JP2008268632A - 液晶装置及び電子機器 - Google Patents
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Abstract
【課題】反射層の表面の凹凸に起因した電界の乱れを防止し、良好な反射表示を行うことのできる液晶装置を提供する。
【解決手段】本発明の液晶装置100は、液晶層50を挟持する一対の基板10,20を備え、前記一対の基板のうちの一方の基板20の前記液晶層50側に第1電極9と第2電極19とが設けられ、前記第1電極9と前記第2電極19との間に発生する電界によって前記液晶層50が駆動されると共に、前記一対の基板のうちの他方の基板10の前記液晶層50側に反射層29が設けられ、前記反射層29の表面に凹凸が付与されている。
【選択図】図3
【解決手段】本発明の液晶装置100は、液晶層50を挟持する一対の基板10,20を備え、前記一対の基板のうちの一方の基板20の前記液晶層50側に第1電極9と第2電極19とが設けられ、前記第1電極9と前記第2電極19との間に発生する電界によって前記液晶層50が駆動されると共に、前記一対の基板のうちの他方の基板10の前記液晶層50側に反射層29が設けられ、前記反射層29の表面に凹凸が付与されている。
【選択図】図3
Description
本発明は、液晶装置及び電子機器に関するものである。
液晶装置の一形態として、液晶層に基板面方向の電界を作用させて液晶分子の配向制御を行う方式(以下、横電界方式と称する。)のものが知られており、前記電界を生じさせる電極の形態によりIPS(In-Plane Switching)方式、FFS(Fringe-Field Switching)方式等と呼ばれるものが知られている。例えば、下記特許文献1には、誘電体膜を介した上下層に櫛歯状の電極を設けた横電界方式(FFS方式)の半透過反射型液晶装置が開示されている。
特開2005−338256号公報
半透過反射型の液晶装置では、良好な反射表示を得るために、反射層と基板との間に凹凸が形成された樹脂層を設け、かかる樹脂層により反射層に光散乱性を付与することが知られている。しかしながら、反射層の表面に凹凸を形成すると、反射層上に形成された電極に凹凸が形成され、液晶を駆動する電界の方向が乱される場合がある。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、反射層の表面の凹凸に起因した電界の乱れを防止し、良好な反射表示を行うことのできる液晶装置及び電子機器を提供することを目的とする。
上記の課題を解決するため、本発明の液晶装置は、液晶層を挟持する一対の基板を備え、前記一対の基板のうちの一方の基板の前記液晶層側に第1電極と第2電極とが設けられ、前記第1電極と前記第2電極との間に発生する電界によって前記液晶層が駆動されると共に、前記一対の基板のうちの他方の基板の前記液晶層側に反射層が設けられ、前記反射層の表面に凹凸が付与されていることを特徴とする。この構成によれば、第1電極及び第2電極と反射層とが別々の基板に形成されているため、電極間に生ずる電界が反射層の表面の凹凸によって乱されることはない。そのため、良好な反射表示を実現することができる。
本発明においては、1つのサブ画素領域内に前記反射層が形成された反射表示領域と前記反射層が形成されない透過表示領域とが設けられ、前記反射層の前記液晶層側に位相差層が設けられ、前記反射表示領域と前記透過表示領域との前記液晶層の層厚が等しく、前記反射表示領域において前記第1電極と前記第2電極との間に発生する電界の主方向が、前記透過表示領域において前記第1電極と前記第2電極との間に発生する電界の主方向と異なり、前記反射表示領域において前記第1電極と前記第2電極との間に電界を発生させない初期配向状態の前記液晶層の配向方向が、前記透過表示領域において前記第1電極と前記第2電極との間に電界を発生させない初期配向状態の前記液晶層の配向方向と異なることが望ましい。この構成によれば、透過表示領域の電界の主方向と反射表示領域の電界の主方向とが異なるため、透過表示領域における電圧印加時の液晶の配向状態と反射表示領域における電圧印加時の液晶の配向状態とを異ならせることができる。この場合、液晶層が自身を透過する光に対して付与する位相差を、透過表示領域と反射表示領域とで異ならせることができるので、液晶層の層厚を変更することなく表示光の偏光状態の差異を解消することができる。したがって本発明によれば、マルチギャップ構造を用いることなく透過表示と反射表示の双方で良好な表示を得ることができる。
本発明においては、前記反射層と前記位相差層との間に平坦化樹脂層が設けられていることが望ましい。この構成によれば、反射層の表面の凹凸を平坦化できるので、層厚の均一な位相差層を形成することができる。
