JP2009076823A - ウエーハの切削加工方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】 ウエーハの表面に切削屑が付着することを抑制可能なウエーハの切削加工方向を提供することである。
【解決手段】 ウエーハの切削加工方法であって、ウエーハを第1の方向と第1の方向に直交する第2の方向に切削してウエーハを複数のチップに分割するフルカット工程を実施した後、高速回転する切削ブレードをウエーハから浮かせてカットライン上を沿うようにウエーハに対して相対移動させるクリーンカット工程を実施する。クリーンカット工程は、第1の方向のカットラインに沿って行い第1の方向のカットライン中の切削屑を洗浄する第1クリーンカット工程と、第2の方向のカットラインに沿って行い第2の方向のカットライン中の切削屑を洗浄する第2クリーンカット工程を含んでいる。
【選択図】図6

Description

本発明は、切削屑がウエーハ上に付着するのを抑制可能なウエーハの切削加工方法に関する。
IC,LSI等の数多くのデバイスが表面に形成され、且つ個々のデバイスがカットライン(ストリート)によって格子状に区画された半導体ウエーハは、研削装置によって裏面が研削されて所定の厚みに加工された後、ダイシング装置(切削装置)によってカットラインを切削して個々のデバイスに分割され、携帯電話、パソコン等の電気機器に利用される。
ウエーハの切削時には高速回転する切削ブレードがストリートに切り込むため、切削により生じた切削屑(コンタミネーション、以下コンタミと略称する)が半導体ウエーハの表面に付着する。
そこで、コンタミの付着を防止するとともに付着したコンタミを除去するために、半導体ウエーハと切削ブレードとが接触する箇所に切削水とともにエアを噴出して、切削水が切削ブレードとウエーハとの接触部に集中するようにしたり(例えば、特許文献1参照)、ウエーハのダイシング終了後、ウエーハを洗浄する工程を追加したりしている(例えば、特許文献2参照)。
然しながら、切削対象とする被加工物が通常の半導体ウエーハではなく、MEMS(マイクロマシーン)ウエーハである場合は、表面に非常に脆いMEMS構造体が形成されているため、特許文献1又は2に開示された技術のように比較的高圧の切削水をウエーハ上面にあてると、切削水や洗浄水の圧力によって、表面のMEMS構造が破損するという問題がある。
一方、切削ノズルから噴出する切削水の圧力や流量を下げてしまうと、コンタミがウエーハ表面に付着してしまうという問題がある。また、通常ウエーハをダイシングした後に行われるスピン洗浄装置による洗浄工程をMEMSウエーハで実施すると、水圧や遠心力によってMEMS構造の破損を招く恐れがあるという問題がある。
そのため、MEMSの加工に適した切削水を供給するノズルとしてVノズル、スプレーダクト、サイドフローノズル等の各種ノズルが開発され、MEMSの破損は大きく抑制されるようになった(例えば、特許文献3,4,5参照)。
特開2001−267272号公報 特開2000−33346号公報 特開2007−967号公報 特開2006−289509号公報 特開2007−111840号公報 特開2006−59914号公報
然しながら、特許文献3乃至5に開示されたノズルを使用するだけでは、特にカットライン中に滞留する切削屑の排出には依然として課題が残ることが判明した。
すなわち、第1の方向でカットライン(ストリート)をカット後、第1の方向に直交する第2の方向のカットラインをカットすると、第2の方向のカットで排出される切削屑(コンタミ)が、第1の方向のカットライン中に流れ出て滞留してしまうという問題が発生したためである。
この問題に対して、本願発明者は幾つかの対策を検討した。まず第1に、特許文献6に開示されているように、一本のカットラインをダウンカットとアップカットで2回に分けて切削ブレードを往復させてフルカットし、アップカットでコンタミの排出を促すという方法を検討した。
