JP2008228308A - ビルドインパッケージキャビティを有するイメージセンサモジュールおよびその方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】コネクタなしでMBと連結するイメージセンサモジュールを提供する。
【解決手段】上面内に形成されたパッケージ受入れキャビティおよび内側の導電トレース106を備えた基板100と、パッケージ受入れキャビティ内に配置されたマイクロレンズ116を備えたダイ104を有するパッケージとを含むイメージセンサモジュール。パッケージおよび基板上に誘電体層が形成され、再配線導電層(RDL)が誘電体層上に形成され、RDLは、ダイおよび導電トレースに結合され、誘電体層はマイクロレンズを露出するための開口部を有する。基板にレンズホルダ110が取り付けられ、レンズホルダは、レンズホルダの上部に取り付けられたレンズ112を有する。レンズとマイクロレンズとの間にフィルタ114が取り付けられる。構造体は、さらにレンズホルダ内側の基板上面に受動素子を含む。
【選択図】図1
【解決手段】上面内に形成されたパッケージ受入れキャビティおよび内側の導電トレース106を備えた基板100と、パッケージ受入れキャビティ内に配置されたマイクロレンズ116を備えたダイ104を有するパッケージとを含むイメージセンサモジュール。パッケージおよび基板上に誘電体層が形成され、再配線導電層(RDL)が誘電体層上に形成され、RDLは、ダイおよび導電トレースに結合され、誘電体層はマイクロレンズを露出するための開口部を有する。基板にレンズホルダ110が取り付けられ、レンズホルダは、レンズホルダの上部に取り付けられたレンズ112を有する。レンズとマイクロレンズとの間にフィルタ114が取り付けられる。構造体は、さらにレンズホルダ内側の基板上面に受動素子を含む。
【選択図】図1
Description
本発明の分野
本発明は、イメージセンサ構造、特に、ビルドインパッケージキャビティを有するイメージセンサモジュールおよびその方法に関する。
本発明は、イメージセンサ構造、特に、ビルドインパッケージキャビティを有するイメージセンサモジュールおよびその方法に関する。
従来技術の説明
ディジタルビデオカメラは、家庭電化製品として開発が促進されている。半導体技術の急速な発展により、イメージセンサの用途は、デジタルスチルカメラまたは映画撮影用カメラに広く用いられる。消費者の要求は、軽量、多機能、および高解像度に向けられてきた。そのような要求に答えるために、カメラを製造する技術レベルは、改善されてきた。CCDまたはCMOSチップは、画像を取得するためのこれらのカメラに一般的であり、導電接着剤を用いてダイボンドされる。通常、CCDまたはCMOSの電極パッドは、メタルワイヤを用いてワイヤボンドされる。ワイヤボンディングは、センサモジュールのサイズを制限する。デバイスは、従来の樹脂の実装方法により形成される。
ディジタルビデオカメラは、家庭電化製品として開発が促進されている。半導体技術の急速な発展により、イメージセンサの用途は、デジタルスチルカメラまたは映画撮影用カメラに広く用いられる。消費者の要求は、軽量、多機能、および高解像度に向けられてきた。そのような要求に答えるために、カメラを製造する技術レベルは、改善されてきた。CCDまたはCMOSチップは、画像を取得するためのこれらのカメラに一般的であり、導電接着剤を用いてダイボンドされる。通常、CCDまたはCMOSの電極パッドは、メタルワイヤを用いてワイヤボンドされる。ワイヤボンディングは、センサモジュールのサイズを制限する。デバイスは、従来の樹脂の実装方法により形成される。
通常用いられる従来のイメージセンサデバイスは、ウェハ基板の表面に形成された数多くのフォトダイオードを有する。そのようなフォトアレイを形成する方法は、通常の当業者にはよく知られている。通常、ウェハ基板は、平坦な支持構造体上に取り付けられ、複数の電気接点に電気的に接続される。基板は、ワイヤを用いて支持構造体のボンドパッドに電気的に接続される。構造体は、それから、フォトダイオードの列に光を作用させられる光透過面を備えるパーケージに入れられる。比較的小さい歪または小さい色収差を備える平坦な画像を生成するためには、平坦な光軸面を生成するために配置された多数のレンズの設置を必要とする。これは、多数の高価な光学素子を必要とする。
さらに、半導体デバイスの分野において、継続的に、デバイスの密度は増加し、デバイスの寸法は縮小している。上で述べられたような状況に適応するために、そのような高密度デバイスのパッケージ化または相互接続の技術への要求もまた増加している。