本発明においては、前記反射表示領域の前記液晶層の位相差が1/2波長であり、前記位相差層の位相差が1/4波長であることが望ましい。この構成によれば、液晶層と位相差層との積層体を広帯域の1/4位相差板として機能させることができる。また、位相差層の位相差が1/4波長であるため、位相差層の層厚を小さくすることができ、位相差層全体の光学特性が精密に制御可能となる。すなわち、位相差層の層厚が大きい場合、一回の塗布工程で形成しようとすると、位相差層の層厚が不均一になる場合がある。また、位相差層は、液晶材料を配向膜上に塗布し、乾燥固化させる際に所定方向に配向させる方法により形成されるため、位相差層の層厚が大きいと、配向膜から遠い部分の液晶材料が十分に配向されなくなり、精密な光学設計ができなくなる。しかしながら、本発明の液晶装置では、位相差層の層厚が小さいため、層厚が不均一になったり、位相差層全体の配向が不十分になる等の問題が発生しにくく、位相差層全体で良好な光学特性が得られるようになる。
本発明の電子機器は、前述した本発明の液晶装置を備えたことを特徴とする。この構成によれば、表示品質に優れた電子機器を提供することができる。
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。かかる実施の形態は本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではない。下記の実施形態において、各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。また、以下の図面においては、各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構造における縮尺や数等が異なっている。
[第1の実施の形態]
図1は、本発明の第1実施形態の液晶装置100を構成するマトリクス状に形成された複数のサブ画素の回路構成図である。本実施形態の液晶装置100は、液晶に対して基板面方向の電界(横電界)を作用させ、配向を制御することにより画像表示を行う横電界方式のうち、FFS(Fringe Field Switching)方式と呼ばれる方式を採用した液晶装置である。また、基板上にカラーフィルタを具備したカラー液晶装置であり、R(赤)、G(緑)、B(青)の各色光を出射する3個のサブ画素で1個の画素を構成するものとなっている。したがって、表示を構成する最小単位となる表示領域を「サブ画素領域」と称し、一組(R,G,B)のサブ画素から構成される表示領域を「画素領域」と称する。
図1は、本発明の第1実施形態の液晶装置100を構成するマトリクス状に形成された複数のサブ画素の回路構成図である。本実施形態の液晶装置100は、液晶に対して基板面方向の電界(横電界)を作用させ、配向を制御することにより画像表示を行う横電界方式のうち、FFS(Fringe Field Switching)方式と呼ばれる方式を採用した液晶装置である。また、基板上にカラーフィルタを具備したカラー液晶装置であり、R(赤)、G(緑)、B(青)の各色光を出射する3個のサブ画素で1個の画素を構成するものとなっている。したがって、表示を構成する最小単位となる表示領域を「サブ画素領域」と称し、一組(R,G,B)のサブ画素から構成される表示領域を「画素領域」と称する。
図1に示すように、液晶装置100の画像表示領域を構成するマトリクス状に形成された複数のサブ画素領域には、それぞれ画素電極9と、画素電極9と電気的に接続されてサブ画素をスイッチング制御するTFT30とが形成されており、データ線駆動回路101から延びるデータ線6aがTFT30のソースに電気的に接続されている。データ線駆動回路101は、画像信号S1、S2、…、Snをデータ線6aを介して各画素に供給する。画像信号S1〜Snはこの順に線順次に供給しても構わないし、相隣接する複数のデータ線6a同士に対して、グループ毎に供給するようにしてもよい。
TFT30のゲートには、走査線駆動回路102から延びる走査線3aが電気的に接続されており、走査線駆動回路102から所定のタイミングで走査線3aにパルス的に供給される走査信号G1、G2、…、Gmが、この順に線順次でTFT30のゲートに印加されるようになっている。画素電極9はTFT30のドレインに電気的に接続されている。
そして、スイッチング素子であるTFT30が走査信号G1、G2、…、Gmの入力により一定期間だけオン状態とされることで、データ線6aから供給される画像信号S1、S2、…、Snが所定のタイミングで画素電極9に書き込まれるようになっている。
そして、スイッチング素子であるTFT30が走査信号G1、G2、…、Gmの入力により一定期間だけオン状態とされることで、データ線6aから供給される画像信号S1、S2、…、Snが所定のタイミングで画素電極9に書き込まれるようになっている。
