JP2008147434A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】高アスペクト比のホールを有する半導体基板であっても、所望の良好なウエットエッチング処理を行うことができ、良好な半導体装置を製造することのできる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】所定の薬液をシリコンウェーハ1表面及びホール3内に供給する。次に、シリコンウェーハ1の表面にIPA蒸気を供給し、シリコンウェーハ1のホール3内に供給された薬液を保持しつつ、シリコンウェーハ1表面の薬液のみを除去する。次に、シリコンウェーハ1を、ホール3内部の薬液を保持し、かつ、シリコンウェーハ1表面の薬液を除去した状態に維持し、ホール3内のウエットエッチングを行う。次に、純水を供給しホール3内の薬液と置換してホール3内の薬液を除去する。
【選択図】図1
【解決手段】所定の薬液をシリコンウェーハ1表面及びホール3内に供給する。次に、シリコンウェーハ1の表面にIPA蒸気を供給し、シリコンウェーハ1のホール3内に供給された薬液を保持しつつ、シリコンウェーハ1表面の薬液のみを除去する。次に、シリコンウェーハ1を、ホール3内部の薬液を保持し、かつ、シリコンウェーハ1表面の薬液を除去した状態に維持し、ホール3内のウエットエッチングを行う。次に、純水を供給しホール3内の薬液と置換してホール3内の薬液を除去する。
【選択図】図1
Description
本発明は、半導体装置の製造方法に係り、特に、高アスペクト比のホールを有する半導体装置の製造に好適な半導体装置の製造方法に関する。
半導体装置の製造工程、特に配線工程において、コンタクトホールやスルーホール等と呼ばれるアスペクト比の高いホールをドライエッチングで加工する際、ホール内のエッチング残渣などの堆積物を、薬液によるウエットエッチングによって洗浄除去する工程が従来から行われている。
上記のような工程において、半導体基板表面に露出している膜あるいはコンタクトホールの側壁に露出している膜を極端に後退させないために、薬液として、等速エッチングが可能な有機系薬液やバッファードフッ酸が用いられてきた。しかしながら、ホール径の微細化・高アスペクト比が進むと、ホール内面のエッチングレートは平坦な部分の膜(ベタ膜)のエッチングレートと比べて数%にまで低下し、十分なエッチングが行えなくなるという問題がある。
例えば、ホール内の体積とエッチング種の濃度からエッチング量を計算すると、穴径50nmの場合では、ベタ膜のエッチング量に比べて1%程度のエッチング量となってしまい、目的としたエッチング量の1%程度しかエッチングできないことになる。一方、このようなホール内のエッチング量が所望量となるようにエッチング処理すると、他の部分、例えば基板表面に露出している膜が過剰にエッチングされて極端に後退してしまうことになる。
ドライエッチング残渣を除去する薬液処理において、製品基板とは別にダミー基板上のテストパターンを用いて膜厚測定を行い、過剰なエッチングを防止する方法が知られている(例えば、特許文献1参照。)。しかしながら、この方法におけるダミー基板における膜厚測定にはある程度の面積の平坦部が必要になり、ダミー基板と実際の製品におけるドライエッチング残渣とは、除去すべき残渣量や薬液のエッチングレートが異なることが懸念される。
また、昇圧ポンプを用いて薬液やリンス液の吐出圧力を高めることで洗浄力を改善する方法が提案されている(例えば、特許文献2参照。)。この方法では、ホール内部の薬液置換効率を高めてホール内部のエッチングレートを、ベタ膜のエッチングレートに近づける効果が期待できるものの、どの程度ホール内部のエッチングレートが改善されるかについては確認されていない。
特開2000−223464号公報
特開2003−168669号公報
本発明は、上記従来の事情に対処してなされたもので、高アスペクト比のホールを有する半導体基板であっても、所望の良好なウエットエッチング処理を行うことができ、良好な半導体装置を製造することのできる半導体装置の製造方法を提供しようとするものである。
