JP2008134468A - 集光光学系および光加工装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】新規な光加工装置とこの光加工装置に用いられる集光光学系を実現する。
【解決手段】微小な光放射部から放射される光束を、2以上の点状および/または1以上の線状に集光させる集光光学系であって、微小な光放射部FOからの発散光束を、光軸に実質的に平行な平行光束とし得るように配置される第1のコリメートレンズCL1と、この第1のコリメートレンズと同軸で、第1のコリメートレンズを透過した光束を集光させる第2のコリメートレンズCL2と、第1のコリメートレンズと微小な光放射部との間に配置されて、光放射部からの発散光束を第1、第2のコリメートレンズの光軸に交わる1以上の光束とする光束変換光学素子FTとを有し、光束変換光学素子FTおよび第2のコリメートレンズのうちの少なくとも一方を、第1のコリメートレンズCL1に対して、光軸の方向に変位可能としと集光光学系である。
【選択図】図1

Description

この発明は集光光学系および光加工装置に関する。
光エネルギを利用する加工(光加工)を行う光加工装置は従来から種々のものが知られている。これらのうちで、レーザ光源からの光を光ファイバにより導光し、光ファイバの射出端から射出するレーザ光を、集光光学系と2枚のウェッジプリズムとにより2光路に分割して各々を光スポットとして加工部に集光し、2枚のウェッジプリズムを「あおり機構」により光束光軸に対して傾かせ、この傾きである「あおり角」の調整により「2つの光スポットの間隔」を調整するものが特許文献1に記載されている。
このようにすることにより、被加工物の2点で同時に光加工することができ、加工する2点の間隔を調整することが可能であるところから被加工物の種類に対する自由度が大きい。しかしながら、特許文献1記載の光加工装置では「あおり機構」が複雑になり易く、また、同時に光加工できるのは2点に限られてしまう。
特許第3317290号公報
この発明は、光加工するための集光部を、2以上の点状に設定することも、1以上の線状に設定することも可能であり、点状の集光部の間隔や、線状の集光部の大きさも調整可能にでき、集光光束の光束外周部の大きさの調整も可能にできる新規な光加工装置とこの光加工装置に用いられる集光光学系の実現を課題とする。
この発明の集光光学系は「微小な光放射部から放射される光束を、2以上の点状および/または1以上の線状に集光させる集光光学系」であって、第1および第2のコリメートレンズと、光束変換光学素子とを有する(請求項1)。
「第1のコリメートレンズ」は、微小な光放射部からの発散光束を、光軸に実質的に平行な平行光束にし得るように配置される。
「第2のコリメートレンズ」は、第1のコリメートレンズと同軸、即ち「光軸を合致」させて配置され、第1のコリメートレンズを透過した光束を集光させる。
「光束変換光学素子」は、第1のコリメートレンズと微小な光放射部との間に配置され、微小な光放射部からの発散光束を「第1、第2のコリメートレンズの光軸に交わる1以上の光束」とする光学機能を有する。
光束変換光学素子および第2のコリメートレンズのうち、少なくとも一方は、第1のコリメートレンズに対して上記光軸の方向において変位可能とされる。
以下、単に「光軸」というとき、この光軸は「第1および第2のコリメートレンズの光軸」を意味するものとする。また、光束変換光学素子についても、これを第1、第2のコリメートレンズと組合せた状態を想定して、上記光軸に合致する方向を「光束変換光学素子の光軸方向」とする。
付言すると、上記の如く、微小な光放射部と第1のコリメートレンズとの間に、光束変換光学素子が配置される。第1のコリメートレンズが「微小な光放射部からの発散光束を、光軸に実質的に平行な平行光束にし得るように配置」されるとは、光放射部と第1のコリメートレンズとの間に光束変換光学素子が無い場合には「光放射部からの発散光束を、光軸に実質的に平行な平行光束となし得る」ことを意味する。従って、第1のコリメートレンズは、微小な光放射部との位置関係においては「微小な光放射部が、物体側焦点となる光学位置(光束変換光学素子の介在を考慮した焦点位置)」に位置するように配置される。
微小な光放射部からの発散光束は、光束変換光学素子により「第1、第2のコリメートレンズの光軸に交わる1以上の光束」に変換される。「第1、第2のコリメートレンズの光軸に交わる光束」は1以上であるから、発散光束が、光束変換光学素子により「第1、第2のコリメートレンズの光軸に交わる単一の光束」となるようにすることも、「光軸に交わる2以上の光束」となるようにすることもできる。
「第1、第2のコリメートレンズの光軸に交わる単一の光束」は、光軸に直交する断面上の光束断面形状が「円形状あるいは楕円形状(光束変換光学素子が凹面を有する場合)」あるいは「円形もしくは楕円形のリング状(光束変換光学素子が凸面を有する場合)」であり、光束の外周面あるいは内周面が、円錐面もしくは楕円錐面をなすようにして、光束変換光学素子の物体側もしくは像側で、光軸に交わるように進行する光束である。このような光束は、第2のコリメートレンズの作用により、結像面上に「円形状もしくは楕円形状のリング状」に集光する。
なお、第1、第2のコリメータレンズは球面レンズでもよいが、一方または両方の面が非球面形状であるレンズであることが好ましい。
「第1、第2のコリメートレンズの光軸に交わる2以上の光束」は、光放射部からの発散光束が2以上に分離し、分離した個々の光束が、光束変換光学素子の物体側もしくは像側で、光軸に交わるように進行する光束である。このような2以上の光束は、第2のコリメートレンズの作用により結像面上に2以上の点状に集光する。
上記「結像面」は、光加工が行われるときには、被加工面もしくはその近傍に合致させられる。結像面を被加工面に合致させれば、非加工面上にエネルギ密度の高い「リング状の像」もしくは「複数の点状の像」を結像させることができる。また、被加工面と結像面とを意図的にずらして、被加工面を結像面の近傍に設定すれば、上記リング状もしくは点状の像はデフォーカスによりぼやけ、非加工面におけるエネルギの集中の度合いを調整することができる。
請求項1記載の集光光学系においては「光束変換光学素子を、第1のコリメートレンズに対して光軸の方向へ変位可能」としても良いし(請求項2)、「第2のコリメートレンズを、第1のコリメートレンズに対して光軸の方向へ変位可能」としてもよく(請求項3)、勿論「光束変換光学素子と第2のコリメートレンズとを共に、第1のコリメートレンズに対して光軸の方向へ独立に変位可能」としてもよい(請求項4)。
光束変換光学素子を、光放射部と第1のコリメートレンズ(これらの間隔は固定的である。)との間で光軸の方向へ変位させると、上記結像面上で「リング状の像の大きさ」を変化させ、あるいは「2以上の点状の像の間隔」を変化させることができる。
また、第1、第2のコリメートレンズの間隔を変化させると、結像面に入射する集光光束の「照射角の大きさ」を調整することができる。「照射角」については後述する。
光束変換光学素子の形態としては種々のものが可能である。まず、光放射部からの発散性の光束を「光軸に交わる2以上の光束に変換する」機能を持つものの場合について見ると、請求項5記載の光束変換光学素子のように「光軸に直交する面に対して傾く2以上の平面を物体側および/または像側に有し、光放射部からの発散光束を、第1、第2のコリメートレンズの光軸に交わる2以上の光束とする透明体」であることができる。
請求項5記載の集光光学系における「光束変換光学素子」は、光軸に直交する面に対して傾く2つの平面を、物体側および/または像側に有し、2つの平面のなす稜角が120度〜240度の範囲に設定されているものであることができる(請求項6)。この場合、光軸に直交する面に対して傾く2つの平面を「物体側および像側」にそれぞれ有する場合「物体側の2つの平面のなす稜線」と「像側の2つの平面のなす稜線」とは、互いに平行もしくは直交することができる(請求項7)。上記物体側の稜線と、像側の稜線とが、互いに平行である場合には、変換された光束は、互いに分離して光軸に交わる2光束であり、上記両稜線が直交する場合には、変換された光束は、互いに分離して光軸に交わる4光束である。
