JP2008090301A - 液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】タッチスクリーン機能が液晶表示装置に一体化されるようにして、このようなタッチスクリーン機能が一体化された液晶表示装置製品の収率を増加させることのできる液晶表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】第１母基板及び第２母基板を形成する段階と、前記第１及び第２母基板のうちの何れか一つの母基板に密封材を塗布する段階と、前記密封材を塗布することにより形成された閉空間に液晶物質を滴下する段階と、前記第１母基板と前記第２母基板とを結合する段階と、前記第１及び第２母基板のうちの何れか一つの母基板上部に感知部を形成する段階と、前記第１母基板と第２母基板を切断線に沿って切断する段階とを有する。
【選択図】 図２
【解決手段】第１母基板及び第２母基板を形成する段階と、前記第１及び第２母基板のうちの何れか一つの母基板に密封材を塗布する段階と、前記密封材を塗布することにより形成された閉空間に液晶物質を滴下する段階と、前記第１母基板と前記第２母基板とを結合する段階と、前記第１及び第２母基板のうちの何れか一つの母基板上部に感知部を形成する段階と、前記第１母基板と第２母基板を切断線に沿って切断する段階とを有する。
【選択図】 図２
Description
本発明は液晶表示装置に係り、より詳しくは、タッチスクリーン機能が一体化された液晶表示装置及びその製造方法に関する。
表示装置のうちの代表的な液晶表示装置は、画素電極及び共通電極が具備された二つの表示板とその間に入っている誘電率異方性を有する液晶層を含む。画素電極は行列形態に配列されており、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）などスイッチング素子に接続されて一つの行ずつ順次にデータ電圧が印加される。共通電極は表示板の全面にかけて形成されており、共通電圧が印加される。画素電極と共通電極及びその間の液晶層は回路的に見る時液晶キャパシタを構成し、液晶キャパシタはこれに接続されたスイッチング素子と一緒に画素を構成する基本単位になる。
このような液晶表示装置では二つの電極に電圧を印加して液晶層に電界を生成して、この電界の強さを調節して液晶層を通過する光の透過率を調節することによって所望の画像を得る。
このような液晶表示装置では二つの電極に電圧を印加して液晶層に電界を生成して、この電界の強さを調節して液晶層を通過する光の透過率を調節することによって所望の画像を得る。
タッチスクリーンパネルは画面上を指又はタッチペンなどで接触し文字を書いたり絵を描いたり、アイコンを実行させてコンピュータなどの機械に所望の命令を遂行させる装置を言う。
タッチスクリーンパネルが付着された液晶表示装置は使用者の指又はタッチペンなどが画面に接触したかの有無及び接触位置情報を検知することができる。
タッチスクリーンパネルが付着された液晶表示装置は使用者の指又はタッチペンなどが画面に接触したかの有無及び接触位置情報を検知することができる。
ところで、このようなタッチスクリーンパネルが付着された液晶表示装置はタッチスクリーンパネルによってコストが上昇し、タッチスクリーンパネルを液晶表示板上に接着させる工程追加によって収率が減少するという問題がある。また、液晶表示装置製造時、液晶注入にタッチ方式を使用するので大量生産が不可能になって収率が減少するという問題がある。
そこで、本発明は上記従来の液晶表示装置における問題点に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、タッチスクリーン機能が液晶表示装置に一体化されるようにして、このようなタッチスクリーン機能が一体化された液晶表示装置製品の収率を増加させることのできる液晶表示装置及びその製造方法を提供することにある。
上記目的を達成するためになされた本発明による液晶表示装置の製造方法は、第１母基板及び第２母基板を形成する段階と、前記第１及び第２母基板のうちの何れか一つの母基板に密封材を塗布する段階と、前記密封材を塗布することにより形成された閉空間に液晶物質を滴下する段階と、前記第１母基板と前記第２母基板とを結合する段階と、前記第１及び第２母基板のうちの何れか一つの母基板上部に感知部を形成する段階と、前記第１母基板と第２母基板を切断線に沿って切断する段階とを有することを特徴とする。
ここで前記感知部を形成する段階は、前記第１母基板上に第１抵抗膜を形成する段階と、前記第１抵抗膜に接触する第１接触電極を前記第１母基板上に形成する段階と、第１偏光板に第２抵抗膜を形成する段階と、前記第２抵抗膜に接触する第２接触電極を前記第１偏光板上に形成する段階と、前記第１抵抗膜と前記第２抵抗膜が対向するように前記第１偏光板と前記第１母基板を付着させる段階とを含むことが好ましい。