ここで、ダウンカットとは、ウエーハを切削する位置における切削ブレードの回転が下向きである切削方法であり、アップカットとは、ウエーハを切削する位置における切削ブレードの回転が上向きである切削方法を意味する。
このような切削方法では、直交するカットライン中にコンタミが滞留することの解決にはならない上、アップカットがもたらす加工品質の低下、具体的にはチッピングの増大もあり、新たな問題が発生してしまう。
また、特許文献6に開示の方法を参考に、ダウンカットでフルカットし、アップカットでは空切り(切削ブレードの刃先をウエーハ上面より高くして実際には切削を行わない)をし、アップカット時の切削水をウエーハの洗浄に利用するという切削方法を検討した。この方法によると、アップカット時の加工品質の低下は抑制されたが、直交するカットライン中にコンタミが滞留することの解決にはならなかった。
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、ウエーハの表面に切削屑が付着することを抑制可能なウエーハの切削加工方法を提供することである。
本発明によると、ウエーハを保持するチャックテーブルと、該ウエーハを切削する切削ブレードを回転可能に支持した切削手段と、該切削ブレードに切削水を供給する切削水供給手段と、該チャックテーブルを該切削ブレードに対して加工送り方向に移動する加工送り手段とを備えた切削装置を用い、ウエーハを複数のチップに切断するウエーハの切削加工方法であって、切削水を供給しながら前記ウエーハを第1の方向の複数のカットラインに沿って切断する第1フルカット工程と、切削水を供給しながら前記第1の方向のカットラインと直交する第2の方向の複数のカットラインに沿って、前記ウエーハを切断して複数のチップに分割する第2フルカット工程と、前記第1フルカット工程で切断された前記第1の方向のカットライン上を、前記切削ブレードが前記ウエーハから所定距離離れて沿うように前記ウエーハを移動させ、前記切削ブレードの高速回転によって加速された切削水を該第1の方向のカットライン周辺に当て、ウエーハの上面及び前記第1の方向のカットライン中の切削屑を洗浄する第1のクリーンカット工程と、前記第2フルカット工程で切断された前記第2の方向のカットライン上を、前記切削ブレードが前記ウエーハから所定距離離れて沿うように前記ウエーハを移動させ、前記切削ブレードの高速回転によって加速された切削水を該第2の方向のカットライン周辺に当て、前記ウエーハの上面及び前記第2の方向のカットライン中の切削屑を洗浄する第2のクリーンカット工程と、を具備したことを特徴とするウエーハの切削加工方法が提供される。
好ましくは、第1及び第2のクリーンカット工程は、切削ブレードの刃先をウエーハ上面より0.01〜0.5mm高い位置に位置付けて実施する。
本発明のウエーハの切削加工方法によると、最後にフルカットした方向と直交する第1の方向のカットライン上に切削ブレードの回転によって高速に加速された切削水を当てて洗浄する第1のクリーンカット工程を実施するため、最後にカットした方向と直交する第1の方向に排出された切削屑が第1の方向のカットライン中に滞留しても、切削屑を効率的に洗い流すことが可能となる。
また、クリーンカット工程を、第1の方向の第1クリーンカット工程に加えて第2の方向の第2クリーンカット工程も行うことにより、第1クリーンカット工程で第2の方向のカットライン中に排出されて滞留する切削屑が発生しても確実に洗浄することができる。
以下、本発明の実施形態を図面を参照して詳細に説明する。図1はウエーハをダイシングして個々のチップ(デバイス)に分割することのできる切削装置(ダイシング装置)2の外観を示している。
切削装置2の前面側には、オペレータが加工条件等の装置に対する指示を入力するための操作手段4が設けられている。装置上部には、オペレータに対する案内画面や後述する撮像手段によって撮像された画像が表示されるCRT等の表示手段6が設けられている。
図2に示すように、ダイシング対象のウエーハWの表面においては、第1のストリート(第1のカットライン)S1と第2のストリート(第2のカットライン)S2とが直交して形成されており、第1のストリートS1と第2のストリートS2とによって区画されて多数のデバイスDがウエーハW上に形成されている。
