JP2008244447A - 絶縁膜の作製方法及び半導体装置の作製方法 - Google Patents
絶縁膜の作製方法及び半導体装置の作製方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008244447A JP2008244447A JP2008032526A JP2008032526A JP2008244447A JP 2008244447 A JP2008244447 A JP 2008244447A JP 2008032526 A JP2008032526 A JP 2008032526A JP 2008032526 A JP2008032526 A JP 2008032526A JP 2008244447 A JP2008244447 A JP 2008244447A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- heat treatment
- film
- organic solvent
- insulating film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 144
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 87
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 189
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 661
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 257
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 140
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 133
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 112
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 96
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 96
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 94
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 claims abstract description 52
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims abstract description 50
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 31
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims 2
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 12
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 186
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 94
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 61
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 51
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 51
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 48
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 47
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 47
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 47
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 41
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 39
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 37
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 34
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 29
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- -1 OK73 thinner Chemical compound 0.000 description 26
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 26
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 24
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- MFKRHJVUCZRDTF-UHFFFAOYSA-N 3-methoxy-3-methylbutan-1-ol Chemical compound COC(C)(C)CCO MFKRHJVUCZRDTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 22
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 22
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 21
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 20
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 20
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 20
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 19
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 19
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 19
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 19
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 18
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 17
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 16
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 16
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 14
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 14
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 14
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 14
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 13
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 12
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 12
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 12
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 12
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 12
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 12
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 11
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 11
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 11