前記感知部を形成する段階は、前記第１母基板上に第１抵抗膜を形成する段階と、前記第１抵抗膜に接触する第１接触電極を前記第１母基板上に形成する段階と、第１偏光板に光学フィルムを付着する段階と、前記光学フィルム上に第２抵抗膜を形成する段階と、前記第２抵抗膜に接触する第２接触電極を前記光学フィルム上に形成する段階と、前記第１抵抗膜と前記第２抵抗膜が対向するように前記第１偏光板と前記第１母基板を付着させる段階とを含むことが好ましい。
前記第１接触電極は、前記第１抵抗膜の互いに対向する二つの辺に沿って形成し、前記第２接触電極は、前記第２抵抗膜の互いに対向する二つの辺に沿って形成することが好ましい。
前記第１及び第２母基板のうちの少なくとも何れか一つの母基板に偏光板を付着する段階を更に有することが好ましい。
前記感知部を形成する段階は、前記第１母基板上に第１抵抗膜を形成する段階と、前記第１抵抗膜に接触する第１接触電極を前記第１母基板上に形成する段階と、第１偏光板に光学フィルムを付着する段階と、前記光学フィルム上に第２抵抗膜を形成する段階と、前記第２抵抗膜に接触する第２接触電極を前記光学フィルム上に形成する段階と、前記第１抵抗膜と前記第２抵抗膜が対向するように前記第１偏光板と前記第１母基板を付着させる段階とを含むことが好ましい。
前記第１接触電極は、前記第１抵抗膜の互いに対向する二つの辺に沿って形成し、前記第２接触電極は、前記第２抵抗膜の互いに対向する二つの辺に沿って形成することが好ましい。
前記第１及び第２母基板のうちの少なくとも何れか一つの母基板に偏光板を付着する段階を更に有することが好ましい。
また、上記目的を達成するためになされた本発明による液晶表示装置の製造方法は、表示部を形成する段階と、前記表示部の上部に第１抵抗膜をシャドーマスクを用いて形成する段階と、前記第１抵抗膜の周辺部に第１接触電極を形成する段階と、第１偏光板に第２抵抗膜を形成する段階と、前記第２抵抗膜の周辺部に第２接触電極を形成する段階と、前記第１抵抗膜と前記第２抵抗膜が対向するように前記第１偏光板と前記表示部を付着する段階とを有することを特徴とする。
ここで前記第１抵抗膜と前記第２抵抗膜は、ＩＴＯ（酸化インジウム錫）を用いて形成されることが好ましい。
前記第１接触電極及び第２接触電極は、銀（Ａｇ）を用いて形成されることが好ましい。
前記第２抵抗膜を上部端子が形成された領域以外の領域に形成し、前記上部端子を前記第２接触電極に接続して前記第２接触電極を外部ＦＰＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ Ｐｒｉｎｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔ）と接続することが好ましい。
前記第１抵抗膜を下部端子が形成された領域以外の領域に形成し、前記下部端子を前記第１接触電極に接続して前記第１接触電極を外部ＦＰＣと接続することが好ましい。
前記第１接触電極及び第２接触電極は、銀（Ａｇ）を用いて形成されることが好ましい。
前記第２抵抗膜を上部端子が形成された領域以外の領域に形成し、前記上部端子を前記第２接触電極に接続して前記第２接触電極を外部ＦＰＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ Ｐｒｉｎｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔ）と接続することが好ましい。
前記第１抵抗膜を下部端子が形成された領域以外の領域に形成し、前記下部端子を前記第１接触電極に接続して前記第１接触電極を外部ＦＰＣと接続することが好ましい。
上記目的を達成するためになされた本発明による液晶表示装置は、第１表示板と、前記第１表示板と密封材によって結合された第２表示板と、前記第１表示板の上部所定領域に形成される第１抵抗膜と、前記第１抵抗膜の周辺部に形成される第１接触電極と、前記第１抵抗膜とスペーサによって離隔され対向して形成される第２抵抗膜と、前記第１抵抗膜と対向する部分の前記第２抵抗膜の下部面に形成されて前記第２抵抗膜の周辺部に形成される第２接触電極と、前記第２抵抗膜の上部に配置される第１偏光板と、前記第２表示板下部に配置される第２偏光板とを有することを特徴とする。
前記第２抵抗膜と前記第１偏光板との間に光学フィルムが配置されることが好ましい。
前記第１抵抗膜及び前記第２抵抗膜はＩＴＯを用いて形成されることが好ましい。
前記第１接触電極及び第２接触電極は銀（Ａｇ）を用いて形成されることが好ましい。
前記第１接触電極は、前記第１抵抗膜の互いに対向する二つの辺に沿って形成され、前記第２接触電極は、前記第２抵抗膜の互いに対向する二つの辺に沿って形成されることが好ましい。
前記第２抵抗膜は、上部端子が形成された領域以外の領域に形成され、前記上部端子は、前記第２接触電極と外部ＦＰＣとが接続されるように前記第２接触電極と接続されることが好ましい。
前記第１抵抗膜は、下部端子が形成された領域以外の領域に形成され、前記下部端子は、前記第１接触電極と外部ＦＰＣとが接続されるように前記第１接触電極と接続されることが好ましい。