請求項5記載の集光光学系における光束変換光学素子はまた「光軸に対して60度〜120度の範囲の角度をもって傾いた3以上の平面を組合せた面を、物体側および/または像側に有するもの」であることができる(請求項8)。この場合における「光束変換光学素子の物体側および/または像側の3以上の平面の光軸に対する傾き」は同一であることができる(請求項9)が、これに限らず、上記3以上の平面の光軸に対する傾きが互いに異なっていても良い。
請求項1〜4の任意の1に記載の集光光学系における光束変換光学素子はまた「120度〜240度の範囲の頂角を有する円錐面もしくは楕円錐面を、物体側および/または像側に有する透明体」であることができる(請求項10)。この場合には、光束変換光学素子により変換された光束は、前述した「光軸に直交する断面上の光束断面形状が、円形状あるいは楕円形状、または円形もしくは楕円形のリング状であり、光束の外周面もしくは内周面が、円錐面もしくは楕円錐面をなすようにして、光束変換光学素子の物体側もしくは像側で、光軸に交わるように進行する光束」である。
請求項1〜4の任意の1に記載の集光光学系における光束変換光学素子はまた「光軸に直交する面に対して傾く2以上の球面もしくは2以上の非球面を物体側および/または像側に有し、光放射部からの発散光束を第1、第2のコリメートレンズに交わる2以上の光束とする透明体」であることができる(請求項11)。
請求項1〜4の任意の1に記載の集光光学系における光束変換光学素子は「光軸対称で、光軸を含む断面形状が曲線をなす面を、物体側および/または像側に有する透明体」であることもできる(請求項12)。
請求項1〜12の任意の1に記載の集光光学系における光束変換光学素子は「樹脂又はガラスを材料とする一体構造」であることも(請求項13)、「樹脂又はガラスを材料とする複数のピース部材を一体的に組合せた構成」であることもできる(請求項14)。
「複数のピース部材を一体的に組合せる」とは、複数のピース部材が全体として一体不可分となることを意味し、一体的に組合せる方法としては、接着による方法や、オプチカルコンタクト、あるいは「外形押さえ部材」による相互固定の方法を利用できる。
請求項1〜14の任意の1に記載の集光光学系における光束変換光学素子は「光軸の回わりの回転変位および/または光軸に直交する方向への直交変位」が可能であることが好ましい。
請求項1〜15の任意の1に記載の集光光学系は「第2のコリメートレンズから射出して、2以上の点状および/または1以上の線状に集光する集光部もしくは集光部近傍での光束の形状(光束断面形状や集光部での集光形状)や光強度分布を調整するための絞り手段」を有することができる(請求項16)。この「絞り手段」は光束変換光学素子の物体側に設けても良いし像側に設けてもよく、光束内の強度分布を調整する機能を有していても良い。
この発明の光加工装置は「微小な光放射部から光束を放射し、集光光学系により、所望の被加工面上に2以上の点状および/または1以上の線状に集光させて光加工を行う」ものであって、集光光学系として、請求項1〜16の任意の1に記載の集光光学系を用いることを特徴とする(請求項17)。光加工に用いられる光を放射する「微小な光放射部」は、導光路の端部であって、レーザ光源から導光路により導光した加工用光を上記端部から照射するものであることができる(請求項18)。
上記「導光路」としては、光ファイバを好適に用いることができるが、それ以外にもインテグレータや導波管、導波路などを用いることができ、これらの導光路の微小な射出端を光放射部とすることができる。
「微小な光放射部」は、LDやLED等の発光素子の発光部であることもできる(請求項19)。
請求項17〜19の任意の1に記載の光加工装置は「微小な光放射部が、コリメートレンズの光軸方向および/または上記光軸に直交する方向に位置調整可能な構成」であることができる(請求項20)。
請求項17〜20の任意の1に記載の光加工装置は、微小な光放射部と光束変換光学素子との間に、透明な平行平板を「光軸を含み互いに直交する3軸のうちの2軸の回りに揺動可能に」に設けた構成とすることができる(請求項21)。
請求項17〜21の任意の1に記載の光加工装置は、光加工として「樹脂構成物間の光溶接を行うもの」であり、一方の樹脂構成物に対して他方の樹脂構成物を押圧するとともに、溶着光としての集束光束を溶着部へ向けて導光する導光機能を有する押さえ手段を有することができる(請求項22)。相互に光溶着する樹脂構成物は例えば、後述する「樹脂製レンズと樹脂製の鏡筒」などである。
光加工装置による光加工としては、溶着や半田溶融、溶接・切断加工や、固着、密閉等の加工が可能である。
以上に説明したように、この発明による光加工装置は、この発明の集光光学系を用いることにより、光加工するための集光部を、2以上の点状に設定することも、1以上の線状に設定することも可能であり、点状の集光部の間隔や、線状の集光部の大きさも調整可能にでき、集光光束の「照射角の大きさ」の調整も可能にできる。
以下、発明の実施の形態を説明する。
図1は光加工装置の実施の1形態を説明するための図である。
図1(a)において、符号LD1、LD2、・・LDNは複数個(N個)の半導体レーザを示す。これら複数個の半導体レーザLD1〜LDNからのレーザ光は、ビーム合成手段100に入射し、ビーム合成手段100により合成されてカップリング光CPとなって、単一の光ファイバFの入射端FIにカップリングし、光ファイバF内を伝搬して光ファイバFの射出端FOから射出する。
具体的には、半導体レーザLD1〜LDNとしては、波長:970nm帯で高出力の半導体レーザを用いることができ、光ファイバFとしては、コア径:φ100μmでNA:0.22の石英系マルチモードファイバを用いることができる。また、独立したN個の半導体レーザLD1〜LDNに代えて、半導体レーザアレイ(例えば、上記波長:970nm帯の高出力の発光部がアレイ配列したもの)を好適に用いることができる。
この例では、光ファイバFが「導光路」であり、光ファイバFの射出端FOが「微小な光放射部」である。
図1において、符号CL1は第1のコリメートレンズ、符号CL2は第2のコリメートレンズ、符号FTは光束変換光学素子、符号IPは結像面を示す。結像面IPは光加工時には、被加工面に合致する位置もしくは近傍の位置に設定される。
第1、第2のコリメートレンズCL1、CL2は、図1においてはそれぞれ単レンズとして描かれているが、これに限らず、2枚以上のレンズで構成しても良い。また、第1、第2のコリメートレンズCL1、CL2は同一のもの(同一の焦点距離を有するもの。)であっても良いし「焦点距離の異なるもの」であってもよい。また、これらコリメートレンズCL1、CL2のレンズ面は球面でもよいが、一方または両方の面が非球面形状であるレンズであることが好ましい。
光束変換光学素子FTは後述するような種々の形態が可能であるが、ここでは、説明の具体性のため、図2に示すようなものを想定する。
図2に示す光束変換光学素子FTは、入射側の面(図2において下方の面)が平面であり、射出側の面(図2で上方の面)は、光軸に対して対称的に傾いた2つの平面PL1、PL2を「屋根型に組合せた形状」となっている。
図1(a)に示すように、光ファイバFの微小な光放射部(射出端面)FOは、光束変換光学素子FTを介して、第1のコリメートレンズCL1の物体側焦点位置に位置し、光放射部FOから放射される発散性の光束は、まず、光束変換光学素子FTに入射し、同素子の作用により、コリメートレンズCL1、CL2の光軸に交わる2光束に変換されて第1のコリメートレンズCL1に入射し、同コリメートレンズCL1の作用により「互いに光軸に近づくような2つの平行光束」となる。