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 11
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 11
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 10
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 10
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 10
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 10
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 10
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 10
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 10
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 9
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 9
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 9
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 9
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 9
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 9
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 8
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 8
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 8
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 8
- 230000006870 function Effects 0.000 description 8
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 8
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 8
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 8
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 8
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 description 8
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 8
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 8
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 8
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 8
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- CSDREXVUYHZDNP-UHFFFAOYSA-N alumanylidynesilicon Chemical compound [Al].[Si] CSDREXVUYHZDNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 7
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 7
- GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N Nitrous Oxide Chemical compound [O-][N+]#N GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 6
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 6
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000005499 laser crystallization Methods 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 6
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 6
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 6
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 6
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 6
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 6
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 6
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 6
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 5
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 5
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 5
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 5
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 5
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 5
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 4
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 4
- 229910000577 Silicon-germanium Inorganic materials 0.000 description 4
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LEVVHYCKPQWKOP-UHFFFAOYSA-N [Si].[Ge] Chemical compound [Si].[Ge] LEVVHYCKPQWKOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 4
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 4
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 4
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 4
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 4
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 4
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 4
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 4
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 4
- ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N zirconium nitride Chemical compound [Zr]#N ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N Nitric oxide Chemical compound O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 3
- 238000001994 activation Methods 0.000 description 3
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 3
- 239000005407 aluminoborosilicate glass Substances 0.000 description 3
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 3
