JP2009091547A - 付加硬化型シリコーンゴム組成物及びその硬化物並びに架橋剤 - Google Patents
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Abstract
【課題】硬化物中に、SiH官能基を有する低分子シロキサンが殆ど存在しない付加硬化型シリコーンゴム組成物を提供する。
【解決手段】SiH官能性基を含有する1種又は2種以上のオルガノアルコキシシランとSiH官能性基を含有しない1種又は2種以上のオルガノアルコキシシランとの共加水分解縮合反応により合成した、分子中にケイ素原子と結合する水素原子を2個以上含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンを架橋剤として含有する付加硬化型シリコーンゴム組成物。
【選択図】なし
【解決手段】SiH官能性基を含有する1種又は2種以上のオルガノアルコキシシランとSiH官能性基を含有しない1種又は2種以上のオルガノアルコキシシランとの共加水分解縮合反応により合成した、分子中にケイ素原子と結合する水素原子を2個以上含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンを架橋剤として含有する付加硬化型シリコーンゴム組成物。
【選択図】なし
Description
本発明は、反応性の揮発性シロキサン化合物、特にケイ素原子と結合する水素原子(以下、SiH官能性基と略記することがある)を含有するヒドロシリル化付加反応性を有する環状揮発性低分子シロキサン化合物の含有量が少ない付加硬化型シリコーンゴム組成物及びその硬化物並びに付加硬化型シリコーンゴム組成物用架橋剤に関する。
シリコーンゴムは、優れた耐候性、電気特性、低圧縮永久歪、耐熱性、耐寒性等の特性を有しているため、電子機器、自動車、建築、医療、食品をはじめとして様々な分野で広く使用されている。例えば、電気・電子部品のポッティング、接着剤;リモートコントローラー、コンピューターキーボード、周辺機器、コンピューター端末、楽器等のゴム接点キーとして使用されるラバーコンタクト;建築用ガスケット;複写器用ロール、現像ロール、転写ロール、帯電ロール、給紙ロール等の各種ロール;オーディオ装置等の防振ゴム;コンピューターに使用されるコンパクトディスク用パッキン;などの用途が挙げられる。
現在、シリコーンゴムの需要は益々高まっており、優れた特性を有するシリコーンゴムの開発が望まれており、中でもシリコーンゴム中に含まれる低分子シロキサンの低減が強く求められている。かかる低分子シロキサンとしては、例えば、特開平6−329803号公報(特許文献1)には、環状ジメチルポリシロキサンが示されている。また、特開平3−157474号公報(特許文献2)においては、200℃で10mmHg以上の蒸気圧を有する低分子シロキサンとして定義され、直鎖状シロキサンと環状シロキサンが示されている。
このような低分子シロキサンは、ベースポリマーより減圧下高温で揮発させることにより除去されるが、完全に取り除くことは困難で、1質量%前後、あるいはそれ以下の0.5質量%のレベルが残存してしまう。これら低分子シロキサンは、高温雰囲気だけでなく室温状態においても僅かながらゴム硬化物より揮発し、周囲に付着することにより、くもりや濁りの発生、接点障害の原因、接着阻害、表面の疎水化など多種多様な問題を引き起こすことが知られている。これらは、ゴム硬化物を高温でポストキュアすることによりかなり減少させることができるが、ゴムが密閉状態で使用される場合や、耐熱性の低い樹脂などと組み合わされる部品等では、高温に曝すことができないなどの問題がある。更に、ゴム硬化物より揮発し、周辺の物質に付着した無官能性の(即ち、ヒドロシリル化付加反応に関与し得るSiH官能性基及びケイ素原子結合アルケニル基を有さない)低分子シロキサンは、溶剤で拭き取るなどの作業により容易に除去できるが、無官能性の低分子シロキサンと異なり、SiH官能性基を有する低分子環状シロキサンは、その反応性のために基材と接着してしまい、容易に除去することはできない。
上述したように、低分子シロキサンの低減化に関する特許は種々提出されているが、SiH官能性基含有の低分子シロキサンについては全く触れられていない。
SiH官能性基含有の低分子シロキサンは、オルガノハイドロジェンポリシロキサンに由来するもので、該オルガノハイドロジェンポリシロキサンは、一般的にテトラメチルシクロテトラシロキサン及びオクタメチルシクロテトラシロキサンを活性白土や硫酸を触媒として平衡化重合することにより得られる(特開平3−157474号公報、特開平7−292343号公報:特許文献2,3)が、このように従来の平衡化重合法により製造されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン中には、上記SiH官能性基を有する低分子環状シロキサンが不可避的に約5質量%程度混在しているものであったが、該オルガノハイドロジェンポリシロキサンは耐熱性に劣るため、付加硬化型シリコーンゴム組成物のベースポリマーとして常用されるアルケニル基含有オルガノポリシロキサンの場合と異なり、200℃以上の高温での低分子シロキサンの低減化が十分行えないという問題があり、硬化物中に多量のSiH官能性基含有の低分子シロキサンが残存してしまう問題があった。
SiH官能性基含有の低分子シロキサンは、オルガノハイドロジェンポリシロキサンに由来するもので、該オルガノハイドロジェンポリシロキサンは、一般的にテトラメチルシクロテトラシロキサン及びオクタメチルシクロテトラシロキサンを活性白土や硫酸を触媒として平衡化重合することにより得られる(特開平3−157474号公報、特開平7−292343号公報:特許文献2,3)が、このように従来の平衡化重合法により製造されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン中には、上記SiH官能性基を有する低分子環状シロキサンが不可避的に約5質量%程度混在しているものであったが、該オルガノハイドロジェンポリシロキサンは耐熱性に劣るため、付加硬化型シリコーンゴム組成物のベースポリマーとして常用されるアルケニル基含有オルガノポリシロキサンの場合と異なり、200℃以上の高温での低分子シロキサンの低減化が十分行えないという問題があり、硬化物中に多量のSiH官能性基含有の低分子シロキサンが残存してしまう問題があった。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、硬化物中に、SiH官能性基を有する低分子シロキサンが殆ど存在しない付加硬化型シリコーンゴム組成物及びその硬化物並びに付加硬化型シリコーンゴム組成物用架橋剤を提供することを目的とするものである。