前記第１抵抗膜及び前記第２抵抗膜はＩＴＯを用いて形成されることが好ましい。
前記第１接触電極及び第２接触電極は銀（Ａｇ）を用いて形成されることが好ましい。
前記第１接触電極は、前記第１抵抗膜の互いに対向する二つの辺に沿って形成され、前記第２接触電極は、前記第２抵抗膜の互いに対向する二つの辺に沿って形成されることが好ましい。
前記第２抵抗膜は、上部端子が形成された領域以外の領域に形成され、前記上部端子は、前記第２接触電極と外部ＦＰＣとが接続されるように前記第２接触電極と接続されることが好ましい。
前記第１抵抗膜は、下部端子が形成された領域以外の領域に形成され、前記下部端子は、前記第１接触電極と外部ＦＰＣとが接続されるように前記第１接触電極と接続されることが好ましい。
本発明に係る液晶表示装置及びその製造方法によれば、タッチスクリーン機能が一体化された液晶表示装置を製造時、液晶滴下方式を使用し量産が可能になるようにして製品の収率を向上させることができ、感知部のＩＴＯ抵抗膜をシャドーマスクを使用して形成することにより製品の収率及び製品の信頼性を高めることができるという効果がある。
次に、本発明に係る液晶表示装置及びその製造方法を実施するための最良の形態の具体例を図面を参照しながら説明する。
図面で各種の層又は領域を明確に表現するために厚さを拡大して示した。明細書全体を通じて類似の部分については同一の図面符号で示すものとする。層、膜、領域、板などの部分が他の部分の“上”にあるとする時、これは他の部分の“直ぐ上”にある場合だけでなく、その中間に他の部分がある場合も含む。反対にある部分が他の部分の“直ぐ上”にあるとする時には中間に他の部分がないことを意味する。
まず、本発明の一実施形態による液晶表示装置について図１を参照して詳細に説明する。
図１は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面を示す断面図である。
本発明の一実施形態による液晶表示装置は表示部と感知部で構成される。
表示部は上部基板２１０、下部基板１１０及び上部基板２１０と下部基板１１０の間に画素電極１９１、共通電極２５０、カラーフィルタ２３０及び液晶層３などを含む。下部基板１１０の外側（図１では、下側）に接着剤１５を用いて下部偏光板１２が付着されている。
図１は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の断面を示す断面図である。
本発明の一実施形態による液晶表示装置は表示部と感知部で構成される。
表示部は上部基板２１０、下部基板１１０及び上部基板２１０と下部基板１１０の間に画素電極１９１、共通電極２５０、カラーフィルタ２３０及び液晶層３などを含む。下部基板１１０の外側（図１では、下側）に接着剤１５を用いて下部偏光板１２が付着されている。
一方、感知部は上部基板２１０の上側面に形成されている下部ＩＴＯ抵抗膜３０５と上部ＩＴＯ抵抗膜３２５、下部ＩＴＯ抵抗膜３０５と上部ＩＴＯ抵抗膜３２５の間に位置する下部接触電極３１０及び上部接触電極３２０、スペーサ３５０、密封材３７０を含み、上部ＩＴＯ抵抗膜３２５の上部に接着剤２５を用いて付着されている上部偏光板２２を含む。ここで上部ＩＴＯ抵抗膜３２５と上部偏光板２２の間に光学フィルム（図示せず）を更に含むことができる。
図１の一実施形態による液晶表示装置の構造を詳細に述べれば次の通りである。
まず、図１では表示部の共通的構成要素だけを簡略に示している。
表示部は多様な実施形態で形成することができ、一般的な表示部の構造を調べれば次の通りである。
まず、図１では表示部の共通的構成要素だけを簡略に示している。
表示部は多様な実施形態で形成することができ、一般的な表示部の構造を調べれば次の通りである。
透明なガラス又はプラスチックなどで作られた下部基板１１０上に複数のゲート線（図示せず）及び複数の維持電極線（図示せず）が形成されている。
ゲート線は、ゲート信号を伝達して主に（表示部を正面から見たとき）横方向にのびている。各ゲート線は、複数のゲート電極（図示せず）と他の層又は外部駆動回路との接続のための広い端部を含む。
維持電極線は所定の電圧が印加されて、維持電極（図示せず）を含む。ゲート線及び維持電極線上には窒化珪素（ＳｉＮｘ）又は酸化珪素（ＳｉＯｘ）などで作られたゲート絶縁膜（図示せず）が形成されている。
ゲート線は、ゲート信号を伝達して主に（表示部を正面から見たとき）横方向にのびている。各ゲート線は、複数のゲート電極（図示せず）と他の層又は外部駆動回路との接続のための広い端部を含む。
維持電極線は所定の電圧が印加されて、維持電極（図示せず）を含む。ゲート線及び維持電極線上には窒化珪素（ＳｉＮｘ）又は酸化珪素（ＳｉＯｘ）などで作られたゲート絶縁膜（図示せず）が形成されている。
ゲート絶縁膜上には水素化非晶質シリコン又は多結晶シリコンなどで作られた半導体（図示せず）が形成されている。半導体上にはオーミックコンタクト部材（図示せず）が形成されている。オーミックコンタクト部材は燐（Ｐ）などのｎ型不純物が高濃度でドーピングされているｎ＋水素化非晶質シリコンなどの物質で作られたりシリサイドで作られてもよい。オーミックコンタクト部材及びゲート絶縁膜上には複数のデータ線（図示せず）と複数のドレーン電極（図示せず）が形成されている。
データ線はデータ信号を伝達して主に（表示部を正面から見たとき）縦方向にのびてゲート線と交差して、また、維持電極線と交差する。各データ線はゲート電極に向かってのびた複数のソース電極（図示せず）と他の層又は外部駆動回路との接続のために面積が広い端部（図示せず）を含む。
ドレイン電極はデータ線と分離されており、ゲート電極を中心にソース電極と対向する。
一つのゲート電極、一つのソース電極及び一つのドレイン電極は半導体と一緒に一つの薄膜トランジスタを構成し、薄膜トランジスタのチャンネルはソース電極とドレイン電極の間に形成される。
ドレイン電極はデータ線と分離されており、ゲート電極を中心にソース電極と対向する。
一つのゲート電極、一つのソース電極及び一つのドレイン電極は半導体と一緒に一つの薄膜トランジスタを構成し、薄膜トランジスタのチャンネルはソース電極とドレイン電極の間に形成される。
オーミックコンタクト部材は、その下の半導体とその上のデータ線及びドレイン電極の間にだけ存在して、これらの間の接触抵抗を低くする。
データ線、ドレイン電極及び露出された半導体部分上には保護膜（図示せず）が形成されている。保護膜は窒化シリコンや酸化シリコンなどの無機絶縁物、有機絶縁物、低誘電率絶縁物などで作られる。
保護膜上には、複数の画素電極１９１及び複数の接触補助部材（図示せず）が形成されている。これらはＩＴＯ又はＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）などの透明な導電物質やアルミニウム、銀又はその合金などの反射性金属で作られてもよい。
データ線、ドレイン電極及び露出された半導体部分上には保護膜（図示せず）が形成されている。保護膜は窒化シリコンや酸化シリコンなどの無機絶縁物、有機絶縁物、低誘電率絶縁物などで作られる。
保護膜上には、複数の画素電極１９１及び複数の接触補助部材（図示せず）が形成されている。これらはＩＴＯ又はＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）などの透明な導電物質やアルミニウム、銀又はその合金などの反射性金属で作られてもよい。
画素電極１９１は接触孔を通じてドレイン電極と物理的・電気的に接続されており、ドレイン電極からデータ電圧が印加される。データ電圧が印加された画素電極１９１は、共通電圧が印加される上部基板２１０の共通電極２５０と一緒に電界を生成することによって二つの電極の間の液晶層３の液晶分子の配向方向を決定する。
画素電極１９１は、維持電極を始めとした維持電極線と重畳する。画素電極１９１及びこれと電気的に接続されたドレイン電極が維持電極線と重畳して構成するキャパシタをストレージキャパシタとして、ストレージキャパシタは液晶キャパシタの電圧維持能力を強化する。
接触補助部材は、それぞれ接触孔を通じてゲート線の端部及びデータ線の端部と接続される。
画素電極１９１は、維持電極を始めとした維持電極線と重畳する。画素電極１９１及びこれと電気的に接続されたドレイン電極が維持電極線と重畳して構成するキャパシタをストレージキャパシタとして、ストレージキャパシタは液晶キャパシタの電圧維持能力を強化する。
接触補助部材は、それぞれ接触孔を通じてゲート線の端部及びデータ線の端部と接続される。
一方、上部基板２１０はガラス又はプラスチックなどで作られており、上部基板２１０上に（図１では、“下に”以下同様）遮光部材（図示せず）が形成されている。遮光部材はゲート線及びデータ線に対応する線型部分と薄膜トランジスタに対応する面型部分を含み、画素電極１９１の間の光漏れを防ぐ。
上部基板２１０上にはまた、複数のカラーフィルタ２３０が形成されている。カラーフィルタ２３０は遮光部材に囲まれた領域内に殆ど存在し、画素電極１９１列に沿って縦方向に長くのびることができる。各カラーフィルタ２３０は赤色、緑色及び青色の三原色など基本色のうちの一つを表示することができる。
上部基板２１０上にはまた、複数のカラーフィルタ２３０が形成されている。カラーフィルタ２３０は遮光部材に囲まれた領域内に殆ど存在し、画素電極１９１列に沿って縦方向に長くのびることができる。各カラーフィルタ２３０は赤色、緑色及び青色の三原色など基本色のうちの一つを表示することができる。
カラーフィルタ２３０及び遮光部材上には蓋膜（図示せず）が形成されている。蓋膜は有機絶縁物で作ることができて、カラーフィルタ２３０が露出されることを防止して平坦面を提供する。
蓋膜上には共通電極２５０が形成されている。共通電極２５０はＩＴＯ、ＩＺＯなどの透明な導電体などで作られる。
画素電極１９１と共通電極２５０の内側面には配向膜（図示せず）が塗布されており、これらは垂直配向膜や水平配向膜であってもよい。