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 3
- 238000005224 laser annealing Methods 0.000 description 3
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 3
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 3
- 229960001730 nitrous oxide Drugs 0.000 description 3
- 235000013842 nitrous oxide Nutrition 0.000 description 3
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N tantalum nitride Chemical compound [Ta]#N MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegermanium Chemical compound [Te]=[Ge] JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 2
- 229920012266 Poly(ether sulfone) PES Polymers 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N acrylonitrile butadiene styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 description 2
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 238000004380 ashing Methods 0.000 description 2
- GPBUGPUPKAGMDK-UHFFFAOYSA-N azanylidynemolybdenum Chemical compound [Mo]#N GPBUGPUPKAGMDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 2
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 2
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005283 ground state Effects 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 2
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 2
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 2
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 238000001552 radio frequency sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 2
- 239000010979 ruby Substances 0.000 description 2
- 229910001750 ruby Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 238000003746 solid phase reaction Methods 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001665 Poly-4-vinylphenol Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004286 SiNxOy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004283 SiO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020286 SiOxNy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 238000001505 atmospheric-pressure chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- UMIVXZPTRXBADB-UHFFFAOYSA-N benzocyclobutene Chemical compound C1=CC=C2CCC2=C1 UMIVXZPTRXBADB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 229910052839 forsterite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 1
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N magnesium orthosilicate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000002751 molybdenum Chemical class 0.000 description 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 1
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUFLMLWJRZAWLJ-UHFFFAOYSA-N nickel silicide Chemical compound [Ni]=[Si]=[Ni] RUFLMLWJRZAWLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021334 nickel silicide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002831 nitrogen free-radicals Chemical class 0.000 description 1
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMANVNJQNLATNU-UHFFFAOYSA-N oxalonitrile Chemical compound N#CC#N JMANVNJQNLATNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920000636 poly(norbornene) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000004151 rapid thermal annealing Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N selanylidenegallium;selenium Chemical compound [Se].[Se]=[Ga].[Se]=[Ga] VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N selenium;zinc Chemical compound [Se]=[Zn] SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 238000007725 thermal activation Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- JOHWNGGYGAVMGU-UHFFFAOYSA-N trifluorochlorine Chemical compound FCl(F)F JOHWNGGYGAVMGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02107—Forming insulating materials on a substrate
- H01L21/02109—Forming insulating materials on a substrate characterised by the type of layer, e.g. type of material, porous/non-porous, pre-cursors, mixtures or laminates
- H01L21/02112—Forming insulating materials on a substrate characterised by the type of layer, e.g. type of material, porous/non-porous, pre-cursors, mixtures or laminates characterised by the material of the layer
- H01L21/02123—Forming insulating materials on a substrate characterised by the type of layer, e.g. type of material, porous/non-porous, pre-cursors, mixtures or laminates characterised by the material of the layer the material containing silicon