従来は、フリップチップ(flip−chip)の取り付け方法において、ダイ表面上に多数のはんだバンプ(solder bumps)が形成される。はんだバンプの形成は、はんだバンプの所望のパターンを生成するためのはんだマスク(solder mask)を介して、はんだ複合材料(solder composite material)を用いて実行される可能性がある。チップパッケージの機能は、配電(power distribution)、信号分配(signal distribution)、熱放散、保護、および支持などを含む。半導体が複雑になるにつれて、例えば、リードフレームパッケージ(lead frame package)、フレックスパッケージ(flex package)、リジッドパッケージ(rigid package)技術などの従来のパッケージ技術は、チップ上に高密度の要素を有するさらに小さいチップの生産要求に答えることができない。従来のパッケージ技術は、複数のダイをウェハ上でそれぞれのダイに分割し、それぞれをパッケージしなければならない。したがって、これらの技術は、製造工程に時間がかかる。チップパッケージ技術は、集積回路の進歩に非常に影響を受けるので、電子機器のサイズへの要求が厳しくなるにつれて、パッケージ技術への要求もそのようになる。上で述べた理由のために、今日、パッケージ技術の流れは、ボールグリッドアレイ(BGA)、フリップチップ(FC−BGA)、チップスケールパッケージ(CSP)、ウェハレベルパッケージ(WLP)に向いている。「ウェハレベルパッケージ」は、他の複数の工程段階と同様にウェハ上のすべてのパッケージ化およびすべての相互接続が、シンギュレーション(singulation)(ダイシング)されてチップ(ダイ)になる前に、実行されるという意味であると理解される。一般的に、すべての組立工程またはパッケージ化工程が完了した後、複数の半導体ダイを有するウェハから個々の半導体パッケージに分離される。ウェハレベルパッケージは、極めて優れた電気特性とともに極めて小さい寸法を有する。
WLP技術は、ウェハ上でダイが作られてテストされ、その後に表面実装(surface−mount)ラインにおいて組立のためにダイシングされる、進歩的なパッケージ化技術である。ウェハレベルパッケージ技術は、単体のチップまたはダイとして使用するのではなく、ウェハ全体を一つの対象物として使用するので、スクライビング工程を実行する前にパッケージ化およびテストが遂行されている。さらに、WLPは非常に進歩的な技術であるため、ワイヤボンディング、ダイマウント、そしてアンダーフィルの工程を省略することができる。WLP技術を利用することによって、費用と製造時間を削減でき、得られるWLP構造体はダイと等しくなる。したがって、この技術は電子デバイスの小型化の要求を満たすことができる。
したがって、本発明は、パッケージのサイズおよびコストを低減するためのイメージセンサモジュールを提供する。
本発明の概要
本発明の目的は、BGA/LGA型用の「コネクタ」なしでMBと連結するイメージセンサモジュールを提供することである。
本発明の目的は、BGA/LGA型用の「コネクタ」なしでMBと連結するイメージセンサモジュールを提供することである。
本発明の目的は、超薄型モジュールアプリケーション用のキャビティと、CISモジュール用の小さな設置面積(形状因子)および単純な処理とを有するPCBを備えたイメージセンサモジュールを提供することである。
本発明のさらなる目的は、はんだを吸い取ることによって再加工可能なイメージセンサモジュール提供することである。
本発明は、上面内に形成されたパッケージ受入れキャビティ(package receiving cavity)および内側に形成された導電トレースを備え、上部にコンタクトメタルが形成される、基板を提供すること、支持体に取り付けられた前記マイクロレンズ領域を有するダイを含むパッケージをピッキングし、前記キャビティに取り付けること、第1の物質をダイの周囲に充填し、ダイと同じ高さに維持すること、ダイ表面およびパッドを洗浄すること、支持体およびダイを覆って誘電体層を形成して、それから、I/Oパッドおよびダイのマイクロレンズ領域を開口すること、ダイおよび支持体上にRDLを形成してファンアウト構造体を形成すること、次に、基板およびパッケージ上にステンシルプリンティングはんだペースト(stencil printing solder paste)を付着させること、ピックアンドプレースツールによって基板上に受動素子をピッキングし、配置すること、IRリフローによって基板上の受動素子をはんだ付けすること、また、RDLおよび基板上にはんだブリッジ(バンプ)を形成して、コンタクトメタルを介してトレースとダイとを結合させること、基板上にレンズホルダを載置すること、を含む、イメージセンサモジュールパッケージを形成する方法を提供する。
