JP2008203271A5

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Publication number: JP2008203271A5
Application number: JP2008122126A
Authority: JP
Filing date: 2008-05-08
Publication date: 2008-10-23

Claims

試料を載置する試料ステージと、
該試料にイオンビームを照射するイオンビーム光学系と、
微小試料として該試料の一部を摘出するためのプローブと、
前記プローブにより摘出された該微小試料を固定する試料ホルダと、
前記試料ステージの試料載置面に垂直な線分を回転軸として前記試料ステージの回転を制御するステージ制御装置と、を備え、
該試料載置面に対し、前記イオンビーム光学系の構成要素である対物レンズの中心軸が傾斜するよう前記イオンビーム光学系が配置され、
前記ステージ制御装置は、該微小試料を該試料から分離または分離準備するための動作の一部として前記試料ステージを回転させることを特徴とする試料作製装置。
試料を載置する試料ステージと、
該試料にイオンビームを照射するイオンビーム光学系と、
微小試料として該試料の一部を摘出するためのプローブと、
前記プローブにより摘出された該微小試料を固定する試料ホルダと、
前記試料ステージの試料載置面に垂直な線分を回転軸として前記試料ステージの回転を制御するステージ制御装置と、を備え、
前記試料ステージを傾斜させていない状態の該試料載置面に対し、前記イオンビーム光学系の構成要素である対物レンズの中心軸が傾斜するよう前記イオンビーム光学系が配置され、
前記ステージ制御装置は、該微小試料を該試料から分離または分離準備するための動作の一部として前記試料ステージを回転させることを特徴とする試料作製装置。
請求項１または２記載の試料作製装置において、
前記イオンビーム光学系は、該試料載置面と前記イオンビーム光学系から照射されるイオンビームの照射軸との角度が３０度から７５度の範囲となるように配置されていることを特徴とする試料作製装置。
試料を載置する試料ステージと、
該試料にイオンビームを照射するイオンビーム光学系と、
微小試料として該試料の一部を摘出するためのプローブと、
前記試料ステージの試料載置面に垂直な線分を回転軸として前記試料ステージの回転を制御するステージ制御装置と、を備え、
該試料載置面と前記イオンビーム光学系から照射されるイオンビームの照射軸との角度が３０度から７５度の範囲となるように前記イオンビーム光学系が配置され、
前記ステージ制御装置は、第１の回転位置に配置された該試料の第１の領域に該イオンビームを照射するために前記試料ステージを回転させ、第２の回転位置に配置された該試料の第２の領域に該イオンビームを照射するように前記試料ステージを回転により再配置するよう設計されていることを特徴とする試料作製装置。
試料を載置する試料ステージと、
前記試料ステージの試料載置面に対し垂直線分を回転軸として前記試料ステージの回転を制御するステージ制御装置と、
該試料にイオンビームを照射するためのイオンビーム光学系と、
プローブを駆動するためのマニュピレータと、を備える試料作製装置において、
該試料作製装置の設置面と前記イオンビーム光学系から照射されるイオンビームとの間の角度が３０度から７５度の範囲となるように前記イオンビーム光学系が配置され、
前記ステージ制御装置は、第１の回転位置に配置された該試料の第１の領域に該イオンビームを照射するために前記試料ステージを回転させ、第２の回転位置に配置された該試料の第２の領域に該イオンビームを照射するように前記試料ステージを回転により再配置するよう設計されていることを特徴とする試料作製装置。
試料を載置する試料ステージと、
前記試料ステージを回転させるステージ制御装置と、
微小試料を分離するために該試料にイオンビームを照射する照射系と、
前記照射系を含む機械カラムと、
該試料から該微小試料を抽出するためのプローブと、を備え、
前記試料ステージに対する前記機械カラムの傾斜角は３０度から７５度の範囲であって、
前記試料ステージは、該試料の２以上の領域に該イオンビームが照射されるよう、該２以上の領域の各々の領域に対応する各々の回転位置に該微小試料を回転移動するよう設計されていることを特徴とする試料作製装置。
