JP2008134468A - 集光光学系および光加工装置 - Google Patents
集光光学系および光加工装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008134468A JP2008134468A JP2006320791A JP2006320791A JP2008134468A JP 2008134468 A JP2008134468 A JP 2008134468A JP 2006320791 A JP2006320791 A JP 2006320791A JP 2006320791 A JP2006320791 A JP 2006320791A JP 2008134468 A JP2008134468 A JP 2008134468A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light beam
- optical
- condensing
- light
- optical system
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
【解決手段】微小な光放射部から放射される光束を、2以上の点状および/または1以上の線状に集光させる集光光学系であって、微小な光放射部FOからの発散光束を、光軸に実質的に平行な平行光束とし得るように配置される第1のコリメートレンズCL1と、この第1のコリメートレンズと同軸で、第1のコリメートレンズを透過した光束を集光させる第2のコリメートレンズCL2と、第1のコリメートレンズと微小な光放射部との間に配置されて、光放射部からの発散光束を第1、第2のコリメートレンズの光軸に交わる1以上の光束とする光束変換光学素子FTとを有し、光束変換光学素子FTおよび第2のコリメートレンズのうちの少なくとも一方を、第1のコリメートレンズCL1に対して、光軸の方向に変位可能としと集光光学系である。
【選択図】図1
Description
「第1のコリメートレンズ」は、微小な光放射部からの発散光束を、光軸に実質的に平行な平行光束にし得るように配置される。
「第2のコリメートレンズ」は、第1のコリメートレンズと同軸、即ち「光軸を合致」させて配置され、第1のコリメートレンズを透過した光束を集光させる。
光束変換光学素子および第2のコリメートレンズのうち、少なくとも一方は、第1のコリメートレンズに対して上記光軸の方向において変位可能とされる。
以下、単に「光軸」というとき、この光軸は「第1および第2のコリメートレンズの光軸」を意味するものとする。また、光束変換光学素子についても、これを第1、第2のコリメートレンズと組合せた状態を想定して、上記光軸に合致する方向を「光束変換光学素子の光軸方向」とする。
なお、第1、第2のコリメータレンズは球面レンズでもよいが、一方または両方の面が非球面形状であるレンズであることが好ましい。
また、第1、第2のコリメートレンズの間隔を変化させると、結像面に入射する集光光束の「照射角の大きさ」を調整することができる。「照射角」については後述する。
「微小な光放射部」は、LDやLED等の発光素子の発光部であることもできる(請求項19)。
請求項17〜20の任意の1に記載の光加工装置は、微小な光放射部と光束変換光学素子との間に、透明な平行平板を「光軸を含み互いに直交する3軸のうちの2軸の回りに揺動可能に」に設けた構成とすることができる(請求項21)。
請求項17〜21の任意の1に記載の光加工装置は、光加工として「樹脂構成物間の光溶接を行うもの」であり、一方の樹脂構成物に対して他方の樹脂構成物を押圧するとともに、溶着光としての集束光束を溶着部へ向けて導光する導光機能を有する押さえ手段を有することができる(請求項22)。相互に光溶着する樹脂構成物は例えば、後述する「樹脂製レンズと樹脂製の鏡筒」などである。
光加工装置による光加工としては、溶着や半田溶融、溶接・切断加工や、固着、密閉等の加工が可能である。
図1は光加工装置の実施の1形態を説明するための図である。
図1(a)において、符号LD1、LD2、・・LDNは複数個(N個)の半導体レーザを示す。これら複数個の半導体レーザLD1〜LDNからのレーザ光は、ビーム合成手段100に入射し、ビーム合成手段100により合成されてカップリング光CPとなって、単一の光ファイバFの入射端FIにカップリングし、光ファイバF内を伝搬して光ファイバFの射出端FOから射出する。
この例では、光ファイバFが「導光路」であり、光ファイバFの射出端FOが「微小な光放射部」である。
図2に示す光束変換光学素子FTは、入射側の面(図2において下方の面)が平面であり、射出側の面(図2で上方の面)は、光軸に対して対称的に傾いた2つの平面PL1、PL2を「屋根型に組合せた形状」となっている。
このように第2のコリメートレンズCL2を第1のコリメートレンズCL1に近づけると、図1(c)に示すように、集光点間隔:DPは、図1(a)の場合と同じであるが、
第2のコリメートレンズCL2により集光する「2光束の照射角:β」は、図1(a)の場合よりも小さくなっている。図1(c)において、照射角は小さいため、符号:βは図示されていない。照射角:βは第2のコリメートレンズCL2の作用で集光する光束の、光束外周部が光軸に対してなす角である。
