JP2002083561A - 電子銃及び電子光学鏡筒 - Google Patents

電子銃及び電子光学鏡筒

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JP2002083561A
JP2002083561A JP2000269482A JP2000269482A JP2002083561A JP 2002083561 A JP2002083561 A JP 2002083561A JP 2000269482 A JP2000269482 A JP 2000269482A JP 2000269482 A JP2000269482 A JP 2000269482A JP 2002083561 A JP2002083561 A JP 2002083561A
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electron gun
electrode
cathode
insulator
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護 中筋
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 電極の温度上昇を低減でき、コンタミネーシ
ョンが成長しにくく、絶縁破壊等が起こりにくい電子銃
及び電子光学鏡筒を提供する。 【解決手段】 電子銃1の電子銃室24には、高圧碍子
27が固定されている。高圧碍子27は、高熱伝導Si
C又はAlN製である。高圧碍子27下面には、ウェー
ネルト電極22及び制御アノード電極23が取り付けら
れている。このウェーネルト電極22下端には、石英ス
ペーサ25を介してカソード21が固定されている。石
英スペーサ25によりカソード21とウェーネルト電極
22間の熱抵抗が大きくなっているため、カソード21
から外に逃げる熱損失が低減される。さらに、高圧碍子
27の熱伝導は良好なため、ウェーネルト電極22と電
子銃室24間の熱抵抗は小さくなっており、ウェーネル
ト電極22の温度上昇は抑制されて熱膨張や放出ガスの
増加、絶縁破壊等が生じにくい。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば線幅が10
0nm以下の微細・高密度パターンを高スループットで
形成する電子線転写縮小装置等に装備される電子銃及び
電子光学鏡筒に関する。特には、電極の温度上昇を低減
でき、コンタミネーションが成長しにくく、絶縁破壊等
が起こりにくいよう改良を加えた電子銃及び電子光学鏡
筒に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】電子光
学鏡筒の内部には、カソードやアノード、ウェーネルト
電極を有する電子銃が装備されている。ウェーネルト電
極は、スペーサあるいは碍子によって鏡筒内部に支持・
固定されており、カソードとは互いに絶縁されている。
しかし、従来の電子銃では、スペーサあるいは碍子自体
の特性に対しては、あまり考慮がなされていなかった。
【0003】スペーサあるいは碍子に関連して、例えば
以下に列挙するような問題が生じる。 (1)電極の温度上昇により放射する電子線が不安定に
なりやすい。 (2)温度上昇に伴い放出ガスが増加し、コンタミネー
ションが成長しやすい。 (3)アノードの加速電圧が高い場合には、電子銃の絶
縁破壊等が発生するおそれがある。
【0004】本発明は、このような問題点に鑑みてなさ
れたもので、電極の温度上昇を低減でき、コンタミネー
ションが成長しにくく、絶縁破壊等が起こりにくい電子
銃及び電子光学鏡筒を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明の電子銃は、電子線を放出するカソードと、
該カソードから放出される電子線を加速するアノード
と、該アノードと前記カソードの間に配置された前記電
子線を収束させるウェーネルト電極と、を備える電子銃
であって; 前記ウェーネルト電極を支持・固定する高
圧碍子が、高熱伝導SiC製であることを特徴とする。
【0006】高圧碍子が高熱伝導SiC製であるので、
カソードを高温に保ったまま、アノード(制御アノード
電極)あるいはウェーネルト電極の熱を逃がすことがで
きる。ここで、高熱伝導SiCとは、例えば酸化ベリリ
ウムを少量添加したシリコンカーバイトセラミックス;
熱伝導率270W/m°Kを挙げることができる。した
がって、熱的に安定で、コンタミネーションが成長しに
くく、絶縁破壊が起こりにくくなる。
【0007】本発明の電子銃は、前記碍子の一端部に、
前記ウェーネルト電極又はそのサポート金具が固定され
ており、 前記碍子の他端部に、接地された電子銃室が
接続されており、 前記碍子の一端部から他端部に至る
表面に、凹凸が形成されていることが好ましい。このよ
うな構成によれば、ウェーネルト電極と電子銃室間の碍
子の熱抵抗が小さくなる。これにより、ウェーネルト電
極の熱が電子銃室へと逃げやすくなるので、ウェーネル
ト電極の熱膨張が抑えられる。また、放出ガスが減るの
でコンタミネーションが成長しにくくなり、絶縁破壊が
起こりにくくなる。さらに、碍子の表面凹凸により、絶
縁放電も防止される。
【0008】本発明は、前記カソードの電子放出面の直
径が5mm以上の電子銃に適用することが好ましい。さ
らに、前記カソードの動作温度が1800°K以上の電
子銃に適用することが好ましい。なお、このようなカソ
ードは、例えば単結晶Taから形成することができる。
このような径の大きいカソードの電子銃は、かなり広い
露光領域を有する電子線露光装置用に必要となるもので
ある。そのような露光装置では、特に電子銃の放射する
電子線の強度の均一が要求される。
【0009】本発明の電子光学鏡筒は、電子銃と、該電
子銃から放出された電子線又はその散乱ビームを検出す
る開口板電極と、を備える電子光学鏡筒であって; 該
開口板電極を絶縁又は支持するスペーサが、高熱伝導S
iC又はAlN製であることを特徴とする。
【0010】開口板電極(トリム開口、ブランキング開
口又は成形開口)には、多量の一次電子線が入射し、温
度が上昇しやすい。本発明では、スペーサを高熱伝導S
iC又はAlN製とするので、開口板の熱がスペーサを
介して逃げやすくなり、熱膨張による寸法変化や熱歪み
による変形を抑制できる。さらに、電極の温度上昇に伴
う放出ガスの発生が抑えられるので、コンタミネーショ
ンが成長しにくい。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ説明す
る。まず、図1を参照して、電子光学鏡筒の全体構成に
ついて説明する。図1は、本発明の一実施例に係る電子
光学鏡筒を示す模式的構成図である。図1において、光
学系の最上流に配置されている電子銃1は、下方に向け
て電子線を放射する。電子銃1の下方には、1段目のコ
ンデンサレンズ2が配置されている。このコンデンサレ
ンズ2の下方には、トリム開口4が配置されている。電
子銃1から放射された電子線は、コンデンサレンズ2に
よって収束され、トリム開口4にクロスオーバーを結像
する。トリム開口4は、クロスオーバーのうち中央部の
みを通過させ、周辺部はカットする。トリム開口4は、
高熱伝導SiC又はAlN製の支持スペーサ3により支
持されている。
【0012】トリム開口4の下方には、2段目のコンデ
ンサレンズ5が配置されている。このコンデンサレンズ
5の下方には、成形開口10が配置されている。成形開
口10は、高熱伝導SiC又はAlN製の支持スペーサ
11により支持されている。成形開口10の下方には、
2段の照射レンズ6A、6Bが配置されている。これら
照射レンズ6A、6Bの間には、ブランキング開口12
が配置されている。ブランキング開口12は、高熱伝導
SiC又はAlN製の支持スペーサ13により支持され
ている。なお、トリム開口4と成形開口10間には、ブ
ランキング偏向器41が配置されている。このブランキ
ング偏向器41により電子線を偏向させ、ブランキング
開口12で遮蔽することにより、ブランキングが行われ
る。
【0013】照射レンズ6Bの下方には、レチクル14
が配置されている。レチクル14は、光軸Zに対する垂
直面内(X−Y面)に広がっており、多数のサブフィー
ルドを有する。レチクル14上には、全体として一個の
半導体デバイスチップをなすパターン(チップパター
ン)が形成されている。
【0014】トリム開口4を通過した電子線は、コンデ
ンサレンズ5によって平行ビーム化される。この平行ビ
ームは成形開口10で成形され、レチクル14の一つの