画素電極9を介して液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号S1、S2、…、Snは、液晶を介して画素電極9と対向する共通電極との間で一定期間保持される。ここで、保持された画像信号がリークするのを防ぐために、画素電極9と共通電極との間に形成される液晶容量と並列に蓄積容量70が接続されている。蓄積容量70はTFT30のドレインと容量線3bとの間に設けられている。
図2は、液晶装置100の任意の1サブ画素における平面構成図である。液晶装置100のサブ画素領域には、平面視略梯子状を成すY軸方向に長手の画素電極(第1電極)9と、画素電極9と平面的に重なって配置された平面略ベタ状の共通電極(第2電極)19とが設けられている。サブ画素領域の図示左上の端部の角部(或いは各サブ画素領域の間隙)には、第1基板10と第2基板20とを所定間隔で離間した状態に保持するための柱状スペーサ40が立設されている。
画素電極9は、複数の開口スリット209sによって形成された複数本(図示では14本)の帯状電極228,229と、これらの帯状電極228,229の図示左右方向の両端部と接続された平面視略矩形枠状の枠体部9aとを備えて構成されている。画素電極9のうち反射表示領域Rに位置する部分では、開口スリット209sにより形成された複数本(図示では7本)の帯状電極228が、図示右上の方向(X軸に対して5°の方向)に延びており、複数の帯状電極228は、互いに平行に均等な間隔で配列されている。また、画素電極9のうち透過表示領域Tに位置する部分では、開口スリット209sにより形成された複数本(図示では7本)の帯状電極229が、帯状電極228の延在方向に対して45°をなす方向(X軸に対して−40°の方向)に延びており、複数の帯状電極229は、互いに平行に均等な間隔で配列されている。
共通電極19は、サブ画素領域内に部分的に設けられた反射層29を覆うように形成されている。本実施形態の場合、共通電極19はITO(インジウム錫酸化物)等の透明導電材料からなる導電膜であり、反射層29は、アルミニウムや銀等の光反射性の金属膜や、屈折率の異なる誘電体膜(SiO2とTiO2等)を積層した誘電体積層膜(誘電体ミラー)からなるものである。液晶装置100は、上記反射層29での反射光を散乱させる機能を具備していることが好ましく、かかる構成により反射表示の視認性を向上させることができる。
なお、共通電極19は、本実施形態のように反射層29を覆うように形成されている構成のほか、透明導電材料からなる透明電極と、光反射性の金属材料からなる反射電極とが平面的に区画されている構成、即ち、反射表示領域に対応して配置された透明電極と、反射表示領域に対応して配置された反射電極とを備え、両電極が透過表示領域と反射表示領域との間(境界部)で互いに電気的に接続されているものも採用することができる。この場合、透明電極と反射電極とが画素電極9との間に電界を生じさせる共通電極を構成する一方、反射電極は当該サブ画素領域の反射層としても機能する。
サブ画素領域には、X軸方向に延びるデータ線6aと、Y軸方向に延びる走査線3aと、走査線3aに隣接して走査線3aと平行に延びる容量線3bとが形成されている。データ線6aと走査線3aとの交差部に対応してその近傍にTFT30が設けられている。TFT30は走査線3aの平面領域内に部分的に形成された島状のアモルファスシリコン膜からなる半導体層35と、半導体層35と一部平面的に重なって形成されたソース電極6b、及びドレイン電極32とを備えている。走査線3aは半導体層35と平面的に重なる位置でTFT30のゲート電極として機能する。
TFT30のソース電極6bは、データ線6aから分岐されて半導体層35に延びる平面視略L形を成しており、ドレイン電極32は、半導体層35上から−Y側に延びて平面視略矩形状の容量電極31と電気的に接続されている。容量電極31上には、画素電極9のコンタクト部が配置されており、両者が平面的に重なる位置に設けられた画素コンタクトホール45を介して容量電極31と画素電極9とが電気的に接続されている。また容量電極31は容量線3bの平面領域内に配置されており、当該位置に厚さ方向で対向する容量電極31と容量線3bとを電極とする蓄積容量70が形成されている。
図3は、図2のA−A'線に沿う部分断面構成図である。液晶装置100は、互いに対向して配置された第1基板10と第2基板20との間に液晶層50を挟持した構成を備えており、液晶層50は第1基板10と第2基板20とが対向する領域の縁端に沿って設けられたシール材(図示略)によって両基板10,20間に封止されている。第1基板10の外面側(液晶層と反対側)には、偏光板14が設けられ、第2基板20の外面側には偏光板24が設けられている。第1基板10の背面側(図示下面側)には、光源と導光板91と反射板92とを具備したバックライト(照明装置)90が設けられている。