蓋膜上には共通電極２５０が形成されている。共通電極２５０はＩＴＯ、ＩＺＯなどの透明な導電体などで作られる。
画素電極１９１と共通電極２５０の内側面には配向膜（図示せず）が塗布されており、これらは垂直配向膜や水平配向膜であってもよい。
画素電極１９１と共通電極２５０の間に位置した液晶層３は誘電率異方性を有する。液晶層３の液晶分子は電界がない状態でその長軸が両基板（１１０、２１０）の表面に対して垂直を形成するように配向されているＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モードや長軸が両基板（１１０、２１０）の表面に水平を形成するように配向されているＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モードを有してもよい。
共通電極２５０に共通電圧を印加して画素電極１９１にデータ電圧を印加すればその間に電場（電界）が生成される。液晶分子は電界に応答してその配向方向を変える。
表示部は、多様な実施形態で形成することができて上述した内容とは異なって共通電極２５０と画素電極１９１が同一の基板に形成される実施形態で形成してもよい。
共通電極２５０に共通電圧を印加して画素電極１９１にデータ電圧を印加すればその間に電場（電界）が生成される。液晶分子は電界に応答してその配向方向を変える。
表示部は、多様な実施形態で形成することができて上述した内容とは異なって共通電極２５０と画素電極１９１が同一の基板に形成される実施形態で形成してもよい。
表示部の下側には接着剤１５を用いて下部偏光板１２が付着されている。下部偏光板１２は上部偏光板２２と一緒に液晶層３を通過した光の一部又は全部をフィルタリングする役割を果たす。
上部基板２１０の上部には外部からの接触時位置を検知、判断する感知部が形成されている。
上部基板２１０の上部には外部からの接触時位置を検知、判断する感知部が形成されている。
感知部の構造を述べれば次の通りである。
上部基板２１０の上部面には下部ＩＴＯ抵抗膜３０５及び下部接触電極３１０が形成されており、下部接触電極３１０上方には上部接触電極３２０及び上部ＩＴＯ抵抗膜３２５が形成されている。ここで下部接触電極３１０と上部接触電極３２０は下部ＩＴＯ抵抗膜３０５と上部ＩＴＯ抵抗膜３２５の周辺部に位置し下部ＩＴＯ抵抗膜３０５と上部ＩＴＯ抵抗膜３２５を囲むように形成されている。
上部基板２１０の上部面には下部ＩＴＯ抵抗膜３０５及び下部接触電極３１０が形成されており、下部接触電極３１０上方には上部接触電極３２０及び上部ＩＴＯ抵抗膜３２５が形成されている。ここで下部接触電極３１０と上部接触電極３２０は下部ＩＴＯ抵抗膜３０５と上部ＩＴＯ抵抗膜３２５の周辺部に位置し下部ＩＴＯ抵抗膜３０５と上部ＩＴＯ抵抗膜３２５を囲むように形成されている。
このような上部ＩＴＯ抵抗膜３２５が下部ＩＴＯ抵抗膜３０５と所定の距離を維持して離隔するように上部ＩＴＯ抵抗膜３２５と下部ＩＴＯ抵抗膜３０５との間にはスペーサ３５０及び密封材３７０が形成されている。密封材３７０は上部ＩＴＯ抵抗膜３２５及び下部ＩＴＯ抵抗膜３０５の外郭に沿って支持するように形成されており、スペーサ３５０は中央部分で上部ＩＴＯ抵抗膜３２５と下部ＩＴＯ抵抗膜３０５が離隔されるようにする。
スペーサ３５０は導電体で形成されることが好ましい。上部ＩＴＯ抵抗膜３２５上には接着剤２５によって上部偏光板２２が付着されている。
スペーサ３５０は導電体で形成されることが好ましい。上部ＩＴＯ抵抗膜３２５上には接着剤２５によって上部偏光板２２が付着されている。
上部ＩＴＯ抵抗膜３２５と下部ＩＴＯ抵抗膜３０５は外部からの刺激（外圧など）によって互いに接触して、そこの抵抗値を測定して接触位置を把握する方式で感知部は動作する。
接触後には、スペーサ３５０によって上部ＩＴＯ抵抗膜３２５と下部ＩＴＯ抵抗膜３０５が再び離隔される。ここで上部接触電極３２０と下部接触電極３１０は上部ＩＴＯ抵抗膜３２５と下部ＩＴＯ抵抗膜３０５に電圧又は電流を印加する役割を果たす。このような上部接触電極３２０と下部接触電極３１０は銀（Ａｇ）などの物質で形成することができる。
接触後には、スペーサ３５０によって上部ＩＴＯ抵抗膜３２５と下部ＩＴＯ抵抗膜３０５が再び離隔される。ここで上部接触電極３２０と下部接触電極３１０は上部ＩＴＯ抵抗膜３２５と下部ＩＴＯ抵抗膜３０５に電圧又は電流を印加する役割を果たす。このような上部接触電極３２０と下部接触電極３１０は銀（Ａｇ）などの物質で形成することができる。
以上のように下部接触電極３１０を別途の基板ではなく、表示部の上部基板２１０に形成される下部ＩＴＯ抵抗膜３０５に形成することで表示装置の厚さを減らすことができて、コストを減少させることができる。
以下、本発明の実施形態による液晶表示装置の製造方法を説明する。
図２は、本発明の実施形態による液晶表示装置の製造方法を説明するためのフローチャートである。
図２は、本発明の実施形態による液晶表示装置の製造方法を説明するためのフローチャートである。