従って、光束変換光学素子FTおよび/または第2のコリメートレンズCL2の変位を独立に組合せることにより、集光点間隔:DPおよび/または照射角:βの大きさを任意に調整することができる。
レンズLNは樹脂レンズであって、図3(a)に示すように鏡筒400の「受け部」に落とし込まれ、レンズ周辺の平面状部分と鏡筒400の受け部の底面部とが密接して溶着面(図1における結像面IP)401となる。
図3(b)における符号P11〜P14は「溶着部(溶着スポット)」を示している。即ち、レンズLNは4つの溶着部P11〜P14において鏡筒400に光溶着される。レンズLNは勿論、レーザ光波長の光を透過させるが、鏡筒400は「レーザ光を吸収する樹脂」で構成されている。このような「加工用のレーザ光を吸収する樹脂」は、黒色等の有色樹脂や「黒色等に着色された樹脂」であることができるが、加工用のレーザ光を吸収しやすい色の塗料を「レーザ光の波長の光を透過させる樹脂の表面に塗布した構成」としてもよい。
図2に示した光束変換光学素子FTは上に説明したような機能を持ち、光軸方向の一方の側が平面PL1、PL2の屋根型の組合せで、他方の側が平面である。この場合、平面PL1、PL2の稜角:θは120度〜240度の囲が適当である。平面PL1、PL2は「稜をなして組合せられる」ので稜角:180度はありえない。稜角:θが180度より小さければ平面PL1、PL2は図2のように凸をなし、稜角:θが180度より多きければ平面PL1、PL2は「凹」をなす。このように、平面PL1、PL2が凹をなすように組合せられることも可能である。
図5(a)の光束変換光学素子FT1では光軸方向の両側における「2つの平面のなす稜線」は互いに平行である。この場合、形成される集光点は2つであり、図5(b)に示すように集光点P1、P2は「稜線に直交する方向において光軸に対称」に形成される。集光点P1、P2の間隔は、稜角:θ1、θ2にも依存する。
このように、光束変換光学素子が、光軸方向の片側もしくは両側に「光軸に直交する平面に対して傾く複数の平面」を組合せた形状のものである場合「各平面の光軸に直交する面に対する傾き」により、形成される複数の集光点の配列パターンが定まる。
h=α×r ただし r=√(X2+Y2) (1)
(X、Yは光軸に直交する平面の、光軸を原点とする2次元直交座標)
で表すことができる。傾斜:αは、傾斜角をθとして「α=tanθ」である。リング状に形成され集光部における収差を抑えるために、円錐断面の頂角(180−2θ)は120度〜240度の範囲が好ましい。
h=(r2/R)/[1+√{1−(1+k)(r/R)2}
+A1・r+A2・r2+・・An・rn・・ (2)
で現されるような断面形状において、曲率半径:R、コーニック定数:k、非球面係数:Anを調整することにより実現できる。
しかしながら、上記変位調整に高い精度を必要とする場合、高精度の変位調整を実現するのに「高分解能のステージ」等が必要になり、光学ユニットが高価になる。
このような問題に対処するには、集光光束の「所望の集光形状」を得るため、光束変換光学素子の「光軸上の前または後ろ」の位置に適当な「絞り手段」を配置すれば良い。
図14(a)、(b)に示す光加工装置は、集光光学系として、図9に示した構成のものを用いている。また、光束変換光学素子FT7は、図8に即して説明した円錐面を光入射側に有するものである。符号CL1およびCL2は第1および第2のコリメートレンズ、符号900は透明な平行平板を示す。光束変換光学素子FT7、第1および第2のコリメートレンズCL1、CL2は、第1のケーシングC1内に配設されており、第2のコリメートレンズCL2、光束変換光学素子FT7、平行平板900は、図示されない変位手段により上記各種の変位を行い得るようになっている。
h=α×r ただし r=√(x2+Y2)
で表され、傾斜:αは「−0.30≦α≦−0.29」の範囲にある。
FT 光束変換光学素子
CL1 第1のコリメートレンズ
CL2 第2のコリメートレンズ
IP 結像面
P1、P2 集光点
Claims (22)
- 微小な光放射部から放射される光束を、2以上の点状および/または1以上の線状に集光させる集光光学系であって、
微小な光放射部からの発散光束を、光軸に実質的に平行な平行光束とし得るように配置される第1のコリメートレンズと、
この第1のコリメートレンズと同軸で、上記第1のコリメートレンズを透過した光束を集光させる第2のコリメートレンズと、
上記第1のコリメートレンズと上記微小な光放射部との間に配置されて、上記光放射部からの発散光束を上記第1、第2のコリメートレンズの光軸に交わる1以上の光束とする光束変換光学素子とを有し、
上記光束変換光学素子および第2のコリメートレンズのうち少なくとも一方を、上記第1のコリメートレンズに対して、上記光軸の方向に変位可能としとしたことを特徴とする集光光学系。 - 請求項1記載の集光光学系において、
光束変換光学素子を、第1のコリメートレンズに対して光軸の方向へ変位可能としたことを特徴とする集光光学系。 - 請求項1記載の集光光学系において、