本発明は、また、上面内に形成されたパッケージ受入れキャビティおよび内側に形成された導電トレースを備え、上部にコンタクトメタルが形成される、基板と、支持体に配置されたマイクロレンズを備えたダイを有するパッケージと、ダイの周囲に充填しダイと同一平面を維持する第1の物質と、ダイおよび支持体上に形成されマイクロレンズを露出するための開口部を有する誘電体層と、誘電体層上に形成される再配線導電層(RDL)であって、第1のRDLはダイおよび導電トレースに結合される、再配線導電層と、RDL上に形成された保護誘電体層と、マイクロレンズを露出するための開口部を有することと、コンタクトメタルを介してトレースと通じるための保護誘電体層および基板上に形成されたはんだブリッジ(バンプ)と、上部にレンズが取り付けられたレンズホルダと、を含むイメージセンサモジュール構造を提供する。
注目すべきは、CMOSイメージセンサ(CIS)用のダイのマイクロレンズ領域を露出するため、誘電体層と上側の保護層の範囲に開口部が形成されることである。保護のためにコーティングIRフィルタを備えた透明カバーが、マイクロンレンズ領域を覆って選択的に形成される。
イメージセンサチップは、マイクロレンズ領域上を保護層(膜)によって覆われてきた。マイクロレンズ領域上のパーティクルコンタミネーション(particle contamination)を遠ざけることができるはっ水およびはつ油の特性を備えた保護層(膜)。保護層(膜)の厚さが、好ましくは約0.1μmから0.3μmでかつ空気の反射指数1に近い反射指数。処理は、SOG(spin on glass)技術により実行することができ、それは、シリコンウェハ形(silicon wafer form)またはパネルウェハ形(panel wafer form)のどちらでも処理できる(さらなる処理の間におけるパーティクルコンタミネーションを避けるためにシリコンウェハ形が好ましい)。保護層の材料は、SiO2、Al2O3またはフッ素系高分子などでありうる。
誘電体層の材料は、弾性誘電体層、シリコーン誘電体を基礎にした材料、BCB、またはPIを含む。シリコーン誘電体を基礎にした材料は、シロキサン重合体(SINR:siloxane polymer)、ダウコーニングのWL5000シリーズである。あるいは、誘電体層は感光層を含む。RDLは、下方へ端子パッドに通じ、ビアスルーホール構造体と接触する。
基板の材料は、有機エポキシ系FR4、FR5、BT,PCB(プリント基板)、合金、または金属を含む。あるいは、基板はガラス、セラミックス、またはシリコンでありうる。
支持体の材料は、有機エポキシ系FR4、FR5、BT,PCB(プリント基板)、合金、または金属を含む。合金は、42アロイ(Alloy42:Ni42%−Fe58%)、またはコバール(Kovar:Ni29%−Co17%−Fe54%)を含む。あるいは、基板はガラス、セラミックス、またはシリコンでありうる。
図面の簡単な説明
図1は、イメージセンサモジュールの構造の断面図を本発明にしたがって示す。
図1は、イメージセンサモジュールの構造の断面図を本発明にしたがって示す。
図2は、イメージセンサモジュールの構造の部分的に詳細な断面図を本発明にしたがって示す。
図3は、図2に示されたキャビティ領域構造の部分的に詳細な断面図を本発明にしたがって示す。
図4Aは、イメージセンサモジュールの構造の断面図を本発明にしたがって示す。
図4Bは、図4Aに示されたイメージセンサモジュールの構造の底面図を本発明にしたがって示す。
図5は、イメージセンサモジュールの構造の断面図を本発明にしたがって示す。
好適な実施の形態の説明
以下の実施の形態およびその図面は、例示および説明のために明細書中で記載および説明されるものであり、範囲を制限するものではない。当業者は、範囲を制限することなく、1つ以上の特定の細部なしで本発明が実施されうることを確認できる。
以下の実施の形態およびその図面は、例示および説明のために明細書中で記載および説明されるものであり、範囲を制限するものではない。当業者は、範囲を制限することなく、1つ以上の特定の細部なしで本発明が実施されうることを確認できる。
