JP2008256734A - Flexible substrate for liquid crystal display device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、主にフレキシブルな液晶表示装置を作製可能なカラーフィルターや、ＴＦＴアレイに用いられる液晶表示装置用フレキシブル基板に関するものである。 The present invention mainly relates to a color filter capable of producing a flexible liquid crystal display device and a flexible substrate for a liquid crystal display device used in a TFT array.
近年、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイの急速な普及に伴って、これらのディスプレイを構成するディスプレイ用部材の需要が拡大している。
現在のフラットパネルディスプレイは、その用途をテレビやデスクトップモニターのみならず、携帯用ノートパソコン、携帯電話、携帯用ページャー、携帯用ゲーム機等の携帯型電子機器等にまで広く拡大していることから、さらなる軽量化、小型化、および、薄型化が求められている。
その一方で、近年中に実施化が計画されている地上デジタル放送の本格普及や、今後のユビキタスネットワークのさらなる進化に対応して、モバイルディスプレイの普及拡大が確実に予測されることから、これに備えて現在のフラットパネルディスプレイよりもさらに薄型・軽量であるフレキシブルディスプレイの実用化が求められている。
In recent years, with the rapid spread of flat panel displays such as liquid crystal displays and organic EL displays, the demand for display members constituting these displays has increased.
Current flat panel displays are widely used not only for TVs and desktop monitors, but also for portable electronic devices such as portable notebook computers, mobile phones, portable pagers, and portable game machines. Further weight reduction, size reduction, and thickness reduction are required.
On the other hand, in response to the full-scale spread of digital terrestrial broadcasting, which is planned to be implemented in recent years, and the further evolution of the ubiquitous network in the future, the spread of mobile displays is definitely predicted. Therefore, there is a demand for practical use of a flexible display that is thinner and lighter than current flat panel displays.
ここで、フレキシブルディスプレイは、従来のフラットパネルディスプレイよりもさらに薄型化・軽量化されるという利点を有するのみならず、自在に変形させることも可能になることから、例えば、ローラブル（巻き取り可能な）モバイルディスプレイを実現することもでき、よりモバイルに適したディスプレイを得ることができるという利点もある。また、フレキシブルディスプレイは、長尺のフィルムを用いて連続プロセスによって製造することも可能になることから、大量生産性に優れるという利点も期待されている。 Here, the flexible display not only has the advantage of being thinner and lighter than the conventional flat panel display, but also can be freely deformed. ) A mobile display can be realized, and there is an advantage that a display suitable for mobile can be obtained. In addition, since the flexible display can be manufactured by a continuous process using a long film, an advantage of excellent mass productivity is also expected.
ところで、現在最も広く普及しているフラットパネルディスプレイは液晶表示装置であるが、当該液晶表示装置は、通常、基材上に複数の開口部を備えるように高精細に形成されたブラックマトリクスと、その開口部内に形成された複数色の着色層とを有するカラーフィルター、および、基材上に無数のＴＦＴ電極が規則的に配置されたＴＦＴアレイが液晶層を介して対向するように配置された構成を有している。このような液晶表示装置をフレキシブルなものにするには、上記カラーフィルターおよびＴＦＴアレイに用いられる基材を、光学的等方性を備えるフレキシブル基板に替えることが必要になる。 By the way, the flat panel display currently most widely used is a liquid crystal display device, but the liquid crystal display device usually has a black matrix formed with high definition so as to have a plurality of openings on a substrate, A color filter having a plurality of colored layers formed in the opening and a TFT array in which an infinite number of TFT electrodes are regularly arranged on the substrate are arranged so as to face each other through the liquid crystal layer. It has a configuration. In order to make such a liquid crystal display device flexible, it is necessary to replace the base material used for the color filter and the TFT array with a flexible substrate having optical isotropy.
液晶表示装置に使用可能な程度の光学的等方性を備えるフレキシブル基板としては、従来、シクロオレフィン系樹脂やセルロース誘導体からなる基板が知られている。なかでもシクロオレフィン系樹脂からなる基板は、光学的等方性に優れること、および、吸水性が著しく低いことから、液晶表示装置に用いられる偏光板や、位相差フィルムに好適に用いられている。このため、表示品質に優れたフレキシブルな液晶表示装置を得るには、このようなシクロオレフィン系樹脂からなる基材を、上記カラーフィルターやＴＦＴアレイに用いることが望ましいものである。 Conventionally, a substrate made of a cycloolefin resin or a cellulose derivative is known as a flexible substrate having optical isotropy that can be used for a liquid crystal display device. Among these, substrates made of cycloolefin resins are preferably used for polarizing plates and retardation films used in liquid crystal display devices because of their excellent optical isotropy and extremely low water absorption. . For this reason, in order to obtain a flexible liquid crystal display device excellent in display quality, it is desirable to use a substrate made of such a cycloolefin-based resin for the color filter and the TFT array.
しかしながら、このようなシクロオレフィン系樹脂からなる基材を、上記カラーフィルターやＴＦＴアレイを構成する基材として用いると、基材上に所望の精度でブラックマトリクスやＴＦＴ電極を形成することが困難であるという問題点があった。すなわち、上記カラーフィルターやＴＦＴアレイは、基板上に上記ブラックトリクスあるいは上記ＴＦＴ電極が形成されるプロセスにおいてフォトリソグラフィー法等の微細加工手段が用いられるが、そのプロセスにおいて基材に加わる熱や水分等の影響によって基材の寸法が変化してしまい、ブラックマトリクスやＴＦＴ電極が形成される精度が損なわれるという問題があった。この点、特許文献１には、シクロオレフィン系樹脂からなる基材の両面にガスバリア層等を形成したディスプレイ用基板が開示されているが、このようなディスプレイ用基板であっても液晶表示装置用の基板に用いる場合には、なお寸度安定性が不十分であるという問題点があった。
However, if such a base material made of cycloolefin resin is used as the base material for the color filter or TFT array, it is difficult to form a black matrix or TFT electrode on the base material with a desired accuracy. There was a problem that there was. That is, the color filter and the TFT array use fine processing means such as a photolithography method in a process in which the black trix or the TFT electrode is formed on the substrate. As a result, the dimensions of the base material are changed by the influence of the above, and there is a problem that the accuracy of forming the black matrix and the TFT electrode is impaired. In this regard,
本発明者らは、このような問題点に鑑みて鋭意検討した結果、液晶表示装置に用いられるフレキシブル基板に寸度変化を及ぼす外的要因としては、従来、プロセス上において基板に加わる熱や、水分が支配的であると考えられており、これまではこれらの要因に対する改善に主眼が置かれてきたが、液晶表示装置に用いられるフレキシブル基板には、その寸度変化を引き起こす特有の原因があることを見出した。
すなわち、液晶表示装置に用いられるフレキシブル基板は、当該基板上にブラックマトリクスおよび着色層、あるいは、ＴＦＴ電極等を形成するために用いられるものであるが、これらを形成する際には、通常、フォトリソグラフィー法やインクジェット法が用いられるのが一般的である。ここで、フォトリソグラフィー法やインクジェット法では、フォトレジストや特定のインクを基板上に塗布するために溶剤を用いることが必須とされるが、本発明者らの検討により、当該溶剤の影響によってフレキシブル基板に寸度変化が生じることが明らかになったのである。
このような現象は、従来ガラス基板が用いられてきた液晶表示装置においては全く問題になるものではなく、フレキシブル基板を用いる液晶表示装置に特有の問題である。
As a result of intensive studies in view of such problems, the present inventors, as an external factor that exerts a dimensional change on the flexible substrate used in the liquid crystal display device, conventionally, heat applied to the substrate on the process, Moisture is considered to be dominant, and until now the focus has been on improving these factors, but flexible substrates used in liquid crystal display devices have specific causes that cause their dimensional changes. I found out.
That is, a flexible substrate used in a liquid crystal display device is used to form a black matrix and a colored layer, a TFT electrode, or the like on the substrate. In general, a lithography method or an ink jet method is used. Here, in the photolithography method and the ink jet method, it is essential to use a solvent in order to apply a photoresist or a specific ink on the substrate. It became clear that dimensional changes occurred in the substrate.
Such a phenomenon is not a problem at all in a liquid crystal display device in which a glass substrate has been conventionally used, but is a problem peculiar to a liquid crystal display device using a flexible substrate.
本発明はこのような問題点に鑑みてなされたものであり、フレキシブルな液晶表示装置に用いられ、フォトリソグラフィー法やインクジェット法を用いてフレキシブルなカラーフィルターやＴＦＴアレイ等を高精度で作製すること可能な液晶表示装置用フレキシブル基板を提供することを主目的とするものである。 The present invention has been made in view of such problems, and is used in flexible liquid crystal display devices, and is capable of producing a flexible color filter, TFT array, or the like with high accuracy using a photolithography method or an inkjet method. The main object is to provide a flexible substrate for a liquid crystal display device.
上記課題を解決するために、本発明は温度１６０℃における耐熱寸度変化率が、−０．０５％〜＋０．０５％の範囲内であり、かつ、耐溶剤寸度変化率が−０．０５％〜＋０．０５％の範囲内であることを特徴とする、液晶表示装置用フレキシブル基板を提供する。 In order to solve the above-mentioned problems, the present invention has a heat-resisting dimensional change rate at a temperature of 160 ° C. within a range of −0.05% to + 0.05% and a solvent-resistant dimensional change rate of −0. Provided is a flexible substrate for a liquid crystal display device characterized by being in the range of 05% to + 0.05%.
本発明によれば、１６０℃における耐熱寸度変化率および耐溶剤寸度変化率がそれぞれ上記範囲内であることにより、例えば、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板を用いてカラーフィルターあるいはＴＦＴアレイを作製する際に、インクジェット法やフォトリソグラフィー法が用いられた場合であっても、寸度変化が生じることを防止できる。このため、本発明によれば、フレキシブルな液晶表示装置に用いられ、フォトリソグラフィー法やインクジェット法を用いてフレキシブルなカラーフィルターやＴＦＴアレイ等を高精度で作製することが可能な液晶表示装置用フレキシブル基板を得ることができる。 According to the present invention, since the rate of change in heat-resistant dimension and the rate of change in solvent-resistant dimension at 160 ° C. are within the above ranges, for example, a color filter or TFT array using the flexible substrate for liquid crystal display device of the present invention. Even when an ink-jet method or a photolithography method is used when producing the film, it is possible to prevent the dimensional change from occurring. Therefore, according to the present invention, a flexible liquid crystal display device that can be used for flexible liquid crystal display devices, and that can be used to produce flexible color filters, TFT arrays, and the like with high accuracy using a photolithography method or an inkjet method. A substrate can be obtained.
本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板は、飽和吸水率（２３℃）が０質量％〜０．５質量％の範囲内であることが好ましい。これにより、例えば、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板を用いてカラーフィルターやＴＦＴアレイを作製する過程において、基板に水分が曝露されたとしても、これによって寸度変化が生じることを防止することができるからである。 The flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention preferably has a saturated water absorption (23 ° C.) in the range of 0% by mass to 0.5% by mass. Thereby, for example, in the process of manufacturing a color filter or a TFT array using the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention, even if moisture is exposed to the substrate, this prevents a change in size. Because you can.
また、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板は、面内レターデーション（Ｒｅ）が０ｎｍ〜５０ｎｍの範囲内であることが好ましい。これにより本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板を用いて液晶表示装置を作製する際に、液晶表示装置の視野角特性等の表示品質を設計することが容易になるからである。 The flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention preferably has an in-plane retardation (Re) in the range of 0 nm to 50 nm. This is because, when a liquid crystal display device is manufactured using the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention, it is easy to design display quality such as viewing angle characteristics of the liquid crystal display device.