これら2つの平行光束は第2のコリメートレンズCL2により2本の集光光束に変換され、結像面IP上の2点P1、P2に点状に集光する。即ち、集光点P1、P2には、光放射部の2つの像が点状に結像する。これら2つの集光点P1、P2の間隔を図の如く、集光点間隔:DPとする。また、図1(a)に符号βで示すのは第2のコリメートレンズCL2により集光する「2光束の照射角」を表している。
変位手段300は、この例において、光束変換光学素子FTと第2のコリメートレンズCL2とを、第1のコリメートレンズCL1に対して、光軸方向に変位させる機能を有している。変位手段300としては、ズームレンズ等においてレンズ群を変位させる機構として従来から知られているものを適宜に用いることができる。
変位手段300は手動によるものでも電動によるものでもよく、図示されないマイクロコンピュータ等の制御手段により「変位をプログラム制御する」ように構成することもできることは言うまでもない。また、変位手段300による光束変換光学素子FTの変位と、第2のコリメートレンズCL2の変位とは独立に行われる。
なお、変位手段300のうちの少なくとも駆動機構と、第1、第2のコリメートレンズCL1、CL2、光束変換光学素子FTとは、適宜のケーシング内に収納されることは言うまでもない。
図1(b)は、図1(a)の状態において、光束変換光学素子FTを光軸方向において光放射部FOに近づくように変位させた状態を示している。このように光束変換光学素子FTを第1のコリメートレンズCL1から遠ざけると、2つの集光点P1、P2の集光点間隔:DPが、図1(a)の状態に対して小さくなる。即ち、第1のコリメートレンズCL1と光束変換光学素子FTとの間隔を調整することにより、集光点間隔:DPを調整することができる。
図1(c)は、図1(a)の状態において、第2のコリメートレンズCL2を第1のコリメートレンズCL1に近づけるように変位させた状態(これに伴い、結像面IPも第1のコリメートレンズ側へ移動している。)を示している。
このように第2のコリメートレンズCL2を第1のコリメートレンズCL1に近づけると、図1(c)に示すように、集光点間隔:DPは、図1(a)の場合と同じであるが、
第2のコリメートレンズCL2により集光する「2光束の照射角:β」は、図1(a)の場合よりも小さくなっている。図1(c)において、照射角は小さいため、符号:βは図示されていない。照射角:βは第2のコリメートレンズCL2の作用で集光する光束の、光束外周部が光軸に対してなす角である。
即ち、第1、第2のコリメートレンズCL1、CL2の間隔を調整することにより、集光する照射角:βを調整することができる。
従って、光束変換光学素子FTおよび/または第2のコリメートレンズCL2の変位を独立に組合せることにより、集光点間隔:DPおよび/または照射角:βの大きさを任意に調整することができる。
勿論、図1の実施の形態の変形例として、光束変換光学素子FTのみ、または第2のコリメートレンズCL2のみを変位可能とし、集光点間隔:DPまたは照射角:βのみを調整するようにしてもよい。
図1に示す光加工装置による光加工として「溶着」の場合を想定し、具体例として、図3に示すようなレンズLNを鏡筒400に光溶着する場合を説明する。
レンズLNは樹脂レンズであって、図3(a)に示すように鏡筒400の「受け部」に落とし込まれ、レンズ周辺の平面状部分と鏡筒400の受け部の底面部とが密接して溶着面(図1における結像面IP)401となる。
図3(b)は、図3(a)の状態をレンズLNの光軸方向から見た状態であり、最内部の「破線の円」はレンズ面LN1の輪郭、その外側の円はレンズ面LN2の輪郭であり、符号401は溶着面である。
図3(b)における符号P11〜P14は「溶着部(溶着スポット)」を示している。即ち、レンズLNは4つの溶着部P11〜P14において鏡筒400に光溶着される。レンズLNは勿論、レーザ光波長の光を透過させるが、鏡筒400は「レーザ光を吸収する樹脂」で構成されている。このような「加工用のレーザ光を吸収する樹脂」は、黒色等の有色樹脂や「黒色等に着色された樹脂」であることができるが、加工用のレーザ光を吸収しやすい色の塗料を「レーザ光の波長の光を透過させる樹脂の表面に塗布した構成」としてもよい。
溶着用光を溶着部に集光すると、集光したレーザ光の光エネルギが鏡筒400の溶着部に吸収され、鏡筒400を局部的に発熱させて溶解させる。発熱した熱はまた、樹脂製のレンズLNも溶解させ、溶解した鏡筒部分とレンズ部分とが相融して、相互に強固に溶着する。
図1の光加工装置では、点状の集光点は2個(P1、P2)であるから、図1の光加工装置で、上記溶着ポイントP11〜P14を溶着するのであれば、2つの集光点P1、P2の集光点間隔:DPが、溶着点P11、P12の間隔に等しくなるように、光束変換光学素子FTの位置を調整して、図4(a)に示すように「図3の2つの溶着点P11、P12」に光を集光させて溶着を行い、その後、鏡筒400と光加工装置の位置関係を、光軸の回りに相対的に90度回転させ、2つの集光点が「図3の溶着点P13、P14」に合致するようにして溶着を行えば良い。
4つの溶着点P11〜P14を順次に溶着する場合だと4回の溶着工程を必要とするが、2点ずつの溶着を行うことにより2回の溶着工程ですみ、溶着の作業効率が向上する。
図4(b)は、レンズLNを溶着される鏡筒400Aの「筒長が大きい場合」の溶着状態を示している。図4(b)のように、レンズLNが鏡筒400Aの「深い部分」に溶着される場合、図4(a)のような溶着状態であると、第2のコリメートレンズCL2により集光する2光束の照射角が大きいため、集光光束の一部が鏡筒400Aに「蹴られ」てしまい、溶着ポイントに有効に光エネルギを集中させることができない。
このような場合、図4(b)に示すように、第2のコリメートレンズCL2を第1のコリメートレンズCL1に近づけることにより、図1(c)に即して説明したように、収束点間隔:DPを保ったまま、照射角を小さくして、鏡筒による光束の「蹴られ」をなくすことによりレンズLNを鏡筒400Aに良好に溶着することができる。
以下、光束変換光学素子を説明する。
図2に示した光束変換光学素子FTは上に説明したような機能を持ち、光軸方向の一方の側が平面PL1、PL2の屋根型の組合せで、他方の側が平面である。この場合、平面PL1、PL2の稜角:θは120度〜240度の囲が適当である。平面PL1、PL2は「稜をなして組合せられる」ので稜角:180度はありえない。稜角:θが180度より小さければ平面PL1、PL2は図2のように凸をなし、稜角:θが180度より多きければ平面PL1、PL2は「凹」をなす。このように、平面PL1、PL2が凹をなすように組合せられることも可能である。
図5(a)に示す光束変換光学素子FT1は、光軸方向の両側(物体側と像側)ともに「2つの平面を屋根型に組合せたもの」であり、光軸方向の一方の側で稜角:θ1、他方の側で稜角:θ2である。これら稜角:θ1、θ2も120度〜240度の範囲が好適である。
図5(a)の光束変換光学素子FT1では光軸方向の両側における「2つの平面のなす稜線」は互いに平行である。この場合、形成される集光点は2つであり、図5(b)に示すように集光点P1、P2は「稜線に直交する方向において光軸に対称」に形成される。集光点P1、P2の間隔は、稜角:θ1、θ2にも依存する。
図6(a)に示す光束変換光学素子FT2は、光軸方向の両側とも「2つの平面を屋根型に組合せたもの」であるが、この例では、光軸方向の両側における2つの平面のなす稜線は互いに直交している。光軸方向の各側における稜角:θ1、θ2は120度〜240度の範囲が好適である。
このような光束変換光学素子FT2を用いるときの集光点は4個であり、4個の集光点P1〜P4は図6(b)に示すように、それぞれの稜線に直交する位置に、光軸に関してP1とP2、P3とP4がそれぞれ対称に形成される。稜角:θ1および/またはθ2を調整することにより、集光点P1とP2の集光点間隔、集光点P3、P4の間の集光点間隔を調整できる。この場合、光束変換光学素子を光軸方向に変位させると、集光点P1〜P4は「配列パターンを保った状態で相似的に変位」する。
