JP2008073588A - Photocatalyst coating formation method - Google Patents
Photocatalyst coating formation method Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008073588A JP2008073588A JP2006254049A JP2006254049A JP2008073588A JP 2008073588 A JP2008073588 A JP 2008073588A JP 2006254049 A JP2006254049 A JP 2006254049A JP 2006254049 A JP2006254049 A JP 2006254049A JP 2008073588 A JP2008073588 A JP 2008073588A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photocatalyst coating
- agent
- photocatalyst
- coating agent
- mist
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
Description
本発明は光触媒塗膜の形成方法に関する。 The present invention relates to a method for forming a photocatalytic coating film.
従来より、光触媒を建築物の内壁や外壁等に用いられる基材に塗布して光触媒膜を形成する光触媒コーティング剤として、ペルオキソチタン酸水溶液とペルオキソ改質アナターゼゾルを主成分とした光触媒コーティング剤がある。しかし、光触媒コーティング剤の必要量のみをスプレーガンなどを用いて基材に塗布すると、基材の撥水性などから定着に時間がかかり、また、密着度、膜強度が弱く、長期に渡り光触媒機能を確保することが困難であった。そこで例えば特許文献１に示されているような、ペルオキソ改質アナターゼゾルを主成分とし、結合硬化剤として珪酸リチウムなどのシリコーン化合物を、分散媒としてエタノールなどのアルコール類を添加する光触媒コーティング剤がある。
しかしながら、添加物を混入した光触媒コーティング剤は光触媒塗膜の仕上がり感では添加物を混入しない光触媒コーティング剤には及ばない。また、光触媒塗膜の崩壊状況を調査するため、撥水を防止するために添加物として界面活性剤を混入したペルオキソチタン酸水溶液とペルオキソ改質アナターゼゾルの混合液を用いて、アクリルシリコーン樹脂塗膜に光触媒塗膜を形成した。光触媒塗膜を形成し半年以上経過後に確認を行ったところ、この光触媒塗膜の外観は、全体にやや白色を帯びていて、部分的に透明感のない虹色を発していた。さらに、膜強度は黒色の木綿布で拭き取り試験を行ったところ、虹色を発していた部分を擦ると白色の表面が削り取られ、木綿布に白色の粉がついた。このように、添加物を用いた光触媒塗膜は、塗膜の白濁等の変色、剥離が起きやすく長期に渡り光触媒機能を維持することが困難である。 However, the photocatalyst coating agent in which the additive is mixed is not as good as the photocatalyst coating agent in which the additive is not mixed in the finished feeling of the photocatalyst coating film. In addition, in order to investigate the collapse of the photocatalyst coating, an acrylic silicone resin coating was used using a mixture of a peroxotitanic acid aqueous solution and a peroxo modified anatase sol mixed with a surfactant as an additive to prevent water repellency. A photocatalytic coating was formed on the film. When a photocatalyst coating film was formed and checked after more than half a year, the appearance of this photocatalyst coating film was slightly white as a whole, and a rainbow color with no transparency was partially emitted. Further, when the film strength was wiped with a black cotton cloth, the white surface was scraped off when the rainbow-colored portion was rubbed, and white powder adhered to the cotton cloth. Thus, the photocatalyst coating film using the additive tends to cause discoloration and peeling such as cloudiness of the coating film, and it is difficult to maintain the photocatalytic function for a long time.
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、添加物を用いずに、膜強度の高い、仕上がり感のよい光触媒塗膜を形成することができ、光触媒機能を長期に渡り維持することが可能な光触媒塗膜形成方法を提供することにある。 The present invention has been made in view of such circumstances, and without using additives, a photocatalytic coating film having high film strength and good finish can be formed, and the photocatalytic function can be maintained over a long period of time. An object of the present invention is to provide a method for forming a photocatalytic coating film.
請求項１記載の光触媒塗膜形成方法は、基材の表面に、光触媒コーティング剤による劣化を防止するアンダーコート剤をミスト塗布し、ミスト塗布した上にさらにアンダーコート剤を塗布してアンダーコート層を形成した後、アンダーコート層の上に、光触媒コーティング剤を塗布して光触媒コーティング層を形成することを特徴とする。
The photocatalyst coating film forming method according to
請求項２記載の光触媒塗膜形成方法は、基材の表面にアンダーコート剤をスプレーノズルを用いて吐出圧を０．２ＭＰａ〜０．４ＭＰａ及び吐出量を４．０ｇ／ｍ２〜１８ｇ／ｍ２並びに基材とスプレーノズルの距離を１５ｃｍ〜３０ｃｍとした吐出条件でミスト塗布することを特徴とする。 The method for forming a photocatalyst coating film according to claim 2 uses a spray nozzle to spray an undercoat agent on the surface of the substrate, the discharge pressure is 0.2 MPa to 0.4 MPa, and the discharge amount is 4.0 g / m 2 to 18 g / m. 2 and mist coating under the discharge conditions in which the distance between the substrate and the spray nozzle is 15 cm to 30 cm.
請求項３記載の光触媒塗膜形成方法は、基材の表面に光触媒コーティング剤をミスト塗布した後、ミスト塗布した上にさらに光触媒コーティング剤を塗布して光触媒コーティング層を形成することを特徴とする。 The photocatalyst coating film forming method according to claim 3, wherein the photocatalyst coating agent is applied to the surface of the substrate by mist, and then the photocatalyst coating agent is further applied to form a photocatalyst coating layer. .
請求項４記載の光触媒塗膜形成方法は、基材の表面に光触媒コーティング剤をスプレーノズルを用いて吐出圧を０．２ＭＰａ〜０．４ＭＰａ及び吐出量を４．０ｇ／ｍ２〜１８ｇ／ｍ２並びに基材とスプレーノズルの距離を１５ｃｍ〜３０ｃｍとした吐出条件でミスト塗布することを特徴とする。 The method for forming a photocatalyst coating film according to claim 4 is characterized in that a photocatalyst coating agent is sprayed on the surface of the substrate using a spray nozzle, the discharge pressure is 0.2 MPa to 0.4 MPa, and the discharge amount is 4.0 g / m 2 to 18 g / m. 2 and mist coating under the discharge conditions in which the distance between the substrate and the spray nozzle is 15 cm to 30 cm.
請求項５記載の光触媒塗膜形成方法は、基材の表面に光触媒コーティング剤をスプレーノズルを用いて吐出圧を０．２ＭＰａ〜０．４ＭＰａ及び吐出量を０．５ｇ／ｍ２〜２．０ｇ／ｍ２並びに基材とスプレーノズルの距離を１５ｃｍ〜３０ｃｍとした吐出条件でミスト塗布することを特徴とする。 The photocatalyst coating film forming method according to claim 5, wherein the photocatalyst coating agent is sprayed on the surface of the substrate using a spray nozzle, the discharge pressure is 0.2 MPa to 0.4 MPa, and the discharge amount is 0.5 g / m 2 to 2.0 g. / M 2 , and the mist coating is performed under the discharge conditions in which the distance between the substrate and the spray nozzle is 15 cm to 30 cm.
請求項６記載の光触媒塗膜形成方法は、スプレーノズルのノズル穴の口径が０．３〜０．５ｍｍのスプレーガンを用いることを特徴とする。 The photocatalyst coating film forming method according to claim 6 is characterized in that a spray gun having a nozzle hole diameter of 0.3 to 0.5 mm is used.
請求項７記載の光触媒塗膜形成方法は、アンダーコート剤または光触媒コーティング剤を圧送供給する低圧スプレーガンを用いることを特徴とする。 The method for forming a photocatalyst coating film according to claim 7 is characterized in that a low-pressure spray gun for supplying an undercoat agent or a photocatalyst coating agent under pressure is used.
請求項８記載の光触媒塗膜形成方法は、アンダーコート剤をペルオキソチタン酸水溶液とすることを特徴とする。 The photocatalyst coating film forming method according to claim 8 is characterized in that the undercoat agent is a peroxotitanic acid aqueous solution.