本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板は、ガラス転移温度が１６０℃以上であるシクロオレフィン系樹脂からなる耐熱基材と、上記耐熱基材の両面上に形成され、無機化合物からなる無機化合物膜が用いられた耐溶剤層とを有するものであることが好ましい。本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板がこのような構成を有するものであることにより、確実に上述した１６０℃における耐熱寸度変化率および上記耐溶剤寸度変化率を本発明で規定する範囲内にすることができるからである。
また、上記耐溶剤層に無機化合物膜が用いられていることにより、上記耐溶剤層を剛性の高いものとすることができるため、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板を寸度安定性に優れたものにできるからである。
また、上記耐熱基材としてシクロオレフィン系樹脂からなるものが用いられていることから、液晶表示装置用フレキシブル基板全体として光学的等方性に優れたものにできるため、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板の面内レターデーション（Ｒｅ）を上述した範囲にすることも容易になるからである。
さらに、耐溶剤層が上記基材の両面に形成されていることから、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板に反りやカールが生じることを防止することができるため、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板を用いて、連続プロセスにより高生産性でフレキシブルな液晶表示装置を作成することができるからである。
The flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention comprises a heat-resistant substrate made of a cycloolefin resin having a glass transition temperature of 160 ° C. or higher, and an inorganic compound film made of an inorganic compound formed on both surfaces of the heat-resistant substrate. It is preferable to have a solvent-resistant layer used. Since the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention has such a configuration, the heat resistance dimensional change rate at 160 ° C. and the solvent resistance dimensional change rate are surely within the range specified in the present invention. It is because it can be made.
In addition, since the solvent-resistant layer can be made highly rigid by using an inorganic compound film for the solvent-resistant layer, the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention has excellent dimensional stability. Because it can be made.
Moreover, since what consists of cycloolefin resin is used as said heat-resistant base material, since it can be made the thing excellent in optical isotropy as the whole flexible substrate for liquid crystal display devices, it is for liquid crystal display devices of this invention This is because it is easy to make the in-plane retardation (Re) of the flexible substrate within the above-described range.
Furthermore, since the solvent resistant layer is formed on both surfaces of the base material, it is possible to prevent the flexible substrate for the liquid crystal display device of the present invention from being warped or curled, and thus for the liquid crystal display device of the present invention. This is because a flexible liquid crystal display device can be produced by a continuous process using a flexible substrate.
本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板が上述したような構成を有する場合においては、上記耐溶剤層が、有機化合物からなる有機化合物膜と、上記有機化合物膜の両面上に形成された上記無機化合物膜とを有する有機‐無機複合膜であることが好ましい。耐溶剤層がこのような構成を有するものであることにより、上記耐溶剤層の剛性をより高いものにできるのみではなく、上記耐溶剤層にガスバリア性を付与することが可能になるため、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板の寸度安定性をさらに高いものにできるからである。 When the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention has the configuration as described above, the solvent-resistant layer includes an organic compound film made of an organic compound and the inorganic compound formed on both surfaces of the organic compound film. An organic-inorganic composite film having a film is preferable. Since the solvent resistant layer has such a configuration, not only can the rigidity of the solvent resistant layer be increased, but also gas barrier properties can be imparted to the solvent resistant layer. This is because the dimensional stability of the flexible substrate for a liquid crystal display device of the invention can be further increased.
また本発明は、上記本発明に係る液晶表示装置用フレキシブル基板が用いられたことを特徴とするカラーフィルターを提供する。 The present invention also provides a color filter using the flexible substrate for a liquid crystal display device according to the present invention.
本発明によれば、上記本発明に係る液晶表示装置用フレキシブル基板が用いられていることにより、寸度安定性に優れたカラーフィルターを得ることができる。また、本発明のカラーフィルターは、例えば、カラーフィルターを製造する過程において、フォトリソグラフィー法やインクジェット法によって着色層やブラックマトリクスが作製された場合であっても、これらの方法に用いられる溶剤や熱の影響によって、基板に寸度変化が生じることを防止できる。このため、カラーフィルターを製造する過程においても基材に寸度変化が生じることを防止できるため、より高精度に着色層やブラックマトリクスが形成されたカラーフィルターを得ることができる。 According to the present invention, a color filter having excellent dimensional stability can be obtained by using the flexible substrate for a liquid crystal display device according to the present invention. In addition, the color filter of the present invention can be used, for example, in the process of producing a color filter, even when a colored layer or a black matrix is produced by a photolithography method or an inkjet method, It is possible to prevent the dimensional change from occurring due to the influence of the above. For this reason, since it can prevent that a dimensional change arises in a base material also in the process of manufacturing a color filter, the color filter in which the colored layer and the black matrix were formed with higher precision can be obtained.
本発明は、フォトリソグラフィー法やインクジェット法を用いてフレキシブルなカラーフィルターやＴＦＴアレイ等を高精度で作製すること可能な液晶表示装置用フレキシブル基板を提供できるという効果を奏する。 The present invention has an effect of providing a flexible substrate for a liquid crystal display device capable of manufacturing a flexible color filter, a TFT array, or the like with high accuracy using a photolithography method or an inkjet method.
本発明は、液晶表示装置用フレキシブル基板と、これが用いられたカラーフィルターとに関するものである。以下、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板、および、これが用いられたカラーフィルターについて順に説明する。 The present invention relates to a flexible substrate for a liquid crystal display device and a color filter using the same. Hereinafter, the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention and a color filter using the same will be described in order.
Ａ．液晶表示装置用フレキシブル基板
まず、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板について説明する。上述したように本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板は、温度１６０℃における耐熱寸度変化率が、−０．０５％〜＋０．０５％の範囲内であり、かつ、耐溶剤寸度変化率が−０．０５％〜＋０．０５％の範囲内であることを特徴とするものである。
A. First, the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention will be described. As described above, the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention has a heat resistant dimensional change rate at a temperature of 160 ° C. in the range of −0.05% to + 0.05%, and a solvent resistant dimensional change rate. Is in the range of -0.05% to + 0.05%.
本発明によれば、１６０℃における耐熱寸度変化率および耐溶剤寸度変化率がそれぞれ上記範囲内であることにより、例えば、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板を用いてカラーフィルターあるいはＴＦＴアレイを作製する際に、インクジェット法やフォトリソグラフィー法が用いられた場合であっても、寸度変化が生じることを防止できる。このため、本発明によれば、フレキシブルな液晶表示装置に用いられ、フォトリソグラフィー法やインクジェット法を用いてフレキシブルなカラーフィルターやＴＦＴアレイ等を高精度で作製することが可能な液晶表示装置用フレキシブル基板を得ることができる。 According to the present invention, since the rate of change in heat-resistant dimension and the rate of change in solvent-resistant dimension at 160 ° C. are within the above ranges, for example, a color filter or TFT array using the flexible substrate for liquid crystal display device of the present invention. Even when an ink-jet method or a photolithography method is used when producing the film, it is possible to prevent the dimensional change from occurring. Therefore, according to the present invention, a flexible liquid crystal display device that can be used for flexible liquid crystal display devices, and that can be used to produce flexible color filters, TFT arrays, and the like with high accuracy using a photolithography method or an inkjet method. A substrate can be obtained.
以下、このような本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板について詳細に説明する。 Hereinafter, the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention will be described in detail.
１．耐熱寸度変化率
本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板は、１６０℃における耐熱寸度変化率が−０．０５％〜＋０．０５％の範囲内であることを特徴とするものである。本発明において耐熱寸度変化率をこのような範囲に規定するのは、耐熱寸度変化率が上記範囲外であると、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板を用いて、フレキシブルなカラーフィルターやＴＦＴアレイを作製する際に、基板の寸度変化に起因して高精度でブラックマトリクスや、ＴＦＴ電極を形成することができないからである。
本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板の耐熱寸度変化率は、上記範囲内であれば特に限定されるものではなく、具体的な値は本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板が用いられるプロセスの条件等に応じて適宜決定することができる。なかでも本発明においては、上記耐熱寸度変化率が、−０．０３％〜＋０．０３％の範囲内であることが好ましく、特に−０．０１％〜＋０．０１％の範囲内であることが好ましい。
1. Heat-resistant dimensional change rate The flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention is characterized in that the heat-resistant dimensional change rate at 160 ° C. is in the range of −0.05% to + 0.05%. In the present invention, the rate of change in the heat-resistant dimension is defined in such a range. If the rate of change in the heat-resistant dimension is out of the above range, the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention is used. This is because when manufacturing a TFT array, it is impossible to form a black matrix or a TFT electrode with high accuracy due to a change in the dimensions of the substrate.
The rate of change in the heat-resistant dimension of the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention is not particularly limited as long as it is within the above range, and the specific value is a process of using the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention. It can be determined appropriately according to conditions and the like. Especially in this invention, it is preferable that the said heat-resistant dimensional change rate is in the range of -0.03% to + 0.03%, and especially in the range of -0.01% to + 0.01%. It is preferable.
なお、本発明における「耐熱寸度変化率」とは、次のような測定方法によって測定した値を指すものとする。
１００ｍｍ×１００ｍｍ角の試験片の四隅に、隣り合うマーキング間の距離が８０ｍｍになるように微細な十字型のマーキングを施し、各マーキング間の距離を測定する。この試験片をオーブン中で１６０℃、３０分間加熱し、２３℃３８％ＲＨの恒温恒湿室に１時間放置して冷却した後、各マーキング間の距離を再び測定する。耐熱寸度変化率は下式に基づき算出する。
加熱前のマーキング間の距離：ａ（μｍ）
加熱、放置後のマーキング間の距離：ｂ（μｍ）
耐熱寸度変化率ｃ（％）＝（ｂ−ａ）×１００／ａ
なお、上記耐熱寸度安定性試験は、フレキシブル基板を用いて、フレキシブルなカラーフィルターやＴＦＴアレイを作製する際の加工条件を参酌して設定したものである。即ち、フレキシブル基板を用いて、フレキシブルなカラーフィルターやＴＦＴアレイを作製する際には、１６０℃近辺で約３０分間加熱されるものである。
In addition, the “heat-resisting dimensional change rate” in the present invention refers to a value measured by the following measuring method.
Fine cross-shaped markings are applied to the four corners of a 100 mm × 100 mm square test piece so that the distance between adjacent markings is 80 mm, and the distance between the markings is measured. The test piece is heated in an oven at 160 ° C. for 30 minutes, left to cool in a constant temperature and humidity chamber at 23 ° C. and 38% RH for 1 hour, and then the distance between the markings is measured again. The heat resistant dimensional change rate is calculated based on the following formula.
Distance between markings before heating: a (μm)
Distance between markings after heating and standing: b (μm)
Heat resistant dimensional change rate c (%) = (ba) × 100 / a
The heat-resistant dimensional stability test is set in consideration of processing conditions for producing a flexible color filter or TFT array using a flexible substrate. That is, when a flexible color filter or TFT array is produced using a flexible substrate, it is heated at around 160 ° C. for about 30 minutes.