第2のコリメートレンズを、第1のコリメートレンズに対して光軸の方向へ変位可能としたことを特徴とする集光光学系。 - 請求項1記載の集光光学系において、
光束変換光学素子と第2のコリメートレンズとを共に、第1のコリメートレンズに対して光軸の方向へ独立に変位可能としたことを特徴とする集光光学系。 - 請求項1〜4の任意の1に記載の集光光学系において、
光束変換光学素子が、光軸に直交する面に対して傾く2以上の平面を物体側および/または像側に有し、光放射部からの発散光束を第1、第2のコリメートレンズの光軸に交わる2以上の光束とする透明体であることを特徴とする集光光学系。 - 請求項5記載の集光光学系において、
光束変換光学素子が、光軸に直交する面に対して傾く2つの平面を、物体側および/または像側に有し、上記2つの平面のなす稜角が120度〜240度の範囲に設定されていることを特徴とする集光光学系。 - 請求項6記載の集光光学系において、
光束変換光学素子が、光軸に直交する面に対して傾く2つの平面を、物体側および像側にそれぞれ有し、物体側の2つの平面の稜線と、像側の2つの平面の稜線とが、互いに平行もしくは直交することを特徴とする集光光学系。 - 請求項5記載の集光光学系において、
光束変換光学素子が、光軸に対して、60度〜120度の範囲の角度をもって傾いた3以上の平面を組合せた面を、物体側および/または像側に有することを特徴とする集光光学系。 - 請求項8記載の集光光学系において、
光束変換光学素子の物体側および/または像側の3以上の平面の、光軸に対する傾きが同一であることを特徴とする集光光学系。 - 請求項1〜4の任意の1に記載の集光光学系において、
光束変換光学素子が、120度〜240度の範囲の頂角を有する円錐面もしくは楕円錐面を、物体側および/または像側に有する透明体であることを特徴とする集光光学系。 - 請求項1〜4の任意の1に記載の集光光学系において、
光束変換光学素子が、光軸に直交する面に対して傾く2以上の球面もしくは2以上の非球面を物体側および/または像側に有し、光放射部からの発散光束を、第1、第2のコリメートレンズの光軸に交わる2以上の光束とする透明体であることを特徴とする集光光学系。 - 請求項1〜4の任意の1に記載の集光光学系において、
光束変換光学素子が、光軸対称で、光軸を含む断面形状が曲線をなす面を、物体側および/または像側に有する透明体であることを特徴とする集光光学系。 - 請求項1〜12の任意の1に記載の集光光学系において、
光束変換光学素子が樹脂又はガラスを材料とする一体構造であることを特徴とする集光光学系。 - 請求項1〜12の任意の1に記載の集光光学系において、
光束変換光学素子が樹脂又はガラスを材料とする複数のピース部材を一体的に組合せた構成であることを特徴とする集光光学系。 - 請求項1〜14の任意の1に記載の集光光学系において、
光束変換光学素子の、光軸の回りの回転変位および/または光軸に直交する方向への直交変位が可能であることを特徴とする集光光学系。 - 請求項1〜15の任意の1に記載の集光光学系において、
第2のコリメートレンズから射出して2以上の点状および/または1以上の線状に集光する集光部もしくはその近傍での光束の形状や光強度分布を調整するための絞り手段を有することを特徴とする集光光学系。 - 微小な光放射部から光束を放射し、集光光学系により、所望の被加工面上に2以上の点状および/または1以上の線状に集光させて光加工を行う光加工装置であって、
集光光学系として、請求項1〜16の任意の1に記載の集光光学系を用いることを特徴とする光加工装置。 - 請求項17記載の光加工装置において、
微小な光放射部が導光路の端部であって、レーザ光源から上記導光路により導光した加工用光を上記端部から放射することを特徴とする光加工装置。 - 請求項17記載の光加工装置において、
微小な光放射部がLDやLED等の発光素子の発光部であることを特徴とする光加工装置。 - 請求項17〜19の任意の1に記載の光加工装置において、
微小な光放射部が、コリメートレンズの光軸方向および/または光軸直交方向に位置調整可能であることを特徴とする光加工装置。 - 請求項17〜20の任意の1に記載の光加工装置において、
微小な光放射部と光束変換光学素子との間に、透明な平行平板を、光軸を含み互いに直交する3軸のうちの2軸の回りに揺動可能に設けたことを特徴とする光加工装置。 - 請求項17〜21の任意の1に記載の光加工装置において、
光加工として、樹脂構成物間の光溶接を行うものであり、一方の樹脂構成物に対して他方の樹脂構成物を押圧するとともに、溶着光としての集束光束を溶着部へ向けて導光する導光機能を有する押さえ手段を有することを特徴とする光加工装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006320791A JP5184775B2 (ja) | 2006-11-28 | 2006-11-28 | 光加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006320791A JP5184775B2 (ja) | 2006-11-28 | 2006-11-28 | 光加工装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008134468A true JP2008134468A (ja) | 2008-06-12 |
