JP2008506982A - 径方向に及び/又は方位角方向に偏光させられた光ビームを発生させる方法及び装置 - Google Patents

径方向に及び/又は方位角方向に偏光させられた光ビームを発生させる方法及び装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2008506982A
JP2008506982A JP2007520949A JP2007520949A JP2008506982A JP 2008506982 A JP2008506982 A JP 2008506982A JP 2007520949 A JP2007520949 A JP 2007520949A JP 2007520949 A JP2007520949 A JP 2007520949A JP 2008506982 A JP2008506982 A JP 2008506982A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light beam
generating
birefringent material
converging
polarized
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2007520949A
Other languages
English (en)
Inventor
スタリンガ,シュールト
ピーテル バッケル,レフィニュス
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Koninklijke Philips NV
Koninklijke Philips Electronics NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Koninklijke Philips NV, Koninklijke Philips Electronics NV filed Critical Koninklijke Philips NV
Publication of JP2008506982A publication Critical patent/JP2008506982A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/7055Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
    • G03F7/70566Polarisation control
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/08Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of polarising materials
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S359/00Optical: systems and elements
    • Y10S359/90Methods

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Microscoopes, Condenser (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Abstract

物体平面上へと投射させられるものである偏光させられた光ビームを発生させるための方法及び装置が、提供される。収束する又は発散する光ビーム(18)が、発生させられる。その収束する又は発散する光ビームは、一軸性の複屈折性の材料を含む部材(22,52)を通じて投射させられるが、その複屈折性の材料は、その光ビームの光軸(12)に対して本質的に平行な対称軸を有すると共にその部材は、その物体平面からある距離に置かれる。それによって、例えば、様々な光学的な目的に、たとえば、光学的なデータを読み取ること/書き込むことに、又は、顕微鏡法に、使用することができる径方向に偏光させられたビームを作り出すことは、可能である。