２．耐溶剤寸度変化率
本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板は、耐溶剤寸度変化率が、−０．０５％〜＋０．０５％の範囲内であることを特徴とするものである。本発明において耐溶剤寸度変化率をこのような範囲に規定するのは、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルターや、ＴＦＴアレイに好適に用いられるものであるところ、耐溶剤寸度変化率が上記範囲内であることにより、インクジェット法やフォトリソグラフィーを用いて、カラーフィルターあるいはＴＦＴアレイを製造する場合であっても、高精度で着色層やＴＦＴ電極を形成することができるからである。
本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板の耐溶剤寸度変化率は、上記範囲内であれば特に限定されるものではなく、具体的な値は本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板が用いられるプロセスの条件に応じて適宜決定することができる。なかでも本発明においては、上記耐溶剤寸度変化率が、−０．０３％〜＋０．０３％の範囲内であることが好ましく、特に−０．０１％〜＋０．０１％の範囲内であることが好ましい。
2. Solvent resistance dimensional change rate The flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention is characterized in that the solvent resistance dimensional change rate is in the range of -0.05% to + 0.05%. In the present invention, the solvent dimensional change rate is defined in such a range. The flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention is preferably used for a color filter used in a liquid crystal display device or a TFT array. In some cases, since the rate of change in solvent resistance is within the above range, even when a color filter or TFT array is manufactured using an inkjet method or photolithography, a colored layer or TFT electrode can be formed with high accuracy. It is because it can form.
The solvent resistance dimensional change rate of the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention is not particularly limited as long as it is within the above range, and a specific value is a process in which the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention is used. It can be determined appropriately according to the conditions. In particular, in the present invention, the solvent dimensional change rate is preferably within a range of -0.03% to + 0.03%, and particularly within a range of -0.01% to + 0.01%. Preferably there is.
また、本発明における上記「耐溶剤性寸度変化率」は、次の測定方法によって測定した値を用いるものとする。
１００ｍｍ×１００ｍｍ角の試験片の四隅に、隣り合うマーキング間の距離が８０ｍｍになるように微細な十字型のマーキングを施し、各マーキング間の距離を測定する。この試験片を２３℃のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）中へ５分間浸漬し、エアーブローにて乾燥させた後、各マーキング間の距離を再び測定する。耐溶剤性寸度変化率は下式に基づき算出する。
ＰＧＭＥＡ浸漬前のマーキング間の距離：ａ（μｍ）
ＰＧＭＥＡ浸漬、乾燥後のマーキング間の距離：ｂ（μｍ）
耐溶剤性寸度変化率ｃ（％）＝（ｂ−ａ）×１００／ａ
なお、上記耐溶剤性寸度安定性試験は、フレキシブル基板を用いて、フレキシブルなカラーフィルターやＴＦＴアレイを作製する際の加工条件を参酌して設定したものである。即ち、フレキシブル基板を用いて、フレキシブルなカラーフィルターやＴＦＴアレイを作製する際には、ＰＧＭＥＡを主成分溶剤とするインキが約５分間、フレキシブル基板へ接触する。
Moreover, the value measured by the following measuring method shall be used for the "solvent resistance dimensional change rate" in the present invention.
Fine cross-shaped markings are applied to the four corners of a 100 mm × 100 mm square test piece so that the distance between adjacent markings is 80 mm, and the distance between the markings is measured. This test piece is immersed in propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) at 23 ° C. for 5 minutes, dried by air blow, and the distance between the markings is measured again. The solvent resistance dimensional change rate is calculated based on the following formula.
Distance between markings before immersion in PGMEA: a (μm)
Distance between markings after immersion in PGMEA and drying: b (μm)
Solvent resistance dimensional change rate c (%) = (ba) × 100 / a
The solvent resistance dimensional stability test is set in consideration of processing conditions when a flexible color filter and a TFT array are manufactured using a flexible substrate. That is, when a flexible color filter or TFT array is produced using a flexible substrate, ink containing PGMEA as a main component solvent contacts the flexible substrate for about 5 minutes.
３．液晶表示装置用フレキシブル基板の構成
本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板の構成としては、上記耐熱寸度変化率および上記耐溶剤寸度変化率を、本発明で定める範囲内にできる構成であれば特に限定されるものではない。このような構成としては、例えば、耐熱性と耐溶剤性とを兼ね備える材料からなる構成や、耐熱性を有する耐熱基材と、当該耐熱基材上に形成され、耐溶剤性を備える耐溶剤層とを有する構成等を挙げることができる。本発明においては、これらのいずれの構成であっても好適に用いることができるが、なかでも耐熱性を有する耐熱基材と、当該耐熱基材上に形成され、耐溶剤性を備える耐溶剤層とを有する構成（以下、単に「積層構成」と称する場合がある。）を用いることが好ましい。このような積層構成を採用することにより、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板の用途等に応じて、適宜、上記耐熱基材および耐溶剤層を構成する材料を変更することにより、所望の耐熱寸度変化率および耐溶剤寸度変化率を両立させることが可能になるからである。
3. Configuration of flexible substrate for liquid crystal display device As a configuration of the flexible substrate for liquid crystal display device of the present invention, the above-mentioned rate of change in heat-resistant dimension and rate of change in solvent-resistant dimension can be within the range defined by the present invention. It is not particularly limited. As such a structure, for example, a structure made of a material having both heat resistance and solvent resistance, a heat resistant base material having heat resistance, and a solvent resistant layer formed on the heat resistant base material and having solvent resistance. And the like. In the present invention, any of these configurations can be suitably used. Among them, a heat-resistant substrate having heat resistance, and a solvent-resistant layer formed on the heat-resistant substrate and having solvent resistance. It is preferable to use a structure having the following (hereinafter sometimes simply referred to as “laminated structure”). By adopting such a laminated structure, desired heat resistance can be changed by appropriately changing the materials constituting the heat resistant substrate and the solvent resistant layer according to the use of the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention. This is because it is possible to achieve both a dimensional change rate and a solvent-resistant dimensional change rate.
本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板が、上記積層構成を有する場合について図を参照しながら説明する。図1は本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板が、上述したような積層構成を有する場合の一例を示す概略断面図である。図１に例示するように、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板１０は、耐熱性を備える耐熱基材１と、上記耐熱基材１の両面上に形成され、耐溶剤性を備える耐溶剤層２とを有する構成であることが好ましい。
The case where the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention has the above-described laminated structure will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the case where the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention has the laminated structure as described above. As illustrated in FIG. 1, a
以下、このような積層構成を有する液晶表示装置用フレキシブル基板について詳細に説明する。 Hereinafter, the flexible substrate for a liquid crystal display device having such a laminated structure will be described in detail.
（１）耐熱基材
まず、本発明に用いられる耐熱基材について説明する。本発明に用いられる耐熱基材としては、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板の１６０℃における耐熱寸度変化率を上述した範囲内にできる程度であれば特に限定されるものではない。なかでも本発明に用いられる耐熱基材は、ガラス転移温度が１６０℃以上、より好ましくは１８０℃以上、さらに好ましくは２１０℃以上である耐熱材料からなるものが好ましい。耐熱基材としてこのような耐熱材料からなるものが用いられることにより、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板の耐熱寸度変化率を、より確実に本発明で定める範囲内にすることができるからである。
(1) Heat-resistant base material First, the heat-resistant base material used for this invention is demonstrated. The heat resistant substrate used in the present invention is not particularly limited as long as the heat resistant dimensional change rate at 160 ° C. of the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention is within the above-described range. Among them, the heat resistant substrate used in the present invention is preferably made of a heat resistant material having a glass transition temperature of 160 ° C. or higher, more preferably 180 ° C. or higher, and further preferably 210 ° C. or higher. By using a material made of such a heat-resistant material as the heat-resistant substrate, the rate of change in the heat-resistant dimension of the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention can be more reliably within the range defined by the present invention. It is.
なお、上記ガラス転移温度は、機械的分析装置Ｔｈｅｒｍｏ Ｐｌｕｓ ＴＭＡ８３１０（リガク社製）によって、昇温速度１０℃／ｍｉｎ、引っ張り加重１ｇで測定を行った値を用いるものとする。 The glass transition temperature is a value measured by a mechanical analyzer Thermo Plus TMA8310 (manufactured by Rigaku Corporation) at a heating rate of 10 ° C./min and a tensile load of 1 g.
本発明に用いられる耐熱材料としては、ポリイミド系樹脂、ポリエーテルサルフォン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、トリアセチルセルロース等のセルロース誘導体、シクロオレフィン系樹脂等を挙げることができる。本発明においてはこれらのいずれの耐熱材料であっても好適に用いることができるが、なかでもシクロオレフィン系樹脂を用いることが好ましい。シクロオレフィン系樹脂は吸水性が乏しいことから、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板を吸水による寸度変化が生じにくいものとすることができるからである。また、シクロオレフィン系樹脂を用いることにより、本発明に用いられる耐熱基材を、光学的等方性を備えるものにできるため、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板を用いて液晶表示装置を作製する際に、液晶表示装置の視野角特性等の表示品質を設計することが容易になるからである。 Examples of the heat-resistant material used in the present invention include polyimide resins, polyether sulfone resins, polyarylate resins, polycarbonate resins, cellulose derivatives such as triacetyl cellulose, and cycloolefin resins. In the present invention, any of these heat-resistant materials can be suitably used, but among them, it is preferable to use a cycloolefin resin. This is because the cycloolefin resin has poor water absorption, so that the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention can be made less susceptible to dimensional changes due to water absorption. In addition, since the heat-resistant substrate used in the present invention can have optical isotropy by using a cycloolefin-based resin, a liquid crystal display device is manufactured using the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention. This is because it becomes easy to design display quality such as viewing angle characteristics of the liquid crystal display device.
ここで、本発明に用いられるシクロオレフィン系樹脂とは、環状オレフィン（シクロオレフィン）からなるモノマーのユニットを有する樹脂を意味するものである。このような上記環状オレフィンからなるモノマーとしては、例えば、ノルボルネンや多環ノルボルネン系モノマー等を挙げることができる。
なお、本発明に用いられるシクロオレフィン系樹脂としては、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）またはシクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）のいずれであっても好適に用いることができる。
Here, the cycloolefin resin used in the present invention means a resin having a monomer unit composed of a cyclic olefin (cycloolefin). Examples of such a monomer comprising a cyclic olefin include norbornene and polycyclic norbornene monomers.
In addition, as a cycloolefin type resin used for this invention, any of a cycloolefin polymer (COP) or a cycloolefin copolymer (COC) can be used conveniently.
また、本発明に用いられるシクロオレフィン系樹脂は上記環状オレフィンからなるモノマーの単独重合体であってもよく、または、共重合体であってもよい。 In addition, the cycloolefin resin used in the present invention may be a homopolymer of a monomer composed of the above cyclic olefin, or may be a copolymer.
本発明に用いられるシクロオレフィン系樹脂は、２３℃における飽和吸水率が０．５質量％以下であるものが好ましく、０．４質量％以下であるものがより好ましく、０．３質量％以下であるものがさらに好ましい。このようなシクロオレフィン系樹脂を用いることにより、本発明に用いられる耐熱基材を、吸水による寸度変化の少ないものにできるため、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板をさらに寸度安定性に優れたものにできるからである。 The cycloolefin resin used in the present invention preferably has a saturated water absorption at 23 ° C. of 0.5% by mass or less, more preferably 0.4% by mass or less, and 0.3% by mass or less. Some are more preferred. By using such a cycloolefin-based resin, the heat-resistant substrate used in the present invention can be reduced in dimensional change due to water absorption, so that the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention can be further dimensionally stable. This is because it can be made excellent.
ここで、上記飽和吸水率は、ＡＳＴＭＤ５７０に準拠し２３℃の水中に１週間浸漬して増加重量を測定することにより求められる。 Here, the said saturated water absorption is calculated | required by immersing in 23 degreeC water for 1 week based on ASTMD570, and measuring an increase weight.