JP5184775B2 JP5184775B2 (ja) | 2013-04-17 |
Family
ID=39559348
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006320791A Expired - Fee Related JP5184775B2 (ja) | 2006-11-28 | 2006-11-28 | 光加工装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5184775B2 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013072796A (ja) * | 2011-09-28 | 2013-04-22 | Disco Abrasive Syst Ltd | 高さ位置検出装置およびレーザー加工機 |
JP2015521545A (ja) * | 2012-06-22 | 2015-07-30 | アイピージー フォトニクス コーポレーション | レーザー掘削方法及び形状化された孔を生成するシステム |
JP2016147293A (ja) * | 2015-02-13 | 2016-08-18 | 株式会社アマダミヤチ | レーザ加工装置および出射ユニット |
WO2017115406A1 (ja) | 2015-12-28 | 2017-07-06 | Dmg森精機株式会社 | 付加加工用ヘッド、加工機械および加工方法 |
JPWO2017195691A1 (ja) * | 2016-05-13 | 2018-10-18 | 三菱電機株式会社 | 光学レンズおよび光学レンズの製造方法 |
JP2021085940A (ja) * | 2019-11-26 | 2021-06-03 | 株式会社フジクラ | ビームシェイパ、加工装置、及びビームシェイピング方法 |
US11135772B2 (en) | 2017-05-16 | 2021-10-05 | Dmg Mori Co., Ltd. | Additive-manufacturing head and manufacturing machine |
CN113825586A (zh) * | 2019-05-14 | 2021-12-21 | 通快激光有限责任公司 | 产生两个平行激光焦线的光学***和所属的激光加工方法 |
Citations (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61259891A (ja) * | 1985-05-15 | 1986-11-18 | Hitachi Ltd | レ−ザ加工装置 |
JPH02297986A (ja) * | 1989-05-11 | 1990-12-10 | Hamamatsu Photonics Kk | ビームの均一化方法並びに均一化したビームの伝送装置および照射装置 |
JPH055283U (ja) * | 1991-07-01 | 1993-01-26 | ミヤチテクノス株式会社 | レーザ出射ユニツト |
JPH05303052A (ja) * | 1992-04-27 | 1993-11-16 | Asahi Glass Co Ltd | 円環状光の形成方法およびガラスの内部欠点検出方法 |
JPH0760470A (ja) * | 1993-08-30 | 1995-03-07 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | レーザ加工機 |
JPH08197274A (ja) * | 1995-01-24 | 1996-08-06 | Mitsubishi Materials Corp | レーザマーキング装置 |
JPH0954278A (ja) * | 1995-06-09 | 1997-02-25 | Kawaguchi Kogaku Sangyo:Kk | 環状光線拡がり角制御光学装置 |
JPH1031105A (ja) * | 1996-07-15 | 1998-02-03 | Shinozaki Seisakusho:Kk | 2面集光プリズム並びにこれを備えるレーザ加工装置 |
JP2902550B2 (ja) * | 1994-01-25 | 1999-06-07 | 住友重機械工業株式会社 | レーザ加工機 |
JP2000271775A (ja) * | 1999-03-29 | 2000-10-03 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | レーザ出射光学系 |
JP2001079679A (ja) * | 1999-09-10 | 2001-03-27 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | レーザ加工機 |