明細書を通して「一実施の形態」または「実施の形態」と参照されるのは、特定の特徴、構造、または特性がその実施の形態と関連付けられて説明され、本発明の少なくとも1つの実施の形態に含まれていることを意味する。したがって、明細書を通じて様々な場所において、「一実施の形態では」または「実施の形態では」という言葉遣いの出現は、必ずしもすべて同じ実施の形態を参照するものではない。さらに、特有の特徴、構造、または特性は、1つ以上の実施の形態において適切な方法で組合わされうる。
本発明は、基板に形成された所定のキャビティを有する基板を用いるメージセンサモジュールの構造を開示する。感光物質が、ダイおよび支持体にコーティングされる。好適には、感光物質の材料は、弾性材料で形成される。イメージセンサモジュールは、イメージセンサチップ用のキャビティを備えたPCBマザーボードを含み、イメージセンサパッケージのコンタクトパッドとPCBマザーボードのコンタクトパッドとの間をワイヤで接合するためにはんだペーストを用いる。超薄型構造体を備えたモジュールは、400μmに満たない。イメージセンサチップは、マイクロレンズ上に保護層を形成し、ビルドアップ層を用いてパネル形基板上にRDLを形成するために、WLPにより処理することができる。マイクロレンズ上の保護層は、チップのパーティクルコンタミネーション(particle contamination)を防ぐことができ、それは、はっ水/はつ油性を有し、層の厚さは0.5μm未満である。IRカート(cart)を備えたレンズホルダは、PCBマザーボード(マイクロレンズ領域の上側)に固定される。高い歩留まりおよび高品質処理が、本発明により達成される。
図1は、イメージセンサモジュールの構造の断面図を本発明の一実施の形態にしたがって示す。図2に示されるとおり、基板100内に形成されたパッケージ構造体は、パッケージの支持体101に取り付けられたダイ104と、ダイ104の周りを満たす第1の物質101aと、パッケージ上のビルドアップレイヤの形成とを含む。複数の導電トレース106が、電気的な伝達のために基板内に作られ、それらは出力するためにフレキシブル回路126を接続する。あるいは、出力するためにはんだバンプ140が基板100上に形成される。レンズを支持することと保護のために、レンズホルダ110が基板を覆って形成される。加えて、スルーホールを備えたレンズホルダガイドピンが基板100上に形成される。レンズホルダ110の上部にレンズ112が取り付けられる。フィルタ114が、レンズホルダ110の内側のレンズ112とダイ104のマイクロレンズ116との間に位置する。フィルタ114は、レンズ112と一緒にして兼ねることにすれば、省略することができる。マイクロレンズ116は、その上に形成された保護層(膜)118を含む。注目すべきは、受動素子136が、基板100上とレンズホルダ110の外側とに形成される可能性があることである。
図2は、図1に示されたイメージセンサモジュールの構造の部分的に詳細な断面図を本発明にしたがって示す。ダイ104は、パッケージ200の支持体101上に取り付けられ、接着(ダイアタッチ)物質120aにより固定され、第1の物質101aが、ダイ104aの周囲の領域を充填する。知られているように、コンタクトパッド(ボンディングパッド)122は、ダイ104上に形成される。感光層または誘電体層124が、ダイ104および第1の物質101aを覆って形成される。リソグラフィ工程または露光および現像工程を通じて複数の開口部が誘電体層124上に形成される。複数の開口部は、それぞれコンタクトパッドまたはI/Oパッド122に配列される。メタルトレース(metal trace)ともいわれるRDL(再配線層)128が、誘電体層124を覆って形成された金属層の選択された部分を除去することにより誘電体層124上に形成され、RDL128が、I/Oパッド122を介してダイ104と電気的に接続を維持し、はんだバンプ140は、出力するためにRDL128およびトレース106に電気的に接続している。RDLの一部の材料が、誘電体層124の開口部を補充することによって、ボンディングパッド122を覆ってコンタクトビアメタルを形成する。保護層132が形成されて、RDL128をカバーする。