請求項９記載の光触媒塗膜形成方法は、光触媒コーティング剤を、ペルオキソ改質アナターゼゾル、またはペルオキソチタン酸水溶液とペルオキソ改質アナターゼゾルの混合液とすることを特徴とする。 The photocatalyst coating film forming method according to claim 9 is characterized in that the photocatalyst coating agent is a peroxo modified anatase sol or a mixed solution of a peroxotitanic acid aqueous solution and a peroxo modified anatase sol.
請求項１の発明によれば、基材の表面に、光触媒コーティング剤による劣化を防止するアンダーコート剤をミスト塗布し、ミスト塗布した上にさらにアンダーコート剤を塗布してアンダーコート層を形成した後、アンダーコート層の上に、光触媒コーティング剤を塗布して光触媒コーティング層を形成することから、基材の撥水性を抑えることができるため、添加物を用いずに、膜強度の高い、仕上がり感のよい光触媒塗膜を形成することができ、光触媒機能を長期に渡り維持することが可能な光触媒塗膜形成方法を提供することにある。 According to the first aspect of the present invention, an undercoat layer is formed by applying a mist on the surface of the base material to prevent deterioration due to the photocatalyst coating agent, and further applying the undercoat agent on the mist. Later, a photocatalyst coating agent is formed on the undercoat layer to form a photocatalyst coating layer, so that the water repellency of the substrate can be suppressed. It is an object of the present invention to provide a photocatalyst coating film forming method capable of forming a photocatalytic coating film having a good feeling and capable of maintaining the photocatalytic function for a long period of time.
請求項２の発明によれば、基材の表面にアンダーコート剤をスプレーノズルを用いて吐出圧を０．２ＭＰａ〜０．４ＭＰａ及び吐出量を４．０ｇ／ｍ２〜１８ｇ／ｍ２並びに基材とスプレーノズルの距離を１５ｃｍ〜３０ｃｍとした吐出条件でミスト塗布することから、微細なミストを容易に吐出することができるため、安定して基材にミスト塗布を形成することができ、添加物を用いずに、膜強度の高い、仕上がり感のよい光触媒塗膜を形成することができ、光触媒機能を長期に渡り維持することが可能な光触媒塗膜形成方法を提供することにある。 According to the invention of claim 2, 0.2MPa~0.4MPa and discharge rate of 4.0g / m 2 ~18g / m 2 and the basis of the discharge pressure using a spray nozzle an undercoat agent on the surface of the substrate Since the mist coating is performed under the discharge conditions in which the distance between the material and the spray nozzle is 15 cm to 30 cm, the fine mist can be easily discharged, so that the mist coating can be stably formed on the substrate. It is an object of the present invention to provide a photocatalyst coating film forming method capable of forming a photocatalyst coating film having high film strength and good finish without using an object, and capable of maintaining the photocatalytic function for a long period of time.
請求項３の発明によれば、基材の表面に光触媒コーティング剤をミスト塗布した後、ミスト塗布した上にさらに光触媒コーティング剤を塗布して光触媒コーティング層を形成することから、光触媒コーティング剤を直接塗布する基材などの撥水性を抑えることができるため、添加物またはアンダーコート剤を用いずに、膜強度の高い、仕上がり感のよい光触媒塗膜を形成することができ、光触媒機能を長期に渡り維持することが可能な光触媒塗膜形成方法を提供することにある。 According to the invention of claim 3, since the photocatalyst coating agent is mist-applied on the surface of the substrate, and then the photocatalyst coating agent is further applied on the mist, the photocatalyst coating layer is formed. Since the water repellency of the base material to be applied can be suppressed, a photocatalyst coating film with high film strength and good finish can be formed without using additives or undercoat agents, and the photocatalytic function can be extended for a long time. An object of the present invention is to provide a method for forming a photocatalyst coating film that can be maintained over the course.
請求項４の発明によれば、基材の表面に光触媒コーティング剤をスプレーノズルを用いて吐出圧を０．２ＭＰａ〜０．４ＭＰａ及び吐出量を４．０ｇ／ｍ２〜１８ｇ／ｍ２並びに基材とスプレーノズルの距離を１５ｃｍ〜３０ｃｍとした吐出条件でミスト塗布することから、微細なミストを容易に吐出することができるため、光触媒コーティング剤を直接塗布する、遮光性を有する材料で形成され、撥水性のある基材などに、安定してミスト塗布を形成することでき、光触媒機能を長期に渡り維持することが可能な光触媒塗膜形成方法を提供することにある。 According to the invention of claim 4, 0.2MPa~0.4MPa and discharge rate of 4.0g / m 2 ~18g / m 2 and the basis of the discharge pressure using a spray nozzle a photocatalytic coating agent to the surface of the substrate Since the mist is applied under a discharge condition of 15 cm to 30 cm between the material and the spray nozzle, it is possible to easily discharge fine mist, so it is made of a light-shielding material that directly applies a photocatalyst coating agent. An object of the present invention is to provide a photocatalyst coating film forming method capable of stably forming a mist coating on a water-repellent substrate and the like and capable of maintaining the photocatalytic function for a long period of time.
請求項５の発明によれば、基材の表面に光触媒コーティング剤をスプレーノズルを用いて吐出圧を０．２ＭＰａ〜０．４ＭＰａ及び吐出量を０．５ｇ／ｍ２〜２．０ｇ／ｍ２並びに基材とスプレーノズルの距離を１５ｃｍ〜３０ｃｍとした吐出条件でミスト塗布することから、微細なミストを容易に吐出することができるため、光触媒コーティング剤を直接塗布する、透明性を有する材料で形成され、撥水性のある基材などに、安定してミスト塗布を形成することでき、光触媒機能を長期に渡り維持することが可能な高い透明性を有する光触媒塗膜形成方法を提供することにある。 According to the invention of claim 5, the 0.2MPa~0.4MPa and discharge amount of the discharge pressure using a spray nozzle a photocatalytic coating agent to the surface of the substrate 0.5g / m 2 ~2.0g / m 2 In addition, since the mist is applied under a discharge condition in which the distance between the base material and the spray nozzle is 15 cm to 30 cm, a fine mist can be easily discharged. To provide a photocatalyst coating film forming method having high transparency capable of stably forming a mist coating on a formed, water-repellent substrate, etc., and capable of maintaining the photocatalytic function over a long period of time. is there.
請求項６の発明によれば、スプレーノズルのノズル穴の口径が０．３〜０．５ｍｍのスプレーガンを用いることから、吐出条件を容易に設定、変更することができるため、安定して撥水性のある基材などにミスト塗布を形成することでき、光触媒機能を長期に渡り維持することが可能な光触媒塗膜形成方法を提供することにある。 According to the invention of claim 6, since a spray gun having a nozzle hole diameter of 0.3 to 0.5 mm is used, the discharge conditions can be easily set and changed. It is an object of the present invention to provide a photocatalyst coating film forming method capable of forming a mist coating on an aqueous substrate or the like and maintaining a photocatalytic function for a long period of time.
請求項７の発明によれば、アンダーコート剤または光触媒コーティング剤を圧送供給する低圧スプレーガンを用いることから、アンダーコート剤または光触媒コーティング剤の補給の回数を減らすことができ、一回に必要とされる吐出量を短時間で確保できるため、作業効率が向上し、施工性に優れた光触媒塗膜形成方法を提供することができる。 According to the invention of claim 7, since the low pressure spray gun for supplying the undercoat agent or the photocatalyst coating agent by pressure is used, the number of times of replenishment of the undercoat agent or the photocatalyst coating agent can be reduced, and it is necessary at one time. Since the discharged amount can be ensured in a short time, the working efficiency is improved, and a photocatalyst coating film forming method excellent in workability can be provided.