- H01L21/02126—Forming insulating materials on a substrate characterised by the type of layer, e.g. type of material, porous/non-porous, pre-cursors, mixtures or laminates characterised by the material of the layer the material containing silicon the material containing Si, O, and at least one of H, N, C, F, or other non-metal elements, e.g. SiOC, SiOC:H or SiONC
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/31—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to form insulating layers thereon, e.g. for masking or by using photolithographic techniques; After treatment of these layers; Selection of materials for these layers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02107—Forming insulating materials on a substrate
- H01L21/02109—Forming insulating materials on a substrate characterised by the type of layer, e.g. type of material, porous/non-porous, pre-cursors, mixtures or laminates
- H01L21/02205—Forming insulating materials on a substrate characterised by the type of layer, e.g. type of material, porous/non-porous, pre-cursors, mixtures or laminates the layer being characterised by the precursor material for deposition
- H01L21/02208—Forming insulating materials on a substrate characterised by the type of layer, e.g. type of material, porous/non-porous, pre-cursors, mixtures or laminates the layer being characterised by the precursor material for deposition the precursor containing a compound comprising Si
- H01L21/02214—Forming insulating materials on a substrate characterised by the type of layer, e.g. type of material, porous/non-porous, pre-cursors, mixtures or laminates the layer being characterised by the precursor material for deposition the precursor containing a compound comprising Si the compound comprising silicon and oxygen
- H01L21/02216—Forming insulating materials on a substrate characterised by the type of layer, e.g. type of material, porous/non-porous, pre-cursors, mixtures or laminates the layer being characterised by the precursor material for deposition the precursor containing a compound comprising Si the compound comprising silicon and oxygen the compound being a molecule comprising at least one silicon-oxygen bond and the compound having hydrogen or an organic group attached to the silicon or oxygen, e.g. a siloxane
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02107—Forming insulating materials on a substrate
- H01L21/02225—Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer
- H01L21/0226—Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer formation by a deposition process
- H01L21/02282—Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer formation by a deposition process liquid deposition, e.g. spin-coating, sol-gel techniques, spray coating
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/31—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to form insulating layers thereon, e.g. for masking or by using photolithographic techniques; After treatment of these layers; Selection of materials for these layers
- H01L21/3105—After-treatment
- H01L21/311—Etching the insulating layers by chemical or physical means
- H01L21/31127—Etching organic layers
- H01L21/31133—Etching organic layers by chemical means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/31—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to form insulating layers thereon, e.g. for masking or by using photolithographic techniques; After treatment of these layers; Selection of materials for these layers
- H01L21/312—Organic layers, e.g. photoresist
- H01L21/3121—Layers comprising organo-silicon compounds
- H01L21/3122—Layers comprising organo-silicon compounds layers comprising polysiloxane compounds
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/122—Pixel-defining structures or layers, e.g. banks
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
- Thin Film Transistor (AREA)
- Formation Of Insulating Films (AREA)
- Insulated Gate Type Field-Effect Transistor (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Abstract
【解決手段】有機溶媒中にシロキサン樹脂またはシロキサン系材料を有する懸濁液を用いて薄膜を形成し、薄膜に第1の加熱処理を施し、第1の加熱処理後の薄膜上にマスクを形成し、有機溶媒を用いてウェットエッチングすることで、第1の加熱処理後の薄膜の形状を加工し、加工された薄膜に第2の加熱処理を施す。