図6(c)〜(e)に、4つの集光点を形成できる光束変換光学素子の例を3例示す。これらの光束変換光学素子FT3〜FT5は、何れも4つの平面を「正4角錐状」に組合せたものであり、その外周形状が異なるのみである。図6(c)に示す光束変換光学素子FT3では外周形状が正方形形状であり、組合せられた4つの平面の稜線は光軸方向から見て(即ち、光軸に直交する平面に射影すると)外周形状の対角線をなす。
図6(d)に示す光束変換光学素子FT4では外周形状が円形状であり、組合せられた4つの平面の稜線は光軸方向から見て外周形状の直径をなす。図6(e)に示す光束変換光学素子TF5は外周形状が正方形であるが、組合せられた4つの平面の稜線は光軸方向から見て外周形状の各辺に平行である。
これら、光束変換光学素子FT3〜FT5は、4つの平面が正4角錐状に組合せられているので、形成される4つの集光点は「正方形状のパターン」をなす。
このように、光束変換光学素子が、光軸方向の片側もしくは両側に「光軸に直交する平面に対して傾く複数の平面」を組合せた形状のものである場合「各平面の光軸に直交する面に対する傾き」により、形成される複数の集光点の配列パターンが定まる。
光束変換光学素子の光軸方向の片側にのみ「n角錐状の面」が形成されている場合であれば、集光点はn個形成され、これらn個の集光点は同一円周上に配列する。
光束変換光学素子において組合せられる平面の「光軸に直交する平面に対する傾き」は、上に説明した各例では同一であるが、上記傾きは必ずしも同一である必要はなく、形成される複数個の集光点が「所望の配列パターン」をなすように設定することができる。
光学変換光学素子において、光束変換のために組合せる複数の平面の「光軸に直交する面に対する傾き角」は、集光光束の集光点での収差を抑えるために、各平面が光軸に対して成す角は60度〜120度の範囲(光軸に直交する平面に対しての傾きで±30度の範囲)が好ましい。
図7(a)に示す光束変換光学素子FT6では、光軸方向の片側において4つの平面が組合せられているが、これら4つの平面は「傾斜方向が同一で、傾斜角度がそれぞれ異なる」ように組合せられており、この場合の集光点P1〜P4は、図7(b)に示すように直線状に配列する。このとき集光点間の間隔は各平面の傾き角により調整可能である。
上に説明した光束変換光学素子FT、FT1〜FT6は、樹脂やガラス等による「所定の波長(光加工に用いられる波長領域の光)が透過する透明体」であり、成形、研磨、切削等により「組合せられる複数の平面」が1部材として一体に形成されることで、継ぎ目がなく光量ロスが少ない素子として実現できる。
しかし、光束変換光学素子は、1部材として一体に形成される必要は必ずしもなく、請求項14記載のように、樹脂又はガラスを材料とする「複数のピース部材」を一体的に組合せた構成とすることもできる。例えば、図6に示した光束変換光学素子FT3〜FT5の場合、光束変換光学素子を「光軸と各稜線とを含む平面」で切断すれば「4角錐の1/4の形状のピース部材」が得られる。このようなピース部材を独立に製造しておき、互いに組合せて一体とすることによっても、所望の光束変換光学素子を得ることができる。
ピース部材の組合せ方法として、接着による方法で組合せることが考えられるが、接着剤によっては透過光の波長やパワーにより、接着面の劣化や発煙等の悪影響が懸念される場合もあり、そのような場合には、オプチカルコンタクトまたは外形押さえにより組合せればよい。
上に説明した光束変換光学素子では、互いに組合せられる「光軸に直交する平面に対して傾いた複数の平面」の傾斜角によっては、各面で分割された光束が「良好に集光」しない場合がある。このような場合、請求項11に記載のように「光軸に直交する面に対して傾く2以上の面」を、球面もしくは非球面とすることにより「光束を良好に集光」させることができる。
図8(a)に示す光束変換光学素子FT7は、光軸方向の片側に円錐面が形成された形状である。容易に理解されるように、このような光束変換光学素子FT7を用いれば、集光光学系の結像面に集光するパターンは、図8(b)に示すような「円形のリング状」のパターンPTである。円錐面に代えて「楕円錐面」を用いれば、楕円形のリング状の集光パターンを得ることができる。即ち、このような光束変換光学素子を用いることにより、微小な光放射部から放射される光束を「線状に集光」させることもできるのである。
光束変換光学素子FT7の円錐面形状は、図8(c)に示すように、光軸からの距離:rの位置における光軸方向のサグ量:h、傾斜をαとして、
h=α×r ただし r=√(X+Y) (1)
(X、Yは光軸に直交する平面の、光軸を原点とする2次元直交座標)
で表すことができる。傾斜:αは、傾斜角をθとして「α=tanθ」である。リング状に形成され集光部における収差を抑えるために、円錐断面の頂角(180−2θ)は120度〜240度の範囲が好ましい。
光束変換光学素子FT7のように「円錐面を持った光束変換光学素子」材は、樹脂やガラス等による「所定の波長(光加工に用いられる波長領域の光)が透過する透明体」であり、成形、研磨、切削等で作製することができる。
図8(c)のような円錐面は「直線状の円錐断面」を有し上記の式(1)で表されるが、傾斜:αによっては、リング状の集光部で収差が発生して「リングが太く」なる場合がある。集光部でリングを「よりきれいに細く(即ち光エネルギの集中を高めて)形成」するには、図8(d)に断面形状を示す光束変換光学素子FT8のように、光軸対称で、光軸を含む断面形状が曲線をなす面を、物体側および/または像側に有する透明体で構成し、その曲面形状の調整により収差を補正することができる(請求項12)。
このような曲面形状は、図8(d)のr、hを用いて、周知の非球面式:
h=(r/R)/[1+√{1−(1+k)(r/R)
+A・r+A・r+・・A・r・・ (2)
で現されるような断面形状において、曲率半径:R、コーニック定数:k、非球面係数:Aを調整することにより実現できる。
上に説明したような各種の光束変換光学素子においては、機械的な誤差等により、光束の変換が均等に行われず、例えば、光束を複数光束に分割するような場合(光束変換光学素子FT、FT1〜FT5、FT6)、分割された各光束に光エネルギが均等に割り振られないことがあり得る。この問題を解消するには、請求項15記載のように、光束変換光学素子を「光軸の回りの回転変位および/または光軸に直交する方向への直交変位」を可能にし、これらの変位を行うことにより、分割集光される各光束の光エネルギのバランス調整が可能となる。
また、図1に即して説明した光加工装置において、上に説明した各種の光束変換光学素子を用いる場合、微小な光放射部である光ファイバの射出端FOから射出する光束の光軸が、光ファイバの取付け誤差や射出端面の傾きのため、光束変換光学素子の光軸と一致しない場合がある。このような光軸の不一致があると、光束変換光学素子により変換された光束に光エネルギが均等に配分されず、集光点相互で光エネルギが不均一になり、あるいはリング状の集光部で光エネルギが均一にならないなどの問題が生じる。
この問題は、光軸をZ方向としたとき、光ファイバの射出端または光束変換光学素子をXY平面上で変位調整することにより有効に軽減させることができる。光ファイバの射出端は光軸方向へ調整可能とすることもでき、この調整により、第1のコリメートレンズとの位置関係を良好に設定できる。
しかしながら、上記変位調整に高い精度を必要とする場合、高精度の変位調整を実現するのに「高分解能のステージ」等が必要になり、光学ユニットが高価になる。