本発明に用いられるシクロオレフィン系樹脂の具体例としては、例えば、ジェイエスアール社製 ＰＮ１６５Ｂ、同社製ＰＮ２６０Ａ、同社製ＰＮ２８５Ａ、および同社製ＰＮ４００Ａ等を挙げることができる。 Specific examples of the cycloolefin-based resin used in the present invention include PN165B manufactured by JSR Corporation, PN260A manufactured by the company, PN285A manufactured by the company, and PN400A manufactured by the company.
本発明に用いられる耐熱基材の厚みとしては、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板に、所望の自己支持性を付与できる範囲内であれば特に限定されるものではないが、通常、１０μｍ〜１０００μｍの範囲内であることが好ましく、なかでも２０μｍ〜７５０μｍの範囲内であることが好ましく、さらに４０μｍ〜６００μｍの範囲内であることが好ましい。耐熱基材の厚みが上記の範囲よりも薄いと、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板に必要な自己支持性を付与することが困難になる場合があるからである。また、厚みが上記の範囲よりも厚いと、例えば本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板を裁断加工する際に、加工屑が増加したり、裁断刃の磨耗が早くなってしまう場合があるからである The thickness of the heat-resistant substrate used in the present invention is not particularly limited as long as it is within a range where desired self-supporting property can be imparted to the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention. It is preferably in the range of 1000 μm, particularly preferably in the range of 20 μm to 750 μm, and more preferably in the range of 40 μm to 600 μm. This is because if the thickness of the heat-resistant substrate is thinner than the above range, it may be difficult to give the necessary self-supporting property to the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention. Also, if the thickness is thicker than the above range, for example, when cutting the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention, processing waste may increase or the cutting blade may wear faster. is there
本発明に用いられる耐熱基材の透明度は、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板に求める透明性等に応じて任意に決定すればよいが、通常、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。透過率が低いと、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板のヘイズが所望の値よりも大きくなってしまう場合があるからである。
ここで、耐熱基材の透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１（プラスチックー透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。
The transparency of the heat-resistant substrate used in the present invention may be arbitrarily determined according to the transparency required for the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention. Usually, the transmittance in the visible light region is 80% or more. It is preferable that it is 90% or more. This is because if the transmittance is low, the haze of the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention may be larger than a desired value.
Here, the transmittance of the heat-resistant substrate can be measured by JIS K7361-1 (a test method for the total light transmittance of a plastic-transparent material).
また、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板は、液晶表示装置に用いられるものであるため、耐熱基材としては光学的等方性を備えるものであることが好ましい。なかでも本発明に用いられる耐熱基材は、面内レターデーション（Ｒｅ）が、５０ｎｍ以下であることが好ましく、なかでも２０ｎｍ以下であることが好ましく、特に好ましくは０ｎｍである。耐熱基材の面内レターデーション（Ｒｅ）が上記範囲内であることにより、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板を用いて液晶表示装置を作製する際に、液晶表示装置の視野角特性等の表示品質を設計することが容易になるからである。 In addition, since the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention is used for a liquid crystal display device, the heat resistant base material preferably has optical isotropy. In particular, the heat resistant substrate used in the present invention has an in-plane retardation (Re) of preferably 50 nm or less, particularly preferably 20 nm or less, and particularly preferably 0 nm. When the in-plane retardation (Re) of the heat-resistant substrate is within the above range, when producing a liquid crystal display device using the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention, the viewing angle characteristics of the liquid crystal display device, etc. This is because it becomes easy to design the display quality.
なお、上記面内レターデーション（Ｒｅ）は、上記耐熱基材の面内における遅相軸方向ｘの屈折率をｎｘ、進相軸方向ｙの屈折率をｎｙ、厚み方向ｚの屈折率をｎｚ、および、耐熱基材の厚みをｄとした場合に、それぞれ以下の式で表されるものである。
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
Ｒｔｈ＝（（（ｎｘ＋ｎｙ）／２）−ｎｚ）×ｄ
また、上記面内レターデーション（Ｒｅ）は、例えば、王子計測機器株式会社製 ＫＯＢＲＡ−ＷＲを用い、平行ニコル回転法により測定することができる。
In the in-plane retardation (Re), the refractive index in the slow axis direction x is nx, the refractive index in the fast axis direction y is ny, and the refractive index in the thickness direction z is nz. When the thickness of the heat-resistant substrate is d, each is represented by the following formula.
Re = (nx−ny) × d
Rth = (((nx + ny) / 2) −nz) × d
The in-plane retardation (Re) can be measured by, for example, a parallel Nicol rotation method using KOBRA-WR manufactured by Oji Scientific Instruments.
また、本発明に用いられる耐熱基材の厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）としては、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板を用いて作製する液晶表示装置の駆動モード等に応じて、視野角特性を所望の程度にできる範囲内であれば特に限定されるものではない。 Further, the retardation (Rth) in the thickness direction of the heat-resistant substrate used in the present invention is a viewing angle characteristic depending on the driving mode of the liquid crystal display device produced using the flexible substrate for liquid crystal display device of the present invention. If it is in the range which can be made into the desired grade, it will not specifically limit.
（２）耐溶剤層
本発明に用いられる耐溶剤層としては、上述した耐熱基材上に形成されることにより、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板の耐溶剤性寸度変化率を本発明で定める範囲内にできるものであれば特に限定されるものではない。このような耐溶剤層としては、このような耐溶剤層としては、例えば、硬化された硬化型樹脂からなる硬化型樹脂膜、無機化合物からなる無機化合物膜、および、有機化合物からなる有機化合物膜と、上記無機化合物膜とが複合されて用いられた有機‐無機複合膜とを挙げることができる。
(2) Solvent-resistant layer The solvent-resistant layer used in the present invention is formed on the above-mentioned heat-resistant substrate, whereby the solvent-resistant dimensional change rate of the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention is determined. There is no particular limitation as long as it can be made within the range defined in. Examples of such a solvent-resistant layer include a curable resin film made of a cured curable resin, an inorganic compound film made of an inorganic compound, and an organic compound film made of an organic compound. And an organic-inorganic composite film in which the inorganic compound film is used in combination.
（硬化型樹脂膜）
上記硬化型樹脂膜に用いられる硬化型樹脂としては、硬化させることにより所望の耐溶剤性を備える耐溶剤層を形成することができるものであれば特に限定されるものではない。このような硬化型樹脂としては、熱硬化性樹脂や電離放射線硬化性樹脂を挙げることができるが、電離放射線硬化性樹脂を用いることが生産効率上好ましい。
(Curable resin film)
The curable resin used for the curable resin film is not particularly limited as long as it can form a solvent-resistant layer having desired solvent resistance by curing. Examples of such curable resins include thermosetting resins and ionizing radiation curable resins, but it is preferable in terms of production efficiency to use ionizing radiation curable resins.
上記熱硬化性樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルギッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂、酢酸プロピオン酸セルロース等を挙げることができ、必要に応じて添加剤として、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤、体質顔料等を添加してもよい。 Examples of the thermosetting resin include phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melamine resin, guanamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, aminoargide resin, melamine-urea cocondensation resin, silicon Resin, polysiloxane resin, cellulose acetate propionate and the like, and as necessary additives, curing agents such as crosslinking agents and polymerization initiators, polymerization accelerators, solvents, viscosity modifiers, extender pigments, etc. It may be added.
上記硬化剤として、通常、イソシアネートは不飽和ポリエステル系樹脂またはポリウレタン系樹脂に使用され、メチルエチルケトンパーオキサイド等の過酸化物及びアゾイソブチロニトリル等のラジカル開始剤は不飽和ポリエステルによく使用される。更に、硬化剤としてのイソシアネートは、２価以上の脂肪族又は芳香族イソシアネートが使用できる。 As the curing agent, isocyanate is usually used for unsaturated polyester resin or polyurethane resin, and peroxides such as methyl ethyl ketone peroxide and radical initiators such as azoisobutyronitrile are often used for unsaturated polyester. . Furthermore, the isocyanate as a hardening | curing agent can use aliphatic or aromatic isocyanate more than bivalence.
上記電離放射線硬化性樹脂としては、分子中に（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基（（メタ）アクリロイルとは、アクリロイル又はメタアクリロイルの意味で用い、以下（メタ）は同様の意味とする）等の重合性不飽和結合、又はエポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー、及び／または単量体を適宜混合した組成物が用いられる。 As the ionizing radiation curable resin, (meth) acryloyl group, (meth) acryloyloxy group ((meth) acryloyl is used in the meaning of acryloyl or methacryloyl in the molecule, and the following (meth) has the same meaning. The composition which mixed suitably the prepolymer, the oligomer, and / or the monomer which have polymerizable unsaturated bonds or an epoxy group.
これらのプレポリマー、オリゴマーとしては、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等のアクリレート、シロキサン等の珪素樹脂、不飽和ポリエステル、エポキシ等が挙げられる。 Examples of these prepolymers and oligomers include acrylates such as urethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, and epoxy (meth) acrylate, silicon resins such as siloxane, unsaturated polyester, and epoxy.
単量体の例としては、スチレン、α‐メチルスチレン等のスチレン系単量体、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸‐２‐エチルヘキシル、ペンタエリスリトール（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、及び／又は、分子中に２個以上のチオール基を有するポリオール化合物、例えば、トリメチロールプロパントリチオグリコレート、トリメチロールプロパントリチオプロピレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコール等がある。 Examples of monomers include styrene monomers such as styrene and α-methylstyrene, methyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, pentaerythritol (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (Meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and / or a polyol compound having two or more thiol groups in the molecule, for example, trimethylolpropane trithioglycolate , Trimethylolpropane trithiopropylate, pentaerythritol tetrathioglycol and the like.
以上の化合物を必要に応じ、１種もしくは２種以上混合して用いるが、樹脂組成物に通常の塗工適性を付与するために、前記プレポリマー又はオリゴマーを５重量％以上、前記単量体及び／又はポリチオールを９５重量％以下とすることが好ましい。 If necessary, the above compounds are used alone or in combination of two or more, but in order to impart ordinary coating suitability to the resin composition, 5% by weight or more of the prepolymer or oligomer is added to the monomer. And / or polythiol is preferably 95% by weight or less.
単量体の選定に際して、硬化物の高い剛性を要求される場合には、塗工適性上支障のない範囲で単量体の量を多めにしたり、３官能以上のアクリレート系単量体を用い高架橋密度の構造とするのが好ましい。
なお、１、２官能単量体と３官能以上の単量体を混合し、塗工適性と硬化物の物性とを調整することもできる。
When selecting a monomer, if high rigidity of the cured product is required, increase the amount of monomer within the range that does not hinder coating suitability, or use a tri- or higher functional acrylate monomer. A structure having a high crosslink density is preferred.
It is also possible to adjust the coating suitability and the physical properties of the cured product by mixing a 1,2-functional monomer and a tri- or higher functional monomer.
以上のような１官能アクリレート系単量体としては、２‐ヒドロキシアクリレート、２‐ヘキシルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート等が挙げられる。２官能アクリレート系単量体としては、エチレングリコールジアクリレート、１，６‐ヘキサンジオールジアクリレート等が挙げられる。３官能アクリレート系単量体としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。 Examples of the monofunctional acrylate monomer as described above include 2-hydroxy acrylate, 2-hexyl acrylate, phenoxyethyl acrylate, and the like. Examples of the bifunctional acrylate monomer include ethylene glycol diacrylate and 1,6-hexanediol diacrylate. Examples of the trifunctional acrylate monomer include trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and the like.