第1基板10は、ガラスや石英、プラスチック等からなる基板本体10Aを基体としてなり、基板本体10Aの内面側(液晶層50側)には、アクリル樹脂等の層間絶縁膜60が形成されている。層間絶縁膜60の一部には凹凸60aが形成されており、該凹凸60aを覆って反射層29が形成されている。反射層29の表面には凹凸60aに倣う凹凸形状が付与されており、該凹凸形状により反射層29が光散乱性の反射手段を構成するようになっている。
このようにサブ画素領域に部分的に反射層29が形成された本実施形態の液晶装置100では、図2に示した1サブ画素領域内のうち、反射層29の形成領域が、第2基板20の外側から入射して液晶層50を透過する光を反射、変調して表示を行う反射表示領域Rとなっている。また、反射層29の形成領域の外側の光透過領域が、バックライト90から入射して液晶層50を透過する光を変調して表示を行う透過表示領域Tとなっている。
反射層29上にはアクリル樹脂等の第1平坦化樹脂層61が形成されている。第1平坦化樹脂層61は、反射層29の表面に付与された凹凸を平坦化するためのものである。第1平坦化樹脂層61上には位相差層62が形成されている。第1平坦化樹脂層61及び位相差層62は透過表示領域Tを除く領域に形成されている。第1平坦化樹脂層61及び位相差層62の周囲にはアクリル樹脂等の第2平坦化樹脂層63が形成され、第1平坦化樹脂層61及び位相差層62によって形成された基板上の段差が平坦化されている。そして、位相差層62及び第2平坦化樹脂層63を覆ってポリイミド等からなる配向膜18が形成されている。
本実施形態の場合、位相差層62は、その光学軸方向に平行な振動方向を有する光に対して略1/4波長(λ/4)の位相差を付与するものであり、基板本体10Aの内面側に設けられたいわゆる内面位相差層である。位相差層62は、液晶材料(液晶モノマーあるいは液晶オリゴマー)を含む溶液を図示略の配向膜上に塗布し、乾燥固化させる際に所定方向に配向させる方法により形成されている。また、液晶層50は誘電異方性が正の液晶からなり、電圧を印加しない初期配向状態において、反射表示領域Rの液晶層50のリタデーションΔndは、略1/2波長(λ/2)の位相差を付与するものとなっている。このため、液晶層50と位相差層62との積層体が広帯域の1/4位相差板として機能し、可視光領域全域にわたって反射率が低下し、低反射率且つ無彩色の反射表示が得られるようになっている。
第1平坦化樹脂層61及び位相差層62の形成領域に生じた段差は第2平坦化樹脂層63により平坦化されているため、反射表示領域Rと透過表示領域Tとの液晶層50の層厚は等しくなっている。このため、マルチギャップ構造を備えないシングルギャップ構造となっており、反射表示領域Rと透過表示領域Tとの境界部で配向不良が生じにくいものとなっている。
一方、第2基板20は、ガラスや石英、プラスチック等からなる基板本体20Aを基体としてなり、基板本体20Aの内面側(液晶層50側)には、サブ画素毎に異なる色光を透過するカラーフィルタを備えたCF層22が形成されている。上記カラーフィルタは、サブ画素内で色度の異なる2種類の色材領域に区画されている構成とすることが好ましい。具体的には、透過表示領域Tの平面領域に対応して第1の色材領域が設けられ、反射表示領域Rの平面領域に対応して第2の色材領域が設けられており、第1の色材領域の色度が、第2の色材領域の色度より大きいものとされている構成を採用できる。また、反射表示領域Rの一部に非着色領域を設ける構成としてもよい。このような構成とすることで、カラーフィルタを表示光が1回のみ透過する透過表示領域Tと、2回透過する反射表示領域Rとの間で表示光の色度が異なるのを防止でき、反射表示と透過表示の見映えを揃えて表示品質を向上させることができる。なお、CF層22は、第1基板10側に形成することもできる。
CF層22の液晶層50側には、走査線3a及び容量線3bが形成されており、走査線3a及び容量線3bを覆ってゲート絶縁膜11が形成されている。ゲート絶縁膜11上に、アモルファスシリコンの半導体層35が形成されており、半導体層35に一部乗り上げるようにしてソース電極6bと、ドレイン電極32とが形成されている。ドレイン電極32の図示右側には容量電極31が一体に形成されている。半導体層35は、ゲート絶縁膜11を介して走査線3aと対向配置されており、当該対向領域で走査線3aがTFT30のゲート電極を構成するようになっている。容量電極31はゲート絶縁膜11を介して容量線3bと対向配置されており、容量電極31と容量線3bとが対向する領域に、ゲート絶縁膜11を誘電体膜とする蓄積容量70が形成されている。