請求項４記載の試料作製装置において、
該試料は２００ｍｍ以上の直径を有するウェーハであることを特徴とする試料作製装置。
請求項５記載の試料作製装置において、
該試料は２００ｍｍ以上の直径を有するウェーハであることを特徴とする試料作製装置。
請求項６記載の試料作製装置において、
該試料は２００ｍｍ以上の直径を有するウェーハであることを特徴とする試料作製装置。
請求項６記載の試料作製装置において、
該２以上の領域は前記試料ステージが回転する前の該イオンビームの第１の照射領域と、前記試料ステージが回転した後の該イオンビームの第２の照射領域とを含むことを特徴とする試料作製装置。
請求項４記載の試料作製装置において、
前記イオンビーム光学系は、前記試料ステージの前記第１の回転位置と前記第２の回転位置に対し固定された位置に配置されていることを特徴とする試料作製装置。
請求項５記載の試料作製装置において、
前記イオンビーム光学系は、前記試料ステージの前記第１の回転位置と前記第２の回転位置に対し固定された位置に配置されていることを特徴とする試料作製装置。
請求項６記載の試料作製装置において、
前記照射系は、前記機械コラムの固定された位置に配置され、かつ、前記試料ステージの第１の回転位置と第２の回転位置に対し固定された位置に配置されていることを特徴とする試料作製装置。
試料を載置する試料ステージと、
該試料にイオンビームを照射するイオンビーム光学系と、
前記イオンビーム光学系の構成要素である対物レンズと、
該試料から微小試料を抽出するためのプローブと、
前記試料ステージの該試料の載置面に対する垂直線分を回転軸として前記試料ステージを回転させるステージ制御装置とを備え、
前記対物レンズは、該載置面に対し前記対物レンズの中心軸が傾斜するように配置され、
前記イオンビーム光学系は、該光学系の照射軸と該載置面とのなす角が９０度未満となるように配置され、
前記イオンビーム光学系は、該試料の表面の第１の領域及び第２の領域に該イオンビームを照射し、
前記ステージ制御装置は、該微小試料を形成するための、前記第１の領域に該イオンビームを照射するときの第１の試料位置から前記第２の領域に該イオンビームを照射するときの第２の試料位置への移動動作の際に、前記試料ステージを回転させることを特徴とする試料作製装置。
試料を載置する試料ステージと、
該試料にイオンビームを照射するイオンビーム光学系と、
前記イオンビーム光学系の構成要素である対物レンズと、
該試料から微小試料を抽出するためのプローブと、
前記試料ステージの該試料の載置面に対する垂直線分を回転軸として前記試料ステージを回転させるステージ制御装置とを備え、
前記対物レンズは、該載置面に対し前記対物レンズの中心軸が傾斜するように配置され、
前記イオンビーム光学系は、該光学系の照射軸と該載置面とのなす角が９０度未満となるように配置され、
前記イオンビーム光学系は、該試料の表面の第１の領域及び第２の領域に該イオンビームを照射し、
前記ステージ制御装置は、前記第１の領域に該イオンビームを照射するときの第１の試料位置から前記第２の領域に該イオンビームを照射するときの第２の試料位置に移動する際に前記試料ステージを回転させ、
前記第１の試料位置と前記第２の試料位置からの該イオンビームの照射により該試料から分離される領域を含む該微小試料を前記プローブにより該試料から摘出することが可能であることを特徴とする試料作製装置。
試料を載置する試料ステージと、
該試料にイオンビームを照射するイオンビーム光学系と、
前記イオンビーム光学系の構成要素である対物レンズと、
該試料から微小試料を摘出するためのプローブと、
前記プローブにより摘出された該微小試料を固定する試料ホルダと、
前記試料ステージの該試料の載置面に対する垂直線分を回転軸として前記試料ステージを回転させるステージ制御装置とを備え、
前記試料ステージを傾斜させていない状態の該載置面に対し、前記イオンビーム光学系を含む機械カラムが傾斜して配置され、
前記イオンビーム光学系は、該試料の表面の第１の領域及び第２の領域に該イオンビームを照射し、
前記ステージ制御装置は、第１の領域に該イオンビームを照射した後に、前記第２の領域に該イオンビームを照射するために前記試料ステージを回転させ、
前記第１の領域への該イオンビームを照射と前記第２の領域への該イオンビームを照射により、該微小試料は、該試料から分離または分離準備されることを特徴とする試料作製装置。