電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホソフィン等が挙げられる。 When using an ionizing radiation curable resin as an ultraviolet curable resin, it is preferable to use a photopolymerization initiator. Specific examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzophenones, Michler benzoylbenzoate, α-amyloxime ester, tetramethylchuram monosulfide, and thioxanthones. Further, it is preferable to use a mixture of photosensitizers, and specific examples thereof include n-butylamine, triethylamine, poly-n-butylphosphine and the like.
光重合開始剤としては市販の物を使用することができ、例えば、光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、日本チバガイギー（株）製のイルガキュア（１８４，９０７）等が好ましい例として挙げられる。光重合開始剤は、多官能モノマー１００質量部に対して、０．１〜１０質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは３〜７質量部の範囲である。 Commercially available products can be used as the photopolymerization initiator, and preferred examples of the photocleavable photoradical polymerization initiator include Irgacure (184,907) manufactured by Nippon Ciba Geigy Co., Ltd. . It is preferable to use a photoinitiator in the range of 0.1-10 mass parts with respect to 100 mass parts of polyfunctional monomers, More preferably, it is the range of 3-7 mass parts.
なお、本発明に用いられる硬化型樹脂は１種類のみであってもよく、あるいは、２種類以上であってもよい。 Note that the curable resin used in the present invention may be only one type or two or more types.
本発明に用いられる硬化型樹脂膜の厚みとしては、硬化型樹脂の種類に応じて本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板の耐溶剤寸度変化率を本発明で定める範囲内にできる程度であれば特に限定されるものではない。なかでも本発明に用いられる硬化型樹脂膜の厚みは、５０ｎｍ〜２０μｍの範囲内であることが好ましく、特に１００ｎｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましく、さらに３００ｎｍ〜７μｍの範囲内であることが好ましい。硬化型樹脂膜の厚みが上記範囲よりも厚いと、耐溶剤層の剛性が高くなりすぎてしまい、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板の可撓性が不十分になってしまう可能性があるからである。また、厚みが上記範囲よりも薄いと、硬化型樹脂膜に用いられる硬化型樹脂の種類によっては、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板の耐熱寸度変化率を本発明で定める範囲内にできなくなるおそれがあるからである。 The thickness of the curable resin film used in the present invention is such that the rate of change in the solvent resistance of the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention can be within the range defined by the present invention depending on the type of curable resin. There is no particular limitation. In particular, the thickness of the curable resin film used in the present invention is preferably in the range of 50 nm to 20 μm, particularly preferably in the range of 100 nm to 10 μm, and more preferably in the range of 300 nm to 7 μm. Is preferred. If the thickness of the curable resin film is larger than the above range, the rigidity of the solvent-resistant layer becomes too high, and the flexibility of the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention may be insufficient. Because. If the thickness is less than the above range, depending on the type of curable resin used for the curable resin film, the rate of change in the heat-resistant dimension of the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention can be within the range defined by the present invention. It is because there is a risk of disappearing.
（無機化合物膜）
次に、上記無機化合物膜について説明する。ここで、本発明に用いられる無機化合物膜は、無機化合物からなることにより緻密な膜として形成することが可能なものであるため、このような無機化合物膜が用いられることにより、本発明に用いられる耐溶剤層にガスバリア性も付与することも可能になる。また、無機化合物膜は、上述した耐熱基材よりも剛性の高いものにすることができるため、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板をさらに寸度安定性に優れたものにできる。
(Inorganic compound film)
Next, the inorganic compound film will be described. Here, since the inorganic compound film used in the present invention can be formed as a dense film by being made of an inorganic compound, it is used in the present invention by using such an inorganic compound film. It is also possible to impart gas barrier properties to the solvent resistant layer. Further, since the inorganic compound film can be made to be higher in rigidity than the above-described heat-resistant substrate, the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention can be further improved in dimensional stability.
上記無機化合物膜に用いられる無機化合物としては、上述した耐熱基材上に形成されることにより、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板の耐溶剤性寸度変化率を本発明で定める範囲内にできるものであれば特に限定されるものではない。このような無機化合物としては、例えば、アルミニウム、ニッケル、クロム、鉄、コバルト、亜鉛、金、銀、銅等の金属；硅素、ゲルマニウム、炭素等の半導体；酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化インジウム、酸化カルシウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化ホウ素、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化ハフニウム、酸化バリウム等の無機酸化物；窒化珪素、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、窒化マグネシウム等の窒化物；炭化珪素等の炭化物、硫化物等を挙げることができる。また、これらから選ばれた二種以上の複合体である酸化窒化物や、さらに炭素を含有してなる酸化炭化物層、無機窒化炭化物層、無機酸化窒化炭化物等も用いることができる。本発明においては、これらのいずれの無機化合物であっても好適に用いることができるが、なかでも酸化アルミニウム、酸化硅素、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン等の無機酸化物（ＭＯｘ）、無機窒化物（ＭＮｙ）、無機炭化物（ＭＣｚ）、無機酸化炭化物（ＭＯｘＣｚ）、無機窒化炭化物（ＭＮｙＣｚ）、無機酸化窒化物（ＭＯｘＮｙ）、無機酸化窒化炭化物（ＭＯｘＮｙＣｚ）をも散ることが好ましい。ここで、これらの無機化合物を構成する金属元素（Ｍ）として好適に用いられるものは、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ等である。 The inorganic compound used in the inorganic compound film is formed on the above-described heat-resistant substrate, so that the rate of change in solvent resistance of the flexible substrate for liquid crystal display devices of the present invention is within the range defined by the present invention. There is no particular limitation as long as it is possible. Examples of such inorganic compounds include metals such as aluminum, nickel, chromium, iron, cobalt, zinc, gold, silver, and copper; semiconductors such as silicon, germanium, and carbon; silicon oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, and oxide. Inorganic oxides such as indium, calcium oxide, zirconium oxide, titanium oxide, boron oxide, zinc oxide, cerium oxide, hafnium oxide, barium oxide; nitrides such as silicon nitride, aluminum nitride, boron nitride, magnesium nitride; silicon carbide, etc. And carbides and sulfides. In addition, an oxynitride which is a composite of two or more selected from these, an oxycarbide layer containing carbon, an inorganic nitride carbide layer, an inorganic oxynitride carbide, and the like can also be used. In the present invention, any of these inorganic compounds can be suitably used. Among them, inorganic oxides (MOx) such as aluminum oxide, silicon oxide, magnesium oxide, calcium oxide, zirconium oxide, titanium oxide, etc. Inorganic nitride (MNy), inorganic carbide (MCz), inorganic oxide carbide (MOxCz), inorganic nitride carbide (MNyCz), inorganic oxynitride (MOxNy), and inorganic oxynitride carbide (MOxNyCz) are also preferably dispersed. Here, Si, Al, Ti, etc. are suitably used as the metal element (M) constituting these inorganic compounds.
なお、本発明に用いられる無機化合物は１種類のみであってもよく、あるいは、２種類以上であってもよい。 In addition, the inorganic compound used for this invention may be only 1 type, or 2 or more types may be sufficient as it.
本発明に用いられる無機化合物膜の厚みとしては、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板の耐溶剤性寸度変化率を本発明で定める範囲内にできるものであれば特に限定されるものではない。なかでも本発明に用いられる無機化合物膜の厚みは、１０ｎｍ〜５μｍの範囲内であることが好ましく、特に２０ｎｍ〜３μｍの範囲内であることが好ましく、さらに３０ｎｍ〜１μｍの範囲内であることが好ましい。無機化合物膜の厚みが上記範囲よりも厚いと、耐溶剤層の剛性が高くなりすぎてしまい、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板の可撓性が不十分になってしまう可能性があるからである。また、厚みが上記範囲よりも薄いと、無機化合物の種類によっては、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板の耐熱寸度変化率を本発明で定める範囲内にできなくなるおそれがあるからである。 The thickness of the inorganic compound film used in the present invention is not particularly limited as long as the rate of change in the solvent resistance of the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention can be within the range defined by the present invention. . In particular, the thickness of the inorganic compound film used in the present invention is preferably in the range of 10 nm to 5 μm, particularly preferably in the range of 20 nm to 3 μm, and more preferably in the range of 30 nm to 1 μm. preferable. If the thickness of the inorganic compound film is larger than the above range, the rigidity of the solvent-resistant layer becomes too high, and the flexibility of the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention may be insufficient. It is. Further, if the thickness is less than the above range, depending on the type of the inorganic compound, the rate of change in the heat-resistant dimension of the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention may not be within the range defined by the present invention.
（有機‐無機複合膜）
次に、上記有機‐無機複合膜について説明する。上記有機‐無機複合膜は、有機化合物からなる有機化合物膜と、上記無機化合物膜とが複合されて用いられたものである。有機‐無機複合膜は、上記無機化合物膜と有機化合物膜とを任意に組み合わせることにより、耐溶剤性以外の諸性能を備える耐溶剤層を形成することができる点において有用である。
(Organic-inorganic composite film)
Next, the organic-inorganic composite film will be described. The organic-inorganic composite film is a composite of an organic compound film made of an organic compound and the inorganic compound film. The organic-inorganic composite film is useful in that a solvent-resistant layer having various performances other than solvent resistance can be formed by arbitrarily combining the inorganic compound film and the organic compound film.
耐溶剤層として上記有機‐無機複合膜が用いられた場合について図を参照しながら説明する。図２は上記耐溶剤層として有機‐無機複合膜が用いられた場合の一例を示す概略断面図である。図２に例示するように本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板１０は、耐熱基材１と、上記耐熱基材１の両面上に形成された耐溶剤層２’を有するものであり、上記耐溶剤層２’が、有機化合物からなる有機化合物膜２ａと、上記有機化合物膜２ａの両面上に形成され、無機化合物からなる無機化合物膜２ｂとからなるものであってもよい。
The case where the organic-inorganic composite film is used as the solvent resistant layer will be described with reference to the drawings. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an example where an organic-inorganic composite film is used as the solvent-resistant layer. As illustrated in FIG. 2, the
以下、このような有機‐無機複合膜について説明する。
なお、上記無機化合物膜については、既に説明したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。
Hereinafter, such an organic-inorganic composite film will be described.
The above-described inorganic compound film is the same as that already described, and a description thereof will be omitted here.
上記有機‐無機複合膜に用いられる有機化合物膜としては、本発明に用いられる耐溶剤層に所望の機能を付与できるものであれば特に限定されるものではない。なお、有機‐無機複合膜においては、上記無機化合物膜が十分な耐溶剤性を備えることから、有機化合物膜としては耐溶剤性を備えるものに限定されることなく、任意の性質を有する有機化合物膜を使用することができる。 The organic compound film used for the organic-inorganic composite film is not particularly limited as long as a desired function can be imparted to the solvent resistant layer used in the present invention. In the organic-inorganic composite film, since the inorganic compound film has sufficient solvent resistance, the organic compound film is not limited to those having solvent resistance, and an organic compound having arbitrary properties. A membrane can be used.
本発明に用いられる有機化合物膜としては、例えば、上述した硬化型樹脂膜を用いてもよく、あるいは、カルドポリマー等の有機化合物からなるものを例示することができる。 As an organic compound film | membrane used for this invention, the curable resin film mentioned above may be used, for example, or what consists of organic compounds, such as a cardo polymer, can be illustrated.