JP2001121281A (ja) * | 1999-10-22 | 2001-05-08 | Nec Corp | レーザ加工用出射光学部 |
JP2001225183A (ja) * | 2000-02-14 | 2001-08-21 | Nec Corp | レーザ加工光学装置 |
JP2002023100A (ja) * | 2000-07-05 | 2002-01-23 | Toshiba Corp | 分割光学素子、光学系及びレーザ加工装置 |
JP2002059287A (ja) * | 2000-08-11 | 2002-02-26 | Ricoh Microelectronics Co Ltd | レーザ加工方法及びレーザ加工装置 |
JP2002329935A (ja) * | 2001-05-07 | 2002-11-15 | Toshiba Corp | レーザ光源装置、レーザ装置、レーザ出射方法およびレーザ光源装置の製造方法 |
JP2003048092A (ja) * | 2001-07-30 | 2003-02-18 | Nidec Copal Corp | レーザ溶接装置 |
JP2004085589A (ja) * | 2002-06-28 | 2004-03-18 | Ricoh Opt Ind Co Ltd | 光源用モジュールおよび光源装置 |
JP2004136675A (ja) * | 2002-10-02 | 2004-05-13 | Leister Process Technologies | 合成樹脂より成る物品を3次元形態に接合する方法および装置 |
JP2005028428A (ja) * | 2003-07-09 | 2005-02-03 | Denso Corp | レーザ加工装置 |
JP2005125783A (ja) * | 2003-10-21 | 2005-05-19 | Leister Process Technologies | レーザー光線による樹脂の加熱方法及び装置 |
JP2006150433A (ja) * | 2004-12-01 | 2006-06-15 | Fanuc Ltd | レーザ加工装置 |
WO2006066706A2 (en) * | 2004-12-22 | 2006-06-29 | Carl Zeiss Laser Optics Gmbh | Optical illumination system for creating a line beam |
JP2006187783A (ja) * | 2005-01-05 | 2006-07-20 | Disco Abrasive Syst Ltd | レーザー加工装置 |
JP2006255724A (ja) * | 2005-03-15 | 2006-09-28 | Disco Abrasive Syst Ltd | レーザー加工装置 |
-
2006
- 2006-11-28 JP JP2006320791A patent/JP5184775B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61259891A (ja) * | 1985-05-15 | 1986-11-18 | Hitachi Ltd | レ−ザ加工装置 |
JPH02297986A (ja) * | 1989-05-11 | 1990-12-10 | Hamamatsu Photonics Kk | ビームの均一化方法並びに均一化したビームの伝送装置および照射装置 |
JPH055283U (ja) * | 1991-07-01 | 1993-01-26 | ミヤチテクノス株式会社 | レーザ出射ユニツト |
JPH05303052A (ja) * | 1992-04-27 | 1993-11-16 | Asahi Glass Co Ltd | 円環状光の形成方法およびガラスの内部欠点検出方法 |
JPH0760470A (ja) * | 1993-08-30 | 1995-03-07 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | レーザ加工機 |
JP2902550B2 (ja) * | 1994-01-25 | 1999-06-07 | 住友重機械工業株式会社 | レーザ加工機 |
JPH08197274A (ja) * | 1995-01-24 | 1996-08-06 | Mitsubishi Materials Corp | レーザマーキング装置 |
JPH0954278A (ja) * | 1995-06-09 | 1997-02-25 | Kawaguchi Kogaku Sangyo:Kk | 環状光線拡がり角制御光学装置 |
JPH1031105A (ja) * | 1996-07-15 | 1998-02-03 | Shinozaki Seisakusho:Kk | 2面集光プリズム並びにこれを備えるレーザ加工装置 |
JP2000271775A (ja) * | 1999-03-29 | 2000-10-03 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | レーザ出射光学系 |