ウエーハWは粘着テープであるダイシングテープTに貼着され、ダイシングテープTの外周縁部は環状フレームFに貼着されている。これにより、ウエーハWはダイシングテープTを介してフレームFに支持された状態となり、図1に示したウエーハカセット8中にウエーハが複数枚(例えば25枚)収容される。ウエーハカセット8は上下動可能なカセットエレベータ9上に載置される。
ウエーハカセット8の後方には、ウエーハカセット8から切削前のウエーハWを搬出するとともに、切削後のウエーハをウエーハカセット8に搬入する搬出入手段10が配設されている。ウエーハカセット8と搬出入手段10との間には、搬出入対象のウエーハが一時的に載置される領域である仮置き領域12が設けられており、仮置き領域12には、ウエーハWを一定の位置に位置合わせする位置合わせ手段14が配設されている。
仮置き領域12の近傍には、ウエーハWと一体となったフレームFを吸着して搬送する旋回アームを有する搬送手段16が配設されており、仮置き領域12に搬出されたウエーハWは、搬送手段16により吸着されてチャックテーブル18上に搬送され、このチャックテーブル18に吸引されるとともに、複数の固定手段(クランプ)19によりフレームFが固定されることでチャックテーブル18上に保持される。
チャックテーブル18は、回転可能且つX軸方向に往復動可能に構成されており、チャックテーブル18のX軸方向の移動経路の上方には、ウエーハWの切削すべきストリートを検出するアライメント手段20が配設されている。
アライメント手段20は、ウエーハWの表面を撮像する撮像手段22を備えており、撮像により取得した画像に基づき、パターンマッチング等の処理によって切削すべきストリートを検出することができる。撮像手段22によって取得された画像は、表示手段6に表示される。
アライメント手段20の左側には、チャックテーブル18に保持されたウエーハWに対して切削加工を施す切削手段24が配設されている。切削手段24はアライメント手段20と一体的に構成されており、両者が連動してY軸方向及びZ軸方向に移動する。
切削手段24は、回転可能なスピンドル26の先端に切削ブレード28が装着されて構成され、Y軸方向及びZ軸方向に移動可能となっている。切削ブレード28は撮像手段22のX軸方向の延長線上に位置している。
図3を参照すると、切削手段24の分解斜視図が示されている。図4は切削手段24の斜視図である。25は切削手段24のスピンドルハウジングであり、スピンドルハウジング25中に図示しないサーボモータにより回転駆動されるスピンドル26が回転可能に収容されている。切削ブレード28は電鋳ブレードであり、ニッケル母材中にダイヤモンド砥粒が分散されてなる切刃28aを外周部に有している。
30は切削ブレード28をカバーするブレードカバーであり、切削ブレード28の側面に沿って延長する切削水ノズル32が取り付けられている。切削水が、パイプ34を介して切削水ノズル32に供給される。ブレードカバー30はねじ穴36,38を有している。
40は着脱カバーであり、ブレードカバー30に取り付けられた際、切削ブレード28の側面に沿って伸長する切削水ノズル42を有している。切削水は、パイプ44を介して切削水ノズル42に供給される。
ねじ48を着脱カバー40の丸穴46に挿通してブレードカバー30のねじ穴36に螺合することにより、着脱カバー40がブレードカバー30に固定される。これにより、図4に示すように切削ブレード28の概略上半分がブレードカバー30及び着脱カバー40により覆われる。
50はブレード検出ブロックであり、ねじ54によりブレードカバー30に取り付けられる。ブレード検出ブロック50には発光素子及び受光素子からなる図示しないブレードセンサが取り付けられており、このブレードセンサにより切削ブレード28の切刃28aの状態を検出する。
ブレードセンサにより切刃28aの欠けを検出した場合には、切削ブレード28を新たな切削ブレードに交換する。55はブレードセンサの位置を調整するための調整ねじである。