請求項８または請求項９の発明によれば、アンダーコート剤をペルオキソチタン酸水溶液または、光触媒コーティング剤を、ペルオキ改質アナターゼゾル、またはペルオキソチタン酸水溶液とペルオキソ改質アナターゼゾルの混合液とすることから、ペルオキソ基またはペルオキソ改質アナターゼ微粒子の配列が平滑な塗膜を形成することができるため、添加物を用いずに、膜強度の高い、仕上がり感のよい光触媒塗膜を形成することができ、光触媒機能を長期に渡り維持することが可能な光触媒塗膜形成方法を提供することにある。 According to the invention of claim 8 or claim 9, the undercoat agent is a peroxotitanic acid aqueous solution, or the photocatalytic coating agent is a peroxy-modified anatase sol, or a mixed solution of a peroxotitanic acid aqueous solution and a peroxo-modified anatase sol. Therefore, a coating film having a smooth arrangement of peroxo groups or peroxo-modified anatase fine particles can be formed, so that a photocatalytic coating film having high film strength and good finish can be formed without using additives. It is possible to provide a photocatalyst coating film forming method capable of maintaining the photocatalytic function for a long time.
以下、本発明の形態について図面を参照しながら具体的に説明する。本発明の形態における光触媒塗膜形成方法は、建築物の内壁や外壁等に用いられる基材に光触媒塗膜を形成するためのものである。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be specifically described with reference to the drawings. The photocatalyst coating-film formation method in the form of this invention is for forming a photocatalyst coating film in the base material used for the inner wall of a building, an outer wall, etc.
図１は、本発明に係る光触媒塗膜形成方法を実施するための塗装装置の説明図である。図２は、スプレーガンを使用して基材に光触媒コーティング剤を塗布する方法の説明図である。図３は、スプレーノズルの正面図である。 FIG. 1 is an explanatory view of a coating apparatus for carrying out the photocatalyst coating film forming method according to the present invention. FIG. 2 is an explanatory diagram of a method of applying a photocatalytic coating agent to a substrate using a spray gun. FIG. 3 is a front view of the spray nozzle.
図において、塗装装置は、スプレーガン１０、加圧コンテナ４０、エアコンプレッサ５０などから構成されている。スプレーガン１０は、エア入口３０、注入口３２、引金１２、パターンバルブ１４、ニードルバルブ１６、エアバルブ１８、スプレーノズル２０などからなる。スプレーノズル２０は、ノズル穴２２が設けられ、空気キャップ２６を備える。空気キャップ２６は、ノズル穴２２の周囲に中心空気穴２３、その周囲に対向して突き出した角部より内側に向けて噴出するパターン形成空気穴２４、を設けている。スプレーガン１０のエア入口３０に圧縮空気が供給され、圧縮空気は中心空気穴２３、パターン形成空気穴２４から吐出する。注入口３２にはコート剤Ｃが供給され、コート剤Ｃはノズル穴２２から吐出する。パターンバルブ１４はパターン形成空気穴２４、エアバルブ１８は、中心空気穴２３、パターン形成空気穴２４から吐出する圧縮空気の吐出圧を調節することができる。ニードルバルブ１６は、ノズル穴２２から吐出するコート剤Ｃの吐出量を調節することができる。ここで吐出量とは、１回の塗布に使用するコート剤Ｃの１ｍ２あたりの使用量をいう。引金１２を引くことによって、先ず中心空気穴２３、パターン形成空気穴２４から霧化空気が噴出し、つぎにノズル穴２２からコート剤Ｃが吐出して、霧化空気でコート剤Ｃがミスト化される。本発明では、基材Ｓに微細なミストを塗布する必要があるためスプレーノズル２０のノズル穴２２の口径が０．３ｍｍ〜０．５ｍｍのスプレーガン１０を用いる。ノズル穴２２から基材Ｓまでの距離を、コート剤Ｃの吹き付け距離Ｌ１とする。
In the figure, the coating apparatus is composed of a
エアコンプレッサ５０はエア用ホース５６、減圧弁４４、減圧弁５４を介して圧縮空気を加圧コンテナ４０、スプレーガン１０に供給する。エアコンプレッサ５０が供給する圧縮空気の供給圧は減圧弁５４で減圧され、さらに加圧コンテナ４０に供給される圧縮空気の供給圧は減圧弁４４で減圧される。加圧コンテナ４０は、内部にコート剤Ｃであるアンダーコート剤または光触媒コーティング剤を貯留する。このコート剤Ｃは、加圧コンテナ４０の内部が圧縮空気の導入に応じて加圧されることにより、吸上管４２にて吸い上げられて、液体用ホース４６を介して、スプレーガン１０の注入口３２に圧送供給される。ただし、エアバルブ１８での吐出圧の調整は圧力計がないので正確に行うことが出来ない。したがって、減圧弁５４で吐出圧の調整を行い、エアバルブ１８は全開状態で使用する。
The
建築物の内壁や外壁等に用いられる基材で、光触媒コーティング剤によって劣化するおそれのある基材Ｓの表面に、光触媒コーティング剤を塗布して光触媒コーティング層を形成する方法について以下説明する。基材Ｓとして、例えばアクリルシリコーン樹脂が基材Ｓとして挙げられる。アクリルシリコーン樹脂はアクリル樹脂を母体にシリコーン化合物の化学特性を取り入れ高耐候性、耐薬品性を有する樹脂として外装建材用などの各種コーティング用途に使用されている。光触媒コーティング剤はその光触媒作用によって、アクリルシリコーン樹脂などの基材Ｓを劣化させるおそれがある。そこで、光触媒コーティング剤を塗布する前に、基材Ｓの表面に、光触媒コーティング剤による劣化を防止するアンダーコート剤を塗布してアンダーコート層を形成する必要がある。 A method for forming a photocatalyst coating layer by applying a photocatalyst coating agent to the surface of a base material S that may be deteriorated by the photocatalyst coating agent as a base material used for an inner wall or an outer wall of a building will be described below. As the substrate S, for example, an acrylic silicone resin is used as the substrate S. Acrylic silicone resins are used for various coating applications such as exterior building materials as a resin having high weather resistance and chemical resistance by incorporating the chemical properties of silicone compounds based on acrylic resin. The photocatalytic coating agent may deteriorate the base material S such as acrylic silicone resin due to its photocatalytic action. Therefore, before applying the photocatalytic coating agent, it is necessary to form an undercoat layer on the surface of the substrate S by applying an undercoat agent that prevents deterioration due to the photocatalytic coating agent.
アンダーコート剤は、ペルオキソチタン酸水溶液、シリコーン変性樹脂、無機質塗料等が挙げられる。本実施例では、乾燥膜が平滑な膜を形成しやすく密着性に優れ、光触媒コーティング剤による基材の劣化を防止するペルオキソチタン酸水溶液を用いる。光触媒コーティング剤としては、チタン化合物と過酸化水素水とを反応させることにより得られるチタン含有水性液、ペルオキソ改質アナターゼゾル、酸化チタン粉体塗料、チタニアゾル塗料、またはペルオキソチタン酸水溶液とペルオキソ改質アナターゼゾルの混合液等が挙げられる。本実施例では、常温で光触媒活性を起こすペルオキソ改質アナターゼゾルを用いる。なお、アンダーコート剤、光触媒コーティング剤のいずれにも、添加物を混入しない。 Examples of the undercoat agent include a peroxotitanic acid aqueous solution, a silicone-modified resin, and an inorganic paint. In this embodiment, a peroxotitanic acid aqueous solution is used which is easy to form a smooth film as a dry film and has excellent adhesion and prevents deterioration of the substrate due to the photocatalytic coating agent. As photocatalyst coating agent, titanium-containing aqueous liquid obtained by reacting titanium compound with hydrogen peroxide solution, peroxo-modified anatase sol, titanium oxide powder coating, titania sol coating, or peroxotitanic acid aqueous solution and peroxo-modified A mixed solution of anatase sol and the like can be mentioned. In this example, a peroxo modified anatase sol that causes photocatalytic activity at room temperature is used. In addition, an additive is not mixed in any of an undercoat agent and a photocatalyst coating agent.
作業者は、アンダーコート剤を材料供給口４８より加圧コンテナ４０の中に注入する。エアコンプレッサ５０を始動して、スプレーガン１０に供給される圧縮空気の供給圧を減圧弁５４で０．２ＭＰａ〜０．４ＭＰａに減圧し、さらに加圧コンテナ４０に供給される圧縮空気の供給圧は、減圧弁４４で０．０９ＭＰａ〜０．１２ＭＰａに減圧する。作業者は、基材Ｓの表面にアンダーコート剤を、スプレーガン１０を用いて、パターンバルブ１４、ニードルバルブ１６を調節して、一定の吐出条件でミスト塗布する。このときミスト塗布の塗布斑を防止するため、１回の塗布は基材Ｓに対して縦方向の塗布と、横方向の塗布の１セットとする。また、水性のアンダーコート剤は、ウェットオンウェット法で塗布する。ここで、ミスト塗布における一定の吐出条件とは、アンダーコート剤の吐出圧を０．２ＭＰａ〜０．４ＭＰａとする。また、吐出量は４．０ｇ／ｍ２〜１８ｇ／ｍ２とし、吹き付け距離Ｌ１を１５ｃｍ〜３０ｃｍとして微細なミスト塗布をする。
The operator injects the undercoat agent into the
次に、作業者は、ミスト塗布した上にさらにアンダーコート剤を、スプレーガン１０を用いて、一定の吐出条件で塗布する。このときアンダーコート層の塗布斑を防止して一定の厚みを得るために、２セットを塗布する。ここで、アンダーコート層の形成における一定の吐出条件とは、アンダーコート剤の吐出圧を０．２０ＭＰａ〜０．２５ＭＰａとする。また、吐出量は２０ｇ／ｍ２〜３０ｇ／ｍ２とし、吹き付け距離Ｌ１を１５ｃｍ〜２５ｃｍとすることでアンダーコート層を形成できる。
Next, the worker applies mist and further applies an undercoat agent using the
次に、加圧コンテナ４０の中身をアンダーコート剤から光触媒コーティング剤に入れ替える。作業者は、アンダーコート層の上に、光触媒コーティング剤を、スプレーガン１０を用いて一定の吐出条件で塗布する。このとき光触媒コーティング層の塗布斑を防止して一定の厚みを得るために、２セットを塗布する。また、水性の光触媒コーティング剤は、ウェットオンウェット法で塗布するのが好ましい。ここで、光触媒コーティング層の形成における一定の吐出条件とは、光触媒コーティング剤の吐出圧を０．２０ＭＰａ〜０．２５ＭＰａとする。また、吐出量は２０ｇ／ｍ２〜３５ｇ／ｍ２とし、吹き付け距離Ｌ１を１５ｃｍ〜２５ｃｍとすることで光触媒コーティング層を形成できる。
Next, the contents of the
以上より、本実施例の光触媒塗膜形成方法は、基材Ｓが光触媒機能によって劣化することを防ぎ、添加物を用いずに、膜強度の高い、仕上がり感のよい光触媒塗膜を形成することができ、光触媒機能を長期に渡り維持することが可能な施工性に優れた光触媒塗膜形成方法を提供することができる。もっとも、ミスト塗布がアンダーコート剤の足がかりとなり、基材Ｓの撥水性を抑えることができるため、膜強度の高いアンダーコート層を形成することができ、このアンダーコート層に適切な吐出条件で光触媒コーティング剤を塗布することから、本発明の光触媒コーティング層を形成することができる。 From the above, the photocatalyst coating film forming method of the present example prevents the base material S from being deteriorated by the photocatalytic function, and forms a photocatalytic coating film with high film strength and good finish without using additives. Thus, it is possible to provide a photocatalyst coating film forming method excellent in workability capable of maintaining the photocatalytic function for a long period of time. However, since the mist coating serves as a foothold for the undercoat agent and the water repellency of the substrate S can be suppressed, an undercoat layer with high film strength can be formed, and a photocatalyst can be formed under appropriate discharge conditions for this undercoat layer. Since the coating agent is applied, the photocatalyst coating layer of the present invention can be formed.
さらに、スプレーノズル２０のノズル穴２２の口径が０．３〜０．５ｍｍのスプレーガン１０を用いることから、パターンバルブ１４、ニードルバルブ１６を調節することで、吐出条件を容易に設定、変更することができるため、安定して撥水性のある基材Ｓなどにミスト塗布を形成することでき、光触媒機能を長期に渡り維持することが可能な施工性に優れた光触媒塗膜形成方法を提供することにある。
Further, since the
また、加圧コンテナ４０を利用して、アンダーコート剤や光触媒コーティング剤等のコート剤を圧送供給する低圧スプレーガン１０を用いて塗布していることから、アンダーコート剤または光触媒コーティング剤の補給の回数を減らすことができ、一回に必要とされる吐出量を短時間で確保できるため、作業効率が向上し、施工性に優れた光触媒塗膜形成方法を提供することができる。例えば、コート剤を圧送供給せずにスプレーノズルのノズル口径が０．４ｍｍの低圧スプレーガンを用いて塗布すると、コート剤のスプレーガンからの噴出量は最大で９ｇ／ｍｉｎであり、一般的な塗装方法で１ｍ２に１８ｇを施工するのに２分かかる。これに対して圧送供給した場合には、８４ｇ／ｍｉｎ以上の噴出量を得ることができる。
Further, since the coating is applied by using the low-
ペルオキソチタン酸水溶液に含まれるペルオキソ基や、ペルオキソ改質アナターゼゾルに含まれるペルオキソ改質アナターゼ微粒子は、鱗状の形状であり適切な吐出条件で塗布すれば乾燥時に鱗状の形状が基材Ｓの表面に沿って配列して平滑な膜を形成する。この平滑な膜を形成することで仕上がり感がよく、密着性に優れた、膜強度の高い塗膜を得ることができる。 The peroxo group contained in the peroxotitanic acid aqueous solution and the peroxo modified anatase fine particles contained in the peroxo modified anatase sol have a scaly shape, and when applied under appropriate discharge conditions, the scaly shape is the surface of the substrate S when dried. To form a smooth film. By forming this smooth film, it is possible to obtain a coating film with good film finish, good adhesion, and high film strength.
したがって、ペルオキソチタン酸水溶液のアンダーコート剤は、ミスト塗布の後に本実施例の塗布方法により塗布することで、ペルオキソ基が基材Ｓの表面に沿って配列する平滑な膜のアンダーコート層を形成する。ペルオキソ改質アナターゼゾルの光触媒コーティング剤は、このアンダーコート層に本実施例の塗布方法により塗布することで、ペルオキソ改質アナターゼ微粒子が平滑な膜の光触媒コーティング層を形成する。なお、ペルオキソ改質アナターゼゾルとペルオキソチタン酸水溶液との混合液を光触媒コーティング剤とすることでペルオキソ改質アナターゼゾル由来のアナターゼ型酸化チタン成分で光触媒活性を確保しつつ、塗布対象面への結合力に優れるペルオキソチタン酸水溶液でさらに確実な膜強度を得ることができる。また、ウェットオンウェット法で塗布することで表面乾燥したアンダーコート層が光触媒コーティング剤の水分を吸収するため剤粘度が急激に上昇し塗着率が向上し、液だれ等を防止することができる。以上により、添加物を用いずに、膜強度の高い、仕上がり感のよい光触媒塗膜を形成することができ、光触媒機能を長期に渡り維持することが可能な施工性に優れた光触媒塗膜形成方法を提供することができる。 Therefore, the undercoat agent of the peroxotitanic acid aqueous solution is applied by the application method of this embodiment after the mist application, thereby forming a smooth undercoat layer in which the peroxo groups are arranged along the surface of the substrate S. To do. The photocatalytic coating agent for the peroxo-modified anatase sol is applied to this undercoat layer by the coating method of this embodiment, thereby forming a photocatalytic coating layer having a smooth film of peroxo-modified anatase fine particles. In addition, by using a mixed solution of peroxo-modified anatase sol and peroxotitanic acid aqueous solution as a photocatalyst coating agent, the photocatalytic activity is secured with the anatase-type titanium oxide component derived from peroxo-modified anatase sol, and bonding to the surface to be coated is performed. More reliable film strength can be obtained with a peroxotitanic acid aqueous solution having excellent strength. In addition, by applying the wet-on-wet method, the surface-dried undercoat layer absorbs the moisture of the photocatalyst coating agent, so that the viscosity of the agent rises sharply to improve the coating rate and prevent dripping and the like. . As described above, it is possible to form a photocatalyst film with high film strength and good finish without using additives, and to form a photocatalyst film excellent in workability that can maintain the photocatalytic function over a long period of time. A method can be provided.
施工後の光触媒機能の効果を確認するため、添加物を混入していないペルオキソチタン酸水溶液とペルオキソ改質アナターゼゾルの混合液を用いて、本出願に係る光触媒塗膜形成方法でアクリルシリコーン樹脂塗膜に光触媒塗膜を形成した。光触媒塗膜を形成してから９ヶ月後に確認を行ったところ、この光触媒塗膜の外観は、外観は白色を帯びることはなく、光触媒塗膜が透明性を保ち、透明感のない虹色を発する部分もなかった。また、膜強度は黒色の木綿布で拭き取り試験を行ったところ、表面が削り取られることはなかった。以上の実験の結果、本発明の光触媒塗膜形成方法で形成された光触媒塗膜は、添加物を用いずに、膜強度の高い、仕上がり感のよい光触媒塗膜を形成することができ、光触媒機能を長期に渡り維持することが可能な施工性に優れた光触媒塗膜形成方法を提供することができる。 In order to confirm the effect of the photocatalyst function after construction, an acrylic silicone resin coating was applied by the photocatalyst coating film forming method according to the present application using a mixed solution of a peroxotitanic acid aqueous solution and a peroxo modified anatase sol without any additives. A photocatalytic coating was formed on the film. After 9 months from the formation of the photocatalytic coating, the appearance of this photocatalytic coating is not white and the photocatalytic coating is transparent and has a transparent rainbow color. There was no part to emit. Moreover, when the film | membrane intensity | strength performed the wiping test with the black cotton cloth, the surface was not scraped off. As a result of the above experiments, the photocatalyst coating film formed by the photocatalyst coating film forming method of the present invention can form a photocatalyst coating film with high film strength and good finish without using additives, It is possible to provide a photocatalyst coating film forming method excellent in workability capable of maintaining the function for a long period of time.
なお、アンダーコート剤または光触媒コーティング剤の必要量を基材Ｓに塗布した場合、液だれを起こすことがある。液だれは、アンダーコート層または光触媒コーティング層の部分的な膜強度低下を起こし、光触媒機能を長期に渡り維持することができなくなる。例えば、ペルオキソチタン酸水溶液の液だれは、ペルオキソ基の配列に偏りを発生させ、部分的な膜強度低下を起こす。また、アンダーコート剤または光触媒コーティング剤は空中乾燥増粘を起こすことがある。特にペルオキソチタン酸水溶液またはペルオキソ改質アナターゼゾルの空中乾燥増粘は、基材Ｓのペルオキソ基およびペルオキソ改質アナターゼ微粒子の平滑な配列を阻害する。したがって空中乾燥増粘を防ぐためには、吹き付け距離Ｌ１を短くする必要がある。また、基材Ｓに対してスプレーノズル２０を垂直に保つことで、吹き付け距離Ｌ１を短くすることができる。同時にコート剤Ｃの塗着率も向上する。
In addition, when the required amount of an undercoat agent or a photocatalyst coating agent is applied to the substrate S, dripping may occur. The dripping causes a partial decrease in film strength of the undercoat layer or the photocatalyst coating layer, and the photocatalytic function cannot be maintained over a long period of time. For example, dripping of an aqueous solution of peroxotitanic acid causes a bias in the arrangement of peroxo groups, causing a partial decrease in film strength. In addition, the undercoat agent or the photocatalyst coating agent may cause an air-drying thickening. In particular, air-drying thickening of an aqueous peroxotitanic acid solution or peroxo-modified anatase sol inhibits the smooth arrangement of the peroxo groups of the substrate S and the peroxo-modified anatase microparticles. Therefore, in order to prevent air drying thickening, it is necessary to shorten the spray distance L1. Moreover, the spraying distance L1 can be shortened by keeping the
ミスト塗布において、吐出圧は、０．２ＭＰａを下回るとミスト粒子が大きくなるため、微細なミストを形成することが困難となる。また、吐出圧は０．４ＭＰａを上回るとミスト粒子は小さくなる。しかし、アンダーコート剤の基材Ｓへの塗着率が下がり施工性が低下する。吐出量については、４．０ｇ／ｍ２を下回るとミスト粒子の量が少なくなるため、撥水防止の効果が下がる。このため重ねて塗布することが必要になるが、撥水防止効果は向上するものの施工性が低下すると共に、膜強度の低下を起こす。また吐出量は１８ｇ／ｍ２を上回ると、基材Ｓの撥水性でアンダーコート剤が水滴になり液だれを起こす。 In mist application, if the discharge pressure is less than 0.2 MPa, mist particles increase, and it becomes difficult to form fine mist. Further, when the discharge pressure exceeds 0.4 MPa, the mist particles become small. However, the rate of application of the undercoat agent to the substrate S is lowered, and the workability is lowered. When the discharge amount is less than 4.0 g / m 2 , the amount of mist particles decreases, and the effect of preventing water repellency decreases. For this reason, it is necessary to apply it repeatedly, but although the water-repellent prevention effect is improved, the workability is lowered and the film strength is lowered. On the other hand, if the discharge amount exceeds 18 g / m 2 , the undercoat agent becomes water droplets due to the water repellency of the substrate S, causing dripping.
さらに、吹き付け距離Ｌ１については、１５ｃｍを下回るとミスト粒子密度が高く、さらに塗布範囲が狭くなり均一な塗布が出来ず、基材Ｓの撥水性でアンダーコート剤が液だれを起こし、３０ｃｍを上回るとアンダーコート剤が空中乾燥増粘を起こすため、膜強度の低下を生ずる。 Further, when the spraying distance L1 is less than 15 cm, the mist particle density is high, the coating range is further narrowed and uniform coating cannot be performed, and the undercoat agent dripping due to the water repellency of the substrate S exceeds 30 cm. And the undercoat agent causes a thickening in the air to cause a decrease in film strength.
このため、作業者が安定してミスト塗布するには、好ましくは吐出条件として、吐出圧を０．２８ＭＰａ〜０．３２ＭＰａとする。また、吐出量は８．０ｇ／ｍ２〜１２ｇ／ｍ２とし、吹き付け距離Ｌ１は２３ｃｍ〜２７ｃｍとする。 For this reason, in order for an operator to stably apply mist, the discharge pressure is preferably set to 0.28 MPa to 0.32 MPa as discharge conditions. The discharge amount is 8.0 g / m 2 to 12 g / m 2 and the spray distance L1 is 23 cm to 27 cm.
アンダーコート剤の塗布においては、吐出圧は０．２０ＭＰａを下回ると、塗布粒子が大きくなり液だれが生じる。また、吐出圧は０．２５ＭＰａを上回ると、塗布粒子は小さくなるが塗着率が下がり施工性が低下する。吐出量については２０ｇ／ｍ２を下回ると、塗布粒子の量が少なる。このため重ねて塗布することが必要になるが、施工性が低下すると共に、仕上がり感の悪い、膜強度の低いアンダーコート層となる。また吐出量は３０ｇ／ｍ２を上回ると、塗布粒子が大きくなるため、基材Ｓの撥水性でアンダーコート剤が水滴になり液だれを起こす。したがって、部分的にアンダーコート層が厚くなりすぎ乾燥時にひび割れ崩壊を起こす。 In the application of the undercoat agent, when the discharge pressure is less than 0.20 MPa, the applied particles become large and dripping occurs. On the other hand, when the discharge pressure exceeds 0.25 MPa, the coated particles become small, but the coating rate is lowered and the workability is lowered. When the discharge amount is less than 20 g / m 2 , the amount of coating particles is small. For this reason, it is necessary to apply it repeatedly, but the workability is lowered, and an undercoat layer having a poor finish and a low film strength is obtained. On the other hand, when the discharge amount exceeds 30 g / m 2 , the coated particles become large, so that the undercoat agent becomes water droplets due to the water repellency of the substrate S, causing dripping. Therefore, the undercoat layer becomes partly too thick and cracks collapse when dried.
さらに、吹き付け距離Ｌ１が１５ｃｍを下回ると塗布粒子密度が高く、さらに塗布範囲が狭くなるので均一な塗布が出来ず液だれを起こし、２５ｃｍを上回るとアンダーコート剤が空中乾燥増粘を起こすため膜強度の低下を生ずる。このため、作業者が安定してアンダーコート層を形成するためには、好ましくは吐出条件として、吐出圧を０．２１ＭＰａ〜０．２３ＭＰａとする。また、吐出量は２３ｇ／ｍ２〜２７ｇ／ｍ２とし、吹き付け距離Ｌ１は２１ｃｍ〜２３ｃｍとする。 Further, when the spray distance L1 is less than 15 cm, the coated particle density is high, and the coating range is further narrowed, so that uniform coating cannot be performed and dripping occurs. When the spraying distance L1 exceeds 25 cm, the undercoat agent causes air-drying thickening. Reduces strength. For this reason, in order for an operator to form an undercoat layer stably, it is preferable as discharge conditions that discharge pressure shall be 0.21 MPa-0.23 MPa. The discharge amount is 23 g / m 2 to 27 g / m 2 , and the spray distance L1 is 21 cm to 23 cm.
光触媒コーティング剤の塗布においては、吐出圧が０．２０ＭＰａを下回ると、塗布粒子が大きくなり液だれが生じる。吐出圧が０．２５ＭＰａを上回ると、塗布粒子は小さくなるが、塗着率が下がり施工性が低下する。吐出量については、２０ｇ／ｍ２を下回ると、塗布粒子の量が少なくなり仕上がり感の悪い、膜強度の低い光触媒コーティング層となる。また吐出量が３５ｇ／ｍ２を上回ると、塗布粒子が大きくなるため液だれを起こす。さらに、吹き付け距離Ｌ１が１５ｃｍを下回ると塗布粒子密度が高く、さらに塗布範囲が狭くなるので均一な塗布が出来ず液だれを起こし、２５ｃｍを上回ると光触媒コーティング剤が空中乾燥増粘を起こす。 In the application of the photocatalyst coating agent, when the discharge pressure is less than 0.20 MPa, the coated particles become large and dripping occurs. When the discharge pressure exceeds 0.25 MPa, the coated particles become small, but the coating rate decreases and the workability decreases. When the discharge amount is less than 20 g / m 2 , the amount of the applied particles is reduced, resulting in a photocatalyst coating layer having a poor finish feeling and a low film strength. On the other hand, when the discharge amount exceeds 35 g / m 2 , the coating particles become large, which causes dripping. Further, when the spray distance L1 is less than 15 cm, the coated particle density is high and the coating range is further narrowed, so that uniform coating cannot be performed and dripping occurs. When the spraying distance L1 is greater than 25 cm, the photocatalyst coating agent causes air-drying thickening.
このため、作業者が安定して光触媒コーティング層を形成するためには、好ましくは吐出条件として、吐出圧を０．２１ＭＰａ〜０．２３ＭＰａとする。また、吐出量は２８ｇ／ｍ２〜３２ｇ／ｍ２とし、吹き付け距離Ｌ１は２０ｃｍ〜２４ｃｍとする。 For this reason, in order for an operator to form a photocatalyst coating layer stably, discharge pressure shall be 0.21 MPa-0.23 MPa as discharge conditions preferably. The discharge amount is 28 g / m 2 to 32 g / m 2 and the spray distance L1 is 20 cm to 24 cm.
次に、建築物の内壁や外壁等に用いられ、遮光性を有する材料で形成された基材Ｓの表面に、光触媒コーティング剤を直接塗布することにより光触媒コーティング層を形成する光触媒塗膜形成方法について以下説明する。光触媒コーティング剤を直接塗布する基材Ｓとして例えば石材がある。石材は無機質で、遮光性を有し光触媒機能によって劣化しないため、石材に光触媒コーティング剤を直接塗布することができる。光触媒コーティング剤はペルオキソ改質アナターゼゾル、またはペルオキソチタン酸水溶液とペルオキソ改質アナターゼゾルの混合液が利用できる。作業者は、光触媒コーティング剤を材料供給口４８より加圧コンテナ４０の中に注入して、スプレーガン１０を用いて塗布する。しかし、石材は撥水性を有するため、石材に光触媒コーティング剤をスプレーガン１０を用いて一定の吐出条件でミスト塗布した後、ミスト塗布した上にさらに光触媒コーティング剤を塗布して光触媒コーティング層を形成する。このとき、ミスト塗布は、塗布斑を防止してミスト塗布をするため１セットを塗布する。また、光触媒コーティング層の形成については、一定の厚みを得るために２セットを塗布する。
Next, a photocatalyst coating layer forming method for forming a photocatalyst coating layer by directly applying a photocatalyst coating agent on the surface of a base material S used for an inner wall or an outer wall of a building and formed of a light-shielding material Is described below. An example of the base material S to which the photocatalytic coating agent is directly applied is a stone material. Since the stone is inorganic and has a light shielding property and does not deteriorate due to the photocatalytic function, the photocatalyst coating agent can be directly applied to the stone. As the photocatalyst coating agent, a peroxo modified anatase sol or a mixed solution of a peroxotitanic acid aqueous solution and a peroxo modified anatase sol can be used. The operator injects the photocatalyst coating agent into the
本実施例のミスト塗布は、吐出条件として吐出圧を０．２ＭＰａ〜０．４ＭＰａとする。また吐出量は４．０ｇ／ｍ２〜１８ｇ／ｍ２とし、吹き付け距離Ｌ１を１５ｃｍ〜３０ｃｍとして微細なミスト塗布をする。また、光触媒コーティング層の形成については、吐出条件として吐出圧を０．２０ＭＰａ〜０．２５ＭＰａとする。また吐出量は２０ｇ／ｍ２〜３０ｇ／ｍ２とし、吹き付け距離Ｌ１を１５ｃｍ〜２５ｃｍとして塗布する。以上により石材に形成されたミスト塗布が足がかりとなり、基材Ｓの撥水性を抑えて光触媒コーティング層を石材に形成することができる。 In the mist application of this embodiment, the discharge pressure is set to 0.2 MPa to 0.4 MPa as discharge conditions. The discharge amount was set to 4.0g / m 2 ~18g / m 2 , the fine mist coating spraying distance L1 as 15Cm～30cm. Moreover, about formation of a photocatalyst coating layer, discharge pressure shall be 0.20 MPa-0.25 MPa as discharge conditions. The discharge rate is set to 20g / m 2 ~30g / m 2 , coating a spray distance L1 as 15Cm～25cm. As described above, the mist coating formed on the stone becomes a foothold, and the photocatalytic coating layer can be formed on the stone while suppressing the water repellency of the substrate S.
なお、作業者が安定して光触媒コーティング層を形成するためには、好ましくは吐出条件として、ミスト塗布の吐出量を８．０ｇ／ｍ２〜１２ｇ／ｍ２とし、光触媒コーティング層の形成については、吐出量を２３ｇ／ｍ２〜２７ｇ／ｍ２とする。 In order to stably form the photocatalyst coating layer, the operator preferably sets the discharge amount of the mist application to 8.0 g / m 2 to 12 g / m 2 and the formation of the photocatalyst coating layer. , the discharge amount and 23g / m 2 ~27g / m 2 .