図２に示すように、上部及び下部母基板にゲート線及びデータ線などの各層を各々形成して配線が形成された下部母基板と上部母基板を完成する（ステップＳ１００）。
次に、上部及び下部母基板のうちの一つの母基板に上部及び下部母基板の間隔を維持させるための球形のビーズ間隔材（スペーサ３５０）、又は写真エッチング工程で形成する柱形態のコラム間隔材を形成する（ステップＳ１０２）。
次に、上部及び下部母基板のうちの一つの母基板に上部及び下部母基板の間隔を維持させるための球形のビーズ間隔材（スペーサ３５０）、又は写真エッチング工程で形成する柱形態のコラム間隔材を形成する（ステップＳ１０２）。
そして、上部及び下部母基板のうちの一つの母基板上に二つの母基板を結合するための物質で作られ、液晶が充填される部分を定義して液晶が漏れることを防止するための密封材を形成する（ステップＳ１０４）。
そして密封材内に液晶を滴下する（ステップＳ１０６）。
次に、上部及び下部母基板を整列及び結合する（ステップＳ１０８）。
そして密封材内に液晶を滴下する（ステップＳ１０６）。
次に、上部及び下部母基板を整列及び結合する（ステップＳ１０８）。
このように液晶滴下方式を用いれば完成された液晶表示装置に液晶注入のための注入口が不要である。従って、密封材の厚さが液晶周囲に沿って所定値、例えばビーズ間隔材の直径の値に形成される。また、このような液晶滴下方式を用いて液晶表示装置を製造すればタッチ方式を使用する場合に比べて大量生産が可能になって収率が増加する。
次に、形成された表示部の上部基板２１０上の所定領域にＩＴＯを塗布して下部ＩＴＯ抵抗膜３０５を形成する。この時、下部ＩＴＯ抵抗膜３０５のパターニングにシャドーマスクを用いることもできる。
ここで上部基板２１０上部全面にＩＴＯ薄膜を塗布した後、必要な領域をレーザーエッチングして電気的に絶縁する方式を使用してＩＴＯ抵抗膜を形成する場合にはレーザーエッチングによって表示部内部の回路及び下部膜が損傷を受けて光漏れなどの不良が発生する可能性がある。従って、所望の部位にだけＩＴＯを塗布することができて、母基板単位で工程を実施することができるシャドーマスクを用いて下部ＩＴＯ抵抗膜３０５を形成する。
ここで上部基板２１０上部全面にＩＴＯ薄膜を塗布した後、必要な領域をレーザーエッチングして電気的に絶縁する方式を使用してＩＴＯ抵抗膜を形成する場合にはレーザーエッチングによって表示部内部の回路及び下部膜が損傷を受けて光漏れなどの不良が発生する可能性がある。従って、所望の部位にだけＩＴＯを塗布することができて、母基板単位で工程を実施することができるシャドーマスクを用いて下部ＩＴＯ抵抗膜３０５を形成する。
図３は、下部ＩＴＯ抵抗膜が形成された上部母基板を切断線に沿って切断して形成された上部基板を示す斜視図である。
図３に示すように、下部接触電極３１０は下部ＩＴＯ抵抗膜３０５の互いに対向する二つの辺に沿って形成されている。また、下部接触電極３１０を外部ＦＰＣ（図示せず）と接続するために下部接触電極３１０に接続された下部端子３０７が下部ＩＴＯ抵抗膜３０５の一辺に延出されている。
図３に示すように、下部接触電極３１０は下部ＩＴＯ抵抗膜３０５の互いに対向する二つの辺に沿って形成されている。また、下部接触電極３１０を外部ＦＰＣ（図示せず）と接続するために下部接触電極３１０に接続された下部端子３０７が下部ＩＴＯ抵抗膜３０５の一辺に延出されている。
ここで下部ＩＴＯ抵抗膜３０５は上部基板２１０上の下部端子３０７が形成された領域（Ｂ）を除いた領域（Ａ）に形成されている。
つまり、下部ＩＴＯ抵抗膜３０５は図３に示すように以後形成される銀（Ａｇ）で作られる下部接触電極３１０の下部端子３０７が形成された部分には形成しない。
このようにシャドーマスクを用いてＩＴＯを塗布すれば所望の部位にだけＩＴＯを塗布することができてＩＴＯ抵抗膜が接触電極外部に露出されなくて信頼性を高めることができる。
つまり、下部ＩＴＯ抵抗膜３０５は図３に示すように以後形成される銀（Ａｇ）で作られる下部接触電極３１０の下部端子３０７が形成された部分には形成しない。
このようにシャドーマスクを用いてＩＴＯを塗布すれば所望の部位にだけＩＴＯを塗布することができてＩＴＯ抵抗膜が接触電極外部に露出されなくて信頼性を高めることができる。
次に、銀（Ａｇ）で感知部用の下部接触電極３１０を形成する（ステップＳ１１０）。
下部接触電極３１０は、上部基板２１０に形成されている遮光部材領域に形成されて表示領域に影響を与えない。
これと別途に上部偏光板２２に上部ＩＴＯ抵抗膜３２５を形成して上部ＩＴＯ抵抗膜３２５の周辺部に上部接触電極３２０を形成する（ステップＳ２００）。
下部接触電極３１０は、上部基板２１０に形成されている遮光部材領域に形成されて表示領域に影響を与えない。
これと別途に上部偏光板２２に上部ＩＴＯ抵抗膜３２５を形成して上部ＩＴＯ抵抗膜３２５の周辺部に上部接触電極３２０を形成する（ステップＳ２００）。
図４は、本発明の実施形態による液晶表示装置の上部接触電極及び下部接触電極が上部ＩＴＯ抵抗膜及び下部ＩＴＯ抵抗膜に形成されている上部及び下部基板を示す斜視図である。