Description

本発明は、径方向に及び/又は方位角方向に偏光させられた光ビームを発生させるための方法及び装置に関する。特に、本発明は、その光ビームの述べられた偏光を基礎として相対的に狭い焦点のスポットを有する光ビームを発生させるための方法及び装置に関する。
多数の光学系において、小さい細部は、光ビームによって分解されるものである。例えば、光学ディスクの駆動装置においては、データは、データ層上へと波長λ及び開口数NAのビームを集束させること、及び、レンズの開口の中へと逆戻りに反射させられる光の量を測定することによって、読み出される。同じ原理が、走査顕微鏡に適用される。これらの系における最も小さい分解可能な細部は、λ/NAの程度のものである。光学的なリソグラフィーの装置のような、従来の結像系において、対物レンズのNAは、たいてい、走査顕微鏡用のものと同じ方式で、分解能を決定する。これらの系の全てについて、小さいNAから適度なNAまでについて、その光ビームの偏光が、あまり顕著な役割を果たさないことは、妥当性を有する。しかしながら、大きいNAについては、その偏光状態が、その系の分解の性質に高度に関連性のあるものである。従来、その偏光は、その系の瞳にわたって均一なもの、及び、直線のもの又は円形のもののいずれかであるように取られる。不均一な偏光状態は、焦点に近い光の分配を変える。例えば、その瞳にわたって径方向に配向させられた直線偏光を備えたビームは、相対的に狭い焦点のスポットに帰着することが、報告されている(R.Dorn,S.Quabis,and G.Leuchs,Sharper focus for a radially polarized light beam,Physical Review Letters,Volume 91,233901,2003(非特許文献1)参照)。このような径方向に偏光させられたビームが、その瞳の中央の部分を遮断すること(いわゆる、アポディゼーション)によって、さらに変更させられるとき、その焦点のスポットにわたる偏光状態は、実質的に、直線のものであると共に、その系の光軸に沿って配向させられる。これは、均一な直線偏光での低いNAの結像に対比して、有効であるが、そこでは、その焦点のスポットにわたる偏光状態が、実質的に直線のものであると共に、その光軸に対して垂直に配向させられる。このように、ある光学系内に径方向に偏光させられた光ビームを提供することは、新規な種類の結像を可能にする。
先行技術に従って、径方向に偏光させられたビームは、生じさせることが、困難なものである。例えば、レーザーを変更することが、又は、区分された波長板を導入すると共に光学フィルターを清浄化することが、又は、複雑なコンピューターで発生させられた回折素子を使用することが、要求される。
R.Dorn,S.Quabis,and G.Leuchs,Sharper focus for a radially polarized light beam,Physical Review Letters,Volume 91,233901,2003
本発明の目的は、単純な手段で、瞳にわたって所望の直線偏光を備えた、及び特に瞳にわたって径方向に配向させられた直線偏光を備えた、光ビームを提供することである。
上記の目的は、独立請求項の特徴によって解決される。さらに、本発明の発展及び好適な実施形態は、従属請求項にそれらの概略が述べられる。
本発明と一致して、提供されるものは、
収束する又は発散する光ビームを発生させること;及び、一軸性の複屈折性の材料を含む部材を通じてその収束する又は発散する光ビームを投射すること:のステップを含む、物体平面へと投射されるものである偏光させられた光ビームを発生させる方法であるが、その一軸性の複屈折性の材料は、その光ビームの光軸に対して本質的に平行な対称軸を有すると共に、その部材は、その物体平面からある距離に置かれる。
複屈折性の材料は、光の偏光状態に依存する屈折率を有する。例えば、その偏光が、その一軸性で複屈折性の材料の対称軸に沿ったものであるとき、その屈折率は、neであると共に、その偏光が、その対称軸に対して垂直なものであるとき、その屈折率は、noであるが、そこでは、no及びneは、それぞれ、正常な屈折率及び異常な屈折率と呼ばれる。光のビームが、その対称軸と角度qで伝わるとき、その伝播方向及びその対称軸によって張られた平面に対して垂直な偏光させられた状態は、正常なモードと称されると共に、屈折率noを有する;その伝播方向及びその対称軸によって張られた平面における偏光状態は、異常なモードと称されると共に、角度θに依存する屈折率、すなわち、
Figure 2008506982
を有する。一軸性の複屈折性の材料の平面の平行なスラブを通じて/の中へと、その複屈折性のスラブの対称軸が、その光軸に平行なものであるように、集束することの効果は、S.Stallinga,Axial birefringence in high−numerial−aperture optical system and the light distribution close to focus,Journal of the Optical Society of America A,Volume 18,2846−2859,2001において研究されている。
その正常なモードが、その系の瞳において方位角方向に偏光させられるビームに対応するのに対して、その異常なモードが、その系の瞳において径方向に偏光させられるビームに対応するように見える。さらには、これらの二つのビームは、二つの別個の焦点が、相互のものから距離dΔn/nに生じるように、相互に関してデフォーカスさせられるが、そこでは、均一な厚さのスラブの場合には、dは、そのスラブの厚さであり、Δn=ne−noであり、且つ、nは、平均の屈折率である。
好ましくは、その一軸性の複屈折性の材料を通じて伝えられる光は、異常なモード及び正常なモードを含むが、それらモードは、異なる焦点を有すると共に、これらのモードの一方を実質的に遮断するための空間的なフィルターが、提供される。平面の平行なスラブが、一軸性の複屈折性の材料を含む物体として使用されるとき、その異常なモード及びその正常なモードの両方が、その物体を通過することによって発生させられる。これらのモードの一方のみが、光学的なデータを処理するために使用されるものであるという場合には、他方のモードをフィルター処理することは、好都合なものであると共に、それによって、結果として生じる像における背景を低減する。
好適な実施形態に従って、その正常なモードは、その空間的なフィルターによって遮断されると共に、それによって、そのフィルターを通過した径方向に偏光させられたビームを発生させる。このような径方向に偏光させられたビームの集束は、相対的に狭い焦点のスポットに帰着する。