上記カルドポリマーは、以下の式で表されるカルド構造を有するポリマーで、カルド構造を有するモノマーと他の重合性モノマーとから合成され、カルドポリエステル系ポリマー、カルドアクリル系ポリマー、カルドエポキシ系ポリマーなどが適用でき、好ましくはカルドエポキシ系ポリマーである。このようなカルドポリマーを用いる場合は、必要に応じて、可塑剤、充填剤、帯電防止剤、滑剤、アンチブロッキング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤などの添加剤、更には、改質用樹脂などを併用することができる。 The cardo polymer is a polymer having a cardo structure represented by the following formula, which is synthesized from a monomer having a cardo structure and another polymerizable monomer, such as a cardo polyester polymer, a cardo acrylic polymer, a cardo epoxy polymer, etc. Is preferably a cardo epoxy polymer. When using such a cardo polymer, if necessary, additives such as plasticizers, fillers, antistatic agents, lubricants, antiblocking agents, antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, A modifying resin or the like can be used in combination.
本発明に用いられる耐溶剤層の構成としては、上記有機化合物膜と、上記無機化合物膜との組み合わせに応じて、任意の構成を用いることができる。したがって、本発明に用いられる耐溶剤層の構成としては、例えば、上述した耐熱基材上に、上記有機化合物膜と上記無機化合物膜とがこの順で積層された構成や、上述した耐熱基材上に、上記無機化合物膜と上記有機化合物膜とがこの順で積層された構成、さらに上記有機化合物膜の両面に上記無機化合物膜が配置された構成等を用いることができる。 As a structure of the solvent-resistant layer used in the present invention, any structure can be used according to the combination of the organic compound film and the inorganic compound film. Therefore, as a structure of the solvent-resistant layer used in the present invention, for example, a structure in which the organic compound film and the inorganic compound film are laminated in this order on the heat-resistant substrate described above, or the heat-resistant substrate described above. In addition, a configuration in which the inorganic compound film and the organic compound film are stacked in this order, a configuration in which the inorganic compound film is disposed on both surfaces of the organic compound film, and the like can be used.
（３）その他
本発明に用いられる耐溶剤層は、少なくとも上記耐熱基材の片面上に形成されていればよいものであるが、本発明においては上記耐熱基材の両面上に耐溶剤層が形成されていることが好ましい。上記耐溶剤層が両面に形成されていることにより、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板を用いてカラーフィルターやＴＦＴアレイを作製する際に、いずれの面を用いることも可能になるからである。
また、上記耐熱基材の両面上に耐溶剤層が形成されている場合、両面上に形成される耐溶剤層の構成は同一であってもよく、あるいは、異なるものであってもよいが、なかでも本発明においては同一の構成を有する耐溶剤層が形成されていることが好ましい。耐熱基材の両面上に形成される耐溶剤層が同一の構成を有することにより、片面側の耐溶剤性が不十分になったり、あるいは、両面に形成された耐溶剤層の物理的特性が異なることに起因して、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板が反ったり、カールしてしまったりすることを防止できるからである。
(3) Others The solvent-resistant layer used in the present invention is only required to be formed on at least one surface of the heat-resistant substrate. In the present invention, the solvent-resistant layer is formed on both surfaces of the heat-resistant substrate. Preferably it is formed. This is because, since the solvent-resistant layer is formed on both surfaces, any surface can be used when producing a color filter or a TFT array using the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention. .
Further, when a solvent resistant layer is formed on both surfaces of the heat resistant substrate, the configuration of the solvent resistant layer formed on both surfaces may be the same or different, In particular, in the present invention, it is preferable that a solvent-resistant layer having the same configuration is formed. Since the solvent resistant layers formed on both surfaces of the heat resistant substrate have the same configuration, the solvent resistance on one side becomes insufficient, or the physical characteristics of the solvent resistant layer formed on both surfaces are This is because it is possible to prevent the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention from being warped or curled due to the difference.
本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板が、上述した積層構成を有する場合においては、必要に応じて他の構成が用いられてもよい。このような他の構成としては、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板の用途等に応じて任意の構成を用いることができる。このような他の構成としては、例えば、上記耐熱基材と、上記耐溶剤層との間に形成され、両者の接着性を向上させる中間層を挙げることができる。 In the case where the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention has the above-described laminated structure, other structures may be used as necessary. As such another configuration, any configuration can be used according to the use of the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention. Examples of such other configurations include an intermediate layer that is formed between the heat-resistant substrate and the solvent-resistant layer and improves the adhesion between them.
本発明に用いられる中間層としては、上記耐熱基材と耐溶剤層とを所定の強度で接着できるものであれば特に限定されるものではない。なかでも本発明においては、ポリエステル樹脂およびオキサゾリン基とポリアルキレンオキシド鎖とを有するアクリル樹脂を含有するものが好適に用いられる。このような樹脂を含有する中間層は、上記耐熱基材と耐溶剤層との接着性に優れるからである。 The intermediate layer used in the present invention is not particularly limited as long as the heat resistant substrate and the solvent resistant layer can be bonded with a predetermined strength. In particular, in the present invention, polyester resins and those containing acrylic resins having oxazoline groups and polyalkylene oxide chains are preferably used. This is because the intermediate layer containing such a resin is excellent in the adhesion between the heat-resistant substrate and the solvent-resistant layer.
（ポリエステル樹脂）
上記ポリエステル樹脂としては、次の多塩基酸成分とジオール成分とから得られるポリエステルを用いることができる。すなわち、多価塩基成分としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、無水フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ダイマー酸、５−ナトリウムスルホイソフタル酸を例示することができる。なお、ポリエステル樹脂としては、２種以上のジカルボン酸成分が用いられた共重合ポリエステルを用いることが好ましい。
(Polyester resin)
As said polyester resin, the polyester obtained from the following polybasic acid component and a diol component can be used. That is, as the polyvalent base component, for example, terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, phthalic anhydride, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, adipic acid, sebacic acid, trimellitic acid, Examples include pyromellitic acid, dimer acid, and 5-sodium sulfoisophthalic acid. In addition, as a polyester resin, it is preferable to use the copolyester in which 2 or more types of dicarboxylic acid components were used.
一方、上記ジオール成分としては、例えば、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、キシレングリコール、ジメチロールプロパン等や、ポリ（エチレンオキシド）グリコール、ポリ（テトラメチレンオキシド）グリコールを例示することができる。 On the other hand, as the diol component, for example, ethylene glycol, 1,4-butanediol, diethylene glycol, dipropylene glycol, 1,6-hexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, xylene glycol, dimethylolpropane and the like, Examples thereof include poly (ethylene oxide) glycol and poly (tetramethylene oxide) glycol.
なお、上記ポリエステル樹脂には、若干量であればマレイン酸、イタコン酸等の不飽和多塩基酸成分が、或いは、ｐ−ヒドロキシ安息香酸等の如きヒドロキシカルボン酸成分が含まれていてもよい The polyester resin may contain an unsaturated polybasic acid component such as maleic acid or itaconic acid, or a hydroxycarboxylic acid component such as p-hydroxybenzoic acid, if it is in a slight amount.
（アクリル樹脂）
本発明に用いられるオキサゾリン基とポリアルキレンオキシド鎖とを有するアクリル樹脂として、例えば、以下に示すようなオキサゾリン基を有するモノマーと、ポリアルキレンオキシド鎖を有するモノマーからなるアクリル樹脂を用いることができる。オキサゾリン基を有するモノマーとしては、２−ビニル−２−オキサゾリン、２−ビニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−ビニル−５−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−５−メチル−２−オキサゾリンを例示することができる。これらの１種または２種以上の混合物を使用することができる。これらのなかでも、２−イソプロペニル−２−オキサゾリンが工業的に入手しやすいことから好適に用いられる。
(acrylic resin)
As the acrylic resin having an oxazoline group and a polyalkylene oxide chain used in the present invention, for example, an acrylic resin comprising a monomer having an oxazoline group as shown below and a monomer having a polyalkylene oxide chain can be used. Examples of the monomer having an oxazoline group include 2-vinyl-2-oxazoline, 2-vinyl-4-methyl-2-oxazoline, 2-vinyl-5-methyl-2-oxazoline, 2-isopropenyl-2-oxazoline, 2 -Isopropenyl-4-methyl-2-oxazoline, 2-isopropenyl-5-methyl-2-oxazoline can be exemplified. One or a mixture of two or more of these can be used. Among these, 2-isopropenyl-2-oxazoline is preferably used because it is easily industrially available.
また、上記ポリアルキレンオキシド鎖を有するモノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸のエステル部にポリアルキレンオキシドを付加させたものを挙げることができる。ポリアルキレンオキシド鎖としては、ポリメチレンオキシド、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリブチレンオキシドを挙げることができる。ポリアルキレンオキシド鎖の繰り返し単位は３〜１００であることが好ましい。 Examples of the monomer having a polyalkylene oxide chain include those obtained by adding polyalkylene oxide to an ester part of acrylic acid or methacrylic acid. Examples of the polyalkylene oxide chain include polymethylene oxide, polyethylene oxide, polypropylene oxide, and polybutylene oxide. The number of repeating units of the polyalkylene oxide chain is preferably 3 to 100.
本発明に用いられるアクリル樹脂には、その他の共重合成分として例えば以下に例示されるモノマーを共重合することができる。すなわち、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート（アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基等）；２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート等のヒドロキシ含有モノマー；グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル等のエポキシ基含有モノマー；アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸、スチレンスルホン酸及びその塩（ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、第三級アミン塩等）等のカルボキシ基またはその塩を有するモノマー；アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−アルキルアクリルアミド、Ｎ−アルキルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルキルメタクリレート（アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基等）、Ｎ−アルコキシアクリルアミド、Ｎ−アルコキシメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルコキシアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルコキシメタクリルアミド（アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基等）、アクリロイルモルホリン、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−フェニルメタクリルアミド等のアミド基を有するモノマー；無水マレイン酸、無水イタコン酸等の酸無水物のモノマー；ビニルイソシアネート、アリルイソシアネート、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルトリアルコキシシラン、アルキルマレイン酸モノエステル、アルキルフマール酸モノエステル、アルキルイタコン酸モノエステル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニリデン、エチレン、プロピレン、塩化ビニル、酢酸ビニル、ブタジエンである。 For the acrylic resin used in the present invention, for example, monomers exemplified below can be copolymerized as other copolymerization components. That is, alkyl acrylate, alkyl methacrylate (alkyl groups include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, 2-ethylhexyl group, cyclohexyl group, etc.); Hydroxy-containing monomers such as 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate and 2-hydroxypropyl methacrylate; Epoxy group-containing monomers such as glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate and allyl glycidyl ether; acrylic acid and methacrylic acid Carboxy groups such as itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid, styrene sulfonic acid and salts thereof (sodium salt, potassium salt, ammonium salt, tertiary amine salt, etc.) Or a monomer having a salt thereof; acrylamide, methacrylamide, N-alkyl acrylamide, N-alkyl methacrylamide, N, N-dialkyl acrylamide, N, N-dialkyl methacrylate (the alkyl group includes methyl group, ethyl group, n -Propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, 2-ethylhexyl group, cyclohexyl group, etc.), N-alkoxyacrylamide, N-alkoxymethacrylamide, N, N-dialkoxyacrylamide, N , N-dialkoxymethacrylamide (alkoxy groups include methoxy, ethoxy, butoxy, isobutoxy, etc.), acryloylmorpholine, N-methylolacrylamide, N-methylolmethacrylamide, N-phenylacrylic Monomers having an amide group such as amide and N-phenylmethacrylamide; monomers of acid anhydrides such as maleic anhydride and itaconic anhydride; vinyl isocyanate, allyl isocyanate, styrene, α-methyl styrene, vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether Vinyl trialkoxysilane, alkylmaleic acid monoester, alkyl fumaric acid monoester, alkylitaconic acid monoester, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinylidene chloride, ethylene, propylene, vinyl chloride, vinyl acetate and butadiene.
