JP2009020964A - 磁気記録媒体用基板の洗浄方法および磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ナノバブル水を用いて磁気記録媒体用基板表面を洗浄することを特徴とする磁気記録媒体用基板の洗浄方法および該洗浄方法で洗浄された基板上に、少なくとも磁性層、保護層、及び、液体潤滑層を順次形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【選択図】図1
Description
この磁気配向性低下の原因としては、Ni−Pメッキ表面の酸化が原因と考えられ、より、酸化を抑制することと同時に、洗浄品質を向上させることが求められていた。
また、この洗浄方法を採用する本発明の磁気記録媒体の製造方法によれば、アルミニウム合金系材料の非磁性基板を用いた高記録密度対応の異方性磁気記録媒体を提供することが可能となる。
生じる反強磁性結合の大きさは、安定化層、スペーサ層、および磁性層の組成・膜厚、成膜条件(圧力・雰囲気など)、各層の平滑性等の種々の要因に依存する。なお、この安定化層およびスペーサ層の対を1対のみ設けてもよく、磁性層間に反強磁性結合が生じる限り、安定化層およびスペーサ層の対を更に追加することも可能である。
表面にNi−Pメッキを施した基板を用い、テクスチャ加工によりNi−Pメッキ膜表面に溝形成を行ない、その後の洗浄工程で、図1に示す装置を用いて基板を純水に浸漬させる際に、純水中に窒素を混入したナノバブルを発生させたナノバブル水に基板を浸漬させて洗浄を行なった。なお、ナノバブルは、市販のナノバブル発生装置(株式会社アスプ製、ナノバブル発生装置AS−K1)を用いて発生させた。
窒素の代わりにヘリウムのナノバブルを発生させたナノバブル水を用いた以外は実施例1と同様にして洗浄を行った。このようにして洗浄した基板を用いて実施例1と同様にして基板表面の酸素量、磁気記録媒体のOR値、磁気記録媒体の基板表面の残存パーティ来る数を測定した。その結果を表1〜3、図2〜4に示す。
窒素ナノバブル水の代わりに純水を用いた以外は実施例1と同様にして基板の洗浄を行い、基板表面の酸素量を評価した。その結果を実施例1の結果と共に、図2、表1に示す。
また、こうして洗浄された基板を用いた以外は実施例1と同様にして磁気記録媒体を作製し、その磁気配向性(OR)を評価した。その結果を実施例1の結果と共に図3、表2に示す。
また、得られた磁気記録媒体の基板表面に残るパーティクル数を測定した。その結果を実施例1の結果と共に図4に示す。
窒素ナノバブル水の代わりに酸素ナノバブル水を用いた以外は実施例1と同様にして基板の洗浄を行った。このようにして洗浄した基板を用いて実施例1と同様にして基板表面の酸素量、磁気記録媒体のOR値、磁気記録媒体の基板表面の残存パーティクル数を測定した。その結果を実施例1の結果と共に表1〜3、図2〜4に示す。
2:外槽
3:基板
4:注入口
5:開口
6:排出口
Claims (6)
- ナノバブル水を用いて磁気記録媒体用基板表面を洗浄することを特徴とする磁気記録媒体用基板の洗浄方法。
- 前記ナノバブル水が純水中に不活性ガスからなるナノバブルを保持させたものであることを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体の洗浄方法。
- 前記ナノバブル水が純水中に直径が1μmに満たない超微小気泡を保持させたものであることを特徴とする請求項1または2に記載の磁気記録媒体の洗浄方法。
- 前記基板がテクスチャ加工された基板であることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の磁気記録媒体用基板の洗浄方法。
- 前記基板が表面にNi−Pメッキ層を有する基板をテクスチャ加工してなるものであることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の磁気記録媒体用基板の洗浄方法。
- 請求項1ないし5のいずれか1項に記載の磁気記録媒体用基板の洗浄方法で洗浄された基板上に、少なくとも磁性層、保護層、及び、液体潤滑層を順次形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
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