本発明の一態様によれば、ドライエッチング工程によって形成されたホールを有する半導体基板をウエットエッチングし、前記ドライエッチング工程による残渣を除去する半導体装置の製造方法であって、前記半導体基板表面にウエットエッチング用の薬液を供給して当該薬液を前記ホール内部に注入する薬液供給工程と、前記ホール内部の薬液を保持したまま、前記半導体基板表面の薬液を除去する表面薬液除去工程と、前記ホール内部の薬液を保持し、かつ、前記半導体基板表面の薬液を除去した状態に維持し、前記ホール内のウエットエッチングを行うウエットエッチング工程と、前記ホール内部の薬液を除去するホール内薬液除去工程とを具備した半導体装置の製造方法が提供される。
本発明によれば、高アスペクト比のホールを有する半導体基板であっても、所望の良好なウエットエッチング処理を行うことができ、良好な半導体装置を製造することのできる半導体装置の製造方法を提供することができる。
以下図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。まず、図7を参照して本実施形態が適用される半導体装置の製造工程(配線工程)について説明する。図7(a)に示すように、半導体基板70には、配線層71が形成されており、この配線層71の上層には、シリコン酸化膜等からなる絶縁層72が形成されている。この絶縁層72の表面にフォトレジストを用いたフォトリソグラフィーによって所定寸法の開口部73を有するレジストマスク74を形成する。
次に、図7(b)に示すように、レジストマスク74を用いてドライエッチングにより、絶縁層72に配線層71にまで到るホール75を形成し、残ったレジストマスク74をアッシング等によって除去する。この状態では、ホール75内等には、ドライエッチング時に生じたエッチング残渣76が付着している。
次に、図7(c)に示すように、後述するウエットエッチング工程(洗浄工程)によって、上記のエッチング残渣76を除去する。この時、図中点線で示すように、ホール75内の側壁部及び表面の絶縁層72がエッチングによって僅かに削られる。
そして、図7(d)に示すように、ホール75内等にバリアメタル77、及び金属等からなる電極材78を埋め込み、配線層71と絶縁層72の表面側とを電気的に接続する配線を形成する。以下、上記図7(b)に示す状態から図7(c)の状態とするウエットエッチング工程に係る本発明の実施形態について説明する。
図1は、本発明の一実施形態に係る半導体基板の構成を模式的に示す断面図である。同図に示すように、直径が例えば300mmのシリコンウェーハ1には、シリコン酸化膜2が成膜されており、このシリコン酸化膜2には、多数のホール3が、リソグラフィおよびドライエッチングにより形成されている。
図2は、本発明の一実施形態に使用する枚様式の半導体製造装置の構成を模式的に示すものである。この半導体製造装置は、シリコンウェーハ1を保持するためのウェーハ保持機構12を具備しており、このウェーハ保持機構12は、ウェーハ回転ステージ13上に設けられている。また、このウェーハ回転ステージ13は、回転機構14に接続されており、これらの構成によって、シリコンウェーハ1を保持した状態でこのシリコンウェーハ1を所定の回転数で回転させることができるようになっている。また、ウェーハ保持機構12の上部には、薬液吐出ノズル15、IPA蒸気吐出ノズル16、純水吐出ノズル17が設けられており、シリコンウェーハ1の表面に、薬液、IPA蒸気、純水を供給できるようになっている。
本実施形態では、図1に示すようなシリコンウェーハ1を図2に示すような半導体製造装置のウェーハ保持機構12に配置する。そして、図3のフローチャートに示すように、まず、薬液吐出ノズル15から、所定の薬液(例えば、バッファードフッ酸又は希釈フッ酸)をシリコンウェーハ1表面及びホール3内に供給する薬液供給工程を行う(301)。
次に、IPA蒸気吐出ノズル16からシリコンウェーハ1の表面にIPA蒸気を供給し、シリコンウェーハ1のホール3内に供給された薬液を保持しつつ、シリコンウェーハ1表面の薬液のみを除去する表面薬液除去工程を行う(302)。
次に、シリコンウェーハ1を、ホール3内部の薬液を保持し、かつ、シリコンウェーハ1表面の薬液を除去した状態に維持し、ホール3内のウエットエッチングを行うウエットエッチング工程を行う(303)。
そして、最後に、純水吐出ノズル17から、シリコンウェーハ1の表面に純水を供給しホール3内の薬液と置換して除去するホール内薬液除去工程を行い(304)、この後、IPA蒸気等によってシリコンウェーハ1を乾燥する乾燥工程を行う(305)。