【選択図】図1
Description
本実施の形態では、図1、図2を用いて、リソグラフィ法を用いた本発明の絶縁膜の作製方法について説明する。まず図1(A)に示すように、シロキサン樹脂またはシロキサン樹脂の前駆体であるシロキサン系材料が分散した懸濁液を基板200上に塗布することで、薄膜201を形成する。シロキサン樹脂は、シリコン(Si)と酸素(O)との結合で骨格構造が構成される材料である。置換基として、水素の他、フッ素、フルオロ基、有機基(例えばアルキル基、芳香族炭化水素)のうち、少なくとも1種を有していても良い。
本実施の形態では、図3、図4を用いて、本発明の絶縁膜の作製方法について説明する。まず図3(A)に示すように、実施の形態1と同様に、シロキサン樹脂またはシロキサン樹脂の前駆体であるシロキサン系材料が分散された懸濁液を基板100上に塗布することで、薄膜101を形成する。シロキサン樹脂は、シリコン(Si)と酸素(O)との結合で骨格構造が構成される材料である。置換基として、水素の他、フッ素、フルオロ基、有機基(例えばアルキル基、芳香族炭化水素)のうち、少なくとも1種を有していても良い。
次に、本発明の半導体装置の具体的な作製方法について説明する。なお本実施の形態では、トランジスタを半導体素子の一例として示すが、本発明の半導体装置に用いられる半導体素子はこれに限定されない。例えばトランジスタの他に、記憶素子、ダイオード、抵抗、容量、インダクタなどを用いることができる。
本実施例では、半導体基板500を熱酸化することで形成された酸化珪素膜を、ゲート絶縁膜506として用いる。また、熱酸化により酸化珪素膜を形成した後、窒化処理を行うことによって酸化珪素膜の表面を窒化させて酸窒化珪素膜を形成し、酸化珪素膜と酸窒化珪素膜とが積層された層を、ゲート絶縁膜506として用いても良い。また熱酸化ではなく、プラズマ処理を用いてゲート絶縁膜506を形成してもよい。例えば、高密度プラズマ処理により半導体基板500の表面を酸化または窒化することで、ゲート絶縁膜506として用いる酸化珪素(SiOx)膜または窒化珪素(SiNx)膜を形成することができる。
101 薄膜
102 薄膜
103 マスク
104 薄膜
105 絶縁膜
106 端部
200 基板
201 薄膜
202 レジスト層
203 マスク
204 薄膜
205 薄膜
206 絶縁膜
207 端部
300 基板
301 絶縁膜
302 半導体膜
304 トランジスタ
305 トランジスタ
306 ゲート絶縁膜
307 導電膜
309 絶縁膜
310 絶縁膜
311 絶縁膜
312 導電膜
315 導電膜
316 導電膜
317 陽極
318 薄膜
319 レジスト層
320 マスク
321 薄膜
322 薄膜
323 絶縁膜
324 電界発光層
325 陰極
326 発光素子
500 半導体基板
501 トランジスタ
502 トランジスタ
503 絶縁膜
504 素子分離用絶縁膜
505 pウェル
506 ゲート絶縁膜
507 導電膜
508 不純物領域
509 不純物領域
510 導電膜
700 基板
701 絶縁膜
702 剥離層
703 絶縁膜
704 半導体膜
705 半導体膜
706 半導体膜
709 ゲート絶縁膜
710 電極
711 低濃度不純物領域
712 マスク
713 高濃度不純物領域
714 ゲート絶縁膜
715 サイドウォール
716 マスク
717 高濃度不純物領域
718 トランジスタ
719 トランジスタ
722 絶縁膜
723 薄膜
724 レジスト層
725 マスク
726 薄膜
727 薄膜
728 絶縁膜
729 導電膜
730 導電膜
732 導電膜
734 絶縁膜
735 導電膜
740 保護層
741 シート材
742 素子形成層
743 異方導電性フィルム
744 シート材
745 アンテナ
6001 トランジスタ
6003 発光素子
6004 電極
6005 電界発光層
6006 電極
6007 絶縁膜
6008 隔壁
6011 トランジスタ
6013 発光素子
6014 電極
6015 電界発光層
6016 電極
6017 絶縁膜
6018 隔壁
6021 トランジスタ
6023 発光素子
6024 電極
6025 電界発光層
6026 電極
6027 絶縁膜
6028 隔壁
6031 トランジスタ
6033 発光素子
6034 電極
6035 電界発光層
6036 電極
6037 絶縁膜
6038 隔壁
6041 トランジスタ
6043 発光素子
6044 電極
6045 電界発光層
6046 電極
6047 絶縁膜
6048 隔壁
6051 トランジスタ
6053 発光素子
6054 電極
6055 電界発光層
6056 電極
6057 絶縁膜
6058 隔壁
Claims (18)
- 有機溶媒中にシロキサン樹脂またはシロキサン系材料を有する懸濁液を用いて薄膜を形成し、
前記薄膜に第1の加熱処理を施し、
前記第1の加熱処理後の前記薄膜上にマスクを形成し、
有機溶媒を用いてウェットエッチングすることで、前記第1の加熱処理後の前記薄膜の形状を加工し、
前記加工された前記薄膜に第2の加熱処理を施すことを特徴とする絶縁膜の作製方法。 - 有機溶媒中にシロキサン樹脂またはシロキサン系材料を有する懸濁液を用いて薄膜を形成し、
前記薄膜に第1の加熱処理を施し、
前記第1の加熱処理後の前記薄膜上にマスクを形成し、
有機溶媒を用いてウェットエッチングすることで、前記第1の加熱処理後の前記薄膜の形状を加工し、
前記加工された前記薄膜に前記第1の加熱処理よりも高い温度で第2の加熱処理を施すことを特徴とする絶縁膜の作製方法。 - 有機溶媒中にシロキサン樹脂またはシロキサン系材料を有する懸濁液を用いて薄膜を形成し、
前記薄膜に、前記薄膜を固める程度に高い温度で、なおかつ前記有機溶媒の沸点よりも低い温度で、第1の加熱処理を施し、
前記第1の加熱処理後の前記薄膜上にマスクを形成し、
有機溶媒を用いてウェットエッチングすることで、前記第1の加熱処理後の前記薄膜の形状を加工し、
前記加工された前記薄膜に、前記有機溶媒の沸点よりも高い温度で第2の加熱処理を施すことを特徴とする絶縁膜の作製方法。 - 有機溶媒中にシロキサン樹脂またはシロキサン系材料を有する懸濁液を用いて薄膜を形成し、
前記薄膜に第1の加熱処理を施し、
前記第1の加熱処理後の前記薄膜上にマスクを形成し、
有機溶媒を用いてウェットエッチングすることで、前記第1の加熱処理後の前記薄膜の形状を加工し、
前記加工された前記薄膜に、前記有機溶媒の沸点よりも高い温度で第2の加熱処理を施し、
前記第1の加熱処理は、前記ウェットエッチングが終了するまでの時間が30秒以上となるように、前記第1の加熱処理後の前記薄膜が固まる程度に高い温度で、なおかつ前記有機溶媒の沸点よりも低い温度で行うことを特徴とする絶縁膜の作製方法。 - 有機溶媒中にシロキサン樹脂またはシロキサン系材料を有する懸濁液を用いて薄膜を形成し、
前記薄膜に第1の加熱処理を施し、
前記第1の加熱処理後の前記薄膜上にマスクを形成し、
前記マスクを形成した後、前記薄膜に第2の加熱処理を施し、
有機溶媒を用いてウェットエッチングすることで、前記第2の加熱処理後の前記薄膜の形状を加工し、
前記加工された前記薄膜に第3の加熱処理を施すことを特徴とする絶縁膜の作製方法。 - 有機溶媒中にシロキサン樹脂またはシロキサン系材料を有する懸濁液を用いて薄膜を形成し、
前記薄膜に第1の加熱処理を施し、
前記第1の加熱処理後の前記薄膜上にマスクを形成し、
前記マスクを形成した後、前記薄膜に第2の加熱処理を施し、
有機溶媒を用いてウェットエッチングすることで、前記第2の加熱処理後の前記薄膜の形状を加工し、
前記加工された前記薄膜に前記第2の加熱処理よりも高い温度で第3の加熱処理を施すことを特徴とする絶縁膜の作製方法。 - 有機溶媒中にシロキサン樹脂またはシロキサン系材料を有する懸濁液を用いて薄膜を形成し、
前記薄膜に、前記薄膜を固める程度に高い温度で第1の加熱処理を施し、
前記第1の加熱処理後の前記薄膜上にマスクを形成し、
前記マスクを形成した後、前記第1の加熱処理よりも高い温度で前記薄膜に第2の加熱処理を施し、
有機溶媒を用いてウェットエッチングすることで、前記第2の加熱処理後の前記薄膜の形状を加工し、
前記加工された前記薄膜に、前記有機溶媒の沸点よりも高い温度で第3の加熱処理を施し、
前記第2の加熱処理は、前記有機溶媒の沸点よりも低い温度で行うことを特徴とする絶縁膜の作製方法。 - 有機溶媒中にシロキサン樹脂またはシロキサン系材料を有する懸濁液を用いて薄膜を形成し、
前記薄膜に第1の加熱処理を施し、
前記第1の加熱処理後の前記薄膜上にマスクを形成し、
前記マスクを形成した後、前記第1の加熱処理よりも高い温度で前記薄膜に第2の加熱処理を施し、
有機溶媒を用いてウェットエッチングすることで、前記第2の加熱処理後の前記薄膜の形状を加工し、
前記加工された前記薄膜に、前記有機溶媒の沸点よりも高い温度で第3の加熱処理を施し、
前記第2の加熱処理は、前記ウェットエッチングが終了するまでの時間が30秒以上となるように、前記第1の加熱処理後の前記薄膜が固まる程度に高い温度で、なおかつ前記有機溶媒の沸点よりも低い温度で行うことを特徴とする絶縁膜の作製方法。 - 請求項1乃至請求項8のいずれか1項において、前記有機溶媒は炭素数が3乃至5のいずれか1つから選択されるアルコールであることを特徴とする絶縁膜の作製方法。
- 有機溶媒中にシロキサン樹脂またはシロキサン系材料を有する懸濁液を用いて、導電膜上に薄膜を形成し、
前記薄膜に第1の加熱処理を施し、
前記第1の加熱処理後の前記薄膜上にマスクを形成し、
有機溶媒を用いてウェットエッチングすることで、前記第1の加熱処理後の前記薄膜に、前記導電膜が露出するよう開口部を形成し、