本発明者らは、上記目的を達成するべく鋭意検討を行った結果、架橋剤としてSiH官能性基を含有する1種又は2種以上のオルガノアルコキシシランとSiH官能性基を含有しない1種又は2種以上のオルガノアルコキシシランとの共加水分解縮合反応により合成したオルガノハイドロジェンポリシロキサンを使用すると、該オルガノハイドロジェンポリシロキサン中、及び付加硬化型シリコーンゴム組成物の硬化物中にSiH官能性基含有の低分子シロキサンが殆ど存在しないことを見出し、本発明をなすに至った。
従って、本発明は、下記付加硬化型シリコーンゴム組成物及びその硬化物並びに付加硬化型シリコーンゴム組成物用架橋剤を提供する。
〔1〕 SiH官能性基を含有する1種又は2種以上のオルガノアルコキシシランとSiH官能性基を含有しない1種又は2種以上のオルガノアルコキシシランとの共加水分解縮合反応により合成した、分子中にケイ素原子と結合する水素原子を2個以上含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンを架橋剤として含有する付加硬化型シリコーンゴム組成物。
〔2〕 SiH官能性基を含有する1種又は2種以上のオルガノアルコキシシラン及び/又はSiH官能性基を含有しない1種又は2種以上のオルガノアルコキシシランが、モノアルコキシシラン及びジアルコキシシランから選ばれる少なくとも1種である〔1〕記載の付加硬化型シリコーンゴム組成物。
〔3〕 SiH官能性基を含有する1種又は2種以上のオルガノアルコキシシラン及び/又はSiH官能性基を含有しない1種又は2種以上のオルガノアルコキシシランが、下記一般式のいずれかで示されるアルコキシシランである〔2〕記載の付加硬化型シリコーンゴム組成物。
HR4Si(OR’)2、HR4 2SiOR’、R4 2Si(OR’)2、R4 3SiOR’
(但し、R4はそれぞれ独立に脂肪族不飽和結合を除く、ケイ素原子に結合した非置換又は置換の一価炭化水素基であり、R’はそれぞれ独立に非置換又はアルコキシ置換の炭素数1〜4の一価炭化水素基である。)
〔4〕 オルガノハイドロジェンポリシロキサンが、H(CH3)Si(OCH3)2と、(CH3)2Si(OCH3)2、(C6H5)2Si(OCH3)2、(CF3C2H4)(CH3)Si(OCH3)2から選ばれる1種又は2種以上と、(CH3)3SiOCH3及び/又はH(CH3)2SiOCH3とを共加水分解縮合反応させて得られたものである〔3〕記載の付加硬化型シリコーンゴム組成物。
〔5〕 オルガノハイドロジェンポリシロキサン中における、重合度が10以下でケイ素原子と結合する水素原子を1個以上含有する環状低分子シロキサンの含有量が3質量%以下である〔1〕〜〔4〕のいずれかに記載の付加硬化型シリコーンゴム組成物。
〔6〕 付加硬化型シリコーンゴム組成物全体における、重合度が10以下でケイ素原子と結合する水素原子を1個以上含有する環状低分子シロキサンの含有量が0.5質量%以下である〔5〕記載の付加硬化型シリコーンゴム組成物。
〔7〕 〔1〕〜〔6〕のいずれかに記載の付加硬化型シリコーンゴム組成物を硬化させてなる、重合度が10以下でケイ素原子と結合する水素原子を1個以上含有する環状低分子シロキサンの残存量が0.5質量%以下であるシリコーンゴム硬化物。
〔8〕 〔1〕〜〔6〕のいずれかに記載のオルガノハイドロジェンポリシロキサンからなり、付加硬化型シリコーンゴム組成物用架橋剤。
〔1〕 SiH官能性基を含有する1種又は2種以上のオルガノアルコキシシランとSiH官能性基を含有しない1種又は2種以上のオルガノアルコキシシランとの共加水分解縮合反応により合成した、分子中にケイ素原子と結合する水素原子を2個以上含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンを架橋剤として含有する付加硬化型シリコーンゴム組成物。
〔2〕 SiH官能性基を含有する1種又は2種以上のオルガノアルコキシシラン及び/又はSiH官能性基を含有しない1種又は2種以上のオルガノアルコキシシランが、モノアルコキシシラン及びジアルコキシシランから選ばれる少なくとも1種である〔1〕記載の付加硬化型シリコーンゴム組成物。
〔3〕 SiH官能性基を含有する1種又は2種以上のオルガノアルコキシシラン及び/又はSiH官能性基を含有しない1種又は2種以上のオルガノアルコキシシランが、下記一般式のいずれかで示されるアルコキシシランである〔2〕記載の付加硬化型シリコーンゴム組成物。
HR4Si(OR’)2、HR4 2SiOR’、R4 2Si(OR’)2、R4 3SiOR’
(但し、R4はそれぞれ独立に脂肪族不飽和結合を除く、ケイ素原子に結合した非置換又は置換の一価炭化水素基であり、R’はそれぞれ独立に非置換又はアルコキシ置換の炭素数1〜4の一価炭化水素基である。)
〔4〕 オルガノハイドロジェンポリシロキサンが、H(CH3)Si(OCH3)2と、(CH3)2Si(OCH3)2、(C6H5)2Si(OCH3)2、(CF3C2H4)(CH3)Si(OCH3)2から選ばれる1種又は2種以上と、(CH3)3SiOCH3及び/又はH(CH3)2SiOCH3とを共加水分解縮合反応させて得られたものである〔3〕記載の付加硬化型シリコーンゴム組成物。
〔5〕 オルガノハイドロジェンポリシロキサン中における、重合度が10以下でケイ素原子と結合する水素原子を1個以上含有する環状低分子シロキサンの含有量が3質量%以下である〔1〕〜〔4〕のいずれかに記載の付加硬化型シリコーンゴム組成物。
〔6〕 付加硬化型シリコーンゴム組成物全体における、重合度が10以下でケイ素原子と結合する水素原子を1個以上含有する環状低分子シロキサンの含有量が0.5質量%以下である〔5〕記載の付加硬化型シリコーンゴム組成物。
〔7〕 〔1〕〜〔6〕のいずれかに記載の付加硬化型シリコーンゴム組成物を硬化させてなる、重合度が10以下でケイ素原子と結合する水素原子を1個以上含有する環状低分子シロキサンの残存量が0.5質量%以下であるシリコーンゴム硬化物。
〔8〕 〔1〕〜〔6〕のいずれかに記載のオルガノハイドロジェンポリシロキサンからなり、付加硬化型シリコーンゴム組成物用架橋剤。