JP2001079679A (ja) * | 1999-09-10 | 2001-03-27 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | レーザ加工機 |
JP2001121281A (ja) * | 1999-10-22 | 2001-05-08 | Nec Corp | レーザ加工用出射光学部 |
JP2001225183A (ja) * | 2000-02-14 | 2001-08-21 | Nec Corp | レーザ加工光学装置 |
JP2002023100A (ja) * | 2000-07-05 | 2002-01-23 | Toshiba Corp | 分割光学素子、光学系及びレーザ加工装置 |
JP2002059287A (ja) * | 2000-08-11 | 2002-02-26 | Ricoh Microelectronics Co Ltd | レーザ加工方法及びレーザ加工装置 |
JP2002329935A (ja) * | 2001-05-07 | 2002-11-15 | Toshiba Corp | レーザ光源装置、レーザ装置、レーザ出射方法およびレーザ光源装置の製造方法 |
JP2003048092A (ja) * | 2001-07-30 | 2003-02-18 | Nidec Copal Corp | レーザ溶接装置 |
JP2004085589A (ja) * | 2002-06-28 | 2004-03-18 | Ricoh Opt Ind Co Ltd | 光源用モジュールおよび光源装置 |
JP2004136675A (ja) * | 2002-10-02 | 2004-05-13 | Leister Process Technologies | 合成樹脂より成る物品を3次元形態に接合する方法および装置 |
JP2005028428A (ja) * | 2003-07-09 | 2005-02-03 | Denso Corp | レーザ加工装置 |
JP2005125783A (ja) * | 2003-10-21 | 2005-05-19 | Leister Process Technologies | レーザー光線による樹脂の加熱方法及び装置 |
JP2006150433A (ja) * | 2004-12-01 | 2006-06-15 | Fanuc Ltd | レーザ加工装置 |
WO2006066706A2 (en) * | 2004-12-22 | 2006-06-29 | Carl Zeiss Laser Optics Gmbh | Optical illumination system for creating a line beam |
JP2008524662A (ja) * | 2004-12-22 | 2008-07-10 | カール・ツアイス・レーザー・オプティクス・ゲーエムベーハー | 線ビームを生成するための光学照射系 |
JP2006187783A (ja) * | 2005-01-05 | 2006-07-20 | Disco Abrasive Syst Ltd | レーザー加工装置 |
JP2006255724A (ja) * | 2005-03-15 | 2006-09-28 | Disco Abrasive Syst Ltd | レーザー加工装置 |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013072796A (ja) * | 2011-09-28 | 2013-04-22 | Disco Abrasive Syst Ltd | 高さ位置検出装置およびレーザー加工機 |
JP2015521545A (ja) * | 2012-06-22 | 2015-07-30 | アイピージー フォトニクス コーポレーション | レーザー掘削方法及び形状化された孔を生成するシステム |
JP2016147293A (ja) * | 2015-02-13 | 2016-08-18 | 株式会社アマダミヤチ | レーザ加工装置および出射ユニット |
WO2017115406A1 (ja) | 2015-12-28 | 2017-07-06 | Dmg森精機株式会社 | 付加加工用ヘッド、加工機械および加工方法 |
US11173662B2 (en) | 2015-12-28 | 2021-11-16 | Dmg Mori Co., Ltd. | Additive-manufacturing head, manufacturing machine, and manufacturing method |
JPWO2017195691A1 (ja) * | 2016-05-13 | 2018-10-18 | 三菱電機株式会社 | 光学レンズおよび光学レンズの製造方法 |
CN109073790A (zh) * | 2016-05-13 | 2018-12-21 | 三菱电机株式会社 | 光学透镜和光学透镜的制造方法 |
US11135772B2 (en) | 2017-05-16 | 2021-10-05 | Dmg Mori Co., Ltd. | Additive-manufacturing head and manufacturing machine |