注目すべきことは、CMOSイメージセンサ(CIS)用のダイ104のマイクロレンズ領域116を露出するために、誘電体層(保護層)132および誘電体層124の範囲に開口部130が形成されることである。保護層118は、マイクロレンズ領域上のマイクロレンズ116を覆って形成されうる。開口部130は、通常、当業者によってよく知られているように、フォトリソグラフィ処理により形成される。ある事例においては、開口部130の下部は、ビア開口部の形成の間に開口することができる。開口部130の上部は、保護層132の蒸着後に形成される。あるいは、リソグラフィによって、保護層132の形成後に全開口部130が形成される。イメージセンサチップは、マイクロレンズ領域上を保護層(膜)118によって覆われてきた。マイクロレンズ領域のパーティクルコンタミネーションを遠ざけることができるはっ水およびはつ油の特性を備えた保護層(膜)。保護層(膜)の厚さが、好ましくは約0.1μmから0.3μmでかつ空気の反射指数1に近い反射指数。処理は、SOG(spin on glass)技術により実行することができ、それは、シリコンウェハ形またはパネルウェハ形のどちらでも処理できる(さらなる処理の間におけるパーティクルコンタミネーションを避けるためにシリコンウェハ形が好ましい)。保護層の材料は、SiO2、Al2O3またはフッ素系高分子などでありうる。最後に、コーティングIRフィルタを備えた透明カバー114が、マイクロンレンズ領域116を覆って保護のために選択的に形成される。透明カバー114は、ガラス、石英などから構成される。
図3は、はんだバンプ140のリフロー期間におけるキャビティ領域138の部分的に詳細な断面図を実施の形態にしたがって示す。説明図からコンタクトメタルパッド142は基板100上に形成され、RDL128上のコンタクトメタルパッドは、ダイ104上に形成される。ダイ104は、RDL128およびボンディングパッド122を介してPCB内でトレース106に通じる可能性がある。パッケージ200(ダイ104)がキャビティ102に取り付けられているので、RDL128とコンタクトメタルパッド142との間は同じ高さに形成され、それから、RDL128およびコンタクトメタルパッド142の両方をカバーするステンシルプリンティングはんだペーストを適用する。IRリフロー工程の間にコンタクトメタルパッド142とRDLとを接続するため、はんだペーストが結合(ブリッジ)することができるように、ダイ104とキャビティ側壁との間の間隙は約100μmである。
もう一つの実施の形態を図4Aおよび4Bに見ることができ、構造の大部分は図1と同様であるので、詳細な説明は省略する。受動素子402が、SMT(表面実装技術)によって、レンズホルダ110内に形成される可能性があり、ファンアウト用のはんだボール404によってフレキシブル回路126が省略される。これは、全体的にイメージセンサモジュールおよび受動部品を集積化し、出力ピンの数を取得し、イメージセンサモジュールの容積を削減するものである。あるいは、はんだバンプ140は、出力用にも使用されるので、構造体は出力する2つの経路を有する。構造体は、BGA(ボールグリッドアレイ)型イメージセンサモジュール用である。
あるいは、図5は、イメージセンサモジュールの構造の断面図を本発明にしたがって示す。複数の導電トレース106は、電気的な伝達のために基板100内に作られる。イメージセンサモジュールがボード上に直接実装されるように、端子パッド508が基板100の底面に位置し、トレース106に接続される。あるいは、はんだバンプ140は、出力用にも使用され、したがって、出力するための2つの経路を有する。上述した構造は、LGA型イメージセンサモジュールを構成する。
好適には、基板100の材料は、CCL、FR4、FR5、BT(ビスマレイミドトリアジン)、規定のキャビティを備えたPCB、またはプレエッチング(pre etching)回路を備えた42アロイのような有機基板である。高いガラス転移温度(Tg)を備える有機基板は、エポキシ系FR5またはBT系の基板である。42アロイは、Ni42%およびFe58%から構成されている。コバールもまた使用することができ、それは、Ni29%、Co17%、Fe54%から構成されている。ガラス、セラミックス、シリコンは、より低いCTEのために基板として用いることができる。キャビティ102の深さの寸法は、ダイ104の厚みよりも大きい可能性がある。それは、同様により深い可能性がある。
支持体は丸型、例えばウェハ型である可能性があり、直径は200、300mmまたはそれよりも高い可能性がある。それは、例えばパネル構造のような長方形のタイプが用いられる可能性がある。基板100は、キャビティ102および内蔵回路106で形成される。