前記開口部が形成された前記薄膜に第2の加熱処理を施すことを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 有機溶媒中にシロキサン樹脂またはシロキサン系材料を有する懸濁液を用いて、導電膜上に薄膜を形成し、
前記薄膜に第1の加熱処理を施し、
前記第1の加熱処理後の前記薄膜上にマスクを形成し、
有機溶媒を用いてウェットエッチングすることで、前記第1の加熱処理後の前記薄膜に、前記導電膜が露出するよう開口部を形成し、
前記開口部が形成された前記薄膜に前記第1の加熱処理よりも高い温度で第2の加熱処理を施すことを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 有機溶媒中にシロキサン樹脂またはシロキサン系材料を有する懸濁液を用いて、導電膜上に薄膜を形成し、
前記薄膜に、前記薄膜を固める程度に高い温度で、なおかつ前記有機溶媒の沸点よりも低い温度で、第1の加熱処理を施し、
前記第1の加熱処理後の前記薄膜上にマスクを形成し、
有機溶媒を用いてウェットエッチングすることで、前記第1の加熱処理後の前記薄膜に、前記導電膜が露出するよう開口部を形成し、
前記開口部が形成された前記薄膜に、前記有機溶媒の沸点よりも高い温度で第2の加熱処理を施すことを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 有機溶媒中にシロキサン樹脂またはシロキサン系材料を有する懸濁液を用いて、導電膜上に薄膜を形成し、
前記薄膜に第1の加熱処理を施し、
前記第1の加熱処理後の前記薄膜上にマスクを形成し、
有機溶媒を用いてウェットエッチングすることで、前記第1の加熱処理後の前記薄膜に、前記導電膜が露出するよう開口部を形成し、
前記開口部が形成された前記薄膜に、前記有機溶媒の沸点よりも高い温度で第2の加熱処理を施し、
前記第1の加熱処理は、前記ウェットエッチングが終了するまでの時間が30秒以上となるように、前記第1の加熱処理後の前記薄膜が固まる程度に高い温度で、なおかつ前記有機溶媒の沸点よりも低い温度で行うことを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 有機溶媒中にシロキサン樹脂またはシロキサン系材料を有する懸濁液を用いて、導電膜上に薄膜を形成し、
前記薄膜に第1の加熱処理を施し、
前記第1の加熱処理後の前記薄膜上にマスクを形成し、
前記マスクを形成した後、前記薄膜に第2の加熱処理を施し、
有機溶媒を用いてウェットエッチングすることで、前記第2の加熱処理後の前記薄膜に、前記導電膜が露出するよう開口部を形成し、
前記開口部が形成された前記薄膜に第3の加熱処理を施すことを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 有機溶媒中にシロキサン樹脂またはシロキサン系材料を有する懸濁液を用いて、導電膜上に薄膜を形成し、
前記薄膜に第1の加熱処理を施し、
前記第1の加熱処理後の前記薄膜上にマスクを形成し、
前記マスクを形成した後、前記薄膜に第2の加熱処理を施し、
有機溶媒を用いてウェットエッチングすることで、前記第2の加熱処理後の前記薄膜に、前記導電膜が露出するよう開口部を形成し、
前記開口部が形成された前記薄膜に前記第2の加熱処理よりも高い温度で第3の加熱処理を施すことを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 有機溶媒中にシロキサン樹脂またはシロキサン系材料を有する懸濁液を用いて、導電膜上に薄膜を形成し、
前記薄膜に、前記薄膜を固める程度に高い温度で第1の加熱処理を施し、
前記第1の加熱処理後の前記薄膜上にマスクを形成し、
前記マスクを形成した後、前記第1の加熱処理よりも高い温度で前記薄膜に第2の加熱処理を施し、
有機溶媒を用いてウェットエッチングすることで、前記第2の加熱処理後の前記薄膜に、前記導電膜が露出するよう開口部を形成し、
前記開口部が形成された前記薄膜に、前記有機溶媒の沸点よりも高い温度で第3の加熱処理を施し、
前記第2の加熱処理は、前記有機溶媒の沸点よりも低い温度で行うことを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 有機溶媒中にシロキサン樹脂またはシロキサン系材料を有する懸濁液を用いて、導電膜上に薄膜を形成し、
前記薄膜に第1の加熱処理を施し、
前記第1の加熱処理後の前記薄膜上にマスクを形成し、
前記マスクを形成した後、前記第1の加熱処理よりも高い温度で前記薄膜に第2の加熱処理を施し、
有機溶媒を用いてウェットエッチングすることで、前記第2の加熱処理後の前記薄膜に、前記導電膜が露出するよう開口部を形成し、
前記開口部が形成された前記薄膜に、前記有機溶媒の沸点よりも高い温度で第3の加熱処理を施し、
前記第2の加熱処理は、前記ウェットエッチングが終了するまでの時間が30秒以上となるように、前記第1の加熱処理後の前記薄膜が固まる程度に高い温度で、なおかつ前記有機溶媒の沸点よりも低い温度で行うことを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 請求項10乃至請求項17のいずれか1項において、前記有機溶媒は炭素数が3乃至5のいずれか1つから選択されるアルコールであることを特徴とする半導体装置の作製方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008032526A JP5604034B2 (ja) | 2007-02-26 | 2008-02-14 | 発光装置の作製方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007045146 | 2007-02-26 | ||
JP2007045146 | 2007-02-26 | ||
JP2008032526A JP5604034B2 (ja) | 2007-02-26 | 2008-02-14 | 発光装置の作製方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008244447A true JP2008244447A (ja) | 2008-10-09 |
JP2008244447A5 JP2008244447A5 (ja) | 2011-03-31 |
JP5604034B2 JP5604034B2 (ja) | 2014-10-08 |
Family
ID=39716390
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008032526A Expired - Fee Related JP5604034B2 (ja) | 2007-02-26 | 2008-02-14 | 発光装置の作製方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20080206997A1 (ja) |
JP (1) | JP5604034B2 (ja) |
KR (1) | KR20080079205A (ja) |
CN (1) | CN101256956A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015502029A (ja) * | 2011-11-11 | 2015-01-19 | 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司 | 薄膜トランジスタ及びその製造方法、表示デバイス |
CN106475289A (zh) * | 2011-09-14 | 2017-03-08 | 玛太克司马特股份有限公司 | Led制造方法、led制造设备和led |
JP2020035928A (ja) * | 2018-08-30 | 2020-03-05 | 富士電機株式会社 | 窒化ガリウム系半導体装置および窒化ガリウム系半導体装置の製造方法 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5178569B2 (ja) * | 2009-02-13 | 2013-04-10 | 株式会社東芝 | 固体撮像装置 |
KR20210149957A (ko) * | 2020-06-02 | 2021-12-10 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 및 그 제조 방법 |
Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05218008A (ja) * | 1992-02-04 | 1993-08-27 | Hitachi Chem Co Ltd | ポリイミド系樹脂膜パターンの製造法 |
JPH0669186A (ja) * | 1992-05-29 | 1994-03-11 | Toray Ind Inc | シリカ系被膜のパターン加工方法 |
JPH07133350A (ja) * | 1993-11-12 | 1995-05-23 | Fujitsu Ltd | ポリパーフルオロアルキレンシロキサン樹脂とその製造方法および層間絶縁膜の製造方法 |
JPH08222550A (ja) * | 1995-02-16 | 1996-08-30 | Sony Corp | 塗布絶縁膜の平坦化方法 |
JPH1083080A (ja) * | 1996-06-26 | 1998-03-31 | Dow Corning Asia Kk | 紫外線硬化性組成物およびこれを用いた硬化物パターンの形成方法 |