半導体層35、ソース電極6b、ドレイン電極32、及び容量電極31を覆って、第1層間絶縁膜12が形成されている。第1層間絶縁膜12を覆って、ITO等の透明導電材料からなる共通電極19が形成されている。共通電極19を覆ってシリコン酸化物等からなる第2層間絶縁膜13が形成されている。第2層間絶縁膜13の液晶層側の表面にITO等の透明導電材料からなる画素電極9が形成されている。また、画素電極9、第2層間絶縁膜13を覆ってポリイミド等からなる配向膜28が形成されている。
第1層間絶縁膜12及び第2層間絶縁膜13を貫通して容量電極31に達する画素コンタクトホール45が形成されており、この画素コンタクトホール45内に画素電極9の一部(コンタクト部)が埋め込まれて、画素電極9と容量電極31とが電気的に接続されている。上記画素コンタクトホール45の形成領域に対応して共通電極19にも開口部が設けられており、この開口部を介して画素電極9と容量電極31とが電気的に接続されるとともに、共通電極19と画素電極9とが短絡しないような構成になっている。
図4は、液晶装置100の各光学部材の光学軸の配置の説明図である。偏光板14の透過軸153と偏光板24の透過軸155とは直交している。偏光板24の透過軸155は、反射表示領域Rにおいて画素電極9と共通電極19との間に生じる電界の主方向156(図2に示す帯状電極229の延在方向と直交する方向)と平行である。位相差層62の光学軸160(遅相軸)は偏光板24の透過軸155と直交している。反射表示領域Rの配向膜18,28のラビング方向161は偏光板24の透過軸155と22.5°をなす方向に配置されている。透過表示領域Tの配向膜18,28のラビング方向162は偏光板24の透過軸155と平行である。配向膜18,28のラビング方向はこれに限定されないが、画素電極9と共通電極19との間に生じる電界の主方向と交差する方向とする。そして、初期状態ではラビング方向に沿って平行配向している液晶が、画素電極9と共通電極19との間への電圧印加によって上記電界の主方向側へ回転して配向する。この初期配向状態と電圧印加時の配向状態との差異に基づいて明暗表示が成されるようになっている。
以上説明したように、本実施形態の液晶装置100によれば、画素電極9及び共通電極19と反射層29とが別々の基板に形成されているため、電極間に生ずる電界が反射層29の表面の凹凸によって乱されることはない。そのため、良好な反射表示を実現することができる。また、透過表示領域Tの電界の主方向と反射表示領域Rの電界の主方向とが異なるため、透過表示領域Tにおける電圧印加時の液晶の配向状態と反射表示領域Rにおける電圧印加時の液晶の配向状態とを異ならせることができる。この場合、液晶層50が自身を透過する光に対して付与する位相差を、透過表示領域Tと反射表示領域Rとで異ならせることができるので、液晶層50の層厚を変更することなく表示光の偏光状態の差異を解消することができる。したがって、マルチギャップ構造を用いることなく透過表示と反射表示の双方で良好な表示を得ることができる。さらに、反射層29と位相差層62との間に第1平坦化樹脂層61が設けられているため、層厚の均一な位相差層62を形成することができる。
また、反射表示領域Rの液晶層50の位相差が1/2波長であり、位相差層64の位相差が1/4波長であるため、液晶層50と位相差層62との積層体を広帯域の1/4位相差板として機能させることができる。また、位相差層62の位相差が1/4波長であるため、位相差層62の層厚を小さくすることができ、位相差層全体の光学特性を精密に制御することが可能となる。すなわち、位相差層62の層厚が大きい場合、一回の塗布工程で形成しようとすると、位相差層62の層厚が不均一になる場合がある。また、位相差層62は、液晶材料を配向膜上に塗布し、乾燥固化させる際に所定方向に配向させる方法により形成されるため、位相差層62の層厚が大きいと、配向膜から遠い部分の液晶材料が十分に配向されなくなり、精密な光学設計ができなくなる。しかしながら、本実施形態の液晶装置100では、位相差層62の層厚が小さいため、層厚が不均一になったり、位相差層全体の配向が不十分になる等の問題が発生しにくく、位相差層全体で良好な光学特性が得られるようになる。
なお、本実施形態ではFFS方式と呼ばれる方式を採用したが、同様に基板面方向の電界で液晶を動作するIPS(In Plane Switching)方式等にも上記構成を適用できる。また、本発明の技術範囲は、FFS方式やIPS方式に代表される横電界駆動型の液晶装置に限定されず、TNモードやVANモードの液晶を具備し、一方の基板の液晶層側に位相差層が設けられている液晶装置にも適用することができる。