この場合、容易に集光部もしくは集光点相互の「光量ムラ」を調整する方法として、図9(a)、(b)に示すように、光ファイバの射出端FOと光束変換光学素子FTとの間に透明な平行平板900を設け、これを「光軸を含み互いに直交する3軸のうちの2軸の回りに揺動可能」とし、平行平板900の揺動により光束変換光学素子FTへの入射光束の光軸を、光軸に直交する方向へ2次元的に調整する方法がある。
図9(a)は、平行平板900を、光軸の周りと「図面に直交する軸の回り」とに揺動可能とする場合であり、同図(b)は、平行平板900を、図面に直交する軸の回りと、図面内にあってこの軸と光軸とに直交する軸の回りとに揺動可能とする場合である。
上に説明した光束変換光学素子や光ファイバの射出端FOの「光軸直交方向への変位や回転変位」や、平行平板900の揺動は、変位手段300により行うように構成できる。
ところで、上に説明した光束変換光学素子FT2〜FT6等では、変換された光束は複数個であり、これらの光束が集光するとき、集光途上における光束断面形状は「扇形や四角形などの尖った形状」となり、集光位置で光束が良好に集光しない場合や、集光位置からデフォーカスした位置では「スポットの形状に集光途上の光束断面形状が反映されて良好な集光形状が得られない」ことがある。
例えば「被加工面を結像面と合致させ、集光光束を被加工面上に集光させた場合、光エネルギの集中が強すぎて被加工面が損傷する」ような場合には、被加工面を結像面から意図的にずらして集光光束のデフォーカス状態で光加工を行う場合があり、このような場合「スポット形状に集光途上の光束断面形状が反映」するのが好ましくない場合もある。
また、光束変換光学素子FT7やFT8では、集光部の形状はリング状となるが、光加工に利用する上でリング状ではなく「リングの一部」を利用したい場合などがある。
このような問題に対処するには、集光光束の「所望の集光形状」を得るため、光束変換光学素子の「光軸上の前または後ろ」の位置に適当な「絞り手段」を配置すれば良い。
例えば、光束変換光学素子がFT3〜FT5であるような場合、図10(a)に示すような楕円形状の開口部(あるいは円形状の開口部)を持つ絞りS1を、その開口部が「4分割された各光束に対応する」ように配置することにより、集光位置のみならず、デフォーカスした位置においても、略楕円形または略円形の集光形状を得ることが出来る。
また、絞りの効果だけでなく、集光光束の集光位置からデフォーカスした位置で「所望の強度分布」を得るため、光束変換光学素子の光軸上の前または後に、分割された光束に対応するように「遮光フィルタやNDフィルタ、拡散板」など「変換された各光束の強度分布を調整する手段」を配置することで「所望の強度分布を持った集光光束」を実現することができる。
たとえば、図10(b)に示すように変換された各光束(4分割されている。)に対応した「ドーナツ状の遮光フィルタ」を用いると、このフィルタを透過する「楕円の光束の中央部分の光束」が減光され、集光位置からデフォーカスした位置での集光光束の「中心部の光量が抑えられた強度分布」を実現できる。
また、絞りとして、図11(a)、(b)に示すような「光束変換光学素子FT7やFT8の光軸に一致した中心から放射状の開口部を持つ絞り」を用いることにより、リング状の集光光束の一部を遮光し、図12(a)に示すような「リングを分割した集光部」を持つ集光形状を実現できる。また、図11(c)に示すような、光束変換光学素子FT7やFT8の光軸と中心を一致させた「扇状の遮光部」を有する絞りを用いることにより、図12(b)に示す如き「リングの一部のみの集光形状」を得ることが出来る。
また、絞りの効果だけでなく、集光位置からデフォーカスした際に「集光光束の所望の強度分布」を得るため、光束変換光学素子の光軸上の前または後に「変換された光束に対応する遮光フィルタやNDフィルタ、拡散板」などを配置することにより、分割光束の強度分布を調整し、所望の強度分布を持った強度分布を被加工面上に実現できる。
たとえば、図13に示すような「光束変換光学素子の光軸に中心を合致させた同心円状の減光フィルタ」により、透過する光束の中央部分の光束を減光し、結像面からデフォーカスした位置で「光束変換光学素子の中央部を通る光束の光量が抑えられた強度分布」を実現できる。
図14を参照して、請求項21記載の光加工装置の実施の1形態を説明する。
図14(a)、(b)に示す光加工装置は、集光光学系として、図9に示した構成のものを用いている。また、光束変換光学素子FT7は、図8に即して説明した円錐面を光入射側に有するものである。符号CL1およびCL2は第1および第2のコリメートレンズ、符号900は透明な平行平板を示す。光束変換光学素子FT7、第1および第2のコリメートレンズCL1、CL2は、第1のケーシングC1内に配設されており、第2のコリメートレンズCL2、光束変換光学素子FT7、平行平板900は、図示されない変位手段により上記各種の変位を行い得るようになっている。
第1のケーシングC1の図における上部には、光ファイバFがホルダHLに保持され、その射出端FOが集光光学系の光軸上で、第1のコリメートレンズCL1の焦点位置(光束変換光学素子FT7と平行平板900を介した光学的な焦点位置)に位置するようにしてケーシングC1に一体化されている。
図14(a)において、ケーシングC1の図における下部側には、第2のケーシングC2がケーシングC1と別体で接続され、ケーシングC2の光束射出側端部には、光加工対象物500に適した押さえ手段600が設けられている。
この光加工装置が行う光加工は「溶着」であり、光加工対象物500は、図3に示したタイプのものであり、樹脂製の鏡筒に樹脂製のレンズが保持されており、保持されたレンズが鏡筒に溶着される。溶着の態様は図4に即して説明した如くであり、溶着面が被加工面である。
この実施の形態では、円錐面を有する光束変換光学素子FT7が用いられるため、集光部形状はリング状であり、図3に即して言えば、溶着面401において、レンズLNと鏡筒400がリング状に溶着される。
光による溶着が行われるときには、図1の状態から、ケーシングC1がケーシングC2と一体となって図の下方であるZ方向へ降下され、図14(b)に示すような溶着態勢になる。
押さえ手段600は、溶着光に対して透明な材料により、図14(c)に示すような断面形状をしており、下方の部分601は中空シリンダ状で内壁はテーパを付けられており、下端部602はリング状に形成され、この下端部602が図14(b)に示すように、一方の樹脂構成物であるレンズを他方の樹脂構成物である鏡筒に対して押圧する。
押さえ手段600は、図14(b)に示すように、溶着が行われるときには第2のコリメートレンズCL2から射出する溶着用の集光光束(光軸に直交する面内での光束断面形状が円形状である。)を溶着部へ向けて導光する導光手段の機能をも有する。
具体的に説明すると、図14に図示されない光源側は、波長:970nm帯の高出力LDアレイからの光が合成されて、コア径:φ=100μmでNA:0.22の「石英系でマルチモード」の光ファイバFへ入射され、この光ファイバFの射出端FOから溶着用の光として射出する。
第1および第2のコリメートレンズCL1およびCL2は同一種のレンズで、焦点距離:f=37.35mm、有効径:φ=18mmの「ガラスモールドで成形された非球面の単レンズ」である。
光束変換光学素子FT7は、BSL7相当のガラス材質によるもので、中心厚み:6mm、円錐面は研磨により形成され、円錐面の形状は、コリメートレンズCL1からCL2に向かう方向を+Z軸方向とし、このZ方向のサグ:hと光軸からの距離:r、傾斜:αにより、前述の式(1):
h=α×r ただし r=√(x+Y
で表され、傾斜:αは「−0.30≦α≦−0.29」の範囲にある。
ケーシングC1内には、前述の如く、光ファイバFの射出端FO、光束変換光学素子FT7、コリメートレンズCL1、CL2を「光軸が一致する」よう配置し、コリメートレンズCL1は「光ファイバFの射出端FOが焦点の位置になるように固定」される。射出端FOとコリメートレンズCL1の間に配置される光束変換光学素子FT7は、コリメートレンズCL1との間隔が1mm〜20mmの範囲で変位可能である。