４．液晶表示装置用フレキシブル基板
本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板は、１６０℃における耐熱寸度変化率および耐溶剤寸度変化率がそれぞれ所定の範囲内にあることを特徴とするものであるが、さらに２３℃における飽和吸水率が０．５質量％以下であることが好ましく、０．４質量％以下であることがより好ましく、０．３質量％以下であることがさらに好ましい。飽和吸水率が上記範囲内であることにより、例えば、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板を用いてカラーフィルターやＴＦＴアレイを作製する過程において、基板に水分が曝露されたとしても、これによって寸度変化が生じることを防止することができるからである。
ここで、上記飽和吸水率は、ＡＳＴＭＤ５７０に準拠し２３℃の水中で１週間浸漬して増加重量を測定することにより求められる。
4). Flexible substrate for liquid crystal display device The flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention is characterized in that the heat-resistant dimensional change rate at 160 ° C. and the solvent-resistant dimensional change rate are within predetermined ranges, Further, the saturated water absorption at 23 ° C. is preferably 0.5% by mass or less, more preferably 0.4% by mass or less, and further preferably 0.3% by mass or less. When the saturated water absorption is within the above range, for example, in the process of producing a color filter or TFT array using the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention, even if moisture is exposed to the substrate, this causes It is because it can prevent that a degree change arises.
Here, the said saturated water absorption is calculated | required by immersing in 23 degreeC water for 1 week based on ASTMD570, and measuring an increase weight.
さらに、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板の光学特性は、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板が用いられる液晶表示装置の駆動方式等に応じて、適宜調整すればよいものである。なかでも本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板は、面内レターデーション（Ｒｅ）が５０ｎｍ以下であることが好ましく、なかでも２０ｎｍ以下であることが好ましく、０ｎｍであることがより好ましい。
なお、上記面内レターデーション（Ｒｅ）は、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板の面内における遅相軸方向ｘの屈折率をｎｘ、進相軸方向ｙの屈折率をｎｙ、厚み方向ｚの屈折率をｎｚ、および、厚みをｄとした場合に、それぞれ以下の式で表されるものである。
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
また、上記面内レターデーション（Ｒｅ）は、例えば、王子計測機器株式会社製 ＫＯＢＲＡ−ＷＲを用い、平行ニコル回転法により測定することができる。
Furthermore, the optical characteristics of the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention may be adjusted as appropriate according to the driving method of the liquid crystal display device using the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention. In particular, the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention preferably has an in-plane retardation (Re) of 50 nm or less, particularly preferably 20 nm or less, and more preferably 0 nm.
In the in-plane retardation (Re), the refractive index in the slow axis direction x is nx, the refractive index in the fast axis direction y is ny, and the thickness direction z is in the plane of the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention. When the refractive index is nz and the thickness is d, each is represented by the following formula.
Re = (nx−ny) × d
The in-plane retardation (Re) can be measured by, for example, a parallel Nicol rotation method using KOBRA-WR manufactured by Oji Scientific Instruments.
５．液晶表示装置用フレキシブル基板の製造方法
次に、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板について説明する。本発明に用いられる液晶表示装置用フレキシブル基板は、例えば、上述した耐熱基材を用い、上記耐熱基材の両面上に耐溶剤層を形成することによって製造することができる。上記耐熱基材上に耐溶剤層を形成する方法は、一般的に公知の方法の中から、上記耐溶剤層の種類によって適宜選択することができる。例えば、上記耐溶剤層として硬化型樹脂膜が用いられる場合は、上記耐熱基材上に硬化型樹脂を含有する硬化型樹脂膜形成用塗工液を塗布した後、上記硬化型樹脂膜を硬化させることによって形成することができる。このとき、耐熱基材上に硬化型樹脂膜形成用塗工液を塗布する方法としては、ロールコート法、グラビアコート法、ロールブラッシュ法、スプレー法、エアーナイフコート法、含浸法、カーテンコート法等の一般的に公知の方法を用いることができる。
一方、上記耐溶剤層として無機化合物膜が用いられる場合は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の方法や、ＨｏｔＷｉｒｅ−ＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法やプラズマＣＶＤ法等によって上記耐熱基材上に無機化合物膜を形成することができる。
また、上記耐溶剤層として有機‐無機複合膜が用いられる場合は、上記無機化合物膜を作製する方法と、上記硬化型樹脂膜を作製する方法とを順に実施することによって、上記耐熱基材上に所望の構成を有する有機−無機複合膜を形成することができる。
5. Manufacturing method of flexible substrate for liquid crystal display device Next, the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention will be described. The flexible substrate for a liquid crystal display device used in the present invention can be produced, for example, by using the above-described heat-resistant substrate and forming a solvent-resistant layer on both surfaces of the heat-resistant substrate. The method for forming the solvent resistant layer on the heat resistant substrate can be appropriately selected from generally known methods depending on the type of the solvent resistant layer. For example, when a curable resin film is used as the solvent-resistant layer, the curable resin film is cured after applying a curable resin film-forming coating solution containing a curable resin on the heat-resistant substrate. Can be formed. At this time, as a method for applying a coating liquid for forming a curable resin film on a heat-resistant substrate, a roll coating method, a gravure coating method, a roll brush method, a spray method, an air knife coating method, an impregnation method, a curtain coating method Generally known methods such as these can be used.
On the other hand, when an inorganic compound film is used as the solvent-resistant layer, for example, the above heat resistance can be achieved by a method such as a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, a HotWire-CVD method, a thermal CVD method, a plasma CVD method, or the like. An inorganic compound film can be formed on the substrate.
In the case where an organic-inorganic composite film is used as the solvent-resistant layer, the method for producing the inorganic compound film and the method for producing the curable resin film are sequentially performed on the heat resistant substrate. An organic-inorganic composite film having a desired structure can be formed.
Ｂ．カラーフィルター
次に、本発明のカラーフィルターについて説明する。本発明のカラーフィルターは、上述した本発明に係る液晶表示装置用フレキシブル基板が用いられたものである。
B. Next, the color filter of the present invention will be described. The color filter of the present invention uses the above-described flexible substrate for a liquid crystal display device according to the present invention.
このような本発明のカラーフィルターについて図を参照しながら説明する。図３は本発明のカラーフィルターの一例を示す概略断面図である。図３に例示するように、本発明のカラーフィルター２０は、基材１０と、上記基材１０上に形成されたブラックマトリクス２１と、前記ブラックマトリクス２１の開口部内に形成された複数の着色層２２を有するものである。
このような例において、本発明のカラーフィルター２０は、上記基材１０として、本発明に係る液晶表示装置用フレキシブル基板が用いられていることを特徴とするものである。
Such a color filter of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 3 is a schematic sectional view showing an example of the color filter of the present invention. As illustrated in FIG. 3, the
In such an example, the
本発明のカラーフィルターは、上記本発明に係る液晶表示装置用フレキシブル基板が用いられていることにより、寸度安定性に優れたカラーフィルターを得ることができる。
また、本発明のカラーフィルターは、カラーフィルターとして寸度安定性に優れたものにできることはもちろんのこと、例えば、カラーフィルターを製造する過程において、フォトリソグラフィー法やインクジェット法によって着色層やブラックマトリクスが形成された場合であっても、これらの方法に用いられる溶剤や熱の影響によって、基板に寸度変化が生じることを防止できる。このため、上記本発明に係る液晶表示装置用フレキシブル基板が用いられていることにより、カラーフィルターを製造する過程においても基材に寸度変化が生じることを防止できるため、より高精度に着色層やブラックマトリクスが形成されたカラーフィルターを得ることができる。
さらに本発明のカラーフィルターは、上記本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板が用いられていることにより、全体として可撓性を有するものとなる。したがって、本発明のカラーフィルターを用いることにより、例えば、Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌプロセス等の連続プロセスによって、液晶表示装置を作製することが可能になる。このため、本発明によれば高生産性で液晶表示装置を作製することができる。
Since the color filter of the present invention uses the flexible substrate for a liquid crystal display device according to the present invention, a color filter having excellent dimensional stability can be obtained.
In addition, the color filter of the present invention can be made excellent in dimensional stability as a color filter. For example, in the process of producing a color filter, a colored layer or a black matrix is formed by a photolithography method or an inkjet method. Even if it is formed, it is possible to prevent a dimensional change from occurring in the substrate due to the influence of the solvent and heat used in these methods. For this reason, since the flexible substrate for a liquid crystal display device according to the present invention is used, it is possible to prevent a dimensional change from occurring in the base material even in the process of manufacturing a color filter. And a color filter in which a black matrix is formed can be obtained.
Furthermore, the color filter of the present invention has flexibility as a whole by using the flexible substrate for a liquid crystal display device of the present invention. Therefore, by using the color filter of the present invention, a liquid crystal display device can be manufactured by a continuous process such as a Roll to Roll process. Therefore, according to the present invention, a liquid crystal display device can be manufactured with high productivity.
なお、図３においては、本発明のカラーフィルターの一例として、基材上にブラックマトリクスと、着色層とが形成されたものの例を示したが、本発明のカラーフィルターはこのような構成を有するものに限定されるものではない。本発明のカラーフィルターの構成は、着色層を支持する基材として、本発明に係る液晶表示装置用フレキシブル基板が用いられているものであれば特に限定されるものではなく、本発明のカラーフィルターを用いて作製される液晶表示装置の種類等に応じて任意の構成とすることができる。
なお、本発明のカラーフィルターの具体的構成については、一般的に公知のカラーフィルターと同様であるため、ここでの詳しい説明は省略する。
In addition, in FIG. 3, although the example of what formed the black matrix and the colored layer on the base material was shown as an example of the color filter of this invention, the color filter of this invention has such a structure. It is not limited to things. The configuration of the color filter of the present invention is not particularly limited as long as the flexible substrate for a liquid crystal display device according to the present invention is used as the base material for supporting the colored layer, and the color filter of the present invention is not limited. The liquid crystal display device manufactured using can have any structure depending on the type of the liquid crystal display device.
The specific configuration of the color filter of the present invention is generally the same as that of a publicly known color filter, and a detailed description thereof is omitted here.
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。 The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention, and any device that exhibits the same function and effect is the present invention. It is included in the technical scope of the invention.
１．実施例１
（耐熱基材）
耐熱基材として、厚さが１００μｍ、ガラス転移温度１６５℃、のシクロオレフィン系樹脂フィルムＰＮ１６５Ｂ（ＪＳＲ製）を用いた。
1. Example 1
(Heat resistant substrate)
A cycloolefin resin film PN165B (manufactured by JSR) having a thickness of 100 μm and a glass transition temperature of 165 ° C. was used as the heat resistant substrate.
（無機化合物膜）
耐熱基材の両面に、無機化合物であるＳｉＯｘ（ｘ＝１．５）膜を形成した。ＳｉＯｘは帰還電極付き圧力勾配型イオンプレーティング装置の成膜室内に配置し、成膜材料には二酸化シリコンを使用し、以下の成膜条件にて酸化珪素の膜厚が１００ｎｍとなるようにガスバリア層を設けた。
(Inorganic compound film)
SiOx (x = 1.5) films, which are inorganic compounds, were formed on both surfaces of the heat-resistant substrate. SiOx is placed in the film forming chamber of the pressure gradient ion plating apparatus with a return electrode, silicon dioxide is used as the film forming material, and the gas barrier is set so that the silicon oxide film thickness becomes 100 nm under the following film forming conditions. A layer was provided.