切削ブレード28を交換する際には、着脱カバー40及びブレード検出ブロック50を図3に示すようにブレードカバー30から取り外し、この状態で切削ブレード28を交換する。
このように構成された切削装置2において、ウエーハカセット8に収容されたウエーハWは、搬出入手段10によってフレームFが挟持され、搬出入手段10が装置後方(Y軸方向)に移動し、仮置き領域12においてその挟持が解除されることにより、仮置き領域12に載置される。そして、位置合わせ手段14が互いに接近する方向に移動することにより、ウエーハWが一定の位置に位置づけられる。
次いで、搬送手段16によってフレームFが吸着され、搬送手段16が旋回することによりフレームFと一体となったウエーハWがチャックテーブル18に搬送されてチャックテーブル18により保持される。そして、チャックテーブル18がX軸方向に移動してウエーハWはアライメント手段20の直下に位置づけられる。
アライメント手段20が切削すべきストリートを検出するアライメントの際のパターンマッチングに用いる画像は、切削前に予め取得しておく必要がある。そこで、ウエーハWがアライメント手段20の直下に位置づけられると、撮像手段22がウエーハWの表面を撮像し、撮像した画像を表示手段6に表示させる。
以下、撮像手段22によるアライメントの概要について説明する。切削装置2のオペレータは、操作手段4を操作することにより、撮像手段22で撮像し、表示手段6上に表示された画像をゆっくりと移動させながらパターンマッチングのターゲットとなるキーパターンを探索する。このキーパターンは、例えばデバイスD中の回路の特徴部分を利用する。
オペレータがキーパターンを決定すると、そのキーパターンを含む画像が切削装置2のアライメント手段20に備えたメモリに記憶される。また、そのキーパターンとストリートS1,S2の中心線との距離を座標値等によって求めその値もメモリに記憶させておく。
さらに、撮像画像を画面上でゆっくりと移動することにより、隣り合うストリートとストリートとの間隔(ストリートピッチ)を座標値等によって求め、ストリートピッチの値についてもアライメント手段20のメモリに記憶させておく。
ウエーハWのストリートに沿った切断の際には、記憶させたキーパターンの画像と実際に撮像手段22により撮像されて取得した画像とのパターンマッチングをアライメント手段20にて行う。このパターンマッチングは、X軸方向に伸長する同一ストリートS1に沿った互いに離間した少なくとも2点で実施する。
まず、A点で撮像した画像を画面上でゆっくりと移動させながら、記憶させたキーパターンと実際の画像のキーパターンとのパターンマッチングを行い、キーパターンがマッチングした状態で画面を固定する。
このようにA点での撮像画面からパターンマッチングを実施したら、チャックテーブル18をX軸方向に移動させてA点とX軸方向に相当離れたB点でのパターンマッチングを行う。
このとき、A点からB点まで一気に移動してパターンマッチングを行うのではなく、B点への移動途中の複数個所で必要に応じてパターンマッチングを実施してY軸方向のずれを補正すべくチャックテーブル18を僅かに回転させてθ補正を行って、最終的にB点でのパターンマッチングを実施することが好ましい。
A点及びB点でのパターンマッチングが完了すると、2つのキーパターンを結んだ直線はストリートS1と平行となったことになり、キーパターンとストリートS1の中心線との距離分だけ切削手段24をY軸方向に移動させることにより、切削しようとするストリートと切削ブレード28との位置合わせを行う。
切削しようとするストリートと切削ブレード28との位置合わせが行われた状態で、チャックテーブル18をX軸方向に移動させるとともに、切削ブレード28を高速回転させながら切削手段24を下降させると、位置合わせされたストリートが切削される。
切削ブレード28によるストリートの切削の際に、切削水供給ノズル32,42から切削水を切削ブレード28及びウエーハWに向かって噴出しながらストリートの切削を遂行する。切削ブレード28に切削水を噴出することにより切削ブレード28を冷却する。