さらなる実施形態に従って、その異常なモードは、その空間的なフィルターによって遮断されると共に、それによって、そのフィルターを通過した、方位角方向に偏光させられたビームを発生させると共に、その方法は、方位角方向に偏光させられたビームの中へπ/2回転子を置く:ステップをさらに含むと共に、それによって、そのπ/2回転子を通過した、径方向に偏光させられたビームを発生させる。このように、この場合にもまた、径方向に偏光させられたビームは、得られるが、集束に関して述べた利点に至る。
さらなる好適な実施形態において、アポディザー(apodizer)は、径方向に偏光させられたビームの中へ置かれる。アポディザーは、その瞳の中央の部分を遮断する。それによって、実質的に直線のものであると共にその系の光軸に沿って配向させられる、その焦点のスポットにわたる偏光状態が、得られる。
平面の平行なスラブが、一軸性の複屈折性の材料を含む部材として使用されるとき、この物体の要求された厚さは、二つの焦点の間における所望の分離に依存する。それら二つの焦点の軸上の分離は、焦点深度nλ/NAよりもはるかに大きいもの、即ち、(dΔn/λ)(NA/n)>>1であることが仮定される。λ=405nm、NA=0.85、n=1.6、Δn=0.15(液晶性の材料について典型的なもの)については、厚さdは、約10μmよりもはるかに大きいものでなければならないと共に、このように、50μmの厚さは、十分なものであることになる。
本発明に従った方法のさらなる実施形態は、
Figure 2008506982
に従って入射の角度θiと共に変動する厚さdを有する一軸性の複屈折性の材料を含む部材を提供する:ステップを含むが、そこでは、λは、その光の波長であり、noは、その正常なモードについて屈折率であると共に、neは、その異常なモードについての屈折率であり、その実施形態は、その部材を通過したビームの中へπ/4回転子を置くステップを含むが、それによって、π/4回転子を通過した、径方向に偏光させられたビームを発生させる。この実施形態に従って、その部材は、円偏光させられた光の収束する又は発散するビームによって照射させられた、その光軸に対して実質的に平行な対称軸を備えた複屈折性の層として設計されるが、その部材は、そのビームの、方位角方向に偏光させられた成分と径方向に偏光させられた成分との間に四分の一の波長の遅延を導入する。有効な屈折率が、入射の角度θiに依存性のものであるので、その複屈折性の層の厚さは、上に記載したような角度の関数として変動する。その複屈折性の層は、光の収束する又は発散する錐体における全ての光線について径の方向と45度の角度を有する直線偏光のプロフィールを作り出す。45度を超えてその偏光を回転させる回転子、たとえば、石英のような、光学的に活性な材料のスラブ、を通じてそのビームを案内することによって、径方向に偏光させられた又は方位角方向に偏光させられたビームが、作り出される。異常な及び正常な成分が作り出されると共にこれらの成分の一方のみが使用される、本発明の実施形態と比較すると、ここで議論した解決手段は、光が、光学的なデータを処理するために失われないという利点を有する。
本発明と一致して、さらに提供されるものは、収束する又は発散する光ビームを発生させるための手段;その収束する又は発散する光ビームの中に位置させられた一軸性の複屈折性の材料を含む部材:を含む、物体平面へと投射させられるものである偏光させられた光ビームを発生させるための装置であるが、その一軸性の複屈折性の材料は、その収束する又は発散する光ビームの光軸に対して本質的に平行な対称軸を有すると共に、その部材は、その物体平面からある距離にさらに位置させられる。
本発明のなおさらなる態様に従って、提供されるものは、収束する又は発散する光ビームの中へ置かれるように適合させられた一軸性の複屈折性の材料を含む部材であるが、その部材は、
Figure 2008506982
に従って入射の角度θiと共に変動する厚さdを有すると共に、そこでは、λは、その光の波長であり、noは、その正常なモードについての屈折率であると共に、neは、その異常なモードについての屈折率である。
本発明は、本発明に従った装置を含む光学デバイスにさらに関する。
本発明のこれらの及び他の態様は、以後に記載した実施形態から明らかであると共にそれら実施形態を参照して解明されると思われる。
今、本発明を、添付する図面を参照して、一例として、より詳細に記載することにする。
図1は、本発明を説明するために使用されるものである基本的な用語を定義するための光学的な構成を示す。光ビーム10は、光軸12に対して平行に伝わると共に瞳の平面16を備えたレンズ14に入射するものである。レンズ14は、開口数NA=nsinαを備えた収束する光ビーム18を生じさせるが、そこでは、αは、収束する光の錐体内の光線が光軸12と作る、最も大きい角度であると共に、そこでは、nは、そのビームが集束させられる、媒体の屈折率である。その光の収束するビームは、層20、例えば、光学ディスクのデータ層、上へ集束させられる。
図2a及び2bは、それぞれ、径方向の及び方位角方向の偏光が示唆される、光ビームを通じた断面を示す。それら断面は、それら光ビームの光軸に対して垂直に取られる。ある一定の点における矢印は、その点における光線についての偏光を示唆する。このように、図2aは、径方向に偏光させられたビームを示すと共に、図2bは、方位角方向に偏光させられたビームを示す。
図3は、本発明を実例で説明するための光学的な構成を示す。光ビーム10は、光軸12に対して平行に伝わると共に望遠鏡の第一のレンズ14に入射するものである。レンズ14は、光軸12に対して平行な対称軸を有する一軸性の複屈折性のスラブ22を通過する、収束する光ビーム18を発生させる。これは、異常な光ビーム24及び正常な光ビーム26への収束する光ビーム18の分割に帰着する。異常な光ビーム24は、第一の焦点28を有すると共に、正常な光ビーム26は、第二の焦点30を有する。空間的なフィルター32は、正常なモードを遮断すると共に、その望遠鏡の第二のレンズ34は、平行な光ビーム36を発生させる。その空間的なフィルターは、ピンホールとして実現される。この平行な光ビーム36は、本質的に径方向に偏光させられた光ビームである。
図4は、本発明を実例で説明するためのさらなる光学的な構成を示す。図4に従った光学的な構成は、主として、図3に示された光学的な構成に対応する。図3に従った構成と対比して、図4に従った空間的なフィルターは、正常な光ビーム26の焦点における小さい掩蔽38として実現される。それによって、その正常なモードを遮断することの他に、その異常なモードの、中央の部分、即ち、光軸12に近い光線が、また遮断される。このように、掩蔽38は、また、アポディザーとして機能する。