図４に示すように、上部接触電極３２０は上部ＩＴＯ抵抗膜３２５の互いに対向する二つの辺に沿って形成されており、下部接触電極３１０は下部ＩＴＯ抵抗膜３０５の互いに対向する二つの辺に沿って形成されている。また、上部接触電極３２０及び下部接触電極３１０を外部ＦＰＣ（図示せず）と接続するために上部接触電極３２０及び下部接触電極３１０に接続された上部端子３２２及び下部端子３０７が下部ＩＴＯ抵抗膜３０５及び上部ＩＴＯ抵抗膜３２５の同じ方向の辺に延出している。上部ＩＴＯ抵抗膜３２５は、また上部端子３２２が形成された上部偏光板２２上の領域には形成されない。
図４に示すように、上部接触電極３２０は上部ＩＴＯ抵抗膜３２５の互いに対向する二つの辺に沿って形成されており、下部接触電極３１０は下部ＩＴＯ抵抗膜３０５の互いに対向する二つの辺に沿って形成されている。また、上部接触電極３２０及び下部接触電極３１０を外部ＦＰＣ（図示せず）と接続するために上部接触電極３２０及び下部接触電極３１０に接続された上部端子３２２及び下部端子３０７が下部ＩＴＯ抵抗膜３０５及び上部ＩＴＯ抵抗膜３２５の同じ方向の辺に延出している。上部ＩＴＯ抵抗膜３２５は、また上部端子３２２が形成された上部偏光板２２上の領域には形成されない。
ここで上部接触電極３２０は銀（Ａｇ）で形成する。
図５は、本発明の実施形態による液晶表示装置のフリップチップ取り付け状態を示す斜視図である。
このような接触電極は図５に示すように接触電極の上部及び下部端子３０７、３２２が全て下部ＩＴＯ抵抗膜３０５上に形成されているフリップチップ（Ｆｌｉｐ ｃｈｉｐ Ｏｎ Ｇｌａｓｓ）の形態で形成してもよい。
次に、上部ＩＴＯ抵抗膜３２５と下部ＩＴＯ抵抗膜３０５との間にスペーサ３５０及び密封材３７０を配置して上部偏光板２２と上部基板２１０を付着する（ステップＳ３００）。
図５は、本発明の実施形態による液晶表示装置のフリップチップ取り付け状態を示す斜視図である。
このような接触電極は図５に示すように接触電極の上部及び下部端子３０７、３２２が全て下部ＩＴＯ抵抗膜３０５上に形成されているフリップチップ（Ｆｌｉｐ ｃｈｉｐ Ｏｎ Ｇｌａｓｓ）の形態で形成してもよい。
次に、上部ＩＴＯ抵抗膜３２５と下部ＩＴＯ抵抗膜３０５との間にスペーサ３５０及び密封材３７０を配置して上部偏光板２２と上部基板２１０を付着する（ステップＳ３００）。
次に、下部基板１１０の下側に接着剤１５を用いて下部偏光板１２を付着する。
そして母基板の切断線に沿ってスクライビングを行ってそれぞれの液晶セルに分離（ステップＳ４００）してタッチスクリーン機能が一体化された液晶表示装置を完成する。
ここで感知部の構成も多様な実施形態で形成することができる。
そして母基板の切断線に沿ってスクライビングを行ってそれぞれの液晶セルに分離（ステップＳ４００）してタッチスクリーン機能が一体化された液晶表示装置を完成する。
ここで感知部の構成も多様な実施形態で形成することができる。
尚、本発明は、上述の実施形態に限られるものではない。本発明の技術的範囲から逸脱しない範囲内で多様に変更実施することが可能である。
３ 液晶層
１２、２２ （下部及び上部）偏光板
１５、２５ 接着剤
１１０ 下部基板
１９１ 画素電極
２１０ 上部基板
２３０ カラーフィルタ
２５０ 共通電極
３０５ 下部ＩＴＯ抵抗膜
３１０ 下部接触電極
３２０ 上部接触電極
３２５ 上部ＩＴＯ抵抗膜
３５０ スペーサ
３７０ 密封材
１２、２２ （下部及び上部）偏光板
１５、２５ 接着剤
１１０ 下部基板
１９１ 画素電極
２１０ 上部基板
２３０ カラーフィルタ
２５０ 共通電極
３０５ 下部ＩＴＯ抵抗膜
３１０ 下部接触電極
３２０ 上部接触電極
３２５ 上部ＩＴＯ抵抗膜
３５０ スペーサ
３７０ 密封材
Claims (17)
- 第１母基板及び第２母基板を形成する段階と、
前記第１及び第２母基板のうちの何れか一つの母基板に密封材を塗布する段階と、
前記密封材を塗布することにより形成された閉空間に液晶物質を滴下する段階と、
前記第１母基板と前記第２母基板とを結合する段階と、
前記第１及び第２母基板のうちの何れか一つの母基板上部に感知部を形成する段階と、
前記第１母基板と第２母基板を切断線に沿って切断する段階とを有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 前記感知部を形成する段階は、前記第１母基板上に第１抵抗膜を形成する段階と、
前記第１抵抗膜に接触する第１接触電極を前記第１母基板上に形成する段階と、
第１偏光板に第２抵抗膜を形成する段階と、
前記第２抵抗膜に接触する第２接触電極を前記第１偏光板上に形成する段階と、
前記第１抵抗膜と前記第２抵抗膜が対向するように前記第１偏光板と前記第１母基板を付着させる段階とを含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。 - 前記感知部を形成する段階は、前記第１母基板上に第１抵抗膜を形成する段階と、