(実施例1)
実施例1として、図1に示すように、直径300mmのシリコンウェーハ1に厚さ600nmのシリコン酸化膜(SiO2)2を成膜し、このシリコン酸化膜2に、穴径50nm、深さ500nmのホール3をリソグラフィおよびドライエッチングにより多数形成した。
実施例1として、図1に示すように、直径300mmのシリコンウェーハ1に厚さ600nmのシリコン酸化膜(SiO2)2を成膜し、このシリコン酸化膜2に、穴径50nm、深さ500nmのホール3をリソグラフィおよびドライエッチングにより多数形成した。
そして、このシリコンウェーハ1を、図2に示す枚葉式の半導体製造装置のウェーハ保持機構12にセットし、まず、シリコンウェーハ1を1000rpmで回転させつつ、薬液吐出ノズル15から、薬液A(フッ化水素酸3mol/L、フッ化アンモニウム8mol/Lおよび1000ppm以下の界面活性剤を含む)を2L/minの流速でシリコンウェーハ1の中心に3秒間吐出して薬液供給工程を実施した。
次に、シリコンウェーハ1を回転させたまま、IPA蒸気吐出ノズル16から加温したIPAから発生したIPA蒸気をシリコンウェーハ1上に吐出しつつ、IPA蒸気吐出ノズル16をシリコンウェーハ1の中心から外周へ10秒かけてスキャンした。これによって、ホール3内の薬液Aを保持したまま、シリコンウェーハ1表面の薬液Aのみを除去する表面薬液除去工程を実施した。
次に、上記のホール3内の薬液Aを保持し、かつ、シリコンウェーハ1表面の薬液Aを除去した状態でシリコンウェーハ1を30秒間回転させてウエットエッチング工程を実施した。
この後、純水吐出ノズル17から純水を2L/minの流速でウェーハ11の中心に30秒間吐出し、ホール3内の薬液Aを、純水と置換して除去するホール内薬液除去工程を実施した。
最後に、再びIPA蒸気吐出ノズル16から、加温したIPAから発生したIPA蒸気をウェーハ11上に吐出して乾燥工程を実施した。このときIPA蒸気吐出ノズル16はシリコンウェーハ1の中心から外周へ30秒かけてスキャンした。すなわち、この乾燥工程では、ホール3内部の純水をIPAと置換して乾燥させるため、上記した表面薬液除去工程よりも時間をかけてスキャンを行った。
以上の実施例1では、シリコンウェーハ1のホール3内に薬液Aが注入され、シリコンウェーハ1表面の薬液AはIPA蒸気によりIPAと置換されてシリコンウェーハ1表面から除去される。この状態では、シリコンウェーハ1表面のエッチングは行われず、ホール3内のみでエッチングが行われる。ホール3内の薬液Aは、ホール3内壁のシリコン酸化膜2と反応しエッチングが起こるが、ホール3内部の薬液Aに含まれるエッチング種は非常に微量であり、かつ外部からの供給を絶たれているため、シリコン酸化膜2との反応とともにエッチング種の濃度が低下し、エッチングレートが低下する。この時の経過時間とエッチング量との関係を調べた結果を図4のグラフに示す。このグラフに示されるとおり、実施例1の場合、薬液Aがホール3内に供給された後、30秒後には、略エッチングが停止する。なお、図4のグラフは、ホール3内に薬液Aを供給してから純水と置換して除去(リンス)するまでの時間を変化させて、ホール3内壁のエッチング量を確認した結果を調べたものである。
実施例1では、ホール3内に薬液Aを供給してから、純水によって置換して、ホール3内から薬液Aを除去するまで、約40秒以上経過しており、ホール3内におけるエッチングは自己整合的に完了していた。
以上のように処理したシリコンウェーハ1の断面を透過型電子顕微鏡で観察したところ、処理前と比べてホール3内壁のシリコン酸化膜2が4.5〜5nmエッチングされていた。また、パターンが形成されていない箇所(表面部分)でシリコン酸化膜2の膜厚を測定したところ、処理前に比べて5〜5.5nmエッチングされていた。すなわち、実施例1では、シリコンウェーハ1表面とホール3内部で、ウエットエッチングによるエッチング量を略同じとすることができた。
なお、上記のウエットエッチング工程では、1000rpmでシリコンウェーハ1を回転させたが、この工程は、シリコンウェーハ1に対して薬液Aを供給するものではないので回転を止めてもよい。
また上記実施例1では、表面薬液除去工程において、シリコンウェーハ1表面の薬液Aを除くためにIPA蒸気を用いたが、液体の状態のIPAを用いてもよく、他の気体等を吹き付ける方法を用いてもよい。また、シリコンウェーハ1の回転数を制御することでホール3内部の薬液は保持し、かつシリコンウェーハ1表面の薬液のみを除去する方法を用いてもよい。