本発明の付加硬化型シリコーンゴム組成物によれば、SiH官能性基を有する低分子シロキサンが殆ど存在しないオルガノハイドロジェンポリシロキサン及びシリコーンゴム硬化物を得ることができる。
本発明の付加硬化型シリコーンゴム組成物は、SiH官能性基を含有する1種又は2種以上のオルガノアルコキシシランとSiH官能性基を含有しない1種又は2種以上のオルガノアルコキシシランとの共加水分解縮合反応により合成した、分子中にケイ素原子と結合する水素原子を2個以上含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンを架橋剤として含有するものである。
本発明の付加硬化型シリコーンゴム組成物としては、アルケニル基を含有するオルガノポリシロキサン(A)、上記共加水分解縮合反応により合成されたオルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)及び付加反応触媒(C)を含む液状付加硬化型シリコーンゴム組成物が好適に用いられる。
本発明の付加硬化型シリコーンゴム組成物としては、アルケニル基を含有するオルガノポリシロキサン(A)、上記共加水分解縮合反応により合成されたオルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)及び付加反応触媒(C)を含む液状付加硬化型シリコーンゴム組成物が好適に用いられる。
(A)成分のオルガノポリシロキサンは、この組成物の主剤(ベースポリマー)であって、1分子中に2個以上のケイ素原子に結合したアルケニル基を含有するものであり、好ましくは下記平均組成式(1)で示されるものが用いられる。
RaSiO(4-a)/2 (1)
(式中、Rは互いに同一又は異種の炭素数1〜10、好ましくは1〜8の非置換又は置換の一価炭化水素基であり、aは1.5〜2.8、好ましくは1.8〜2.5、より好ましくは1.95〜2.05の範囲の正数である。)
RaSiO(4-a)/2 (1)
(式中、Rは互いに同一又は異種の炭素数1〜10、好ましくは1〜8の非置換又は置換の一価炭化水素基であり、aは1.5〜2.8、好ましくは1.8〜2.5、より好ましくは1.95〜2.05の範囲の正数である。)
(A)成分(上記式(1)のR)中のケイ素原子に結合したアルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基等の、通常、炭素数2〜8、好ましくは2〜4程度のものが挙げられ、特にビニル基であることが好ましい。
(A)成分のポリシロキサン骨格中におけるアルケニル基が結合するケイ素原子の位置としては、例えば、分子鎖末端及び/又は分子鎖途中(分子鎖非末端)が挙げられるが、(A)成分としては、少なくとも分子鎖両末端のケイ素原子に結合したアルケニル基を含有する直鎖状のジオルガノポリシロキサンであることが好ましい。
なお、(A)成分中のアルケニル基の含有量は、ケイ素原子に結合した一価の有機基(即ち、上記平均組成式(1)において、Rで示される非置換又は置換の一価炭化水素基)全体に対して0.001〜10モル%、特に0.01〜5モル%程度であることが好ましい。
(A)成分(式(1)中のR)のアルケニル基以外のケイ素原子に結合する有機基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基等のアルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基;ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基;クロロメチル基、3−クロロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基等のハロゲン化アルキル基などの、通常、炭素数1〜12、好ましくは炭素数1〜10程度の、非置換又はハロゲン置換の一価炭化水素基が挙げられ、特に、メチル基、フェニル基であることが好ましい。
このような(A)成分の分子構造としては、例えば、直鎖状、環状、分岐鎖状が挙げられるが、主鎖が基本的にジオルガノシロキサン単位の繰り返しからなり、分子鎖両末端がトリオルガノシロキシ基で封鎖された、直鎖状のジオルガノポリシロキサンであることが好ましい(なお、ここでのオルガノ基にはアルケニル基も包含し得る。)。
(A)成分の25℃における粘度は、得られるシリコーンゴムの物理的特性が良好であり、また、組成物の取扱い作業性が良好であることから、100〜500,000mPa・sの範囲内であることが好ましく、特に300〜100,000mPa・sの範囲内であることが好ましい。なお、本発明において、粘度は回転粘度計等により測定することができる(以下、同じ。)。
このような(A)成分のオルガノポリシロキサンとしては、例えば、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルビニルポリシロキサン、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖メチルビニルポリシロキサン、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジビニルメチルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端ジビニルメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端トリビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、式:R1 3SiO0.5で示されるシロキサン単位と式:R1 2R2SiO0.5で示されるシロキサン単位と式:R1 2SiOで示されるシロキサン単位と式:SiO2で示されるシロキサン単位からなるオルガノシロキサン共重合体、式:R1 3SiO0.5で示されるシロキサン単位と式:R1 2R2SiO0.5で示されるシロキサン単位と式:SiO2で示されるシロキサン単位からなるオルガノシロキサン共重合体、式:R1 2R2SiO0.5で示されるシロキサン単位と式:R1 2SiOで示されるシロキサン単位と式:SiO2で示されるシロキサン単位からなるオルガノシロキサン共重合体、式:R1R2SiOで示されるシロキサン単位と式:R1SiO1.5で示されるシロキサン単位もしくは式:R2SiO1.5で示されるシロキサン単位からなるオルガノシロキサン共重合体、及びこれらのオルガノポリシロキサンの2種以上からなる混合物が挙げられる。
上記式中のR1はアルケニル基以外の非置換又は置換の一価炭化水素基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基等のアルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基;ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基;クロロメチル基、3−クロロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基等のハロゲン化アルキル基などが挙げられる。また、上記式中のR2はアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、へプテニル基などが挙げられる。
更に、(A)成分は、重合度が10以下の官能基を有しない(無官能性の)低分子シロキサンの含有量が0.5質量%以下であることが好ましく、より好ましくは0.2質量%以下、更に好ましくは0.1質量%以下である。該低分子シロキサンの含有量が0.5質量%より多いとそれ自体が揮発により周辺部品等に悪影響を与えるだけでなく、組成物中あるいは硬化物中における後述する(B)成分に由来するSiH官能性基を有する低分子シロキサンの揮発を容易にしてしまう場合がある。なお、(A)成分中には通常、SiH官能性基を有する低分子環状シロキサンは実質的に含有されていない。
このような無官能性の低分子シロキサンとしては、下記式で示される環状タイプのものが挙げられる。
(R3 2SiO)x
(式中、Xは3以上10以下の正数、R3は炭素数1〜10の置換又は非置換の一価炭化水素基で、同一であっても異なってもよく、上記Rで例示したものと同様のものを例示することができ、好ましくは脂肪族不飽和結合を除く一価炭化水素基、特にはメチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基、フェニル基等のアリール基を例示することができる。)
(R3 2SiO)x
(式中、Xは3以上10以下の正数、R3は炭素数1〜10の置換又は非置換の一価炭化水素基で、同一であっても異なってもよく、上記Rで例示したものと同様のものを例示することができ、好ましくは脂肪族不飽和結合を除く一価炭化水素基、特にはメチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基、フェニル基等のアリール基を例示することができる。)
この低分子シロキサンの低減方法としては、通常行われているような高温、減圧下条件による薄膜蒸発法や溶剤による抽出法が一般的に行われる。
(B)成分は本発明の中心をなすもので、SiH官能性基を含有する1種又は2種以上のオルガノアルコキシシランとSiH官能性基を含有しない1種又は2種以上のオルガノアルコキシシランとの共加水分解縮合反応により合成した、分子中にケイ素原子と結合する水素原子を2個以上含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンである。
SiH官能性基を含有する1種又は2種以上のオルガノアルコキシシランとSiH官能性基を含有しない1種又は2種以上のオルガノアルコキシシランとの共加水分解縮合反応により合成した、オルガノハイドロジェンポリシロキサンを架橋剤として用いることにより、通常、テトラメチルシクロテトラシロキサン及びオクタメチルシクロテトラシロキサンとの平衡化重合により製造される従来のオルガノハイドロジェンポリシロキサンにおいては、前述した重合度3〜10のSiH官能性基含有低分子環状シロキサンを不可避的に約5質量%程度含有することが避けられないものであったのに対して、該SiH官能性基含有低分子環状シロキサンの含有量が架橋剤としてのオルガノハイドロジェンポリシロキサン中、3質量%以下(0〜3質量%)、特には1質量%以下(0〜1質量%)、更には0.5質量%以下(0〜0.5質量%)に低減されたオルガノハイドロジェンポリシロキサンを定常的に製造することができるものである。
SiH官能性基を含有する1種又は2種以上のオルガノアルコキシシランとSiH官能性基を含有しない1種又は2種以上のオルガノアルコキシシランとの共加水分解縮合反応により合成した、オルガノハイドロジェンポリシロキサンを架橋剤として用いることにより、通常、テトラメチルシクロテトラシロキサン及びオクタメチルシクロテトラシロキサンとの平衡化重合により製造される従来のオルガノハイドロジェンポリシロキサンにおいては、前述した重合度3〜10のSiH官能性基含有低分子環状シロキサンを不可避的に約5質量%程度含有することが避けられないものであったのに対して、該SiH官能性基含有低分子環状シロキサンの含有量が架橋剤としてのオルガノハイドロジェンポリシロキサン中、3質量%以下(0〜3質量%)、特には1質量%以下(0〜1質量%)、更には0.5質量%以下(0〜0.5質量%)に低減されたオルガノハイドロジェンポリシロキサンを定常的に製造することができるものである。
該オルガノハイドロジェンポリシロキサンは、SiH官能性基を含有する1種又は2種以上のオルガノアルコキシシランとSiH官能性基を含有しない1種又は2種以上のオルガノアルコキシシランとを共加水分解縮合反応させて得られるものである。
SiH官能性基を含有する1種又は2種以上のオルガノアルコキシシラン、SiH官能性基を含有しない1種又は2種以上のオルガノアルコキシシランは、モノアルコキシシラン及びジアルコキシシランから選ばれる少なくとも1種であることが好ましく、下記一般式のいずれかで示されるアルコキシシランであることがより好ましい。
HR4Si(OR’)2、HR4 2SiOR’、R4 2Si(OR’)2、R4 3SiOR’
(但し、R4はそれぞれ独立に脂肪族不飽和結合を除く、好ましくは炭素数1〜10の、ケイ素原子に結合した非置換又は置換の一価炭化水素基であり、R’はそれぞれ独立に非置換又はアルコキシ置換の炭素数1〜4のメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基等の一価炭化水素基である。)
HR4Si(OR’)2、HR4 2SiOR’、R4 2Si(OR’)2、R4 3SiOR’
(但し、R4はそれぞれ独立に脂肪族不飽和結合を除く、好ましくは炭素数1〜10の、ケイ素原子に結合した非置換又は置換の一価炭化水素基であり、R’はそれぞれ独立に非置換又はアルコキシ置換の炭素数1〜4のメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基等の一価炭化水素基である。)
更に、本発明のオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、H(CH3)Si(OCH3)2と、(CH3)2Si(OCH3)2、(C6H5)2Si(OCH3)2、(CF3C2H4)(CH3)Si(OCH3)2から選ばれる1種又は2種以上と、(CH3)3SiOCH3及び/又はH(CH3)2SiOCH3とを共加水分解縮合反応させて得られるものであることが好ましい。
共加水分解は−20℃〜5℃で酸性触媒下に水と混合して行われる。加水分解触媒としては、塩酸、硫酸などの無機酸、蟻酸、酢酸、プロピオン酸などの有機酸、パラトルエンスルホン酸、メタンスルホン酸などの酸性化合物、酸性の陽イオン交換樹脂などが使用でき、原料に対して0.05〜10質量%の量で添加される。加水分解に必要な水の量は原料のもつ加水分解性基のモル数に対して0.4〜2倍モル数が適当である。
オルガノハイドロジェンポリシロキサンとしては、下記平均組成式(2)で示されるものが好適である。
R4 bHcSiO(4-b-c)/2 (2)
R4 bHcSiO(4-b-c)/2 (2)
上記式(2)中、R4は、脂肪族不飽和結合を除く、好ましくは炭素数1〜10の、ケイ素原子に結合した非置換又は置換の一価炭化水素基であり、このR4における非置換又は置換の一価炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等のアルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基等のアラルキル基や、これらの基の水素原子の一部又は全部をフッ素、臭素、塩素等のハロゲン原子で置換したもの、例えばクロロメチル基、クロロプロピル基、ブロモエチル基、トリフルオロプロピル基等が挙げられる。R4の非置換又は置換の一価炭化水素基としては、好ましくは非置換又はフッ素置換の炭素数1〜8の一価炭化水素基であり、より好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、フェニル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基であり、更に好ましくはメチル基、フェニル基である。また、bは0.7〜2.1、cは0.001〜1.0で、かつb+cが0.8〜3.0を満足する正数であり、好ましくは、bは1.0〜2.0、cは0.01〜1.0、b+cが1.5〜2.5である。
1分子中に少なくとも2個(通常、2〜300個)、好ましくは3個以上(例えば3〜200個、特には4〜150個程度)含有するSiH基は、分子鎖末端、分子鎖途中のいずれに位置していてもよく、またこの両方に位置するものであってもよい。また、このオルガノハイドロジェンポリシロキサンの分子構造は直鎖状、環状、分岐状、三次元網状構造のいずれであってもよいが、1分子中のケイ素原子の数(又は重合度)は通常2〜300個、好ましくは3〜200個、より好ましくは4〜150個程度のものが望ましく、25℃における粘度が、通常、0.1〜1,000mPa・s、好ましくは0.5〜500mPa・s程度の、室温(25℃)で液状のものが使用される。
このような(B)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンとしては、上記のSiH官能性基含有低分子環状シロキサンの含有量が所定量以下である限りにおいて、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン、トリス(ハイドロジェンジメチルシロキシ)メチルシラン、トリス(ハイドロジェンジメチルシロキシ)フェニルシラン、メチルハイドロジェンシクロポリシロキサン、メチルハイドロジェンシロキサン・ジメチルシロキサン環状共重合体、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン・ジフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・ジフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖メチルフェニルポリシロキサン、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジフェニルポリシロキサンや、これらの各例示化合物において、メチル基の一部又は全部がエチル基、プロピル基等の他のアルキル基で置換されたもの、式:R4 3SiO0.5で示されるシロキサン単位と式:R4 2HSiO0.5で示されるシロキサン単位と式:SiO2で示されるシロキサン単位からなるオルガノシロキサン共重合体、式:R4 2HSiO0.5で示されるシロキサン単位と式:SiO2で示されるシロキサン単位からなるオルガノシロキサン共重合体、式:R4HSiOで示されるシロキサン単位と式:R4SiO1.5で示されるシロキサン単位もしくは式:HSiO1.5で示されるシロキサン単位からなるオルガノシロキサン共重合体、及び、これらのオルガノポリシロキサンの2種以上からなる混合物が挙げられる。上式中のR4はアルケニル基以外の一価炭化水素基であり、前記と同様の基が例示される。
(B)成分の配合量は特に限定されず、通常、(A)成分100質量部に対して0.3〜20質量部、特に0.5〜15質量部、より好ましくは0.8〜10質量部であるが、(A)成分中のケイ素原子結合アルケニル基1モル(又は個)に対して(B)成分中のケイ素原子結合水素原子が1〜4モル(又は個)、特には1〜3モル(又は個)の範囲内となる量であることが好ましい。(A)成分中のケイ素原子結合アルケニル基1モルに対して(B)成分中のケイ素原子結合水素原子が1モル未満であると、組成物は十分に硬化しない場合があり、また、これが4モルを超えると、未反応のSiH官能性基含有低分子シロキサンが硬化後も多量に残存してしまう場合がある。
(C)成分の付加反応触媒としては、(A)成分中のケイ素原子結合アルケニル基と(B)成分中のSiH基とのヒドロシリル化付加反応を促進するものであればいかなる触媒を使用してもよい。例えば、白金、パラジウム、ロジウム等や塩化白金酸、アルコール変性塩化白金酸、塩化白金酸とオレフィン類、ビニルシロキサン又はアセチレン化合物との配位化合物、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、クロロトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム等の白金族金属又はこれらの化合物が使用されるが、特に好ましくは白金系化合物である。
付加反応触媒の配合量は有効量であるが、通常、(A),(B)成分の合計質量に対して触媒金属元素の質量として0.5〜1,000ppm、特に1〜500ppmの割合であることが好ましく、より好ましくは10〜100ppmの範囲である。配合量が0.5ppm未満では付加反応が著しく遅くなるか、もしくは硬化しない場合があり、配合量が多すぎると、コスト的に高いものとなり、不経済となる。
必要に応じて任意的に微粉末シリカ(D)を配合することができ、これは、補強剤として作用する。即ち、微粉末シリカは、本発明の組成物に高引裂き性を付与するもので、微粉末シリカを補強剤として使用することにより、引裂き強度特性を満足するシリコーンゴム硬化物を与えることが可能となる。
かかる微粉末シリカは、比表面積(BET法)が50m2/g以上であることが好ましく、より好ましくは50〜400m2/g、特に好ましくは100〜300m2/gである。比表面積が50m2/g未満では、満足するような引裂き強度特性を付与することができないおそれがある。
このような微粉末シリカとしては、従来からシリコーンゴムの補強性充填剤として使用されている公知のものでよく、例えば、煙霧質シリカ、沈降シリカなどが挙げられる。これらは1種を単独で又は2種以上を併用して用いることができる。
このような微粉末シリカはそのまま使用してもよいが、本発明組成物に良好な流動性を付与させるため、トリメチルクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、メチルトリクロロシラン等のメチルクロロシラン類、ジメチルポリシロキサン、ヘキサメチルジシラザン、ジビニルテトラメチルジシラザン、ジメチルテトラビニルジシラザン等のヘキサオルガノジシラザンなどの有機ケイ素化合物で処理したものを使用することが好ましい。
必要に応じて任意的に本発明に用いられる(D)成分の配合量は、(A)成分のオルガノポリシロキサン100質量部に対して50質量部以下(即ち、0〜50質量部)とすることができ、通常は0.1〜50質量部、好ましくは1〜50質量部であり、特に5〜40質量部とすることが好ましい。配合量が少なすぎると、所望の効果を達成できない場合があり、配合量が多すぎると、組成物の流動性が低下して作業性が悪くなる。
本発明の組成物において、上記の(A)〜(D)成分以外の任意の成分として、付加反応触媒に対して硬化抑制効果を持つ化合物とされている従来公知の制御剤化合物はすべて使用することができる。このような化合物としては、トリフェニルホスフィンなどのリン含有化合物、トリブチルアミンやテトラメチルエチレンジアミン、ベンゾトリアゾールなどの窒素含有化合物、硫黄含有化合物、アセチレン系化合物、アルケニル基を2個以上含む化合物、ハイドロパーオキシ化合物、マレイン酸誘導体などが例示される。制御剤化合物による硬化遅延効果の度合は、制御剤化合物の化学構造によって大きく異なるため、制御剤化合物の添加量は、使用する制御剤化合物の個々について最適な量に調整することが好ましく、一般には、その添加量が少なすぎると室温での長期貯蔵安定性が得られない場合があり、逆に多すぎるとかえって硬化が阻害されるおそれがある。
また、その他の任意の成分としては、例えば、結晶性シリカ、中空フィラー、シルセスキオキサン、ヒュームド二酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化鉄、水酸化アルミニウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸亜鉛、層状マイカ、カーボンブラック、ケイ藻土、ガラス繊維等の無機質充填剤、及びこれらの充填剤をオルガノアルコキシシラン化合物、オルガノクロロシラン化合物、オルガノシラザン化合物、低分子量シロキサン化合物等の有機ケイ素化合物により表面処理した充填剤等が挙げられる。また、シリコーンゴムパウダーやシリコーンレジンパウダーなども挙げられる。
更に、この組成物には、本発明の目的を損なわない範囲において、その他任意の成分として、ケイ素原子結合水素原子及びアルケニル基を含有しない無官能性のオルガノポリシロキサン、有機溶剤、クリープハードニング防止剤、可塑剤、チクソ性付与剤、顔料、染料、防かび剤などを配合することができる。
本発明の付加硬化型シリコーンゴム組成物は、上記(A)〜(C)成分、及び必要によりその他の任意成分を、ニーダー、プラネタリーミキサーなどの通常の混合撹拌器、混練器等を用いて均一に混合することにより調製することができる。
本発明の付加硬化型シリコーンゴム組成物は、重合度が10以下でSiH官能性基を1個以上含有する環状低分子シロキサンの含有量が、組成物全体に対して、特に上記(A)、(B)、(C)成分の合計質量に対して0.5質量%以下(0〜0.5質量%)、好ましくは0.3質量%以下(0〜0.3質量%)、より好ましくは0.2質量%以下(0〜0.2質量%)であることが好ましい。
ここで、代表的なSiH官能性基含有環状低分子シロキサンとしては、下記式のものが挙げられる。
(式中、nは1以上10以下の整数、mは0以上9以下の整数、特に1以上8以下の整数、n+mは3以上10以下の整数、特に4以上10以下の整数である。Phはフェニル基を示す。)
これら環状SiH基含有の低分子シロキサンのうち、一部あるいは大半はゴムの架橋反応により硬化物内に組み込まれるが、残余の未反応のSiH官能性基を持つ低分子シロキサンは、そのままフリーの状態で硬化物内に残存してしまい、これが保管時や使用時に雰囲気中に揮発して周辺部品等に付着すると、接点障害・接着不良・表面の疎水化・外観変化など多大な問題を引き起こしてしまう。
本発明においては、上記(B)成分の架橋剤として、SiH官能性基を含有する1種又は2種以上のオルガノアルコキシシランとSiH官能性基を含有しない1種又は2種以上のオルガノアルコキシシランとの共加水分解縮合反応により合成した、分子中にケイ素原子と結合する水素原子を2個以上含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンを用いることにより、付加硬化型シリコーンゴム組成物中の、重合度が10以下でSiH官能性基を1個以上含有する環状低分子シロキサン含有量を上記範囲内にすることができるものである。
なお、シリコーンゴム組成物全体中の無官能性低分子シロキサン及びSiH官能性低分子シロキサンの合計含有量は、0.7質量%以下(0〜0.7質量%)、特に0.5質量%以下(0〜0.5質量%)であることが好ましい。
本発明において、これら低分子シロキサン(無官能性低分子シロキサン及びSiH官能性低分子シロキサンの合計)含有量の測定方法は、サンプルびん中に採取した試料1gにアセトン10ccを添加して室温(25℃)で16時間放置した後、該アセトン中に抽出された低分子シロキサンをガスクロマトグラフ分析(FID検出器)により測定する。なお、この場合、無官能低分子シロキサン成分とSiH含有低分子シロキサン成分の判別はGC−MS及びSi29−NMRにより同定、判別することができる。
本発明の付加硬化型シリコーンゴム組成物の硬化条件としては、公知の付加反応硬化型シリコーンゴム組成物と同様でよく、例えば常温でも十分硬化するが、必要に応じて加熱してもよく、この場合、100〜200℃、特に150〜180℃で1〜10分間、特に1〜5分間加熱することにより硬化することができる。
また、本発明のシリコーンゴム組成物を硬化して得られるシリコーンゴム硬化物に関しても、硬化前の組成物と同様に、重合度が10以下でSiH官能性基を1個以上含有する環状低分子シロキサンの含有量が、硬化物全体に対して0.5質量%以下(0〜0.5質量%)、好ましくは0.3質量%以下(0〜0.3質量%)、より好ましくは0.2質量%以下(0〜0.2質量%)、更に、無官能性低分子シロキサン及びSiH官能性低分子シロキサンの合計含有量が、硬化物全体に対して0.6質量%以下(0〜0.6質量%)、特に0.4質量%以下(0〜0.4質量%)のものを得ることができる。
以下、合成例及び実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。なお、下記の例において、粘度は回転粘度計により測定した25℃における値を示す。
[合成例1]
(CH3)3SiOCH3 8.32g、(CH3)2Si(OCH3)2 86.4g、H(CH3)Si(OCH3)2 84.8gの−10℃の混合溶液に硫酸2.7gを添加した。その後、水33gを−5℃以上に温度が上がらないように滴下した。滴下終了後、1時間撹拌した。撹拌終了後に廃酸分離し、炭酸水素ナトリウム3gを添加し、2時間中和した。中和剤をろ過後に140℃、3.6kPaの減圧下でストリッピングし、粘度15mPa・s、ケイ素原子結合水素原子含有量0.86質量%のハイドロジェンポリシロキサンを得た。
このハイドロジェンポリシロキサン中の、重合度が10以下の低分子環状シロキサン量(即ち、SiH基含有成分とSiH基非含有成分との合計、以下同じ)を25℃で16時間のアセトン抽出の後、GC−MS及びSi29−NMRにより測定した結果、0.27質量%であり、そのうちSiH官能性基を含有するものが0.18質量%であった。
(CH3)3SiOCH3 8.32g、(CH3)2Si(OCH3)2 86.4g、H(CH3)Si(OCH3)2 84.8gの−10℃の混合溶液に硫酸2.7gを添加した。その後、水33gを−5℃以上に温度が上がらないように滴下した。滴下終了後、1時間撹拌した。撹拌終了後に廃酸分離し、炭酸水素ナトリウム3gを添加し、2時間中和した。中和剤をろ過後に140℃、3.6kPaの減圧下でストリッピングし、粘度15mPa・s、ケイ素原子結合水素原子含有量0.86質量%のハイドロジェンポリシロキサンを得た。
このハイドロジェンポリシロキサン中の、重合度が10以下の低分子環状シロキサン量(即ち、SiH基含有成分とSiH基非含有成分との合計、以下同じ)を25℃で16時間のアセトン抽出の後、GC−MS及びSi29−NMRにより測定した結果、0.27質量%であり、そのうちSiH官能性基を含有するものが0.18質量%であった。
[比較合成例1]
オクタメチルシクロテトラシロキサン53.3g、テトラメチルシクロテトラシロキサン48gとヘキサメチルジシロキサン6.5gの0℃混合溶液に硫酸3gを添加し、6時間撹拌混合した。その後、水1.3gを添加し、1時間室温にて撹拌混合した。撹拌終了後に廃酸分離し、炭酸水素ナトリウム3gを添加し、2時間中和した。中和剤をろ過後に140℃、3.6kPaの減圧下でストリッピングし、粘度20mPa・s、ケイ素原子結合水素原子含有量0.73質量%のハイドロジェンポリシロキサンを得た。
このハイドロジェンポリシロキサン中の、重合度が10以下の低分子環状シロキサン量を25℃で16時間のアセトン抽出の後、GC−MS及びSi29−NMRにより測定した結果、4.55質量%であり、そのうちSiH官能性基を含有するものが4.37質量%であった。
オクタメチルシクロテトラシロキサン53.3g、テトラメチルシクロテトラシロキサン48gとヘキサメチルジシロキサン6.5gの0℃混合溶液に硫酸3gを添加し、6時間撹拌混合した。その後、水1.3gを添加し、1時間室温にて撹拌混合した。撹拌終了後に廃酸分離し、炭酸水素ナトリウム3gを添加し、2時間中和した。中和剤をろ過後に140℃、3.6kPaの減圧下でストリッピングし、粘度20mPa・s、ケイ素原子結合水素原子含有量0.73質量%のハイドロジェンポリシロキサンを得た。
このハイドロジェンポリシロキサン中の、重合度が10以下の低分子環状シロキサン量を25℃で16時間のアセトン抽出の後、GC−MS及びSi29−NMRにより測定した結果、4.55質量%であり、そのうちSiH官能性基を含有するものが4.37質量%であった。
[実施例1]
分子鎖両末端がビニルジメチルシリル基で封鎖され、重合度が10以下の低分子環状シロキサンの含有量が0.001質量%で、25℃での粘度が約600mPa・sのジメチルポリシロキサン100質量部、1−エチニルシクロヘキサノール0.05質量部、塩化白金酸/1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体を白金原子含有量として1質量%含有するジメチルポリシロキサン溶液0.1質量部、合成例1で調製したオルガノハイドロジェンポリシロキサン3.5質量部を混合し、組成物Aを得た。
この組成物A中の重合度が10以下の低分子環状シロキサン量を25℃で16時間のアセトン抽出の後、GC−MS及びSi29−NMRにより測定した結果、0.01質量%であり、そのうちSiH官能性基を含有するものが0.006質量%であった。
この組成物Aを120℃/10分でプレスキュアし、厚さ2mmのゴムシートを得た。このゴムシートより、アセトン抽出(25℃×16時間浸漬)の後、GC−MS及びSi29−NMRにより、含有する重合度が10以下の低分子環状シロキサンを測定した結果、0.009質量%であり、そのうちSiH官能性基を含有するものが0.005質量%であった。
分子鎖両末端がビニルジメチルシリル基で封鎖され、重合度が10以下の低分子環状シロキサンの含有量が0.001質量%で、25℃での粘度が約600mPa・sのジメチルポリシロキサン100質量部、1−エチニルシクロヘキサノール0.05質量部、塩化白金酸/1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体を白金原子含有量として1質量%含有するジメチルポリシロキサン溶液0.1質量部、合成例1で調製したオルガノハイドロジェンポリシロキサン3.5質量部を混合し、組成物Aを得た。
この組成物A中の重合度が10以下の低分子環状シロキサン量を25℃で16時間のアセトン抽出の後、GC−MS及びSi29−NMRにより測定した結果、0.01質量%であり、そのうちSiH官能性基を含有するものが0.006質量%であった。
この組成物Aを120℃/10分でプレスキュアし、厚さ2mmのゴムシートを得た。このゴムシートより、アセトン抽出(25℃×16時間浸漬)の後、GC−MS及びSi29−NMRにより、含有する重合度が10以下の低分子環状シロキサンを測定した結果、0.009質量%であり、そのうちSiH官能性基を含有するものが0.005質量%であった。
[比較例1]
合成例1で調製したオルガノハイドロジェンポリシロキサンの替わりに、比較合成例1で調製したオルガノハイドロジェンポリシロキサン4.1質量部を使用した以外は、実施例1に従って組成物Bを調製した。
この組成物B中の重合度が10以下の低分子環状シロキサン量を25℃で16時間のアセトン抽出の後、GC−MS及びSi29−NMRにより測定した結果、0.18質量%であり、そのうちSiH官能性基を含有するものが0.172質量%であった。
この組成物Bを120℃/10分でプレスキュアし、厚さ2mmのゴムシートを得た。このゴムシートより、アセトン抽出(25℃×16時間浸漬)の後、GC−MS及びSi29−NMRにより、含有する重合度が10以下の低分子環状シロキサンを測定した結果、0.15質量%であり、そのうちSiH官能性基を含有するものが0.144質量%であった。
合成例1で調製したオルガノハイドロジェンポリシロキサンの替わりに、比較合成例1で調製したオルガノハイドロジェンポリシロキサン4.1質量部を使用した以外は、実施例1に従って組成物Bを調製した。
この組成物B中の重合度が10以下の低分子環状シロキサン量を25℃で16時間のアセトン抽出の後、GC−MS及びSi29−NMRにより測定した結果、0.18質量%であり、そのうちSiH官能性基を含有するものが0.172質量%であった。
この組成物Bを120℃/10分でプレスキュアし、厚さ2mmのゴムシートを得た。このゴムシートより、アセトン抽出(25℃×16時間浸漬)の後、GC−MS及びSi29−NMRにより、含有する重合度が10以下の低分子環状シロキサンを測定した結果、0.15質量%であり、そのうちSiH官能性基を含有するものが0.144質量%であった。
Claims (8)
- SiH官能性基を含有する1種又は2種以上のオルガノアルコキシシランとSiH官能性基を含有しない1種又は2種以上のオルガノアルコキシシランとの共加水分解縮合反応により合成した、分子中にケイ素原子と結合する水素原子を2個以上含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンを架橋剤として含有する付加硬化型シリコーンゴム組成物。
- SiH官能性基を含有する1種又は2種以上のオルガノアルコキシシラン及び/又はSiH官能性基を含有しない1種又は2種以上のオルガノアルコキシシランが、モノアルコキシシラン及びジアルコキシシランから選ばれる少なくとも1種である請求項1記載の付加硬化型シリコーンゴム組成物。
- SiH官能性基を含有する1種又は2種以上のオルガノアルコキシシラン及び/又はSiH官能性基を含有しない1種又は2種以上のオルガノアルコキシシランが、下記一般式のいずれかで示されるアルコキシシランである請求項1又は2記載の付加硬化型シリコーンゴム組成物。
HR4Si(OR’)2、HR4 2SiOR’、R4 2Si(OR’)2、R4 3SiOR’
(但し、R4はそれぞれ独立に脂肪族不飽和結合を除く、ケイ素原子に結合した非置換又は置換の一価炭化水素基であり、R’はそれぞれ独立に非置換又はアルコキシ置換の炭素数1〜4の一価炭化水素基である。) - オルガノハイドロジェンポリシロキサンが、H(CH3)Si(OCH3)2と、(CH3)2Si(OCH3)2、(C6H5)2Si(OCH3)2、(CF3C2H4)(CH3)Si(OCH3)2から選ばれる1種又は2種以上と、(CH3)3SiOCH3及び/又はH(CH3)2SiOCH3とを共加水分解縮合反応させて得られたものである請求項3記載の付加硬化型シリコーンゴム組成物。
- オルガノハイドロジェンポリシロキサン中における、重合度が10以下でケイ素原子と結合する水素原子を1個以上含有する環状低分子シロキサンの含有量が3質量%以下である請求項1〜4のいずれか1項記載の付加硬化型シリコーンゴム組成物。
- 付加硬化型シリコーンゴム組成物全体における、重合度が10以下でケイ素原子と結合する水素原子を1個以上含有する環状低分子シロキサンの含有量が0.5質量%以下である請求項1〜5のいずれか1項記載の付加硬化型シリコーンゴム組成物。
- 請求項1〜6のいずれか1項記載の付加硬化型シリコーンゴム組成物を硬化させてなる、重合度が10以下でケイ素原子と結合する水素原子を1個以上含有する環状低分子シロキサンの残存量が0.5質量%以下であるシリコーンゴム硬化物。
- 請求項1〜6のいずれか1項記載のオルガノハイドロジェンポリシロキサンからなり、付加硬化型シリコーンゴム組成物用架橋剤。
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