メモリに記憶されたストリートピッチずつ切削手段24をY軸方向にインデックス送りにしながら切削を行うことにより、同方向のストリートS1が全て切削される。更に、チャックテーブル18を90°回転させてから、上記と同様の切削を行うと、ストリートS2も全て切削され、個々のデバイスDに分割される。
以下、本発明のウエーハの切削加工方法について、図5及び図6を参照して説明する。まず、図5(A)に示すように、切削水64を供給しながらウエーハを第1の方向の複数のカットラインS1に沿って切断する第1フルカット工程を実施する。
図5及び図6において、28は切削ブレード、60は切削ブレードの回転方向、62は見た目の切削ブレード進行方向、64は切削水、66は切削屑(コンタミ)をそれぞれ示している。さらに、1,2,3…16,17,18はカット順序(切削順序)を示している。
ここでフルカット工程とは、図7に示すように、チャックテーブル18を矢印68で示すX軸方向に移動させながら切削ブレード28を矢印60方向に高速回転させて所定距離下降させ、ウエーハWをダイシングテープTの一部に切り込みを入れながらストリート(カットライン)に沿って切断する切削工程を言う。第1フルカット工程が終了すると、第1の方向のカットラインS1に沿って切削屑(コンタミ)66が残留する。
第1フルカット工程が終了すると、図5(B)に示すように、切削水64を供給しながら第1の方向のカットラインS1と直交する第2の方向の複数のカットラインS2に沿ってウエーハを切断して複数のチップに分割する第2フルカット工程を実施する。第2フルカット工程終了後には、切削屑が第1の方向のカットラインS1と第2の方向のカットラインS2の交点付近にしばしば滞留する。
第2のフルカット工程が終了すると、図6(A)に示すように、第1フルカット工程で切断された第1の方向のカットラインS1上を、切削ブレード28がウエーハから所定距離離れて沿うようにチャックテーブル18によりウエーハを移動させ、切削ブレード28の高速回転によって加速された切削水64を第1の方向のカットラインS1周辺に当て、ウエーハの上面及び第1の方向のカットラインS1中の切削屑を洗浄する第1のクリーンカット工程を実施する。
ここで、クリーンカット工程とは、図8に示すように、切削ブレード28の刃先をウエーハWの上面より高くして実際には切削を行わない空切り工程を言う。図8で矢印70はダウンカットのチャックテーブル18の移動方向であり、矢印72はアップカットのチャックテーブル18の移動方向である。
第1のクリーンカット工程が終了すると、最後にフルカットした方向(第2のカットラインS2方向)と直交する方向(第1のカットラインS1方向)に排出されたコンタミが第1のカットラインS1中に滞留しても、それを効率的に洗い流すことが可能となる。
しかし、この第1のクリーンカット工程を実施しても、第1の方向のカットラインS1と第2の方向のカットラインS2の交点付近に若干のコンタミが滞留することがある。よって、第1のクリーンカット工程終了後に、図6(B)に示すように、第2のクリーンカット工程を実施する。
第2のクリーンカット工程では、第2フルカット工程で切断された第2の方向のカットラインS2上を、切削ブレード28がウエーハWから所定距離離れて沿うようにチャックテーブル18でウエーハを移動させ、切削ブレード28の高速回転によって加速された切削水64を第2の方向のカットラインS2周辺に当て、ウエーハWの上面及び第2の方向のカットラインS2中の切削屑を洗浄する。好ましくは、第1及び第2のクリーンカット工程は、切削ブレード28の刃先をウエーハWの上面より0.01〜5mm高い位置に位置付けて行う。
このように、図6(A)に示す第1の方向の第1クリーンカット工程を実施後、図6(B)に示す第2の方向の第2クリーンカット工程を実施することにより、第1クリーンカット工程で第2の方向のカットラインS2中に排出され滞留するコンタミが発生しても、このコンタミを確実に洗い流すことができる。