JPH1116883A (ja) * | 1997-06-20 | 1999-01-22 | Dow Chem Japan Ltd | ベンゾシクロブテン樹脂層のウェットエッチング処理方法 |
JP2003086372A (ja) * | 2001-09-10 | 2003-03-20 | Toshiba Corp | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
JP2003100865A (ja) * | 2001-09-21 | 2003-04-04 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | 半導体基板の製造方法および半導体基板 |
JP2003179055A (ja) * | 2001-12-11 | 2003-06-27 | Hitachi Chem Co Ltd | 膜形成方法及び半導体素子の製造方法 |
JP2004509468A (ja) * | 2000-09-13 | 2004-03-25 | シップレーカンパニー エル エル シー | 電子デバイスの製造 |
WO2005034194A2 (en) * | 2003-10-08 | 2005-04-14 | Honeywell International Inc. | Repairing damage to low-k dielectric materials using silylating agents |
JP2006073890A (ja) * | 2004-09-03 | 2006-03-16 | Jsr Corp | 絶縁膜形成用組成物、絶縁膜、およびその形成方法 |
JP2007017481A (ja) * | 2005-07-05 | 2007-01-25 | Toray Ind Inc | 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 |
JP2007041361A (ja) * | 2005-08-04 | 2007-02-15 | Toray Ind Inc | 感光性樹脂組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 |
JP2007201428A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-08-09 | Tokyo Electron Ltd | 基板の処理方法及びプログラム |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2821517A (en) * | 1954-03-08 | 1958-01-28 | Westinghouse Electric Corp | Polyesteramide-siloxane resin and insulated product prepared therefrom |
US4507384A (en) * | 1983-04-18 | 1985-03-26 | Nippon Telegraph & Telephone Public Corporation | Pattern forming material and method for forming pattern therewith |
US4668755A (en) * | 1984-08-10 | 1987-05-26 | General Electric Company | High molecular weight siloxane polyimides, intermediates therefor, and methods for their preparation and use |
US5183534A (en) * | 1990-03-09 | 1993-02-02 | Amoco Corporation | Wet-etch process and composition |
US5137751A (en) * | 1990-03-09 | 1992-08-11 | Amoco Corporation | Process for making thick multilayers of polyimide |
US5985704A (en) * | 1993-07-27 | 1999-11-16 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for manufacturing a semiconductor device |
CN1125481A (zh) * | 1994-03-11 | 1996-06-26 | 川崎制铁株式会社 | 评价用于形成绝缘膜的硅氧烷的方法、形成绝缘膜的涂布液及其制备方法、半导体器件用绝缘膜成型方法以及采用绝缘膜成膜法制备半导体器件的方法 |
JP3301370B2 (ja) * | 1997-12-11 | 2002-07-15 | 信越化学工業株式会社 | ポリシランパターン形成基板の製造方法 |
TWI234787B (en) * | 1998-05-26 | 2005-06-21 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | Silica-based coating film on substrate and coating solution therefor |
JP4495464B2 (ja) * | 2002-01-17 | 2010-07-07 | シレクス オサケユキチュア | 集積回路の製造方法 |
JP4741177B2 (ja) * | 2003-08-29 | 2011-08-03 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 表示装置の作製方法 |
US7520790B2 (en) * | 2003-09-19 | 2009-04-21 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and manufacturing method of display device |
US7492090B2 (en) * | 2003-09-19 | 2009-02-17 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and method for manufacturing the same |
CN100499035C (zh) * | 2003-10-03 | 2009-06-10 | 株式会社半导体能源研究所 | 半导体器件的制造方法 |
US7314785B2 (en) * | 2003-10-24 | 2008-01-01 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and manufacturing method thereof |
US7259110B2 (en) * | 2004-04-28 | 2007-08-21 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Manufacturing method of display device and semiconductor device |
US7687404B2 (en) * | 2004-05-14 | 2010-03-30 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for manufacturing display device |
US8217396B2 (en) * | 2004-07-30 | 2012-07-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device comprising electrode layer contacting wiring in the connection region and extending to pixel region |
US7439111B2 (en) * | 2004-09-29 | 2008-10-21 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
WO2006041144A1 (en) * | 2004-10-13 | 2006-04-20 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Etching method and manufacturing method of semiconductor device |
US7547627B2 (en) * | 2004-11-29 | 2009-06-16 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for manufacturing semiconductor device |
KR20060068348A (ko) * | 2004-12-16 | 2006-06-21 | 삼성코닝 주식회사 | 실록산계 중합체 및 상기 중합체를 이용한 절연막 제조방법 |
-
2008
- 2008-02-11 US US12/029,079 patent/US20080206997A1/en not_active Abandoned
- 2008-02-14 JP JP2008032526A patent/JP5604034B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2008-02-25 KR KR1020080016617A patent/KR20080079205A/ko not_active Application Discontinuation