＜成膜条件＞
・成膜圧力 ： ８．０×１０−２Ｐａ
・プラズマガス用アルゴンガス流量 ： １２ｓｃｃｍ
・投入電流 ： ８．５Ａ
・投入電圧 ： ８５Ｖ
・投入電力 ： ７．２ｋＷ
<Film formation conditions>
Film forming pressure: 8.0 × 10 −2 Pa
・ Argon gas flow rate for plasma gas: 12sccm
-Input current: 8.5A
-Input voltage: 85V
-Input power: 7.2 kW
（硬化型樹脂膜）
以下の式で示されるカルドエポキシ化合物２４６部、アクリル酸７２部、メトキノン０．１６部及びトリフェニルホスフィン１．１部、カルビトールアセテート２３７．６部を加え、９５℃まで昇温させ３０時間反応させた。次いで、更にテトラヒドロ無水フタル酸１２２部を仕込み、９５℃で２０時間反応させ、不飽和基含有カルボン酸化合物を得た。
(Curable resin film)
246 parts of a cardo epoxy compound represented by the following formula, 72 parts of acrylic acid, 0.16 part of methoquinone, 1.1 part of triphenylphosphine and 237.6 parts of carbitol acetate were added, and the temperature was raised to 95 ° C. and reacted for 30 hours. I let you. Subsequently, 122 parts of tetrahydrophthalic anhydride was further added and reacted at 95 ° C. for 20 hours to obtain an unsaturated group-containing carboxylic acid compound.
このようにして得た硬化型樹脂膜材料を用いて上記耐熱基材上に形成された両面の無機化合物膜上へ、膜厚が１．０μｍの硬化型樹脂膜を形成した。硬化型樹脂膜はスピンコーティング法により塗布し、１２０℃で２分間乾燥し、さらに１６０℃で６０分間熱風乾燥することによって形成した。
A curable resin film having a thickness of 1.0 μm was formed on the inorganic compound films on both sides formed on the heat-resistant substrate using the curable resin film material thus obtained. The curable resin film was applied by spin coating, dried at 120 ° C. for 2 minutes, and further dried by hot air at 160 ° C. for 60 minutes.
（評価）
無機化合物膜および硬化型樹脂膜を積層して得られた液晶表示装置用フレキシブル基板の耐熱寸度変化率及び耐溶剤寸度変化率は、それぞれ−０．０４１％及び−０．００８％であった。表１に測定結果をまとめた。また、飽和吸水率（２３℃）は＜０．１％であり、面内レターデーション（Ｒｅ）は１．２ｎｍ、であった。
(Evaluation)
The flexible substrate for liquid crystal display devices obtained by laminating the inorganic compound film and the curable resin film had a rate of change in heat resistance and a rate of change in solvent resistance of -0.041% and -0.008%, respectively. It was. Table 1 summarizes the measurement results. The saturated water absorption (23 ° C.) was <0.1% and the in-plane retardation (Re) was 1.2 nm.
２．実施例２
耐熱基材として、厚さが１００μｍ、ガラス転移温度２８５℃のシクロオレフィン系樹脂フィルムＰＮ２８５Ａ（ＪＳＲ製）を用いた以外は、実施例１と同様に無機化合物膜および硬化型樹脂膜を積層して、液晶表示装置用フレキシブル基板を作製した。
2. Example 2
An inorganic compound film and a curable resin film were laminated in the same manner as in Example 1 except that a cycloolefin resin film PN285A (manufactured by JSR) having a thickness of 100 μm and a glass transition temperature of 285 ° C. was used as the heat-resistant substrate. A flexible substrate for a liquid crystal display device was produced.
（評価）
得られた液晶表示装置用フレキシブル基板の耐熱寸度変化率及び耐溶剤寸度変化率は、それぞれ−０．０１１％及び−０．０１８％であった。表１に測定結果をまとめた。また、飽和吸水率（２３℃）は０．３％であり、面内レターデーション（Ｒｅ）は１８ｎｍ、であった。
(Evaluation)
The heat-resistant dimensional change rate and the solvent-resistant dimensional change rate of the obtained flexible substrate for a liquid crystal display device were -0.011% and -0.018%, respectively. Table 1 summarizes the measurement results. The saturated water absorption (23 ° C.) was 0.3%, and the in-plane retardation (Re) was 18 nm.
３．実施例３
耐熱基材として、厚さが１００μｍ、ガラス転移温度４００℃、のシクロオレフィン系樹脂フィルムＰＮ４００Ａ（ＪＳＲ製）を用いた以外は、実施例１と同様に無機化合物膜および硬化型樹脂膜を積層して、液晶表示装置用フレキシブル基板を作製した。
3. Example 3
An inorganic compound film and a curable resin film were laminated in the same manner as in Example 1 except that a cycloolefin resin film PN400A (manufactured by JSR) having a thickness of 100 μm and a glass transition temperature of 400 ° C. was used as the heat-resistant substrate. Thus, a flexible substrate for a liquid crystal display device was produced.
（評価）
得られた液晶表示装置用フレキシブル基板の耐熱寸度変化率及び耐溶剤寸度変化率は、それぞれ−０．００７％及び＋０．０４２％であった。表１に測定結果をまとめた。また、飽和吸水率（２３℃）は１．３％であり、面内レターデーション（Ｒｅ）は７ｎｍであった。
(Evaluation)
The heat-resistant dimensional change rate and the solvent-resistant dimensional change rate of the obtained flexible substrate for a liquid crystal display device were −0.007% and + 0.042%, respectively. Table 1 summarizes the measurement results. The saturated water absorption (23 ° C.) was 1.3%, and the in-plane retardation (Re) was 7 nm.
４．実施例４
無機化合物であるＳｉＯｘを形成しなかったこと以外は、実施例２と同様に硬化型樹脂膜を積層して、液晶表示装置用フレキシブル基板を作製した。
4). Example 4
A flexible substrate for a liquid crystal display device was manufactured by laminating a curable resin film in the same manner as in Example 2 except that SiOx, which was an inorganic compound, was not formed.
（評価）
得られた液晶表示装置用フレキシブル基板の耐熱寸度変化率及び耐溶剤寸度変化率は、それぞれ−０．０２５％及び−０．０３６％であった。表１に測定結果をまとめた。また、飽和吸水率（２３℃）は０．３％であり、面内レターデーション（Ｒｅ）は１８ｎｍであった。
(Evaluation)
The heat-resistant dimensional change rate and the solvent-proof dimensional change rate of the obtained flexible substrate for liquid crystal display devices were -0.025% and -0.036%, respectively. Table 1 summarizes the measurement results. The saturated water absorption (23 ° C.) was 0.3%, and the in-plane retardation (Re) was 18 nm.
５．実施例５
硬化型樹脂膜を形成しなかったこと以外は、実施例２と同様に無機化合物膜を積層して、液晶表示装置用フレキシブル基板を作製した。
5. Example 5
A flexible substrate for a liquid crystal display device was produced by laminating an inorganic compound film in the same manner as in Example 2 except that the curable resin film was not formed.
（評価）
得られた液晶表示装置用フレキシブル基板の耐熱寸度変化率及び耐溶剤寸度変化率は、それぞれ−０．０３１％及び−０．０２１％であった。表１に測定結果をまとめた。また、飽和吸水率（２３℃）は０．３％であり、面内レターデーション（Ｒｅ）は１８ｎｍであった。
(Evaluation)
The heat-resistant dimensional change rate and the solvent-resistant dimensional change rate of the obtained flexible substrate for a liquid crystal display device were -0.031% and -0.021%, respectively. Table 1 summarizes the measurement results. The saturated water absorption (23 ° C.) was 0.3%, and the in-plane retardation (Re) was 18 nm.
６．実施例６
実施例２にて形成された両面の硬化型樹脂膜上へ、さらに無機化合物膜であるＳｉＯｘを形成した以外は、実施例２と同様にして、液晶表示装置用フレキシブル基板を作製した。
6). Example 6
A flexible substrate for a liquid crystal display device was produced in the same manner as in Example 2 except that SiOx, which was an inorganic compound film, was further formed on the curable resin films on both sides formed in Example 2.
（評価）
得られた液晶表示装置用フレキシブル基板の耐熱寸度変化率及び耐溶剤寸度変化率は、それぞれ−０．００５％及び−０．００４％であった。表１に測定結果をまとめた。また、飽和吸水率（２３℃）は０．３％であり、面内レターデーション（Ｒｅ）は１８ｎｍであった。
(Evaluation)
The heat-resistant dimensional change rate and the solvent-resistant dimensional change rate of the obtained flexible substrate for a liquid crystal display device were -0.005% and -0.004%, respectively. Table 1 summarizes the measurement results. The saturated water absorption (23 ° C.) was 0.3%, and the in-plane retardation (Re) was 18 nm.
７．比較例１
無機化合物膜や硬化型樹脂膜を形成せず、基材フィルムＰＮ２８５Ａを液晶表示装置用フレキシブル基板とした。
7). Comparative Example 1
The base film PN285A was used as a flexible substrate for a liquid crystal display device without forming an inorganic compound film or a curable resin film.
（評価）
上記液晶表示装置用フレキシブル基板の耐熱寸度変化率及び耐溶剤寸度変化率は、それぞれ−０．０９２％及び−０．０８５％であった。表１に測定結果をまとめた。また、飽和吸水率（２３℃）は０．３％であり、面内レターデーション（Ｒｅ）は１８ｎｍであった。
(Evaluation)
The heat-resisting dimensional change rate and the solvent-resistant dimensional change rate of the flexible substrate for a liquid crystal display device were −0.092% and −0.085%, respectively. Table 1 summarizes the measurement results. The saturated water absorption (23 ° C.) was 0.3%, and the in-plane retardation (Re) was 18 nm.
８．比較例２
耐熱基材として、厚さが１００μｍ、ガラス転移温度１３６℃、のシクロオレフィン系樹脂フィルム１４１０Ｒ（日本ゼオン社製）を用いた以外は、実施例６と同様に無機化合物膜および硬化型樹脂膜を積層して、液晶表示装置用フレキシブル基板を作製した。
8). Comparative Example 2
An inorganic compound film and a curable resin film were formed in the same manner as in Example 6 except that a cycloolefin resin film 1410R (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) having a thickness of 100 μm and a glass transition temperature of 136 ° C. was used as the heat resistant substrate. By laminating, a flexible substrate for a liquid crystal display device was produced.
（評価）
得られた液晶表示装置用フレキシブル基板の耐熱寸度変化率及び耐溶剤寸度変化率は、それぞれ−０．０８１％及び−０．０９９％であった。表１に測定結果をまとめた。また、飽和吸水率（２３℃）は＜０．１％であり、面内レターデーション（Ｒｅ）は４ｎｍであった。
(Evaluation)
The heat-resistant dimensional change rate and the solvent-resistant dimensional change rate of the obtained flexible substrate for liquid crystal display devices were -0.081% and -0.099%, respectively. Table 1 summarizes the measurement results. The saturated water absorption (23 ° C.) was <0.1% and the in-plane retardation (Re) was 4 nm.
１ … 耐熱基材
２，２’ … 耐溶剤層
２ａ … 有機化合物膜
２ｂ … 無機化合物膜
１０ … 液晶表示装置用フレキシブル基板
２０ … カラーフィルター
２１ … ブラックマトリクス
２２ … 着色層
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