JP2009055068A5 - - Google Patents

Claims (11)

1. リソグラフィ装置であって、
   光学素子を有する投影系と、
   前記投影系の下に位置可能なテーブルと、
   前記投影系と前記テーブルとの間の空間に液体を供給するための液体供給系であって、前記光学素子が前記液体に接続するように構成された液体供給系と、
   前記光学素子の高さを測定するように構成されたセンサと
   前記光学素子の高さの変化を少なくとも部分的に補正するために、前記テーブルを移動させるように構成された補正系と、を含む、リソグラフィ装置。
2. 前記光学素子の高さを測定するために、前記光学素子から進む測定ビームを検出するようにセンサが構成される、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
3. 前記センサが、前記測定ビームを前記光学素子に投影するようにさらに構成される、請求項２に記載のリソグラフィ装置。
4. 前記センサが、前記光学素子から反射する測定ビームを検出するように構成され、前記測定ビームと基板又は前記テーブルから反射されるビームとの間の干渉によって作られたフリンジの値を求めることによって、前記光学素子の高さを測定するように構成される、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
5. 前記センサが、基板又は前記テーブルの高さを測定するように構成されたレベル・センサである、請求項１ないし４のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
6. 前記光学素子の高さの変化が、焦点誤差又は球面収差、或いはその両方の尺度であり、このような焦点誤差又は球面収差、或いはその両方を少なくとも部分的に補正するように構成された補正系をさらに含む、請求項１ないし５のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
7. 浸漬式リソグラフィ装置の結像誤差を補正する方法であって、
   前記浸漬式リソグラフィ装置において、投影系と前記投影系のテーブルとの間の液体に接続された、前記投影系の光学素子の高さを測定する工程と、
   前記テーブルの移動によって前記結像誤差を少なくとも部分的に補正する工程と
   を含む、補正方法。
8. 前記結像誤差が、焦点誤差又は球面収差、或いはその両方である、請求項７に記載の補正方法。
9. 前記高さを測定する工程が、前記光学素子に測定ビームを投影する工程と、前記光学素子から進む測定ビームを検出する工程とを含む、請求項７又は８に記載の補正方法。
10. 前記高さを測定する工程が、前記光学素子から反射する測定ビームを検出する工程と、前記測定ビームと前記テーブル又は前記テーブル上に保持された基板から反射するビームとの間の干渉によって作られたフリンジの値を求める工程とを含む、請求項７又は８に記載の補正方法。
11. 前記高さを測定する工程が、前記テーブル又は前記テーブル上に保持された基板の高さを測定するように構成されたレベル・センサを使用して行われる、請求項７ないし１０のいずれか一項に記載の補正方法。