試料を載置する試料ステージと、
該試料にイオンビームを照射するイオンビーム光学系と、
前記イオンビーム光学系の構成要素である対物レンズと、
該試料から微小試料を摘出するためのプローブと、
前記プローブにより摘出された該微小試料を固定する試料ホルダと、
前記試料ステージの該試料の載置面に対する垂直線分を回転軸として前記試料ステージを回転させるステージ制御装置とを備え、
前記試料ステージを傾斜させていない状態の該載置面に対し、前記イオンビーム光学系を含む機械カラムが傾斜して配置され、
前記イオンビーム光学系は、該試料の表面の第１の領域及び第２の領域に該イオンビームを照射することで、それぞれ該試料に第１の溝と第２の溝を形成し、
前記ステージ制御装置は、前記第１の溝を前記試料表面に形成した後に、前記第２の溝を前記試料表面に形成するために前記試料ステージを回転させ、
前記第１の溝と前記第２の溝とが交わることにより形成された辺を含む微小試料を前記プローブにより該試料から摘出することが可能であることを特徴とする試料作製装置。
試料を載置する試料ステージと、
該試料にイオンビームを照射するイオンビーム光学系と、
該試料から微小試料を摘出するためのプローブと、
前記プローブにより摘出された該微小試料を固定する試料ホルダと、
前記試料ステージの該試料の載置面に対する垂直線分を回転軸として前記試料ステージを回転させるステージ制御装置とを備え、
前記試料ステージを傾斜させていない状態の該載置面に対し、前記イオンビーム光学系を機械カラムが傾斜して配置され、
前記イオンビーム光学系は、該試料の表面の第１の領域及び第２の領域に該イオンビームを照射することで、それぞれ該試料に第１の溝と第２の溝を形成し、
前記ステージ制御装置は、前記第１の溝を前記試料表面に形成した後に、前記第２の溝を前記試料表面に形成するために前記試料ステージを回転させ、
該微小試料は、前記第１の溝及び前記第２の溝により該試料から分離された領域を含むことを特徴とする試料作製装置。
試料を載置する試料ステージと、
該試料にイオンビームを照射するイオンビーム光学系と、
前記イオンビーム光学系の構成要素である対物レンズと、
該試料から微小試料を摘出するためのプローブと、
前記プローブにより摘出された該微小試料を固定する試料ホルダと、
前記試料ステージの該試料の載置面に対する垂直線分を回転軸として前記試料ステージを回転させるステージ制御装置とを備え、
該載置面に対し前記対物レンズの中心軸が傾斜するように前記対物レンズが配置され、
該載置面に対し、前記イオンビーム光学系から照射されるイオンビームの照射軸が傾斜するよう前記イオンビーム光学系が配置され、
前記イオンビーム光学系は、該試料の表面の第１の領域に該イオンビームを照射することで該試料に該試料の表面の垂線に対して傾斜した第１の溝と、該試料の表面の第２の領域に該イオンビームを照射することで該試料に該試料の表面の垂線に対して傾斜した第２の溝とを形成し、かつ、前記第１および第２の溝により該微小試料の底を形成し、
前記ステージ制御装置は、前記第１の溝を前記試料表面に形成した後に、前記第２の溝を前記試料表面に形成するために前記試料ステージを回転させることを特徴とする試料作製装置。
試料を載置する試料ステージと、
該試料にイオンビームを照射するイオンビーム光学系と、
前記イオンビーム光学系の構成要素である対物レンズと、
該試料から微小試料を摘出するためのプローブと、
前記プローブにより摘出された該微小試料を固定する試料ホルダと、
前記試料ステージの該試料の載置面に対する垂直線分を回転軸として前記試料ステージを回転させるステージ制御装置とを備え、
該載置面に対し前記対物レンズの中心軸が傾斜するように前記対物レンズが配置され、
該載置面に対し、前記イオンビーム光学系から照射されるイオンビームの照射軸が傾斜するよう前記イオンビーム光学系が配置され、
前記イオンビーム光学系は、該試料の表面の第１の領域に該イオンビームを照射することで該試料に該試料の表面の垂線に対して傾斜した第１の溝と、該試料の表面の第２の領域に該イオンビームを照射することにより前記第１の溝とで形成される該微小試料の底を形成するために該試料に該試料の表面の垂線に対して傾斜した第２の溝とを形成し、
前記ステージ制御装置は、前記第１の領域から前記第２の領域へ該イオンビームの照射領域を変えるための移動動作において、該光学系の照射軸と前記試料ステージとのなす角が固定された状態で前記試料ステージを回転移動させ、