- 2008-02-26 CN CNA2008100810855A patent/CN101256956A/zh active Pending
Patent Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05218008A (ja) * | 1992-02-04 | 1993-08-27 | Hitachi Chem Co Ltd | ポリイミド系樹脂膜パターンの製造法 |
JPH0669186A (ja) * | 1992-05-29 | 1994-03-11 | Toray Ind Inc | シリカ系被膜のパターン加工方法 |
JPH07133350A (ja) * | 1993-11-12 | 1995-05-23 | Fujitsu Ltd | ポリパーフルオロアルキレンシロキサン樹脂とその製造方法および層間絶縁膜の製造方法 |
JPH08222550A (ja) * | 1995-02-16 | 1996-08-30 | Sony Corp | 塗布絶縁膜の平坦化方法 |
JPH1083080A (ja) * | 1996-06-26 | 1998-03-31 | Dow Corning Asia Kk | 紫外線硬化性組成物およびこれを用いた硬化物パターンの形成方法 |
JPH1116883A (ja) * | 1997-06-20 | 1999-01-22 | Dow Chem Japan Ltd | ベンゾシクロブテン樹脂層のウェットエッチング処理方法 |
JP2004509468A (ja) * | 2000-09-13 | 2004-03-25 | シップレーカンパニー エル エル シー | 電子デバイスの製造 |
JP2003086372A (ja) * | 2001-09-10 | 2003-03-20 | Toshiba Corp | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
JP2003100865A (ja) * | 2001-09-21 | 2003-04-04 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | 半導体基板の製造方法および半導体基板 |
JP2003179055A (ja) * | 2001-12-11 | 2003-06-27 | Hitachi Chem Co Ltd | 膜形成方法及び半導体素子の製造方法 |
WO2005034194A2 (en) * | 2003-10-08 | 2005-04-14 | Honeywell International Inc. | Repairing damage to low-k dielectric materials using silylating agents |
JP2006073890A (ja) * | 2004-09-03 | 2006-03-16 | Jsr Corp | 絶縁膜形成用組成物、絶縁膜、およびその形成方法 |
JP2007017481A (ja) * | 2005-07-05 | 2007-01-25 | Toray Ind Inc | 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 |
JP2007041361A (ja) * | 2005-08-04 | 2007-02-15 | Toray Ind Inc | 感光性樹脂組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 |
JP2007201428A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-08-09 | Tokyo Electron Ltd | 基板の処理方法及びプログラム |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106475289A (zh) * | 2011-09-14 | 2017-03-08 | 玛太克司马特股份有限公司 | Led制造方法、led制造设备和led |
CN106475289B (zh) * | 2011-09-14 | 2019-09-06 | 玛太克司马特股份有限公司 | Led制造方法、led制造设备和led |
JP2015502029A (ja) * | 2011-11-11 | 2015-01-19 | 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司 | 薄膜トランジスタ及びその製造方法、表示デバイス |
JP2020035928A (ja) * | 2018-08-30 | 2020-03-05 | 富士電機株式会社 | 窒化ガリウム系半導体装置および窒化ガリウム系半導体装置の製造方法 |
JP7107106B2 (ja) | 2018-08-30 | 2022-07-27 | 富士電機株式会社 | 窒化ガリウム系半導体装置および窒化ガリウム系半導体装置の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5604034B2 (ja) | 2014-10-08 |
US20080206997A1 (en) | 2008-08-28 |
CN101256956A (zh) | 2008-09-03 |
KR20080079205A (ko) | 2008-08-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102079684B1 (ko) | 반도체 장치의 제작 방법 | |
US7696063B2 (en) | Manufacturing method of semiconductor device | |
US7226819B2 (en) | Methods for forming wiring and manufacturing thin film transistor and droplet discharging method | |
KR101106661B1 (ko) | 반도체장치 제조방법 | |
JP4731913B2 (ja) | パターンの形成方法および半導体装置の製造方法 | |
TWI362231B (en) | Display device | |
JP5952443B2 (ja) | 半導体装置 | |
KR101061888B1 (ko) | 발광 장치 및 그 제조방법 | |
JP5587558B2 (ja) | 光電変換装置 | |
US20080179597A1 (en) | Display device | |
KR20040045354A (ko) | 반도체 디바이스, 디스플레이 디바이스, 및 발광디바이스와 그 제조 방법 | |
JP5604034B2 (ja) | 発光装置の作製方法 | |
JP5132169B2 (ja) | 半導体装置の作製方法 | |
JP2005159333A (ja) | 半導体装置の作製方法 | |
JP4472314B2 (ja) | 半導体装置の作製方法、表示装置の作製方法、および発光装置の作製方法 | |
JP4986391B2 (ja) | 表示装置の作製方法 | |
JP4656916B2 (ja) | 発光装置の作製方法 | |
JP5005881B2 (ja) | 半導体装置の作製方法 | |
JP2005165305A (ja) | 液晶表示装置及びその作製方法 | |
JP4817655B2 (ja) | 半導体装置の作製方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110214 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110214 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120130 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121106 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121206 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130402 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130430 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20130903 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131025 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20131106 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20131227 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140825 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5604034 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |