JP2008059759A - 真空装置及び真空装置に用いられる高電圧印加ユニット - Google Patents
真空装置及び真空装置に用いられる高電圧印加ユニット Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008059759A JP2008059759A JP2006231509A JP2006231509A JP2008059759A JP 2008059759 A JP2008059759 A JP 2008059759A JP 2006231509 A JP2006231509 A JP 2006231509A JP 2006231509 A JP2006231509 A JP 2006231509A JP 2008059759 A JP2008059759 A JP 2008059759A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- high voltage
- insulator
- vacuum
- electrode
- voltage application
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
【課題】電圧印加ユニットの耐電圧性を維持しつつ、軸方向及び径方向ともに小型化することである。
【解決手段】真空容器2と、その真空容器2内に設けられる電極8と、前記真空容器2の外壁21に設けられ、外部から前記電極8に電圧を印加するための高電圧印加ユニット4と、を備え、前記高電圧印加ユニット4が、一端が大気側に、他端が真空側に設けられて、当該他端が前記電極に電気的に接触して電圧を印加する高電圧印加端子41と、前記高電圧印加端子41が貫通して設けられ、一端が大気側に、他端が真空側に設けられる絶縁性を有する絶縁体42と、前記絶縁体42が貫通して設けられ、前記真空容器の外壁21に気密に取り付けられるフランジ部43と、を備え、前記フランジ部43から大気側及び真空側に突出した前記絶縁体42の外側周面42aを非接触状態にして、さらに、前記絶縁体42の外側周面42aに凹凸部を設けていることを特徴とする。
【選択図】図3
【解決手段】真空容器2と、その真空容器2内に設けられる電極8と、前記真空容器2の外壁21に設けられ、外部から前記電極8に電圧を印加するための高電圧印加ユニット4と、を備え、前記高電圧印加ユニット4が、一端が大気側に、他端が真空側に設けられて、当該他端が前記電極に電気的に接触して電圧を印加する高電圧印加端子41と、前記高電圧印加端子41が貫通して設けられ、一端が大気側に、他端が真空側に設けられる絶縁性を有する絶縁体42と、前記絶縁体42が貫通して設けられ、前記真空容器の外壁21に気密に取り付けられるフランジ部43と、を備え、前記フランジ部43から大気側及び真空側に突出した前記絶縁体42の外側周面42aを非接触状態にして、さらに、前記絶縁体42の外側周面42aに凹凸部を設けていることを特徴とする。
【選択図】図3
Description
本発明は、真空装置に関し、特に真空装置の真空容器内に設けられた電極に高電圧を印加するための高電圧印加ユニットに関するものである。
従来、電圧印加端子を保持する絶縁体(絶縁碍子)は、一端が大気側に、他端が真空側に設けられており、真空容器の外壁にフランジ部によって取り付けられている。そして、大気側に設けられた電圧印加端子には、電源からのケーブルが取り付けられるコネクタが接続される。このとき、コネクタのハウジングの内側周面は絶縁体の外側周面に接触する構造となっている(特許文献1参照)。
しかしながら、上記構造では、耐電圧性を向上させるために、電圧印加端子と当該ハウジングの内側周面との半径方向の距離を大きくする必要がある。そのためには、絶縁体の径を大きくする必要があり、絶縁体を真空容器に取り付けるためのフランジもそれに伴って大きくなり、少なくとも径方向に電圧印加ユニットが肥大化してしまい、真空装置全体の小型化の障害となっている。
特開2002−048760号公報
そこで、本発明は、上記問題点を解決するためになされたものであり、電圧印加ユニットの耐電圧性を維持しつつ、軸方向及び径方向ともに小型化することをその主たる所期課題とするものである。
すなわち本発明に係る真空装置は、真空容器と、その真空容器内に設けられる電極と、前記真空容器の外壁に設けられ、外部から前記電極に電圧を印加するための高電圧印加ユニットと、を備え、前記高電圧印加ユニットが、一端が大気側に、他端が真空側に設けられて、当該他端が前記電極に電気的に接触して電圧を印加する高電圧印加端子と、前記高電圧印加端子が貫通して設けられ、一端が大気側に、他端が真空側に設けられる絶縁性を有する絶縁体と、前記絶縁体が貫通して設けられ、前記真空容器の外壁に気密に取り付けられるフランジ部と、を備え、前記フランジ部から大気側及び真空側に突出した前記絶縁体の外側周面を非接触状態にして、さらに、前記絶縁体の外側周面に凹凸部を設けていることを特徴とする。
このようなものであれば、フランジ部から突出している絶縁体の外側周面を非接触状態にしているので、絶縁距離をかせぐことができ、径方向に小さくすることができる。また、絶縁体の外側周面に凹凸部を設けているので、軸方向に小さくすることができる。つまり、高耐電圧を維持しつつ、径方向及び軸方向ともに小型化することができる。その結果、高電圧印加ユニット及び真空装置を小型化することができる。なおかつ、フランジ部を絶縁体が貫通した構造をとることにより、大気側のみならず真空側に突出した外側周面にも凹凸部を設けることができ、沿面距離をかせぐことにより小型化することができる。
具体的な実施の態様としては、前記真空容器が、電子顕微鏡等に用いられる電子銃を有する鏡筒部であり、前記電極が、カソード電極、エクストラクタ電極又はサプレッサ電極であることが考えられる。
さらに、絶縁体が複数の高電圧印加端子を一体的に保持するものであれば、組み立てが容易になる。
その上、前記絶縁体が複数の高電圧印加端子を回転非対称に貫通支持しているので、誤った組み立てを防止することができる。
組み立ての容易化、及びフランジ部から大気側及び真空側に突出している絶縁体の外側周面を他の部材と非接触状態にする構造を容易に実現するためには、前記フランジ部が環状の金属からなり、当該フランジ部の中心孔に前記絶縁体を貫通させて構成していることが望ましい。
前記高電圧印加端子が、前記絶縁体の内部を貫通する端子本体と、前記端子本体両端のいずれか少なくとも一方に接続され、貫通方向に弾性的に変形可能な弾性接触子と、を備えていることが望ましい。
このようなものであれば、電極に電圧印加端子が軸方向に押圧して接触するので、接触性の確保及び組み立ての容易性を確保することができる。これにより確実に電極に高電圧を印加することができるようになる。また、電極に対してソケットが嵌り込む構造ではないので、軸方向の長さを短くすることができる。これにより高電圧印加端子の軸方向の小型化を実現することができる。
前記高電圧印加端子の具体的な実施態様としては、前記弾性接触子が、前記端子本体に接続される本体部と、前記本体部に対して進退運動する可動部と、前記本体部及び前記可動部の間に介在する弾性部材と、を備え、前記高電圧印加端子を前記真空容器に取り付けることにより、前記弾性部材が、弾性復帰力により前記可動部を前記電極に押圧接触させることが考えられる。
前記弾性接触子が、前記端子本体に取り外し可能に取り付けられるものであることが好ましい。これにより、弾性接触子を選択して取り付けることができ、種々の電極に対応可能とすることができる。
また、本発明に係る真空装置用高電圧印加ユニットは、真空容器内に設けられた電極に大気側から高電圧を印加するための高電圧印加ユニットであって、一端が大気側に、他端が真空側に設けられて、当該他端が前記電極に電気的に接触して電圧を印加する高電圧印加端子と、前記高電圧印加端子が貫通して設けられ、一端が大気側に、他端が真空側に設けられる絶縁性を有する絶縁体と、前記絶縁体が貫通して設けられ、前記真空容器の側壁に気密に取り付けられるフランジ部と、を備え、大気側に設けられて前記絶縁体の周囲を覆うカバー部材及び前記真空容器と前記絶縁体との間に隙間を設け、前記絶縁体の外側周面に凹凸部を設けていることを特徴とする。
このようなものであれば、フランジ部から突出している絶縁体の外側周面を非接触状態にしているので、径方向に小さくすることができる。また、絶縁体の外側周面に凹凸部を設けているので、軸方向に小さくすることができる。つまり、高耐電圧を維持しつつ、径方向及び軸方向ともに小型化することができる。その結果、高電圧印加ユニットを小型化することができる。なおかつ、フランジ部を絶縁体が貫通した構造をとることにより、大気側のみならず真空側に突出した外側周面にも凹凸部を設けることができ、沿面距離をかせぐことにより小型化することができる。
このように構成した本発明によれば、フランジ部から突出している絶縁体の外側周面を非接触状態にし、その外側周面に凹凸部を設けているので、径方向にも軸方向にも小さくすることができる。つまり、高耐電圧を維持しつつ、径方向及び軸方向ともに小型化することができる。その結果、高電圧印加ユニット及び真空装置を小型化することができる。
以下に本発明の電圧印加ユニットを用いた電子顕微鏡(SEM)の一実施形態について図面を参照して説明する。
本実施形態に係る電子顕微鏡1は、図1に示すように、電子銃8及び電子線制御手段9を有する鏡筒部2と、前記電子銃8からの電子線EBが照射される試料Wを収容する試料収容室3と、前記鏡筒部2の上端部に設けられ、前記電子銃8に高電圧を印加する高電圧印加ユニット4と、当該高電圧印加ユニット4に電流を流す配線コネクタ5と、を備えている。なお、図1において、6は、試料Wへの電子線照射により発生した2次電子等を検出する検出装置であり、7は、検出装置6からの検出信号に基づき試料W上の電子線EBの2次元走査に同期して試料像を表示等する情報処理装置である。
次に、試料収容室3及び配線コネクタ5について説明する。
試料収容室3は、図1に示すように、試料移動機構を有する試料ステージ31と、試料収容室3内を真空にするための真空排気機構32を備えており、試料Wから放出された2次電子等を検出する検出装置6が設置される。
配線コネクタ5は、図示しない電源からの配線コードCを後述する高電圧印加端子41に接続するものであり、図2、図3及び図4に示すように、ハウジング51と、当該ハウジング51内に設けられ、高電圧印加端子41の大気側端部が挿入されて連結するソケット部521を有する金属製の接続ピン52と、当該接続ピン52を保持する絶縁性を有するピン保持体53とを備えている。
ハウジング51は金属から形成され、その先端側(図2等においては下端側)には、後述する高電圧印加ユニット4のフランジ部43に接続される接続フランジ511を有しており、ねじによって高電圧印加ユニット4に固定される。ピン保持体53の後端側(図2等においては上端側)には、配線コードCが接続されており、その配線コードCはハウジング51の上端部の側壁から外部に導かれている。なお、図4及び図5において配線コードCは図示しない。
ピン保持体53の外側周面53aには、周方向に凹凸部531を設けるとともに、その上端面53bにおいて接続ピン52が突出している部分に座ぐり532を設けている。これにより、コネクタ5の耐電圧を確保しつつも、コネクタ5の小型化を実現することができる。
次に鏡筒部2について説明する。
鏡筒部2は、図1に示すように、試料収容室3の上部に連続して設けられており、試料収容室3の所定領域に設置された試料Wに電子線EBを照射する電子銃8と、当該電子銃8から射出された電子線EBを試料Wの測定部位に収束させるとともに走査させるための電子線制御手段9と、鏡筒部2内を真空にするための真空排気機構10を備えている。また、その上端には、開口部を有しており、高電圧印加ユニット4が固定される。
高電圧印加ユニット4が固定された後、真空排気機構32、10によって、試料収容室3とともに真空に維持される。
電子線制御手段9は、電子銃8から電子を引き出すためのガンレンズ91、電子線量をモニタするためのアパーチャ用電極92、電子線EBの非点収差を補正するための非点補正器(スティグメータ)93、電子線EBを偏光させるための偏向器(デフレクタ)94、電子線EBを収束させるための静電型レンズである対物レンズ95であり、これらは上部からこの順で形成されている。
電子銃8は、図3、図4及び図5に示すように、カソードであるエミッタチップ81と、そのエミッタチップ81を加熱するためのフィラメント82と、前記エミッタチップ81の先端に強い電界を作り、電子を放出させるためのエクストラクタ電極83と、そのエクストラクタ電極83との間で電界レンズを形成し、エミッタチップ81から放出された電子をさらに加速するとともにその軌道にレンズ作用を及ぼすアノード電極(図示しない)と、エミッタチップ81の先端以外の部位で発生する電子を排除するサプレッサ電極84とを備えた加熱型FE電子銃8と称されるものである。
しかしてこの電子銃8は、前記エミッタチップ81、フィラメント82、サプレッサ電極84及びエクストラクタ電極83を一体化して構造体11としている。
この構造体11は、特に図5に示すように、ヘアピンフィラメント82及びその先端部にスポット溶接等で取り付けられたエミッタチップ81と、それらフィラメント82及びエミッタチップ81を保持するカソード支持体たる円柱状のステム12と、そのステム12の外周にがた無く外嵌し固定された円筒状のサプレッサ電極84と、そのサプレッサ電極84に絶縁スペーサ13を介して外嵌する円筒状のエクストラクタ電極83とを備えている。
ステム12は、例えばセラミック等の絶縁性を有する素材で作られたもので、フィラメント82の両端にスポット溶接等で接続された金属棒である一対のカソード電極85を内部に貫通させて保持することにより、前記フィラメント82及びエミッタチップ81を固定保持する。
サプレッサ電極84は、その内部にステム12、フィラメント82及びエミッタチップ81を収容する金属製のもので、ステム12側の一端面が開口し、他端面が円錐状に突出する底壁で閉塞されてなる。その底壁の中央には電子放出孔841が貫通させてあり、その電子放出孔841内であってサプレッサ電極84の中心軸上に前記エミッタチップ81が配置されるようにしてある。
エクストラクタ電極83は、前記サプレッサ電極84に外嵌してこれを内部に収容する金属製のもので、その内周径を前記サプレッサ電極84の外周径よりも大きく設定し、リング状をなす絶縁スペーサ13を介して、サプレッサ電極84と所定の離間距離を保つようにしてある。このエクストラクタ電極83はステム12側の一端面が開口し、他端面に設けられた底壁の中央部にはエミッタチップ81から放出される電子を挿通させるための電子挿通孔831が形成してある。なお、前記絶縁スペーサ13は、前記エミッタチップ81とエクストラクタ電極83の底壁との間の中心軸方向の離間距離を規定するためのものであり、エクストラクタ電極83とサプレッサ電極84との間に密閉された空間が形成されないように、エクストラクタ電極83の内周径よりもその外径を若干小さくし、エクストラクタ電極83の内周面との間に若干の隙間が形成されるようにしてある。
また、エクストラクタ電極83の側壁には、その厚み方向に貫通する雌ねじ孔832が例えば円周方向に等間隔に離間させて4箇所設けてあり、その雌ねじ孔832に調整・固定部材である調整ねじ14が螺合させてある。そして、これら調整ねじ14をラジアル方向に独立して螺進退させ前記サプレッサ電極84の位置調整及び固定を行うようにしている。
ここで、この調整ねじ14は強度の関係から金属製のものを用いており、この調整ねじ14によってサプレッサ電極84を押圧するとサプレッサ電極84−エクストラクタ電極83間の絶縁が保てないため、サプレッサ電極84に大径の孔842を設け、前記調整ねじ14をこの孔842に挿通させて、サプレッサ電極84に接触しないようにし、ステム12を押圧するようにしている。なお、この調整ねじ14には、頭のない止めねじタイプのものを用いており、この調整ねじ14が雌ねじ孔832に埋没してエクストラクタ電極83の外周面より外側に突出しないようにしている。
一方、カソード電極85は、電子の射出方向の反対側端面から、中心軸方向に沿って延出させてあり、その電極85がエクストラクタ電極83の外周を超えて外に出ないようにしている。
エクストラクタ電極83及びサプレッサ電極84は、その本体上端面833、843に後述する弾性接触子413が押圧接触する。また、エクストラクタ電極83及びサプレッサ電極84には、それぞれ内部排気のための気抜き孔を、円周方向に沿って等間隔に4つ設けている。
電子銃8の構成について言えば、内からステム12、サプレッサ電極84、エクストラクタ電極83の順で外嵌していく多重筒構造であり、無駄なスペースを排除することができるうえ、エクストラクタ電極83が筐体の役割を果たして、専用の筐体を設ける必要が無いため、小型化を促進することができる。加えてカソード電極85が、電子の射出方向の反対側端面(図2等において上端面)から、中心軸方向に沿って延出させてあり、カソード電極85がエクストラクタ電極83の外周を超えて外に出ないようにしているため、この点からも小型化に寄与できる。また、サプレッサ電極84及びエクストラクタ電極83には、後述する弾性接触子413が押圧接触する構造として、それら電極83、84に配線を設ける必要がないことからも小型化に寄与できる。
次に高電圧印加ユニット4について説明する。
高電圧印加ユニット4は、真空容器である鏡筒部2の外壁21の外部に設けられた電源からの電流を鏡筒部2内部に設けられた電子銃8を構成する電極83、84、85に導入し、当該電極83、84、85に高電圧を印加するためのものである。
具体的な構成は、図6、図7及び図8に示すように、高電圧印加端子41と、当該高電圧印加端子41を保持する絶縁体42と、絶縁体42を保持して当該絶縁体42を真空容器である鏡筒部2に保持するためにフランジ部43とを備えている。以下に各部について説明する。
高電圧印加端子41は、一端が大気側に、他端が真空側に設けられて、当該他端が前記電極83、84、85に電気的に接触して電圧を印加するものであり、銅又はステンレススチールなどの金属素材から形成されている。
この高電圧印加端子41は本実施形態では4本あり、そのうち2本は、カソード電極85に電流を導入するため、つまり電圧を印加するためのカソード電極用端子41aであり、1つは、エクストラクタ電極83に電圧を印加するためのエクストラクタ電極用端子41bであり、1つは、サプレッサ電極84に電圧を印加するためのサプレッサ電極用端子41cである。
そして、エクストラクタ電極用端子41b及びサプレッサ電極用端子41cと、カソード電極用端子41aとはその構成が異なる。なお、図3がカソード電極用端子41aを示す断面図であり、図4がエクストラクタ電極用端子41b及びサプレッサ電極用端子を示す断面図である。
カソード電極用端子41aは、図3に示すように、絶縁体42の内部を貫通する端子本体411と、その端子本体411の真空側端部にねじ留めされたソケット要素412とを備えている。ソケット要素412は、高電圧印加ユニット4と電子銃8とを接続する時において、ステム12の上端面から突出したカソード電極85が挿入されるものである。
一方、エクストラクタ電極用端子41a及びサプレッサ電極用端子41cは、図4及び図8に示すように、絶縁体42の内部を貫通する端子本体411と、端子本体411両端のいずれか少なくとも一方に接続され、貫通方向に弾性的に変形可能な弾性接触子413とを備えている。本実施形態において弾性接触子413は、端子本体411の真空側端部に接続されるものである。
端子本体411は、絶縁体42に予め設けられた保持孔に挿入されて、メタライズ処理によって固定され真空封じされている。その真空側端部には、雄ねじ部411aが形成されている。そして、カソード電極用端子41aに用いられる場合には、真空側端部にはソケット要素412がねじ留めされる。また、エクストラクタ電極用端子41a及びサプレッサ電極用端子41cに用いられる場合には、真空側端部の雄ねじ部411aに弾性接触子413が螺合される。
さらに、弾性接触子413は、特に図9に示すように、いわゆるプランジャ型のものであり、端子本体411の真空側端部の雄ねじ部411aに接続される本体部15と、本体部15に対して進退運動する可動部16と、本体部15及び可動部16の間に介在するスプリング等の弾性部材17とを備えている。
本体部15は、金属製の筒状体をなし、その内部に可動部16及び弾性部材17を収容するものである。なお、可動部16に関しては、その内部で軸方向に進退移動可能に収容している。また、本体部15の真空側端部の雄ねじ部411aにねじ作用で嵌め込まれる雌ねじ部151を、その基端部に有している。さらに、本体部15の側周壁には、気抜き孔152を設けるようにしている。
可動部16は、金属製であり、端子本体411の絶縁体42に対する貫通方向、つまり軸方向に沿って本体部15の内壁15aに接触しながら進退運動するものである。その構成は、本体部15の内壁に接触して進退運動を行うとともに、弾性部材17からの弾性復帰力を受ける被作用部161と、本体部15の先端壁に設けられた貫通孔153から本体部15の前方に突出して電極83、84に接触する接触部162とからなる。被作用部161の基端面161aには、弾性部材17の一端が収容される凹部163が形成されている。
このように構成した高電圧印加端子41は、高電圧印加ユニット4を鏡筒部2に取り付けることにより、可動部16が約1mm程度縮んでエクストラクタ電極83及びサプレッサ電極84に接触する。このとき、可動部16は弾性部材17の弾性復帰力によって押圧接触する。
絶縁体42は、高電圧印加端子41を貫通して保持して、一端が大気側に、他端が真空側に設けられるものであり、セラミックス等の絶縁性材料から形成されている。その形状は概ね回転体形状をなし、4本の高電圧印加端子41を保持している。このとき、高電圧印加端子41の配置態様としては、誤った組み立てを防止する観点から非回転対称している。つまり、高電圧印加ユニット4と電子銃8とを誤った方向で接続しようとしたときに接続ができないか、あるいは弾性接触子413がサプレッサ電極83及びエクストラクタ電極84に接触しない、又はカソード電極85がソケット要素412に入らないような配置態様にしている。
しかして本実施形態では、絶縁体42の外側周面42a、42cとその周囲に設けられる部材との間に隙間を設けるようにしている。具体的には、絶縁体42は、真空側においては、その外側周面42cが鏡筒部2の外壁21と接触しないように設け、大気側においては、その外側周面42aがカバー部材である配線コネクタ5のハウジング51の内壁51aと接触しないように設けられる。つまり、絶縁体42は、その外側周面42a、42cにおいては、フランジ部43のみと接触して、他の部材とは非接触状態となるように配置している。
このように、絶縁体42の外側周面42a、42cを他の部材と非接触にしているので、他の部材と接触することによる耐電圧の低下を防止している。そして、金属から構成されるハウジング51の内壁51aと接触しないので、径方向における大きさを小さくすることができる。
さらに本実施形態における絶縁体42のうち、フランジ部43から大気側に突出している部分の外側周面42aに、周方向にコルゲート構造である凹凸部421を備えている。これにより、端子先端からフランジ部43まで直線的に沿面を設けることなく、耐電圧を確保可能な沿面距離を得ている。
また、絶縁体42のうち、フランジ部43から真空側に突出している部分の外側周面42cに、周方向にコルゲート構造である凹凸部423を備えている。このような構造にできるのは、絶縁体42がフランジ部43を貫通する一体構造にしているからであり、大気側の凹凸部421と真空側の凹凸部423とを設けることにより、沿面距離をかせいで、より一層の小型化を可能にすることができる。
さらに、絶縁体42の両端面42b、具体的には、高電圧印加端子41が突出している部分に座ぐり(凹部)422を設け、その座ぐり422の中央部分から高電圧印加端子41が突出するようにしている。座ぐり422の深さは、端子間の沿面距離が耐電圧を確保できる距離であって、尚かつメタライズ処理が可能な深さとなるようにしている。また真空側端面42bの座ぐり422の内径は、弾性接触子413を収容できる程度の径としている。
このように、高電圧印加端子41が突出している部分に座ぐり422を設けているので、端子間の沿面距離を確保することができ、端子間の絶縁を保証することができる。また、これによっても端子先端からフランジ部43までの沿面距離を大きくすることができるので、絶縁体42の耐電圧をさらに向上させることができる。
このように、外側周面42a、42cに周方向に凹凸部421、423を設けているので、絶縁体42の軸方向の長さを短くすることができる。また、両端面42bの高電圧印加端子41が延出している部分に座ぐり422を設けているので、端子間の距離を短くすることができ、径方向にも小さくすることができる。
フランジ部43は、絶縁体42が貫通して設けられ、前記鏡筒部2の外壁21に気密に取り付けられるものであり、例えば直径φ50[mm]の金属からなる環状をなし、その中央部に設けられた中心孔に前記絶縁体42が貫通して設けられている。また、フランジ部43には、鏡筒部2に気密に取り付けられるためのねじ孔及びコネクタのハウジング51が取り付けられるためにねじ孔が設けられている。このように、フランジ部43を絶縁体42が貫通した構造をとることにより、大気側に突出した外側周面42aのみならず真空側に突出した外側周面42cにも凹凸部423を設けることができ、沿面距離をかせぐことにより小型化することができる。
また、絶縁体42とフランジ部43とはコバール18を介して気密に溶接されている。これにより、鏡筒部2の上端に開口した開口部に高電圧印加ユニット4を取り付けることにより、鏡筒部2は真空容器として機能することができる。
フランジ部43の上面43aには、コネクタのハウジング51が取り付けられるハウジング取り付け領域431が設けられている。ハウジング取り付け領域431は、フランジ部43の上面外側に設けられている。また、フランジ部43の上面内側には、ロウ付け等によりコバール18が接合される切り欠き部432が設けられている。この切り欠き部432は、フランジ部43の内周全体にわたって設けられ、ハウジング取り付け領域431を規定している。この構成により、ハウジング51内壁が絶縁体42の外側周面42aに接触しない構造にすることが可能となる。
次にこのように構成した高電圧印加ユニット4等の組み立てについて説明する。
電極用端子41のうち、端子本体411を絶縁体42の保持孔に挿入し、メタライズ(Mo−Mn+Niメッキ)によって固定して真空封じする。その後、絶縁体42をフランジ部43に挿入して一体化する。
そして、フランジ部43に設けられた切り欠き部432及び切り欠き部432に対応する外側周面42aにNiメッキ処理をして、その後コバール18をロウ付けして真空封じする。また、絶縁体42に保持された端子本体411の真空側端部の雄ねじ部411aに弾性接触子413を螺合させる。このようにして構成した高電圧印加ユニット4を鏡筒部2の上端開口部に気密に取り付ける。その後、配線コネクタ5のハウジング51をフランジ部43上面に設けたフランジ部取り付け領域431に取り付ける。
このように構成した本実施形態に係る電子顕微鏡1によれば、フランジ部43から大気側及び真空側に突出している絶縁体42の外側周面42a、42cを非接触状態にしているので、径方向に小さくすることができる。また、絶縁体42の外側周面42a、42cに凹凸部421、423を設けているので、軸方向に小さくすることができる。さらに、絶縁体42の両端面42bにおいて、高電圧印加端子41が演出している部分に座ぐり422を設けているので、端子間の絶縁を確保しながらも絶縁体42の径方向の大きさをさらに小さくすることができる。その結果、高電圧印加ユニット4及び真空装置1を小型化することができる。例えば20[kV]の高耐電圧を維持しつつ、径方向及び軸方向ともに小型化することができる。
また、コネクタのハウジング51によって絶縁体42の汚染防止及び高電圧印加端子41の破損防止もできる。
さらに、高電圧印加端子41を非回転対称に絶縁体42に保持するようにしているので、誤挿入等の誤った組み立てを防止することができ、安全の確保も実現することができる。
加えて、端子本体を共通にして、電極に接触するソケット要素及び弾性接触子を交換可能にしているので、種々の電子銃及び電極にも対応することができる。また、高電圧印加端子41は、弾性接触子413を用いてエクストラクタ電極83及びサプレッサ電極84に軸方向に押圧して接触するので、接触性の確実及び組み立ての容易性を確保することができる。これにより確実に電極に高電圧を印加することができるようになる。また、電極83、84に対してソケットが嵌り込む構造ではないので、高電圧印加端子41の軸方向の長さを短くすることができる。これにより高電圧印加ユニット4の軸方向の小型化を実現することができる。
なお、本発明は前記実施形態に限られるものではない。以下の説明において前記実施形態に対応する部材には同一の符号を付すこととする。
例えば、前記実施形態では、電子顕微鏡1(SEM)に用いたものであったが、その他にも、電子線マイクロアナライザ(EPMA)、あるいはスパッタリング装置、CVD装置、ドライエッチング装置、又は蒸着装置等の真空装置に用いても良い。
また、前記実施形態では、弾性接触子413を端子本体411の真空側端部に設けるようにしているが、大気側にも設けるようにしても良い。
その他、前述した実施形態や変形実施形態の一部又は全部を適宜組み合わせてよいし、本発明は前記実施形態に限られず、その趣旨を逸脱しない範囲で種々の変形が可能であるのは言うまでもない。
1 ・・・真空装置(電子顕微鏡)
2 ・・・真空容器(鏡筒部)
21 ・・・外壁
83 ・・・エクストラクタ電極
84 ・・・サプレッサ電極
85 ・・・カソード電極
4 ・・・高電圧印加ユニット
41 ・・・高電圧印加端子
42 ・・・絶縁体
43 ・・・フランジ部
43a、43c・・・外側周面
421、423・・・凹凸部
411・・・端子本体
413・・・弾性接触子
15 ・・・本体部
16 ・・・可動部
17 ・・・弾性部材
2 ・・・真空容器(鏡筒部)
21 ・・・外壁
83 ・・・エクストラクタ電極
84 ・・・サプレッサ電極
85 ・・・カソード電極
4 ・・・高電圧印加ユニット
41 ・・・高電圧印加端子
42 ・・・絶縁体
43 ・・・フランジ部
43a、43c・・・外側周面
421、423・・・凹凸部
411・・・端子本体
413・・・弾性接触子
15 ・・・本体部
16 ・・・可動部
17 ・・・弾性部材
Claims (5)
- 真空容器と、その真空容器内に設けられる電極と、前記真空容器の外壁に設けられ、外部から前記電極に電圧を印加するための高電圧印加ユニットと、を備え、
前記高電圧印加ユニットが、
一端が大気側に、他端が真空側に設けられて、当該他端が前記電極に電気的に接触して電圧を印加する高電圧印加端子と、
前記高電圧印加端子が貫通して設けられ、一端が大気側に、他端が真空側に設けられる絶縁性を有する絶縁体と、
前記絶縁体が貫通して設けられ、前記真空容器の外壁に気密に取り付けられるフランジ部と、を備え、
前記フランジ部から大気側及び真空側に突出した前記絶縁体の外側周面を非接触状態にして、さらに、前記絶縁体の外側周面に凹凸部を設けていることを特徴とする真空装置。 - 前記高電圧印加ユニットにおいて、前記フランジ部が環状の金属からなり、当該フランジ部の中心孔に前記絶縁体を貫通させることを特徴とする請求項1記載の真空装置。
- 前記高電圧印加端子が、
前記絶縁体の内部を貫通する端子本体と、
前記端子本体両端のいずれか少なくとも一方に接続され、貫通方向に弾性的に変形可能な弾性接触子と、を備えている請求項1又は2記載の真空装置。 - 前記弾性接触子が、
前記端子本体に接続される本体部と、
前記本体部に対して進退運動する可動部と、
前記本体部及び前記可動部の間に介在する弾性部材と、を備え、
前記高電圧印加端子を前記真空容器に取り付けることにより、前記弾性部材が、弾性復帰力により前記可動部を前記電極に押圧接触させることを特徴とする請求項3記載の真空装置。 - 真空容器内に設けられた電極に大気側から高電圧を印加するための高電圧印加ユニットであって、
一端が大気側に、他端が真空側に設けられて、当該他端が前記電極に電気的に接触して電圧を印加する高電圧印加端子と、
前記高電圧印加端子が貫通して設けられ、一端が大気側に、他端が真空側に設けられる絶縁性を有する絶縁体と、
前記絶縁体が貫通して設けられ、前記真空容器の側壁に気密に取り付けられるフランジ部と、を備え、
大気側に設けられて前記絶縁体の周囲を覆うカバー部材及び前記真空容器と前記絶縁体との間に隙間を設け、前記絶縁体の外側周面に凹凸部を設けていることを特徴とする高電圧印加ユニット。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006231509A JP2008059759A (ja) | 2006-08-29 | 2006-08-29 | 真空装置及び真空装置に用いられる高電圧印加ユニット |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006231509A JP2008059759A (ja) | 2006-08-29 | 2006-08-29 | 真空装置及び真空装置に用いられる高電圧印加ユニット |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008059759A true JP2008059759A (ja) | 2008-03-13 |
Family
ID=39242267
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006231509A Pending JP2008059759A (ja) | 2006-08-29 | 2006-08-29 | 真空装置及び真空装置に用いられる高電圧印加ユニット |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008059759A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016110866A (ja) * | 2014-12-08 | 2016-06-20 | 株式会社Tck | 走査型電子顕微鏡 |
KR20190077308A (ko) * | 2016-11-11 | 2019-07-03 | 닛신 이온기기 가부시기가이샤 | 이온 소스 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0346957U (ja) * | 1989-09-14 | 1991-04-30 | ||
JPH0574394A (ja) * | 1991-09-11 | 1993-03-26 | Hitachi Ltd | 線状電子ビーム発生用電子銃 |
JPH08273586A (ja) * | 1995-03-31 | 1996-10-18 | Hitachi Ltd | イオン源及びこれを用いた大気圧イオン化質量分析装置 |
JP2001076896A (ja) * | 1999-09-08 | 2001-03-23 | Kurita Seisakusho:Kk | 電流導入端子 |
JP2002083561A (ja) * | 2000-09-06 | 2002-03-22 | Nikon Corp | 電子銃及び電子光学鏡筒 |
-
2006
- 2006-08-29 JP JP2006231509A patent/JP2008059759A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0346957U (ja) * | 1989-09-14 | 1991-04-30 | ||
JPH0574394A (ja) * | 1991-09-11 | 1993-03-26 | Hitachi Ltd | 線状電子ビーム発生用電子銃 |
JPH08273586A (ja) * | 1995-03-31 | 1996-10-18 | Hitachi Ltd | イオン源及びこれを用いた大気圧イオン化質量分析装置 |
JP2001076896A (ja) * | 1999-09-08 | 2001-03-23 | Kurita Seisakusho:Kk | 電流導入端子 |
JP2002083561A (ja) * | 2000-09-06 | 2002-03-22 | Nikon Corp | 電子銃及び電子光学鏡筒 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016110866A (ja) * | 2014-12-08 | 2016-06-20 | 株式会社Tck | 走査型電子顕微鏡 |
KR20190077308A (ko) * | 2016-11-11 | 2019-07-03 | 닛신 이온기기 가부시기가이샤 | 이온 소스 |
JP2019537816A (ja) * | 2016-11-11 | 2019-12-26 | 日新イオン機器株式会社 | イオン源 |
JP7093506B2 (ja) | 2016-11-11 | 2022-06-30 | 日新イオン機器株式会社 | イオン源及びイオン注入機 |
KR102415488B1 (ko) * | 2016-11-11 | 2022-07-01 | 닛신 이온기기 가부시기가이샤 | 이온 소스 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10181390B2 (en) | X-ray tube including support for latitude supply wires | |
JP6218403B2 (ja) | 電界放射型電子銃を備えたx線管及びそれを用いたx線検査装置 | |
US7238939B2 (en) | Small electron gun | |
KR20130141790A (ko) | 전계 방출 엑스선원 및 이를 이용한 전자 빔 집속 방법 | |
EP3033761B1 (en) | Dual tube support for electron emitter | |
WO2017217051A1 (ja) | 電界放射装置および改質処理方法 | |
JP2008059759A (ja) | 真空装置及び真空装置に用いられる高電圧印加ユニット | |
EP1455380B1 (en) | Charged particle beam device with cleaning unit and method of operation thereof | |
JP2009301911A (ja) | X線発生装置 | |
JP5154480B2 (ja) | 電流導入構造 | |
WO2008062666A1 (fr) | Système d'irradiation à faisceau d'électrons | |
KR100912334B1 (ko) | 가스 방전관 | |
JP6100606B2 (ja) | X線発生装置 | |
JP2004207053A (ja) | X線管 | |
CN111584334B (zh) | 用于离子注入装置的绝缘结构 | |
JP2005026026A (ja) | 電界放出型電子銃 | |
JP7502359B2 (ja) | 荷電粒子線源および荷電粒子線装置 | |
KR102556786B1 (ko) | 전계 방사 장치 및 전계 방사 방법 | |
US11139139B2 (en) | Charged particle beam generator and charged particle beam apparatus | |
CN116325057B (zh) | 保护电极和场发射设备 | |
JP5625965B2 (ja) | X線管 | |
JP2000208091A (ja) | イオン注入装置 | |
JP2008226507A (ja) | 液体金属イオン銃 | |
JP2005332720A (ja) | 電子銃軸調整装置および方法 | |
JP2011033396A (ja) | 窓構造体、電子線出射装置及びx線出射装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081222 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110412 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110419 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20110816 |