本発明の一実施の形態では、誘電体層は、好適には、シロキサン重合体層(SINR)、酸化ケイ素、窒化ケイ素、ダウコーニングのWL5000シリーズ、およびそれらの合成物を含むシリコーン誘電体物質からつくられた弾性誘電体である。もう一つの実施の形態において、誘電体層は、BCB樹脂(benzocyclobutene)、エポキシ、ポリイミド(PI)、または樹脂を含む物質から作られる。好適には、それは簡易工程(simple process)用の感光層である。本発明の一実施の形態において、弾性誘電体層(elastic dielectric layer)は、100(ppm/℃)より大きいCTEを有し、伸長速度が約40パーセント(好適には30パーセントから50パーセント)で、材料の硬さが樹脂とゴムの間のような物質である。弾性誘電体層124の厚さは、温度サイクルテストの期間にRDLと誘電体層の境界に累積される応力に依存する。
本発明の一実施の形態において、RDLの材料はTi/Cu/Au合金またはTi/Cu/Ni/Au合金を含み、RDLの厚さは2μmと15μmの間である。Ti/Cu合金は、シード金属層としてスパッタリング技術でも形成される。そして、Cu/AuまたはCu/Ni/Au合金は、電気メッキによって形成される。RDLを形成するのに電気メッキ工程を有効に使うことで、RDLを温度サイクルの期間のCTE不整合に耐えるのに十分な厚さにすることができる。ボンディングパッド122は、Al、Cu、またはそれらの組み合わせでありうる。FO−WLP構造が弾性誘電体層としてSINRを、RDLとしてCuを使用する場合は、ここでは示されていない応力解析によれば、RDLと誘電体層との境界における累積された応力は低減される。
図2から5に示されるとおり、RDLメタルはダイ104から扇形に広がり、下方へパッ端子パッド508または構造体の下のはんだボール404の方向に通じるか、あるいは、上方へ構造体上のはんだバンプ140の方向に通じる。それは、ダイを覆って層が積み重ねられることでパッケージの厚みが増す従来の技術とは異なる。しかしながら、それは、ダイパッケージの厚さを縮めるための法則に反する。それとは逆に、端子パッドはダイパッド側と反対の面に位置づけられる。伝達トレース106は、基板100を貫通する。したがって、ダイパッケージの厚みは明らかに縮小する。本発明のパッケージは、従来技術より薄くなる。さらに、基板はパッケージ化の前に予め用意される。キャビティ102およびトレース106も、予め定められている。したがって、これまでよりスループットは向上する。
本発明の方法は、CISパッケージキャビティを備えたPCB(FR4/FR5/BT)の提供を含む。それから、次の段階は、CISパッケージを(ブルーテープフレームから)ピッキングし、CISパッケージをキャビティに取り付ける。それから、取り付けられた材料は硬化される。ビルドアップ層(RDL)処理が実行されて、(予め形成された)パッケージ中にRDLを形成する。それから、(両方のコンタクトパッドをカバーする)ステンシルプリンティングはんだペーストが基板に形成され、続いて、ピックアンドプレースツールによってPCB上に受動素子をピッキングし、配置する。その後、イメージセンサモジュールのコンタクトパッドとPCBのコンタクトパッドとを結合し、受動素子、トレースとともに基板の上面に形成されたはんだバンプをはんだ付けするためにIRリフローが用いられ、PCBのフラックス洗浄(flux claning)が後に続く。次は、レンズホルダを載置し、PCBにホルダーを固定し、モジュールテストが後に続く。
本発明の利点は、以下のとおりである。
BGA/LGA型については、モジュールはMB(マザーボード)に「コネクタ」なしで接続している
BGA/LGA型については、CISモジュールをMBに実装するために、SMT工程が用いられる
CISパッケージに対してビルドアップ層処理が用いられる
超薄型モジュール用のキャビティを備えたPCB
小さな設置面積(形状因子)
CISモジュール用の簡易工程
はんだ結合端子ピンは標準フォーマット(LGA/BGA型用)
MBからはんだを吸い取ることによりモジュールの再生加工可能
モジュール/システムアセンブリの製造期間中に最高の歩留り
パーティクルコンタミネーションを防ぐために、保護層がマイクロレンズ上にある
最も低コストの基板(PCB−FR4またはFR5/BT系)
ビルドアップ層処理による高い歩留り
本発明の好適な実施の形態が述べられてきたが、本発明は、述べられた好適な実施の形態に限定されるべきでないことは当業者によって理解されるであろう。むしろ、以下の請求項によって規定されるとおり、本発明の精神と範囲を逸脱しない範囲において種々の変更および改良をすることができる。
BGA/LGA型については、モジュールはMB(マザーボード)に「コネクタ」なしで接続している
BGA/LGA型については、CISモジュールをMBに実装するために、SMT工程が用いられる
CISパッケージに対してビルドアップ層処理が用いられる
超薄型モジュール用のキャビティを備えたPCB
小さな設置面積(形状因子)
CISモジュール用の簡易工程
はんだ結合端子ピンは標準フォーマット(LGA/BGA型用)
MBからはんだを吸い取ることによりモジュールの再生加工可能
モジュール/システムアセンブリの製造期間中に最高の歩留り
パーティクルコンタミネーションを防ぐために、保護層がマイクロレンズ上にある
最も低コストの基板(PCB−FR4またはFR5/BT系)
ビルドアップ層処理による高い歩留り
本発明の好適な実施の形態が述べられてきたが、本発明は、述べられた好適な実施の形態に限定されるべきでないことは当業者によって理解されるであろう。むしろ、以下の請求項によって規定されるとおり、本発明の精神と範囲を逸脱しない範囲において種々の変更および改良をすることができる。
図面の簡単な説明
イメージセンサモジュールの構造の断面図を本発明にしたがって示す。
イメージセンサモジュールの構造の部分的に詳細な断面図を本発明にしたがって示す。
図2に示されたキャビティ領域構造の部分的に詳細な断面図を本発明にしたがって示す。
イメージセンサモジュールの構造の断面図を本発明にしたがって示す。
図4に示されたイメージセンサモジュールの構造の底面図を本発明にしたがって示す。
イメージセンサモジュールの構造の断面図を本発明にしたがって示す。
Claims (5)
- 上面内に形成されたパッケージ受入れキャビティおよび内側に導電トレースを備え、上部に形成されたコンタクトメタルを有する基板と、
マイクロレンズ領域を露出するための開口部と、前記パッケージ受入れキャビティ内に配置され、端部側に端子メタルパッドを備えたファンアウト型ビルドアップ層とを有するパッケージと、
前記パッケージの前記端子メタルパッドおよび基板上に形成され、前記コンタクトメタルを介して前記導電トレースと通じるはんだ接合と、
前記基板に取り付けられ、上部に取り付けられたレンズを有するレンズホルダと、
を含む、ビルドインパッケージキャビティを有するイメージセンサモジュール構造。 - 前記基板の前記下面に形成された出力するための端子コンタクトと、
前記基板の前記下面に形成されたファンアウト用のはんだボールと、
前記レンズホルダ内側の前記基板の前記上面の受動素子と、
前記レンズと前記マイクロレンズとの間に取り付けられたIRフィルタと、
をさらに含む、請求項1に記載の構造。 - 前記パッケージは、
支持体と、
前記支持体に取り付けられた、前記マイクロレンズ領域を有するダイと、
前記ダイの周囲に充填し、表面が前記ダイ表面と同じ高さを有する第1の物質と、
前記ダイおよび前記第1の物質上に形成され、前記マイクロレンズおよびI/Oパッドを露出するための複数の開口部を有する誘電体層と、
前記誘電体層上に形成され、前記ダイおよび前記端子コンタクトパッドに結合される再配線導電層(RDL)と、
前記RDLを覆って形成され、前記マイクロレンズおよび端子コンタクトパッドを露出するための複数の開口部を有する保護誘電体層と、
を含む、請求項1に記載の構造。 - 上面内に形成されたパッケージ受入れキャビティおよび内側に形成された導電トレースを備え、上部に形成されたコンタクトメタルを有する基板を提供すること、
パッケージをピッキングして、前記キャビティに取り付けること、
前記基板および前記パッケージ上にステンシルプリンティングはんだペーストを付着させること、
ピックアンドプレースツールにより受動素子をピッキングして、前記基板上に配置すること、
IRリフローにより前記受動素子を前記基板上にはんだ付けすること、
前記RDLおよび前記基板上にはんだブリッジ(バンプ)を形成して、前記コンタクトメタルを介して前記トレースと前記パッケージとを結合すること、および、
前記基板上にレンズホルダを載置すること、
を含む、イメージセンサモジュールパッケージを形成するための方法。 - 前記基板をフラックス洗浄すること、
前記基板の下面にはんだボールを形成すること、
前記基板の下面に端子コンタクトを形成すること、をさらに含み、
前記受動素子をピッキングして、前記基板上に配置することは、前記IRリフローの前に実行され、
前記RDLおよび前記基板上に前記はんだブリッジを形成することは、前記IRリフローの間に実行される、請求項4に記載の方法。
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