図9に示すように、クリーンカット工程時に、実線74で示すダウンカットと、破線76で示すアップカットとを交互に繰り返すことにより、ウエーハWの移動距離を最短にすることができ、効率的なクリーンカット工程にするようにしても良い。
ここで、ダウンカットとは、ウエーハを切削する位置における切削ブレード28の回転が下向き、すなわち切削ブレード28の回転方向とウエーハの送り方向が順方向である切削方法であり、アップカットとは、ウエーハを切削する位置における切削ブレード28の回転が上向き、すなわち切削ブレード28の回転方向とウエーハの送り方向が逆方向である切削方法を言う。
以上説明した本発明のウエーハの切削加工方法は、特にMEMS(マイクロマシーン)ウエーハに適用してその効果が大である。MEMSウエーハを切削する場合には、切削水供給手段として上述した特許文献3〜5に開示されたVノズル、スプレーダクト、サイドフローノズルを使用するのが望ましい。
これらのノズルを使用してMEMSウエーハの切削加工を行うことにより、MEMS構造の破損を大きく抑制することができ、更に切削屑(コンタミ)も綺麗に洗浄することができる。
本発明のウエーハの切削加工方法を実施可能な切削装置の外観斜視図である。 フレームと一体化されたウエーハを示す斜視図である。 切削手段(切削ユニット)の分解斜視図である。 切削手段の斜視図である。 図5(A)は第1フルカット工程を説明する図であり、図5(B)は第2フルカット工程を説明する図である。 図6(A)は第1のクリーンカット工程を説明する図であり、図6(B)は第2のクリーンカット工程を説明する図である。 ウエーハフルカット時の一部断面側面図である。 ウエーハクリーンカット時の一部断面側面図である。 クリーンカット工程においてダウンカットとアップカットと交互に行う場合の切削ブレードの軌跡を示す模式図である。
符号の説明
2 切削装置
18 チャックテーブル
24 切削手段
26 スピンドル
28 切削ブレード
32,42 切削水ノズル
64 切削水
66 切削屑(コンタミ)
70 ダウンカット時のチャックテーブル移動方向
72 アップカット時のチャックテーブル移動方向
74 ダウンカットのカットライン
76 アップカットのカットライン

Claims (2)

  1. ウエーハを保持するチャックテーブルと、該ウエーハを切削する切削ブレードを回転可能に支持した切削手段と、該切削ブレードに切削水を供給する切削水供給手段と、該チャックテーブルを該切削ブレードに対して加工送り方向に移動する加工送り手段とを備えた切削装置を用い、ウエーハを複数のチップに切断するウエーハの切削加工方法であって、
    切削水を供給しながら前記ウエーハを第1の方向の複数のカットラインに沿って切断する第1フルカット工程と、
    切削水を供給しながら前記第1の方向のカットラインと直交する第2の方向の複数のカットラインに沿って、前記ウエーハを切断して複数のチップに分割する第2フルカット工程と、
    前記第1フルカット工程で切断された前記第1の方向のカットライン上を、前記切削ブレードが前記ウエーハから所定距離離れて沿うように前記ウエーハを移動させ、前記切削ブレードの高速回転によって加速された切削水を該第1の方向のカットライン周辺に当て、ウエーハの上面及び前記第1の方向のカットライン中の切削屑を洗浄する第1のクリーンカット工程と、
    前記第2フルカット工程で切断された前記第2の方向のカットライン上を、前記切削ブレードが前記ウエーハから所定距離離れて沿うように前記ウエーハを移動させ、前記切削ブレードの高速回転によって加速された切削水を該第2の方向のカットライン周辺に当て、前記ウエーハの上面及び前記第2の方向のカットライン中の切削屑を洗浄する第2のクリーンカット工程と、
    を具備したことを特徴とするウエーハの切削加工方法。
  2. 前記第1及び第2のクリーンカット工程は、前記切削ブレードの刃先を前記ウエーハの上面より0.01〜0.5mm高い位置に位置付けて行うことを特徴とする請求項1記載のウエーハの切削加工方法。
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