CN113825586A (zh) * | 2019-05-14 | 2021-12-21 | 通快激光有限责任公司 | 产生两个平行激光焦线的光学***和所属的激光加工方法 |
CN113825586B (zh) * | 2019-05-14 | 2024-04-02 | 通快激光有限责任公司 | 产生两个平行激光焦线的光学***和所属的激光加工方法 |
JP2021085940A (ja) * | 2019-11-26 | 2021-06-03 | 株式会社フジクラ | ビームシェイパ、加工装置、及びビームシェイピング方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5184775B2 (ja) | 2013-04-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2008134468A (ja) | 集光光学系および光加工装置 | |
US9656349B2 (en) | Laser processing apparatus capable of increasing focused beam diameter | |
US5430816A (en) | Multiple split-beam laser processing apparatus generating an array of focused beams | |
JP4221513B2 (ja) | 集積型ビーム整形器およびその使用方法 | |
EP0491192B1 (en) | Laser processing apparatus and laser processing method | |
KR102547657B1 (ko) | 레이저 가공 장치 | |
US11499695B2 (en) | Optical member and light emission device | |
US20130294726A1 (en) | Optical module having enhanced optical coupling efficiency between laser diode and optical fiber | |
US10955618B2 (en) | Fiber coupling device | |
KR102615739B1 (ko) | 레이저 가공 장치 | |
JP4991588B2 (ja) | 集光光学系および光加工装置 | |
JP2007185707A (ja) | 光溶着用光学ユニットおよび光溶着装置 | |
JP2001105168A (ja) | 出射光学系、出射光学系を備えたレーザ加工装置、及びレーザ加工方法 | |
JP2021167911A (ja) | 光源装置、プロジェクタおよび機械加工装置 | |
JP2021020249A (ja) | レーザユニットおよびレーザマーカおよびレーザ印字システム | |
KR101928264B1 (ko) | 레이저빔 성형 장치 | |
JPS63108318A (ja) | レ−ザ−加工装置 | |
WO2021145205A1 (ja) | レーザ装置及びそれを用いたレーザ加工装置 | |
JPH1078530A (ja) | 光結合装置 | |
JP2007245194A (ja) | 光溶着用光学ユニットおよび光溶着装置および光溶着方法 | |
JPH05253687A (ja) | レーザ加工装置 | |
JP2003039188A (ja) | レーザー加工方法及びレーザー加工装置 | |
CN114226959A (zh) | 激光加工***及互补锥形镜组 | |
JPH055854A (ja) | レーザービーム走査光学系 | |
JP2021024225A (ja) | 照射光学系および光照射装置および3次元造形装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20091021 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111201 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120228 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120423 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130108 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130117 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5184775 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160125 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |