21のいずれか一に記載の塗布、現像方法。
- 基板にレジストの塗布を行う塗布モジュールと、レジスト塗布後、露光処理された基板の表面に現像液を供給して前記レジストを現像処理する現像モジュールとを備えた塗布、現像装置に用いられるコンピュータプログラムが記憶された記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、請求項17ないし22のいずれか一に記載の表面露光方法を実施するためのものであることを特徴とする記憶媒体。
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