サブフィールド(単位露光パターン領域)を照明する照
明ビームのみを通過させる。具体的には、成形開口10
は、照明ビームをマスクサイズ換算で1mm角強の寸法の
正方形に成形する。この成形開口10の像は、2段の照
射レンズ6A、6Bによってレチクル14に結像され
る。
【0015】レチクル14の下方には、2段の投影レン
ズ7A、7Bが配置されている。これら投影レンズ7
A、7Bの間には、コントラスト開口15が配置されて
いる。コントラスト開口15は、高熱伝導SiC又はA
lN製の支持スペーサ16により支持されている。投影
レンズ7Bの下方には、ウエハ9が配置されている。ウ
エハ9は、静電チャック(図示されず)を介して、XY
方向に移動可能なウエハステージ(図示されず)上に載
置されている。
【0016】レチクル14のあるサブフィールドに照明
ビームが当てられ、レチクル14のパターン部を通過し
た電子線は、投影レンズ7A、7Bによって縮小され、
ウエハ9上の所定の位置に結像される。ウエハ9上に
は、適当なレジストが塗布されており、レジストに電子
ビームのドーズが与えられてレチクル14上のパターン
が縮小されてウエハ9上に転写される。この際、レチク
ル14の非パターン部を通過した照明ビームは大きく散
乱されるが、散乱された電子線は、コントラスト開口1
5で遮断され、取り除かれる。これにより、投影像のコ
ントラストが得られる。
【0017】ここで、トリム開口4、成形開口10、ブ
ランキング開口12及びコントラスト開口15は、それ
ぞれケーブル43、45、47及び49を介して増幅器
17、18、19及び20に接続されている。これら増
幅器17、18、19及び20は、モニタ(図示され
ず)に接続されている。モニタにおいては、各開口4、
10、12及び15からそれぞれ検出信号が送られ、以
下の各検出結果が表示される;(a)トリム開口4にお
いてクロスオーバー像の周辺部のカット状況。(b)成
形開口10でレチクル14の一つのサブフィールドを照
明する照明ビームのみが通過しているか否か。(c)ブ
ランキング開口12におけるブランキング時のビーム強
度。(d)コントラスト開口15における散乱した電子
線の遮断状況。
【0018】上述した電子光学鏡筒内部においては、支
持スペーサ3、11、13及び16により、トリム開口
4、成形開口10、ブランキング開口12及びコントラ
スト開口15はそれぞれ絶縁されている。これら各スペ
ーサ3、11、13及び16は、高熱伝導SiC又はA
lN製であるため熱抵抗が小さくなっている。高熱伝導
SiCの一例としては、ベリリア(BeO)を助剤とし
て微小添加した材料(ヒタセラームSC−101と呼ば
れる)が、特に電気抵抗が大きく且つ熱伝導性も優れて
いることが知られている(浦満・安田富郎、「NIKK
EI ELECTRONICS」1984.9.24、
p.265参照)。この高熱伝導SiCは、熱伝導率2
70W/m°Kであって、例えば石英(熱伝導率1.9
W/m°K)の142倍の熱伝導率を有する。
【0019】次に、本発明の1実施例に係る電子銃1に
ついて詳細に説明する。図2は、本発明の1実施例に係
る電子銃の構成を示す断面図である。図2に示すよう
に、この電子銃1は、筒状の電子銃室24を備えてい
る。この電子銃室24の上端には、凹部24Aが形成さ
れている。電子銃室24内において、凹部24A下面に
は、高圧碍子27がねじ30により、Oリング29を介
して固定されている。
【0020】高圧碍子27は、高熱伝導SiC又はAl
N製である。この材料は、電圧パルスで26kV/mm
の絶縁耐力を有する。したがって、例えば100.1k
Vの電圧に対しては厚さ10mmあれば高圧碍子27の
厚さは十分であるが、本実施例では安全率を5倍大きく
取って50mmの厚さとしている。この高圧碍子27の
側部には、軸対称のヒダ27aが形成されている。この
ヒダ27aにより、縁面放電が防止される。高圧碍子2
7の中心部には、4つのハーメチャックシール(真空シ
ール・電流導入端子)28a〜28dが埋設されてい
る。各ハーメチャックシール28a〜28dのそれぞれ
には、ケーブルが接続されている。これらケーブルは、
高圧ケーブル31として一纏めにされ、電子銃室24上
端の凹部24Aから外部に引き出されている。
【0021】高圧碍子27下面には、ウェーネルト電極