また、本実施形態では第2平坦化樹脂層63と層間絶縁膜60とを別々の部材として形成したが、これらは一体に形成することも可能である。図5は、層間絶縁膜64の反射表示領域Rに凹部を形成し、該凹部に、反射層29、平坦化樹脂層61、位相差層62を形成した例を示している。この層間絶縁膜64は、例えば、基板上に感光性樹脂を塗布し、階調マスクを用いて反射表示領域Rと透過表示領域Tとの露光量を異ならせることにより形成することができる。階調マスクを用いて露光する際に反射表示領域R内で露光量をばらつかせることで凹凸64aを形成することができる。
[電子機器]
図6は、本発明に係る電子機器の一例である携帯電話の概略奢侈図である。携帯電話1300は、本発明の液晶装置を小サイズの表示部1301として備え、複数の操作ボタン1302、受話口1303、及び送話口1304を備えて構成されている。これにより、本発明の液晶装置により構成された表示品質に優れる表示部を具備した携帯電話1300を提供することができる。
図6は、本発明に係る電子機器の一例である携帯電話の概略奢侈図である。携帯電話1300は、本発明の液晶装置を小サイズの表示部1301として備え、複数の操作ボタン1302、受話口1303、及び送話口1304を備えて構成されている。これにより、本発明の液晶装置により構成された表示品質に優れる表示部を具備した携帯電話1300を提供することができる。
上記各実施の形態の液晶表示装置は、上記携帯電話に限らず、電子ブック、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機器等々の画像表示手段として好適に用いることができ、いずれの電子機器においても、高コントラスト、広視野角の表示が可能になっている。
9…画素電極(第1電極)、10…第1基板、19…共通電極(第2電極)、20…第2基板、29…反射層、50…液晶層、61…第1平坦化樹脂層、62…位相差層、63…第2平坦化樹脂層、100…液晶装置、156…反射表示領域の横電界の主方向、157…透過表示領域の横電界の主方向、161…反射表示領域のラビング方向(反射表示領域の初期配向状態における液晶層の配向方向)、162…透過表示領域のラビング方向(透過表示領域の初期配向状態における液晶層の配向方向)、1300…携帯電話(電子機器)、R…反射表示領域、T…透過表示領域
Claims (5)
- 液晶層を挟持する一対の基板を備え、前記一対の基板のうちの一方の基板の前記液晶層側に第1電極と第2電極とが設けられ、前記第1電極と前記第2電極との間に発生する電界によって前記液晶層が駆動されると共に、
前記一対の基板のうちの他方の基板の前記液晶層側に反射層が設けられ、前記反射層の表面に凹凸が付与されていることを特徴とする液晶装置。 - 1つのサブ画素領域内に前記反射層が形成された反射表示領域と前記反射層が形成されない透過表示領域とが設けられ、
前記反射層の前記液晶層側に位相差層が設けられ、
前記反射表示領域と前記透過表示領域との前記液晶層の層厚が等しく、
前記反射表示領域において前記第1電極と前記第2電極との間に発生する電界の主方向が、前記透過表示領域において前記第1電極と前記第2電極との間に発生する電界の主方向と異なり、
前記反射表示領域において前記第1電極と前記第2電極との間に電界を発生させない初期配向状態の前記液晶層の配向方向が、前記透過表示領域において前記第1電極と前記第2電極との間に電界を発生させない初期配向状態の前記液晶層の配向方向と異なることを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。 - 前記反射層と前記位相差層との間に平坦化樹脂層が設けられていることを特徴とする請求項2に記載の液晶装置。
- 前記反射表示領域の前記液晶層の位相差が1/2波長であり、前記位相差層の位相差が1/4波長であることを特徴とする請求項2又は3に記載の液晶装置。
- 請求項1〜4のいずれか1項に記載の液晶装置を備えたことを特徴とする電子機器。
Priority Applications (1)
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JP2007112786A JP2008268632A (ja) | 2007-04-23 | 2007-04-23 | 液晶装置及び電子機器 |
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JP2007112786A JP2008268632A (ja) | 2007-04-23 | 2007-04-23 | 液晶装置及び電子機器 |
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