該微小試料は、少なくとも前記第１の溝と前記第２の溝とが重なる領域により該試料から分離されることを特徴とする試料作製装置。
試料を載置する試料ステージと、
該試料にイオンビームを照射するイオンビーム光学系と、
前記イオンビーム光学系の構成要素である対物レンズと、
該試料から微小試料を抽出するためのプローブと、
前記プローブにより摘出された該微小試料を固定する試料ホルダと、
前記試料ステージの該試料の載置面に対する垂直線分を回転軸として前記試料ステージを回転させるステージ制御装置とを備え、
該載置面に対し前記対物レンズの中心軸が傾斜するように前記対物レンズが配置され、
該載置面に対し、前記イオンビーム光学系から照射されるイオンビームの照射軸が傾斜するよう前記イオンビーム光学系が配置され、
前記イオンビーム光学系は、該試料の表面の第１の領域及び第２の領域に該イオンビームを照射し、
前記ステージ制御装置は、前記第１の領域に該イオンビームを照射するときの第１の試料位置から前記第２の領域に該イオンビームを照射するときの第２の試料位置に移動する際に前記試料ステージを傾斜させることなく回転させ、
前記第１の試料位置と前記第２の試料位置からの該イオンビームの照射により該試料から分離される該微小試料を前記プローブにより該試料から摘出することが可能であることを特徴とする試料作製装置。
半導体ウェーハを載置する試料ステージと、
該半導体ウェーハにイオンビームを照射するイオンビーム光学系と、
前記イオンビーム光学系の構成要素である対物レンズと、
該半導体ウェーハから微小試料を抽出するためのプローブと、
前記プローブにより摘出された該微小試料を固定する試料ホルダと、
前記試料ステージの該半導体ウェーハの載置面に対する垂直線分を回転軸として前記試料ステージを回転させるステージ制御装置とを備え、
該載置面に対し前記対物レンズの中心軸が傾斜するように前記対物レンズが配置され、
該載置面と前記イオンビーム光学系から照射されるイオンビームの照射軸との角度が３０度から７５度の範囲となるように前記イオンビーム光学系が配置され、
前記イオンビーム光学系は、該半導体ウェーハの表面の第１の領域及び第２の領域に該イオンビームを照射し、
前記ステージ制御装置は、前記第１の領域に該イオンビームを照射するときの第１の試料位置から前記第２の領域に該イオンビームを照射するときの第２の試料位置に移動する際に前記試料ステージを傾斜させることなく回転させることで該半導体ウェーハを回転させ、
前記第１の試料位置と前記第２の試料位置からの該イオンビームの照射により該半導体ウェーハから分離される該微小試料を前記プローブにより該試料から摘出することが可能であることを特徴とする試料作製装置。
請求項１４から２１いずれか１項記載の試料作製装置において、
前記なす角または該傾斜の角度は、３０度から７５度までの角度であることを特徴とする試料作製装置。
請求項１４から２２いずれか１項記載の試料作製装置において、
さらに、真空容器を有し、前記試料ステージ、前記イオンビーム光学系及び前記プローブは、前記真空容器内に配置されていることを特徴とする試料作製装置。
請求項１４から２２いずれか１項記載の試料作製装置において、
前記第１の領域及び前記第２の領域に該イオンビームを照射する際には、前記試料ステージは傾斜していないことを特徴とする試料作製装置。
請求項１４から２２いずれか１項記載の試料作製装置において、
前記試料ステージは、傾斜機能を有さない試料ステージであることを特徴とする試料作製装置。
請求項１４から２２いずれか１項記載の試料作製装置において、
前記試料ステージの該回転は、９０度回転であることを特徴とする試料作製装置。
請求項１４から２２いずれか１項記載の試料作製装置において、
前記試料ステージの該回転は、１８０度回転であることを特徴とする試料作製装置。
請求項１から３または１４から２２のいずれか１項記載の試料作製装置において、
前記対物レンズの中心軸がイオンビームの照射軸と概略一致していることを特徴とする試料作製装置。
請求項１４から２２いずれか１項記載の試料作製装置において、
該試料又は該半導体ウェーハは割断されないことを特徴とする試料作製装置。
請求項１４から２１いずれか１項記載の試料作製装置において、
前記試料は半導体ウェーハであることを特徴とする試料作製装置。