この範囲での光束変換光学素子FT7を変位させることにより、溶着面上の「リング状の集光部」のリング径(直径):Φが4.0mm〜9.7mmの間で調整可能である。また、コリメートレンズCL2は、コリメートレンズCL1との間隔が25mm〜50mmの範囲で変位可能である。この変位により、リング状の光束断面形状を持つ集光光束の光束外周面の光軸に対する傾きである照射角(図1(a)の「β」)を「最大5度の範囲」で調整することができ、これにより、光外周面の大きさを変化させることができる。
平行平板900は、BSL7相当のガラス材料で形成され、厚み:5mm〜10mm程度で「リング状の集光部における光エネルギの不均一」を調整可能である。照射エネルギの調整は、光ファイバの射出端FOを保持するホルダHLをXY方向に変位させることでも可能である。
ケーシングC2は、溶着部へ集光される集光光束に対して、押さえ手段600が適切な位置になるように、押さえ手段600をXYZ方向に変位させ得る機構を有する。押さえ手段600をXY方向に変位させることで、押さえ手段600の中心軸にケーシングC1からのリング状の集光光束の光軸を合わせ、押さえ手段600をZ方向に変位させることで、集光光束の集光位置からのデフォーカス位置を定め、溶着物体を考慮した最適な溶着位置を調整することができる。
押さえ手段600の材料は、溶着用光が透過できるものであれば良く、樹脂製でも良いが、上記の如く「溶着を繰り返す場合にキズが付きにくく、また溶着の際に発生する熱に対して耐熱性を有するBSL7などのガラス材」が好ましい。
光加工対象物500は、樹脂製の鏡筒に樹脂製のレンズLNが保持された状態のものであるが、押さえ手段600の外筒部と樹脂製の鏡筒の内筒部がおよそ嵌まり合って位置決めされ、レンズ有効径に干渉しない形状にする。
上記の如き光加工装置により、レンズの溶着を図14(b)のような溶着態勢で行うことができ、押さえ手段600と光加工対象物500が嵌合しあうことで、正確に溶着を行うことができる。また、光加工対象物によっては、溶着部を押さえ手段600により圧着しながら溶着光を抑え手段600で導光しつつ溶着を行うことができ、溶着用光を遮ることなく上下から力量をかけながら溶着を行うことが出来る。
なお、図14において、光加工対象物の一方である鏡筒の上部が、レンズの上面よりもさらに上方へ突出しているような場合、鏡筒の内周面と、押さえ部材600の「下方の部分601の外周面」とが当接しあうように上記部分601の外周径を設定すると、押さえ部材600でレンズLNを押さえるのみで、レンズLNと鏡筒との溶着位置を精度良く位置だしすることができる。
また、上に説明した実施の各形態において、光加工における光エネルギの有効な利用のために、光束変換光学素子や第1、第2のコリメート等、光源と被加工面との間にある光学素子の光学面の1以上に「反射防止膜(ARコート)」を形成することが好ましい。
光加工装置の実施の1形態を説明するための図である。 光束変換光学素子の1例を説明するための図である。 光加工の1例として、樹脂製のレンズを樹脂製の鏡筒に溶着する場合を説明するための図である。 図1の実施の形態による溶着を説明するための図である。 光束変換光学素子の別の例を説明するための図である。 光束変換光学素子の他の例を説明するための図である。 光束変換光学素子の他の例を説明するための図である。 光束変換光学素子の他の例を説明するための図である。 請求項20記載の光加工装置の実施の1形態を説明するための図である。 絞りの形態を説明するための図である。 絞りの別の形態を説明するための図である。 図11の絞りを用いた場合の集光部形状を説明するための図である。 絞りの他の形態を説明するための図である。 請求項21記載の光加工装置の実施の1形態を説明するための図である。
符号の説明
FO 光ファイバの射出端(微小な光放射部)
FT 光束変換光学素子
CL1 第1のコリメートレンズ
CL2 第2のコリメートレンズ
IP 結像面
P1、P2 集光点

Claims (22)

  1. 微小な光放射部から放射される光束を、2以上の点状および/または1以上の線状に集光させる集光光学系であって、
    微小な光放射部からの発散光束を、光軸に実質的に平行な平行光束とし得るように配置される第1のコリメートレンズと、
    この第1のコリメートレンズと同軸で、上記第1のコリメートレンズを透過した光束を集光させる第2のコリメートレンズと、
    上記第1のコリメートレンズと上記微小な光放射部との間に配置されて、上記光放射部からの発散光束を上記第1、第2のコリメートレンズの光軸に交わる1以上の光束とする光束変換光学素子とを有し、
    上記光束変換光学素子および第2のコリメートレンズのうち少なくとも一方を、上記第1のコリメートレンズに対して、上記光軸の方向に変位可能としとしたことを特徴とする集光光学系。
  2. 請求項1記載の集光光学系において、
    光束変換光学素子を、第1のコリメートレンズに対して光軸の方向へ変位可能としたことを特徴とする集光光学系。
  3. 請求項1記載の集光光学系において、
    第2のコリメートレンズを、第1のコリメートレンズに対して光軸の方向へ変位可能としたことを特徴とする集光光学系。
  4. 請求項1記載の集光光学系において、
    光束変換光学素子と第2のコリメートレンズとを共に、第1のコリメートレンズに対して光軸の方向へ独立に変位可能としたことを特徴とする集光光学系。
  5. 請求項1〜4の任意の1に記載の集光光学系において、
    光束変換光学素子が、光軸に直交する面に対して傾く2以上の平面を物体側および/または像側に有し、光放射部からの発散光束を第1、第2のコリメートレンズの光軸に交わる2以上の光束とする透明体であることを特徴とする集光光学系。
  6. 請求項5記載の集光光学系において、
    光束変換光学素子が、光軸に直交する面に対して傾く2つの平面を、物体側および/または像側に有し、上記2つの平面のなす稜角が120度〜240度の範囲に設定されていることを特徴とする集光光学系。
  7. 請求項6記載の集光光学系において、
    光束変換光学素子が、光軸に直交する面に対して傾く2つの平面を、物体側および像側にそれぞれ有し、物体側の2つの平面の稜線と、像側の2つの平面の稜線とが、互いに平行もしくは直交することを特徴とする集光光学系。
  8. 請求項5記載の集光光学系において、
    光束変換光学素子が、光軸に対して、60度〜120度の範囲の角度をもって傾いた3以上の平面を組合せた面を、物体側および/または像側に有することを特徴とする集光光学系。
  9. 請求項8記載の集光光学系において、
    光束変換光学素子の物体側および/または像側の3以上の平面の、光軸に対する傾きが同一であることを特徴とする集光光学系。
  10. 請求項1〜4の任意の1に記載の集光光学系において、
    光束変換光学素子が、120度〜240度の範囲の頂角を有する円錐面もしくは楕円錐面を、物体側および/または像側に有する透明体であることを特徴とする集光光学系。
  11. 請求項1〜4の任意の1に記載の集光光学系において、
    光束変換光学素子が、光軸に直交する面に対して傾く2以上の球面もしくは2以上の非球面を物体側および/または像側に有し、光放射部からの発散光束を、第1、第2のコリメートレンズの光軸に交わる2以上の光束とする透明体であることを特徴とする集光光学系。
  12. 請求項1〜4の任意の1に記載の集光光学系において、
    光束変換光学素子が、光軸対称で、光軸を含む断面形状が曲線をなす面を、物体側および/または像側に有する透明体であることを特徴とする集光光学系。
  13. 請求項1〜12の任意の1に記載の集光光学系において、
    光束変換光学素子が樹脂又はガラスを材料とする一体構造であることを特徴とする集光光学系。
  14. 請求項1〜12の任意の1に記載の集光光学系において、