図3及び4は、その正常なモードが、それぞれ、空間的なフィルター32及び38によって遮断される、実施形態を示す。さらなる実施形態に従って、その正常なモード及びその異常なモードの役割は、変化させられる、即ち、その異常なモードが、遮断されると共にその正常なモードが、その空間的なフィルターを通過する。これは、その望遠鏡の直後におけるビームが、方位角方向に偏光させられることを暗示する。その望遠鏡の直後における平行なビームの中に置かれる均一なπ/2の偏光の回転子によって、この方位角方向に偏光させられたビームを径方向に偏光させられたビームへと変換することは、可能である。このような偏光の回転子の板は、例えば、そのπ/2の回転を生じさせるために必要とされた厚さの石英のような光学的に活性な材料の均一なスラブである。
図5は、本発明に従った装置を示す。図5に従った配置において使用された望遠鏡は、図3に示された望遠鏡に対応する。レンズ34を離れる平行なビームは、径方向又は方位角方向のいずれかに偏光させられる。そのビームが、方位角方向に偏光させられる場合には、π/2の回転子40は、平行なビーム36の中へ置かれると共に、それによって、径方向に偏光させられたビームを生じさせる。この径方向に偏光させられたビームは、対物レンズ44によって、物体平面46上へと集束させられる。もしかすると、アポディザー48は、対物レンズ44の前方に置かれる。このように生じさせられた焦点のスポット50は、径方向に偏光させられたビームから結果として生じると共に、光軸12に対して平行な実質的に直線偏光を有する。
図面に明示的には示されない、さらなる実施形態に従って、空間的なフィルターを使用することは、全く要求されるものではない。代わりに、その複屈折性のスラブは、高いNAの結像系(光学ディスク読み出し系、走査顕微鏡、など)の対物レンズの直後に、その収束するビームの中へ置かれる。今、その物体は、両方のスポットによって照明される。その異常なスポットは、その正常なスポットがデフォーカスさせられるように、そのデータ層/関連性のある深度のスライス上へと集束させられる。これは、結果として生じる像における小さい相対的に均一な背景を引き起こすが、その背景は、データの抽出又は鮮明な像の形成について、それほど有害なものではない。しかしながら、必要とされるのであれば、その正常なスポットによる反射を、たいてい、図3、4及び5の実施形態に従って記載したようなものと同じ方式で、その光学ディスクの読み出し系/走査顕微鏡の検出の支部に置かれた空間的なフィルターを備えた望遠鏡の手段によって除去することができる。
図6は、本発明の一つの実施形態に従った光学的な部材を示す。図7は、本発明を実例で説明するための光学的な構成を示す。今でのところ記載した実施形態に従って、複屈折性の材料の平面の平行なスラブが、使用される。記載した実施形態のいずれにおいても、その光の一部は、失われる。図6に示したような実施形態に従って、入射の角度θiと共に変動する厚さを有する、その光軸に対して実質的に平行な対称軸を備えた複屈折性の層52が、使用される。光軸12及び収束する光ビーム18は、また、図6に示される。その複屈折性の層の厚さは、
Figure 2008506982
に従って、その入射の角度の関数として変動するが、そこでは、λは、その光の波長であり、nは、その正常なモードについての屈折率であると共に、nは、その異常なモードについての屈折率である。
図7において、複屈折性の層52、レンズ54、及び、π/4の回転子56を備えた構成が、示される。図7の上部に示されるように、円偏光させられた光が、複屈折性の層52を照射するために使用されるとすれば、図7の中間に示されるように、直線偏光のプロフィールが、作り出される。その直線偏光は、その光の収束する(又は発散する)錐体における全ての光線について、径の方向と45度の角度をなす。45度を超えてその偏光を回転させる回転子(例えば、石英のような、光学的な活性な材料のスラブ)を通じてそのビームを案内することによって、径方向に偏光させられた又は方位角方向に偏光させられたビームが、作り出される。図7の下部において、径方向に偏光させられたビームが、示される。この解決手段の利点は、光が失われないという事実である。
この構成を、また、固体浸レンズによっても実現することができることは、留意されるべきである。そのレンズの表面が、入射する光線に対して垂直なものであるので、複屈折性の層52及び回転子56の両方を、レンズ54の球面の表面上へ“堆積させる”ことができる。
本発明に従って使用された複屈折性の材料は、石英若しくはMgFのような、結晶性の媒体又は液晶性の媒体であることができる。その液晶性の媒体は、好ましくは、液晶性の重合体である。その複屈折性の材料として使用された石英の場合には、
その光軸付近の光線について最も顕著にそれ自体を明示する石英の光学的な活性を補償するためには、掩蔽での空間的なフィルター処理は、ピンホールでの空間的なフィルター処理よりもむしろ好適なものである。
図8は、たとえば図5に示された実施形態を基礎として、行われるものである本発明に従った方法を実例で説明するフローチャートを示す。図8に記載された実施形態に従って、収束する光ビームは、発生させられる(S01)。その光ビームは、その光ビームの光軸に対して本質的に平行な対称軸を有する一軸性の複屈折性の材料を含む部材を通じて、投射される(S02)。現在のところ議論された実施形態に従って、異常な及び正常なモードが、発生させられる。ステップ03において、その正常なモードは、遮断される。ステップ04に従って、その異常なモードは、光学的な目的のために、例えばデータの読み出し又は共焦点の顕微鏡法のために、使用される。
本発明の実施形態が、図面に示された及び上に記載された例と異なるものであることができることは、留意されることである。例えば、その複屈折性の材料を、また、発散するビームの中へ置くことができる。この場合には、その光学的な構成の残部は、それに応じて適合させられる必要がある。
また、上に記載されなかった均等物及び変更物が、添付する特許請求の範囲において定義される、本発明の範囲から逸脱することなく、用いられることもある。
以下に続く特許請求の範囲におけるいずれの符号も、特許請求の範囲を限定するものとして解釈するべきではない。動詞“を含むこと”の使用及びそれの活用が、いずれの請求項においても定義されたものの他に、いずれの他の要素の存在をも排除するものではないことは、自明なことであると思われる。ある要素に先立つ単語“ある”は、複数のこのような要素の存在をも排除するものではない。
−図1は、本発明を説明するために使用されるものである基本的な用語を定義するための光学的な構成を示す; −図2a及び2bは、それぞれ、径方向の及び方位角方向の伝播が示唆される、光ビームを通じた断面を示す; −図3は、本発明を実例で説明するための光学的な構成を示す; −図4は、本発明を実例で説明するためのさらなる光学的な構成を示す; −図5は、本発明に従った装置を示す; −図6は、本発明の一つの実施形態に従った光学的な部材を示す; −図7は、本発明を実例で説明するための光学的な構成を示す; −図8は、本発明に従った方法を実例で説明するフローチャートを示す。

Claims (9)

  1. 物体平面へと投射される偏光させられたビームを発生させる方法であって、
    当該方法は、
    収束する又は発散する光ビームを発生させるステップ;及び
    一軸性の複屈折性の材料を含む部材を通じて該収束する又は発散する光ビームを投射するステップ:
    を含み、
    該一軸性の複屈折性の材料は、該光ビームの光軸に対して本質的に平行な対称軸を有し、且つ、
    該部材は、該物体平面からある距離に置かれる、方法。
  2. 前記一軸性の複屈折性の材料を通じて伝えられる光は、異常なモード及び正常なモードを含み、
    該モードは、異なる焦点を有し、且つ、
    空間的なフィルターは、これらのモードの一方を実質的に遮断するために提供される、請求項1に記載の方法。
  3. 前記正常なモードは、前記空間的なフィルターによって遮断され、それによって、前記フィルターを通過した、径方向に偏光させられたビームを発生させる、請求項2に記載の方法。
  4. 前記異常なモードは、前記空間的なフィルターによって遮断され、それによって、前記フィルターを通過した、方位角方向に偏光させられたビームを発生させ、且つ、
    当該方法は、前記径方向に偏光させられたビームの中へπ/2の回転子を置くステップ:をさらに含み、それによって、該π/2の回転子を通過した、径方向に偏光させられたビームを発生させる、請求項2に記載の方法。
  5. アポディザーは、径方向に偏光させられたビームの中へ置かれる、請求項1に記載の方法。
  6. 当該方法は、
    Figure 2008506982
    に従って入射の角度θiと共に変動する厚さdを有する一軸性の複屈折性の材料を含む部材を提供するステップ:
    を含み、λは、前記光の波長であり、noは、前記正常なモードについての屈折率であり、且つ、neは、前記異常なモードについての屈折率であり、且つ、
    当該方法は、前記部材を通過したビームの中へπ/4の回転子を置くステップを含むと共に、それによって、該π/4の回転子を通過した、径方向に偏光させられたビームを発生させる、請求項1に記載の方法。
  7. 物体平面へと投射される偏光させられた光ビームを発生させる装置であって、
    当該装置は、
    収束する又は発散する光ビームを発生させる手段;
    該収束する又は発散する光ビームの中に位置させられた一軸性の複屈折性の材料を含む部材:
    を含み、
    該一軸性の複屈折性の材料は、該収束する又は発散する光ビームの光軸に対して本質的に平行な対称軸を有し、
    該部材は、該物体平面からある距離にさらに位置させられる、装置。
  8. 収束する又は発散する光ビームの中へと置かれるために適合させられた一軸性の複屈折性の材料を含む部材であって、
    当該部材は、
    Figure 2008506982
    に従って入射の角度θiと共に変動する厚さdを有し、λは、該光の波長であり、nは、正常なモードについての屈折率であり、且つ、nは、異常なモードについての屈折率である、部材。
  9. 請求項7に記載の装置を含む光学デバイス。
JP2007520949A 2004-07-16 2005-07-11 径方向に及び/又は方位角方向に偏光させられた光ビームを発生させる方法及び装置 Withdrawn JP2008506982A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP04300446 2004-07-16
PCT/IB2005/052284 WO2006008691A1 (en) 2004-07-16 2005-07-11 Method and apparatus for generating radially and/or azimuthally polarized light beams.

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008506982A true JP2008506982A (ja) 2008-03-06

Family

ID=35355328

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007520949A Withdrawn JP2008506982A (ja) 2004-07-16 2005-07-11 径方向に及び/又は方位角方向に偏光させられた光ビームを発生させる方法及び装置

Country Status (7)

Country Link
US (1) US7715100B2 (ja)
EP (1) EP1771754A1 (ja)
JP (1) JP2008506982A (ja)
KR (1) KR20070046114A (ja)
CN (1) CN100445781C (ja)
TW (1) TW200608056A (ja)
WO (1) WO2006008691A1 (ja)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI395068B (zh) * 2004-01-27 2013-05-01 尼康股份有限公司 光學系統、曝光裝置以及曝光方法
US20080186466A1 (en) * 2005-04-12 2008-08-07 Sirat Gabriel Y Element for defocusing tm mode for lithography
US8441639B2 (en) * 2009-09-03 2013-05-14 Kla-Tencor Corp. Metrology systems and methods
US10153838B1 (en) * 2016-12-28 2018-12-11 Facebook, Inc. Quad tracker with birefringent optics
CN110082924B (zh) * 2018-12-19 2021-06-29 浙江理工大学 一种基于径向偏振变化的矢量光束的圆偏振光生成装置
US11346769B2 (en) 2020-02-20 2022-05-31 Onto Innovation Inc. Fast generalized multi-wavelength ellipsometer
US11346768B1 (en) 2020-12-02 2022-05-31 Onto Innovation Inc. Vortex polarimeter
USD989966S1 (en) * 2021-03-08 2023-06-20 Aleksandr Tarashchansky Vision therapy device

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5150234A (en) * 1988-08-08 1992-09-22 Olympus Optical Co., Ltd. Imaging apparatus having electrooptic devices comprising a variable focal length lens
RU2093866C1 (ru) * 1990-03-15 1997-10-20 Фиала Вернер Бифокальная внутриглазная линза
NL9100379A (nl) 1991-03-01 1992-10-01 Philips Nv Sigma-deltamodulator.
CN1039745C (zh) * 1992-12-25 1998-09-09 中国科学院长春光学精密机械研究所 实时一步双波长全息干涉检测装置
JPH06317764A (ja) * 1993-04-27 1994-11-15 Olympus Optical Co Ltd 光学的ローパスフィルター
US6108131A (en) * 1998-05-14 2000-08-22 Moxtek Polarizer apparatus for producing a generally polarized beam of light
JPH11337874A (ja) * 1998-05-27 1999-12-10 Fujitsu Ltd 偏光合成装置およびそれを用いた表示装置
US6714351B2 (en) * 1999-12-29 2004-03-30 Metrologic Instruments, Inc. Illumination apparatus with polarizing elements for beam shaping
US6693711B1 (en) * 2000-05-15 2004-02-17 Regents Of The University Of Minnesota Ellipsometer using radial symmetry
JP2001349872A (ja) * 2000-06-06 2001-12-21 Shimadzu Corp 磁気センサ
DE10124803A1 (de) * 2001-05-22 2002-11-28 Zeiss Carl Polarisator und Mikrolithographie-Projektionsanlage mit Polarisator
US6683710B2 (en) * 2001-06-01 2004-01-27 Optical Research Associates Correction of birefringence in cubic crystalline optical systems
US6958864B2 (en) * 2002-08-22 2005-10-25 Asml Netherlands B.V. Structures and methods for reducing polarization aberration in integrated circuit fabrication systems

Also Published As

Publication number Publication date
US7715100B2 (en) 2010-05-11
WO2006008691A1 (en) 2006-01-26
EP1771754A1 (en) 2007-04-11
KR20070046114A (ko) 2007-05-02
CN1985197A (zh) 2007-06-20
TW200608056A (en) 2006-03-01
CN100445781C (zh) 2008-12-24
US20090040610A1 (en) 2009-02-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2008506982A (ja) 径方向に及び/又は方位角方向に偏光させられた光ビームを発生させる方法及び装置
JP2975719B2 (ja) 共焦点光学系
JP2007518211A (ja) 光学系
JP4895050B2 (ja) 顕微鏡
JP2004038139A (ja) 顕微鏡内への光線連結のための装置
JP2006243731A (ja) スポット走査式レーザ走査型顕微鏡及び同顕微鏡を調整する方法
WO2005015120A2 (en) Method and arrangement for focusing detection in an optical measurement and method and arrangement for migitating the effect of surface reflection
DE69930584T2 (de) Optische Abtastvorrichtung
Pedrini et al. Digital holographic microscopy in the deep (193 nm) ultraviolet
WO2008039156A1 (en) Optical focusing system and method
WO2009044834A1 (ja) 偏光補償光学系及びこの光学系に用いられる偏光補償光学素子
RU2399964C2 (ru) Блок оптической головки и устройство для оптического диска
JP2017530404A (ja) 試料を結像する装置
JPH07318862A (ja) 光記録媒体における波面収差の低減方法および光ヘッドおよび光ディスク装置
Uhrich et al. Submicrometer defect detection in periodic structures by photorefractive holography: system design and performance
Tičkūnas et al. 4pi multiphoton polymerization
JPH11305135A (ja) 光学式観察装置
Alimohammadian et al. Manipulating geometric and optical properties of laser-inscribed nanogratings with a conical phase front
US20080186549A1 (en) Device for Directing Radiation to a Layer, Apparatus with Such Device and Method Using Such Apparatus
KR960035483A (ko) 이중 포커싱이 가능한 광픽업장치
Fewer et al. Laser sources in direct-view-scanning, tandem-scanning, or Nipkow-disk-scanning confocal microscopy
JP2022532248A (ja) 表面にパターン化されたエバネッセント場を形成する装置およびその方法
JPH05258338A (ja) 光検出系
Goh et al. Two‐photon fluorescence surface wave microscopy
Chen Induced polarization imaging and other topics associated with the solid immersion lens

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080710

A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20100722