さらに、透明性を有する材料で形成された基材Ｓの表面に、光触媒コーティング剤を直接塗布することにより高い透明性を有する光触媒コーティング層を形成する光触媒塗膜形成方法について以下説明する。基材Ｓとして例えば透明ガラスがある。透明ガラスは無機質で、光触媒機能によって劣化しないため、光触媒コーティング剤は、ペルオキソ改質アナターゼゾル、またはペルオキソチタン酸水溶液とペルオキソ改質アナターゼゾルの混合液を直接塗布することがきる。もっとも、透明ガラス面への塗布は、ガラス面の透明度を保つため、他の施工方法に比べて光触媒コーティング層の高い透明性を必要とされる。また、透明ガラス面は撥水性を有する。したがって、透明ガラス面に光触媒コーティング剤をスプレーガン１０を用いて一定の吐出条件でミスト塗布した後、ミスト塗布した上にさらに光触媒コーティング剤を塗布して光触媒コーティング層を形成する。このとき、ミスト塗布は、塗布斑を防止してミスト塗布をするため１セットを塗布する。また、光触媒コーティング層の形成については、塗装斑を防ぎ、高い透明性を得るために１セットを塗布する。
Furthermore, a photocatalyst coating film forming method for forming a photocatalyst coating layer having high transparency by directly applying a photocatalyst coating agent on the surface of the substrate S formed of a material having transparency will be described below. An example of the substrate S is transparent glass. Since the transparent glass is inorganic and does not deteriorate due to the photocatalytic function, the photocatalytic coating agent can directly apply a peroxo-modified anatase sol or a mixed solution of a peroxotitanic acid aqueous solution and a peroxo-modified anatase sol. However, the application to the transparent glass surface requires a higher transparency of the photocatalyst coating layer than other construction methods in order to maintain the transparency of the glass surface. The transparent glass surface has water repellency. Therefore, a photocatalyst coating agent is applied to the transparent glass surface with a
本実施例のミスト塗布は、吐出条件として吐出圧を０．２ＭＰａ〜０．４ＭＰａとする。また吐出量は０．５ｇ／ｍ２〜２．０ｇ／ｍ２とし、吹き付け距離Ｌ１を１５ｃｍ〜３０ｃｍとして微細なミスト塗布をする。また、光触媒コーティング層の形成については、吐出条件として吐出圧を０．２０ＭＰａ〜０．２５ＭＰａとする。また吐出量は５．０ｇ／ｍ２〜１２ｇ／ｍ２とし、吹き付け距離Ｌ１を１５ｃｍ〜２５ｃｍとして塗布する。以上により透明ガラス面に形成されたミスト塗布が足がかりとなり、基材Ｓの撥水性を抑えて高い透明性を有する光触媒コーティング層を透明ガラス面に形成することができる。 In the mist application of this embodiment, the discharge pressure is set to 0.2 MPa to 0.4 MPa as discharge conditions. The discharge amount was set to 0.5g / m 2 ~2.0g / m 2 , the fine mist coating spraying distance L1 as 15Cm～30cm. Moreover, about formation of a photocatalyst coating layer, discharge pressure shall be 0.20 MPa-0.25 MPa as discharge conditions. The discharge amount was set to 5.0g / m 2 ~12g / m 2 , coating a spray distance L1 as 15Cm～25cm. Thus, the mist coating formed on the transparent glass surface serves as a foothold, and the photocatalytic coating layer having high transparency can be formed on the transparent glass surface while suppressing the water repellency of the substrate S.
なお、作業者が安定して光触媒コーティング層を形成するためには、好ましくは吐出条件として、ミスト塗布の吐出量を０．８ｇ／ｍ２〜１．２ｇ／ｍ２とし、光触媒コーティング層の形成については、吐出量を７．０ｇ／ｍ２〜１０ｇ／ｍ２とする。 In order to form a photocatalytic coating layer is operator stable, preferably as a discharge condition, the discharge amount of the mist coating and 0.8g / m 2 ~1.2g / m 2 , formed of a photocatalytic coating layer for, the discharge amount and 7.0g / m 2 ~10g / m 2 .
透明ガラス面や石材であっても、表面に有機質の汚れが残っている場合には、施工後の光触媒コーティング層の剥離、白濁等を防止するため汚れの除去が必要になる。光触媒コーティング層を形成する前に、アンダーコート層を形成して光触媒コーティング層の剥離、白濁等を防止することができる。 Even if it is a transparent glass surface or stone, if organic stains remain on the surface, it is necessary to remove the stains in order to prevent the photocatalyst coating layer from being peeled off, clouded, etc. after construction. Before forming the photocatalyst coating layer, an undercoat layer can be formed to prevent the photocatalyst coating layer from being peeled off or clouded.
透明ガラス面への光触媒コーティング層の形成は、光触媒コーティング剤の使用量が少ないため加圧コンテナ４０を使用せず、ペルオキソ改質アナターゼゾルまたは、ペルオキソチタン酸水溶液とペルオキソ改質アナターゼゾルの混合液を注入したスプレーガン用の上カップを注入口３２に接続して塗布することができる。
The formation of the photocatalytic coating layer on the transparent glass surface does not use the
本発明を適用して光触媒コーティング層を形成する建築物の内壁や外壁等に用いられる基材Ｓは、アクリルシリコーン樹脂塗膜、石材、透明ガラス面に限られず、例えば、樹脂・油脂類を含む製品（アクリル・ビニール・一般塗料など）、紙、木材、繊維、金属（アルミ・ステンレス・鉄など）、セラミックス（タイル・ガラスなど）、モルタル、コンクリート、などが挙げられる。ただし、撥水性の著しく高いアクリル樹脂板等は除く。その他の基材における吐出量（ｇ／ｍ２）を表１に示す。なお、塗装タイプとして付した記号は、表示上の便宜的な表号である。 The base material S used for the inner wall or outer wall of a building that forms the photocatalyst coating layer by applying the present invention is not limited to an acrylic silicone resin coating, stone, or transparent glass surface, and includes, for example, resins and oils and fats. Products (acrylic, vinyl, general paint, etc.), paper, wood, fibers, metals (aluminum, stainless steel, iron, etc.), ceramics (tile, glass, etc.), mortar, concrete, etc. However, acrylic resin plates with extremely high water repellency are excluded. Table 1 shows the discharge amount (g / m 2 ) in other base materials. In addition, the symbol attached | subjected as a coating type is a convenient symbol on a display.
コート剤Ｃの基材Ｓに対する塗着率は、基材Ｓの種類、天候により異なるため、作業者は状況に合わせて塗出条件を定める必要がある。特に吐出量は塗着率等により調節が必要になる。作業者は本発明の吐出条件を微調整することで、状況に応じた塗出条件の最適値を容易に得ることができる。したがって作業者の技術力に左右されず安定して基材Ｓに光触媒塗膜を形成することができる。 Since the coating rate of the coating agent C on the base material S varies depending on the type of the base material S and the weather, the operator needs to determine the coating conditions according to the situation. In particular, the discharge amount needs to be adjusted depending on the coating rate and the like. The operator can easily obtain the optimum value of the coating condition according to the situation by finely adjusting the discharge condition of the present invention. Therefore, the photocatalytic coating film can be stably formed on the substrate S without being influenced by the technical ability of the operator.
以上のように、本発明によれば、建築物の内壁や外壁等に用いられる基材に、添加物を用いずに、膜強度の高い、仕上がり感のよい光触媒塗膜を形成することができ、施工後の光触媒塗膜の変色を防ぎ、光触媒機能を長期に渡り維持する施工性に優れた光触媒塗膜形成方法を提供することができる。 As described above, according to the present invention, a photocatalyst coating film having high film strength and good finish can be formed on a base material used for an inner wall or an outer wall of a building without using an additive. The photocatalyst coating film formation method excellent in workability which prevents discoloration of the photocatalyst coating film after construction, and maintains a photocatalyst function over a long term can be provided.
１０・・・スプレーガン
１２・・・引金
１４・・・パターンバルブ
１６・・・ニードルバルブ
１８・・・エアバルブ
２０・・・スプレーノズル
２２・・・ノズル穴
２３・・・中心空気穴
２４・・・パターン形成空気穴
２６・・・空気キャップ
３０・・・エア入口
３２・・・注入口
４０・・・加圧コンテナ
４２・・・吸上管
４４・・・減圧弁
４６・・・液体用ホース
４８・・・材料供給口
５０・・・エアコンプレッサ
５４・・・減圧弁
５６・・・エア用ホース
Ｌ１・・・吹き付け距離
Ｓ・・・・基材
Ｃ・・・・コート剤
DESCRIPTION OF
Claims (9)
該基材の表面に、該光触媒コーティング剤による劣化を防止するアンダーコート剤をミスト塗布し、該ミスト塗布した上にさらに該アンダーコート剤を塗布してアンダーコート層を形成した後、
該アンダーコート層の上に、該光触媒コーティング剤を塗布して光触媒コーティング層を形成することを特徴とする光触媒塗膜形成方法。 In a photocatalyst coating film forming method in which a photocatalyst coating layer is formed by applying the photocatalyst coating agent to the surface of the base material that may be deteriorated by a photocatalyst coating agent in a base material used for an inner wall or an outer wall of a building. ,
On the surface of the base material, an undercoat agent that prevents deterioration due to the photocatalyst coating agent is applied by mist, and after the mist is applied, the undercoat agent is further applied to form an undercoat layer.
A photocatalyst coating layer forming method comprising applying the photocatalyst coating agent on the undercoat layer to form a photocatalyst coating layer.
該基材の表面に該光触媒コーティング剤をミスト塗布した後、
該ミスト塗布した上にさらに該光触媒コーティング剤を塗布して光触媒コーティング層を形成することを特徴とする光触媒塗膜形成方法。 A photocatalyst coating layer forming method in which a photocatalyst coating layer is formed by directly applying a photocatalyst coating agent on the surface of a base material used for an inner wall or an outer wall of a building, which is not likely to be deteriorated by the photocatalyst coating agent In
After mist-coating the photocatalyst coating agent on the surface of the substrate,
A photocatalyst coating film forming method, wherein the photocatalyst coating layer is formed by further applying the photocatalyst coating agent on the mist.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006254049A JP2008073588A (en) | 2006-09-20 | 2006-09-20 | Photocatalyst coating formation method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006254049A JP2008073588A (en) | 2006-09-20 | 2006-09-20 | Photocatalyst coating formation method |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008073588A true JP2008073588A (en) | 2008-04-03 |
Family
ID=39346204
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006254049A Withdrawn JP2008073588A (en) | 2006-09-20 | 2006-09-20 | Photocatalyst coating formation method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2008073588A (en) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010172830A (en) * | 2009-01-29 | 2010-08-12 | Asaka Riken:Kk | Quasi water-repellent member and coating method |
| JP2018508606A (en) * | 2015-02-11 | 2018-03-29 | アライド バイオサイエンス， インコーポレイテッド | Antimicrobial coating and method for forming it |
| US10258046B2 (en) | 2014-11-04 | 2019-04-16 | Allied Bioscience, Inc. | Antimicrobial coatings comprising quaternary silanes |
| US10980236B2 (en) | 2014-11-04 | 2021-04-20 | Allied Bioscience, Inc. | Broad spectrum antimicrobial coatings comprising combinations of organosilanes |
| US10993441B2 (en) | 2014-11-04 | 2021-05-04 | Allied Bioscience, Inc. | Antimicrobial coatings comprising organosilane homopolymers |
-
2006
- 2006-09-20 JP JP2006254049A patent/JP2008073588A/en not_active Withdrawn
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010172830A (en) * | 2009-01-29 | 2010-08-12 | Asaka Riken:Kk | Quasi water-repellent member and coating method |
| US10194664B2 (en) | 2014-11-04 | 2019-02-05 | Allied Bioscience, Inc. | Methods of preparing self-decontaminating surfaces using reactive silanes, triethanolamine and titanium anatase sol |
| US10258046B2 (en) | 2014-11-04 | 2019-04-16 | Allied Bioscience, Inc. | Antimicrobial coatings comprising quaternary silanes |
| US10420342B2 (en) | 2014-11-04 | 2019-09-24 | Allied Bioscience, Inc. | Methods of coating a surface with an antimicrobial coating capable of reducing the number of murine norovirus inoculated thereon |
| US10463046B2 (en) | 2014-11-04 | 2019-11-05 | Allied Bioscience, Inc. | Antimicrobial coatings capable of reducing the number of murine norovirus inoculated thereon |
| US10980236B2 (en) | 2014-11-04 | 2021-04-20 | Allied Bioscience, Inc. | Broad spectrum antimicrobial coatings comprising combinations of organosilanes |
| US10993441B2 (en) | 2014-11-04 | 2021-05-04 | Allied Bioscience, Inc. | Antimicrobial coatings comprising organosilane homopolymers |
| US11033031B1 (en) | 2014-11-04 | 2021-06-15 | Allied Bioscience, Inc. | Broad spectrum antimicrobial coatings comprising combinations of organosilanes |
| US11369114B2 (en) | 2014-11-04 | 2022-06-28 | Allied Bioscience, Inc. | Antimicrobial coatings comprising organosilane homopolymers |
| JP2018508606A (en) * | 2015-02-11 | 2018-03-29 | アライド バイオサイエンス， インコーポレイテッド | Antimicrobial coating and method for forming it |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2008073588A (en) | Photocatalyst coating formation method | |
| KR100935808B1 (en) | Ultra-weatherability antipollution process over nonflammable ceramic coating materials and fluorine resins | |
| CN101346445A (en) | Coating agent | |
| CN108822603A (en) | A kind of preparation method of coating composition | |
| CN103608533A (en) | Coated wood products and method of producing coated wood products | |
| WO2006090795A1 (en) | Coating method for forming coating film containing photocatalyst | |
| CN106065268A (en) | A kind of electrostatic spraying unsaturated polyester (UP) white primer and preparation method thereof | |
| CN106756714B (en) | A kind of preparation method of the stainless steel material with surface insulation layer | |
| JP6912836B1 (en) | A method of applying a foaming airless coating agent on an existing coating film to peel it off. | |
| JP5243850B2 (en) | Aqueous liquid flow spray coating method and aqueous liquid flow spray coating apparatus using aqueous silicon oxide solution | |
| JP5065236B2 (en) | Antifouling coating liquid, antifouling coating layer forming method, and ceramic building material having antifouling coating layer | |
| WO2016178361A1 (en) | Material surface blasting method | |
| KR102254361B1 (en) | Spray valve for low flow late to coat a medium- and high-levels viscosity liquid material | |
| JP6358589B2 (en) | How to apply low viscosity paint | |
| JP2010138358A5 (en) | ||
| CN109610833B (en) | Construction technology of building coating | |
| CN203994984U (en) | Produce the equipment for the anticorrosion embossing plate of flocking hot rolling of ocean engineering | |
| JP2003010777A (en) | Coating finishing method for wet wall surface | |
| WO2017116560A1 (en) | System and method for application of coating compositions | |
| KR101415620B1 (en) | Coating method and its device of dampproof-insulation materials for circuit board | |
| CN108031639A (en) | A kind of method of pin hole reparation before fiberglass coating | |
| JPH10225659A (en) | Formation of inorganic coating film | |
| JP2008285528A (en) | Water-based coating composition | |
| JP2019030829A (en) | Film formation device and film formation method | |
| JP5846645B2 (en) | Method and apparatus for applying aqueous moisture-proof insulating material to mounting substrate |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20091201 |