    光束変換光学素子が樹脂又はガラスを材料とする複数のピース部材を一体的に組合せた構成であることを特徴とする集光光学系。
  15. 請求項1〜14の任意の1に記載の集光光学系において、
    光束変換光学素子の、光軸の回りの回転変位および/または光軸に直交する方向への直交変位が可能であることを特徴とする集光光学系。
  16. 請求項1〜15の任意の1に記載の集光光学系において、
    第2のコリメートレンズから射出して2以上の点状および/または1以上の線状に集光する集光部もしくはその近傍での光束の形状や光強度分布を調整するための絞り手段を有することを特徴とする集光光学系。
  17. 微小な光放射部から光束を放射し、集光光学系により、所望の被加工面上に2以上の点状および/または1以上の線状に集光させて光加工を行う光加工装置であって、
    集光光学系として、請求項1〜16の任意の1に記載の集光光学系を用いることを特徴とする光加工装置。
  18. 請求項17記載の光加工装置において、
    微小な光放射部が導光路の端部であって、レーザ光源から上記導光路により導光した加工用光を上記端部から放射することを特徴とする光加工装置。
  19. 請求項17記載の光加工装置において、
    微小な光放射部がLDやLED等の発光素子の発光部であることを特徴とする光加工装置。
  20. 請求項17〜19の任意の1に記載の光加工装置において、
    微小な光放射部が、コリメートレンズの光軸方向および/または光軸直交方向に位置調整可能であることを特徴とする光加工装置。
  21. 請求項17〜20の任意の1に記載の光加工装置において、
    微小な光放射部と光束変換光学素子との間に、透明な平行平板を、光軸を含み互いに直交する3軸のうちの2軸の回りに揺動可能に設けたことを特徴とする光加工装置。
  22. 請求項17〜21の任意の1に記載の光加工装置において、
    光加工として、樹脂構成物間の光溶接を行うものであり、一方の樹脂構成物に対して他方の樹脂構成物を押圧するとともに、溶着光としての集束光束を溶着部へ向けて導光する導光機能を有する押さえ手段を有することを特徴とする光加工装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013072796A (ja) * 2011-09-28 2013-04-22 Disco Abrasive Syst Ltd 高さ位置検出装置およびレーザー加工機
JP2015521545A (ja) * 2012-06-22 2015-07-30 アイピージー フォトニクス コーポレーション レーザー掘削方法及び形状化された孔を生成するシステム
JP2016147293A (ja) * 2015-02-13 2016-08-18 株式会社アマダミヤチ レーザ加工装置および出射ユニット
WO2017115406A1 (ja) 2015-12-28 2017-07-06 Dmg森精機株式会社 付加加工用ヘッド、加工機械および加工方法
JPWO2017195691A1 (ja) * 2016-05-13 2018-10-18 三菱電機株式会社 光学レンズおよび光学レンズの製造方法
JP2021085940A (ja) * 2019-11-26 2021-06-03 株式会社フジクラ ビームシェイパ、加工装置、及びビームシェイピング方法
US11135772B2 (en) 2017-05-16 2021-10-05 Dmg Mori Co., Ltd. Additive-manufacturing head and manufacturing machine
CN113825586A (zh) * 2019-05-14 2021-12-21 通快激光有限责任公司 产生两个平行激光焦线的光学***和所属的激光加工方法

Citations (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61259891A (ja) * 1985-05-15 1986-11-18 Hitachi Ltd レ−ザ加工装置
JPH02297986A (ja) * 1989-05-11 1990-12-10 Hamamatsu Photonics Kk ビームの均一化方法並びに均一化したビームの伝送装置および照射装置
JPH055283U (ja) * 1991-07-01 1993-01-26 ミヤチテクノス株式会社 レーザ出射ユニツト
JPH05303052A (ja) * 1992-04-27 1993-11-16 Asahi Glass Co Ltd 円環状光の形成方法およびガラスの内部欠点検出方法
JPH0760470A (ja) * 1993-08-30 1995-03-07 Sumitomo Heavy Ind Ltd レーザ加工機
JPH08197274A (ja) * 1995-01-24 1996-08-06 Mitsubishi Materials Corp レーザマーキング装置
JPH0954278A (ja) * 1995-06-09 1997-02-25 Kawaguchi Kogaku Sangyo:Kk 環状光線拡がり角制御光学装置
JPH1031105A (ja) * 1996-07-15 1998-02-03 Shinozaki Seisakusho:Kk 2面集光プリズム並びにこれを備えるレーザ加工装置
JP2902550B2 (ja) * 1994-01-25 1999-06-07 住友重機械工業株式会社 レーザ加工機
JP2000271775A (ja) * 1999-03-29 2000-10-03 Sumitomo Heavy Ind Ltd レーザ出射光学系
JP2001079679A (ja) * 1999-09-10 2001-03-27 Sumitomo Heavy Ind Ltd レーザ加工機
JP2001121281A (ja) * 1999-10-22 2001-05-08 Nec Corp レーザ加工用出射光学部
JP2001225183A (ja) * 2000-02-14 2001-08-21 Nec Corp レーザ加工光学装置
JP2002023100A (ja) * 2000-07-05 2002-01-23 Toshiba Corp 分割光学素子、光学系及びレーザ加工装置
JP2002059287A (ja) * 2000-08-11 2002-02-26 Ricoh Microelectronics Co Ltd レーザ加工方法及びレーザ加工装置
JP2002329935A (ja) * 2001-05-07 2002-11-15 Toshiba Corp レーザ光源装置、レーザ装置、レーザ出射方法およびレーザ光源装置の製造方法
JP2003048092A (ja) * 2001-07-30 2003-02-18 Nidec Copal Corp レーザ溶接装置
JP2004085589A (ja) * 2002-06-28 2004-03-18 Ricoh Opt Ind Co Ltd 光源用モジュールおよび光源装置
JP2004136675A (ja) * 2002-10-02 2004-05-13 Leister Process Technologies 合成樹脂より成る物品を3次元形態に接合する方法および装置
JP2005028428A (ja) * 2003-07-09 2005-02-03 Denso Corp レーザ加工装置
JP2005125783A (ja) * 2003-10-21 2005-05-19 Leister Process Technologies レーザー光線による樹脂の加熱方法及び装置
JP2006150433A (ja) * 2004-12-01 2006-06-15 Fanuc Ltd レーザ加工装置