また、ホール3内部を親水性、かつシリコンウェーハ1表面を疎水性に制御できる場合は、シリコンウェーハ1を垂直方向に保持して薬液に浸漬するバッチ式の装置を用いても本発明を実施することができる。いずれの装置を用いたとしても、純水等の液体が付着していない乾燥したシリコンウェーハ1上にエッチング用の薬液を吐出または浸漬させて、ホール3内部に薬液を供給することが必要である。
上記実施例1に示されるように、本実施形態では、シリコンウェーハ1表面のホール3内に薬液が注入されているが、シリコンウェーハ1表面の薬液が除去されている状態となっているため、シリコンウェーハ1表面を過剰にエッチングせずに、ホール3内部をエッチングすることができる。通常、エッチング量はエッチング時間で制御するが、本実施形態によれば、ホール3内部の薬液に含まれるエッチング種の量を調整することで、エッチング量を制御することができるため、一定以上のエッチング時間を与えればよく、正確に時間を制御する必要がない。実施例1では、ホール3内部をエッチングするために30秒間薬液を保持したが、薬液の種類や濃度、エッチングする物質によっては、この時間を短縮や延長することも可能である。同様に、求めるエッチング量の精度や処理能力の向上のため、この時間を短縮や延長することもできる。エッチング種の量を調整する方法としては、薬液の濃度を調整するほか、バッファードフッ酸などを用いる場合には、フッ化水素酸とフッ化アンモニウムの混合比を調整することでエッチング種の量を制御しても良い。
(実施例2)
次に、実施例2について説明する。実施例2では、図5に示すように、直径300mmのシリコンウェーハ1に厚さ600nmのシリコン酸化膜(SiO2)2を成膜し、このシリコン酸化膜2に、穴径100nm、深さ500nmのホール4をリソグラフィおよびドライエッチングにより多数形成した。
次に、実施例2について説明する。実施例2では、図5に示すように、直径300mmのシリコンウェーハ1に厚さ600nmのシリコン酸化膜(SiO2)2を成膜し、このシリコン酸化膜2に、穴径100nm、深さ500nmのホール4をリソグラフィおよびドライエッチングにより多数形成した。
そして、このシリコンウェーハ1を、図2に示す枚葉式の半導体製造装置のウェーハ保持機構12にセットし、まず、シリコンウェーハ1を1000rpmで回転させつつ、薬液吐出ノズル15から、薬液B(フッ化水素酸1.5mol/L、フッ化アンモニウム8mol/Lおよび1000ppm以下の界面活性剤を含む)を2L/minの流速でシリコンウェーハ1の中心に6秒間吐出して薬液供給工程を実施した。
以降、実施例1と同様に、表面薬液除去工程、ウエットエッチング工程、ホール内薬液除去工程、乾燥工程を、順に実施した。以上のように処理したシリコンウェーハ1の断面を透過型電子顕微鏡で観察したところ、処理前と比べてホール4内壁のシリコン酸化膜2が4.5〜5nmエッチングされていた。また、パターンが形成されていない箇所(表面部分)でシリコン酸化膜2の膜厚を測定したところ、処理前に比べて5〜5.5nmエッチングされていた。すなわち、実施例2では、シリコンウェーハ1表面とホール4内部で、ウエットエッチングによるエッチング量を略同じとすることができた。
上記の実施例2は、ホール4の径が100nmとなっており、実施例1のホール3の径が50nmの場合より大径となっているが、薬液の成分、薬液の供給量等を調整することにより、実施例1の場合と同様に、良好なエッチングを行うことができた。なお、実施例1、実施例2では、単層のシリコン酸化膜2を用いたが、エッチングレートの異なる複数の膜が積層されている場合は、エッチングすべき膜種のエッチングレートに合わせた薬液を使用する。
(実施例3)
次に、実施例3について説明する。実施例3では、図6に示すように、直径300mmのシリコンウェーハ1に厚さ600nmのシリコン酸化膜(SiO2)2を成膜し、このシリコン酸化膜2に、穴径50nm、深さ500nmのホール3および穴径100nm、深さ500nmのホール4をリソグラフィおよびドライエッチングにより多数形成した。