前記第１抵抗膜に接触する第１接触電極を前記第１母基板上に形成する段階と、
第１偏光板に光学フィルムを付着する段階と、
前記光学フィルム上に第２抵抗膜を形成する段階と、
前記第２抵抗膜に接触する第２接触電極を前記光学フィルム上に形成する段階と、
前記第１抵抗膜と前記第２抵抗膜が対向するように前記第１偏光板と前記第１母基板を付着させる段階とを含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。 - 前記第１接触電極は、前記第１抵抗膜の互いに対向する二つの辺に沿って形成し、前記第２接触電極は、前記第２抵抗膜の互いに対向する二つの辺に沿って形成することを特徴とする請求項２又は３に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記第１及び第２母基板のうちの少なくとも何れか一つの母基板に偏光板を付着する段階を更に有することを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 表示部を形成する段階と、
前記表示部の上部に第１抵抗膜をシャドーマスクを用いて形成する段階と、
前記第１抵抗膜の周辺部に第１接触電極を形成する段階と、
第１偏光板に第２抵抗膜を形成する段階と、
前記第２抵抗膜の周辺部に第２接触電極を形成する段階と、
前記第１抵抗膜と前記第２抵抗膜が対向するように前記第１偏光板と前記表示部を付着する段階とを有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 前記第１抵抗膜と前記第２抵抗膜は、ＩＴＯ（酸化インジウム錫）を用いて形成されることを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記第１接触電極及び第２接触電極は、銀（Ａｇ）を用いて形成されることを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記第２抵抗膜を上部端子が形成された領域以外の領域に形成し、前記上部端子を前記第２接触電極に接続して前記第２接触電極を外部ＦＰＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ Ｐｒｉｎｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔ）と接続することを特徴とする請求項６乃至８の何れか一項に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記第１抵抗膜を下部端子が形成された領域以外の領域に形成し、前記下部端子を前記第１接触電極に接続して前記第１接触電極を外部ＦＰＣと接続することを特徴とする請求項６乃至８の何れか一項に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 第１表示板と、
前記第１表示板と密封材によって結合された第２表示板と、
前記第１表示板の上部所定領域に形成される第１抵抗膜と、
前記第１抵抗膜の周辺部に形成される第１接触電極と、
前記第１抵抗膜とスペーサによって離隔され対向して形成される第２抵抗膜と、
前記第１抵抗膜と対向する部分の前記第２抵抗膜の下部面に形成されて前記第２抵抗膜の周辺部に形成される第２接触電極と、
前記第２抵抗膜の上部に配置される第１偏光板と、
前記第２表示板下部に配置される第２偏光板とを有することを特徴とする液晶表示装置。 - 前記第２抵抗膜と前記第１偏光板との間に光学フィルムが配置されることを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置。
- 前記第１抵抗膜及び前記第２抵抗膜はＩＴＯを用いて形成されることを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置
- 前記第１接触電極及び第２接触電極は銀（Ａｇ）を用いて形成されることを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置。
- 前記第１接触電極は、前記第１抵抗膜の互いに対向する二つの辺に沿って形成され、
前記第２接触電極は、前記第２抵抗膜の互いに対向する二つの辺に沿って形成されることを特徴とする請求項１１乃至１４の何れか一項に記載の液晶表示装置。 - 前記第２抵抗膜は、上部端子が形成された領域以外の領域に形成され、前記上部端子は、前記第２接触電極と外部ＦＰＣとが接続されるように前記第２接触電極と接続されることを特徴とする請求項１５に記載の液晶表示装置。
- 前記第１抵抗膜は、下部端子が形成された領域以外の領域に形成され、前記下部端子は、前記第１接触電極と外部ＦＰＣとが接続されるように前記第１接触電極と接続されることを特徴とする請求項１５に記載の液晶表示装置。
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