WO2006066706A2 (en) * 2004-12-22 2006-06-29 Carl Zeiss Laser Optics Gmbh Optical illumination system for creating a line beam
JP2006187783A (ja) * 2005-01-05 2006-07-20 Disco Abrasive Syst Ltd レーザー加工装置
JP2006255724A (ja) * 2005-03-15 2006-09-28 Disco Abrasive Syst Ltd レーザー加工装置

Patent Citations (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61259891A (ja) * 1985-05-15 1986-11-18 Hitachi Ltd レ−ザ加工装置
JPH02297986A (ja) * 1989-05-11 1990-12-10 Hamamatsu Photonics Kk ビームの均一化方法並びに均一化したビームの伝送装置および照射装置
JPH055283U (ja) * 1991-07-01 1993-01-26 ミヤチテクノス株式会社 レーザ出射ユニツト
JPH05303052A (ja) * 1992-04-27 1993-11-16 Asahi Glass Co Ltd 円環状光の形成方法およびガラスの内部欠点検出方法
JPH0760470A (ja) * 1993-08-30 1995-03-07 Sumitomo Heavy Ind Ltd レーザ加工機
JP2902550B2 (ja) * 1994-01-25 1999-06-07 住友重機械工業株式会社 レーザ加工機
JPH08197274A (ja) * 1995-01-24 1996-08-06 Mitsubishi Materials Corp レーザマーキング装置
JPH0954278A (ja) * 1995-06-09 1997-02-25 Kawaguchi Kogaku Sangyo:Kk 環状光線拡がり角制御光学装置
JPH1031105A (ja) * 1996-07-15 1998-02-03 Shinozaki Seisakusho:Kk 2面集光プリズム並びにこれを備えるレーザ加工装置
JP2000271775A (ja) * 1999-03-29 2000-10-03 Sumitomo Heavy Ind Ltd レーザ出射光学系
JP2001079679A (ja) * 1999-09-10 2001-03-27 Sumitomo Heavy Ind Ltd レーザ加工機
JP2001121281A (ja) * 1999-10-22 2001-05-08 Nec Corp レーザ加工用出射光学部
JP2001225183A (ja) * 2000-02-14 2001-08-21 Nec Corp レーザ加工光学装置
JP2002023100A (ja) * 2000-07-05 2002-01-23 Toshiba Corp 分割光学素子、光学系及びレーザ加工装置
JP2002059287A (ja) * 2000-08-11 2002-02-26 Ricoh Microelectronics Co Ltd レーザ加工方法及びレーザ加工装置
JP2002329935A (ja) * 2001-05-07 2002-11-15 Toshiba Corp レーザ光源装置、レーザ装置、レーザ出射方法およびレーザ光源装置の製造方法
JP2003048092A (ja) * 2001-07-30 2003-02-18 Nidec Copal Corp レーザ溶接装置
JP2004085589A (ja) * 2002-06-28 2004-03-18 Ricoh Opt Ind Co Ltd 光源用モジュールおよび光源装置
JP2004136675A (ja) * 2002-10-02 2004-05-13 Leister Process Technologies 合成樹脂より成る物品を3次元形態に接合する方法および装置
JP2005028428A (ja) * 2003-07-09 2005-02-03 Denso Corp レーザ加工装置
JP2005125783A (ja) * 2003-10-21 2005-05-19 Leister Process Technologies レーザー光線による樹脂の加熱方法及び装置
JP2006150433A (ja) * 2004-12-01 2006-06-15 Fanuc Ltd レーザ加工装置
WO2006066706A2 (en) * 2004-12-22 2006-06-29 Carl Zeiss Laser Optics Gmbh Optical illumination system for creating a line beam
JP2008524662A (ja) * 2004-12-22 2008-07-10 カール・ツアイス・レーザー・オプティクス・ゲーエムベーハー 線ビームを生成するための光学照射系
JP2006187783A (ja) * 2005-01-05 2006-07-20 Disco Abrasive Syst Ltd レーザー加工装置
JP2006255724A (ja) * 2005-03-15 2006-09-28 Disco Abrasive Syst Ltd レーザー加工装置

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013072796A (ja) * 2011-09-28 2013-04-22 Disco Abrasive Syst Ltd 高さ位置検出装置およびレーザー加工機
JP2015521545A (ja) * 2012-06-22 2015-07-30 アイピージー フォトニクス コーポレーション レーザー掘削方法及び形状化された孔を生成するシステム
JP2016147293A (ja) * 2015-02-13 2016-08-18 株式会社アマダミヤチ レーザ加工装置および出射ユニット
WO2017115406A1 (ja) 2015-12-28 2017-07-06 Dmg森精機株式会社 付加加工用ヘッド、加工機械および加工方法
US11173662B2 (en) 2015-12-28 2021-11-16 Dmg Mori Co., Ltd. Additive-manufacturing head, manufacturing machine, and manufacturing method
JPWO2017195691A1 (ja) * 2016-05-13 2018-10-18 三菱電機株式会社 光学レンズおよび光学レンズの製造方法
CN109073790A (zh) * 2016-05-13 2018-12-21 三菱电机株式会社 光学透镜和光学透镜的制造方法
US11135772B2 (en) 2017-05-16 2021-10-05 Dmg Mori Co., Ltd. Additive-manufacturing head and manufacturing machine
CN113825586A (zh) * 2019-05-14 2021-12-21 通快激光有限责任公司 产生两个平行激光焦线的光学***和所属的激光加工方法
CN113825586B (zh) * 2019-05-14 2024-04-02 通快激光有限责任公司 产生两个平行激光焦线的光学***和所属的激光加工方法
JP2021085940A (ja) * 2019-11-26 2021-06-03 株式会社フジクラ ビームシェイパ、加工装置、及びビームシェイピング方法

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JP5184775B2 (ja) 2013-04-17

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