次に、実施例3について説明する。実施例3では、図6に示すように、直径300mmのシリコンウェーハ1に厚さ600nmのシリコン酸化膜(SiO2)2を成膜し、このシリコン酸化膜2に、穴径50nm、深さ500nmのホール3および穴径100nm、深さ500nmのホール4をリソグラフィおよびドライエッチングにより多数形成した。
そして、このシリコンウェーハ1を、図2に示す枚葉式の半導体製造装置のウェーハ保持機構12にセットし、まず、シリコンウェーハ1を1000rpmで回転させつつ、薬液吐出ノズル15から、薬液A(フッ化水素酸3mol/L、フッ化アンモニウム8mol/Lおよび1000ppm以下の界面活性剤を含む)を2L/minの流速でシリコンウェーハ1の中心に3秒間吐出して薬液供給工程を実施した。
以降、実施例1と同様に、表面薬液除去工程、ウエットエッチング工程、ホール内薬液除去工程、乾燥工程を、順に実施した。以上のように処理したシリコンウェーハ1の断面を透過型電子顕微鏡で観察したところ、穴径50nm、深さ500nmのホール3は、処理前と比べてホール3内壁のシリコン酸化膜2が4.5〜5nmエッチングされていた。一方、穴径100nm、深さ500nmのホール4は、処理前と比べて内壁のシリコン酸化膜2は9〜10nmエッチングされていた。また、パターンが形成されていない箇所(表面部分)でシリコン酸化膜2の膜厚を測定したところ、処理前に比べて5〜5.5nmエッチングされていた。
上記のように、実施例3では、穴径50nmのホール3については、シリコンウェーハ1表面とホール3内部で略同じ厚さのエッチング量とすることができたが、穴径100nmのホール4については、ホール3に比べてほぼ倍のエッチング量となり、穴径が拡大してしまう。したがって、このような場合は、前工程であるドライエッチング工程において、ホール4の形成時に予め寸法の変動を見込んで、穴径を5nm程度小さくしておくことで、ウエットエッチング後の穴径を所望の寸法に合わせ込むことが可能となる。
なお、本発明は、上記した各実施形態及び実施例に限定されるものではなく、各種の変形が可能であることは、勿論である。
1……シリコンウェーハ、2……シリコン酸化膜、3……ホール。
Claims (5)
- ドライエッチング工程によって形成されたホールを有する半導体基板をウエットエッチングし、前記ドライエッチング工程による残渣を除去する半導体装置の製造方法であって、
前記半導体基板表面にウエットエッチング用の薬液を供給して当該薬液を前記ホール内部に注入する薬液供給工程と、
前記ホール内部の薬液を保持したまま、前記半導体基板表面の薬液を除去する表面薬液除去工程と、
前記ホール内部の薬液を保持し、かつ、前記半導体基板表面の薬液を除去した状態に維持し、前記ホール内のウエットエッチングを行うウエットエッチング工程と、
前記ホール内部の薬液を除去するホール内薬液除去工程と
を具備したことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項1記載の半導体装置の製造方法であって、
前記薬液のエッチング種の量を調整することにより、エッチング種を所定量前記ホール内に注入することによって、当該ホールの内部を所望量ウエットエッチングすることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項1又は2に記載の半導体装置の製造方法において、
前記薬液としてバッファードフッ酸又は希釈フッ酸を用いることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項1〜3いずれか1項記載の半導体装置の製造方法であって、
前記表面薬液除去工程においてIPA(イソプロピルアルコール)を用いて前記半導体基板表面の薬液を除去することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項1〜4いずれか1項記載の半導体基板洗浄方法であって、
前記半導体基板に、第1のホール径を有する第1のホールと、前記第1のホール径より大径の第2の径を有する第2のホールとを形成する際に、前記ドライエッチング工程において前記第2のホールの径を前記第2の径より小さい径に形成し、
前記ウエットエッチング工程によって、前記第2のホールの径を、第2の径とすることを特徴とする半導体装置の製造方法。
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