22が取り付けられている。ウェーネルト電極22は筒
状体であって、ねじ32により固定されている。ウェー
ネルト電極22は、ハーメチャックシール28aに導通
している。このウェーネルト電極22下端には、石英ス
ペーサ25を介してカソード21が固定されている。カ
ソード21は、本実施例では単結晶Ta製の直径10m
mの円盤である。カソード21の上側(裏側)におい
て、ハーメチャックシール28b及び28cから延び出
た電極には、フィラメント26が取り付けられている。
このフィラメント26は、らせん状に巻かれている。フ
ィラメント26の一端はハーメチャックシール28bに
導通され、他端はハーメチャックシール28cに導通さ
れている。同フィラメント26はカソード21を加熱
し、カソード21の下面(電子放出面)からは電子線が
引き出される。
【0022】高圧碍子27下面には、ウェーネルト電極
22の外側を囲むようにして、制御アノード電極23が
取り付けられている。制御アノード電極23は筒状体で
あって、下端縁には内側に張り出したフランジ23aを
備えている。この制御アノード電極23は、ねじ33に
より固定されているとともに、ハーメチャックシール2
8dに導通している。
【0023】カソード21から放出された電子線は、制
御アノード電極23によって加速され、電子銃室24下
端の開口部24aから下方に射出される。この際、ウェ
ーネルト電極22は、カソード21から引き出された電
子線を広がらせないよう作用する。
【0024】次に、上記の構成からなる電子光学鏡筒全
体の作用について説明する。まず、図2に示すように、
電子銃1では、高圧ケーブル31からハーメチャックシ
ール28b及び28cを介してフィラメント26に通電
され、カソード21が加熱される。カソード21の下面
からは電子線が放出されて下方に引き出される。このと
き、ウェーネルト電極22により電子線が収束される。
カソード21から引き出された電子線は、制御アノード
電極23によって加速されて、電子銃室24下端の開口
部24aから下方に射出される。
【0025】本実施例のカソード21は、単結晶Ta製
であり1850°Kで動作するので、熱損失はできるだ
け小さいほうが好ましい。一方、ウェーネルト電極22
や制御アノード電極23は、低温のほうが熱膨張しにく
く、放出ガスも抑えられ、絶縁破壊も起こしにくい。し
たがって、カソード21とウェーネルト電極22間は熱
抵抗が大きく、ウェーネルト電極22と電子銃室24間
は熱抵抗が小さいほうが好ましい。本発明では、石英ス
ペーサ25によりカソード21とウェーネルト電極22
間の熱抵抗が大きくなっているため、カソード21から
外に逃げる熱損失が低減される。さらに、高圧碍子27
の熱伝導は良好なため、ウェーネルト電極22と電子銃
室24間の熱抵抗は小さくなっており、ウェーネルト電
極22の温度上昇は抑制されて熱膨張や放出ガスの増
加、絶縁破壊等が生じにくい。
【0026】ここで、カソード21とウェーネルト電極
22間、及び、ウェーネルト電極22と電子銃室24間
の熱抵抗値の具体例について述べる。 カソード21の動作温度:1800°K 石英スペーサ25の熱逃げの断面積:31.4mm2 石英スペーサ25の熱逃げの半径方向距離:5mm 高圧碍子27の厚み:50mm 高圧碍子27の断面積:1256mm2 としたとき、放射を無視すると、カソード21とウェー
ネルト電極22間の熱抵抗Rth(K−W)は、 Rth(K−W) =(5×10-3m/31.4×10-62)×(m°K
/1.9W) =83.8°K/W となる。このように、石英スペーサ25によりカソード
21とウェーネルト電極22間の熱抵抗が大きくなって
いることがわかる。
【0027】一方、ウェーネルト電極22と電子銃室2
4間の熱抵抗Rth(W−E)は、 Rth(W−E) =(50×10-3m/1256×10-62)×(m°
K/270W) =0.147°K/W となる。このように、高熱伝導SiC製の高圧碍子27
により、ウェーネルト電極22と電子銃室24間の熱抵
抗が小さくなっていることがわかる。
【0028】したがって、ウェーネルト電極22の上昇
温度は、上記2つの熱抵抗Rth(K−W)とRth(W−
E)の比から ΔTw=(1800−296)×0.147/83.8 =2.6℃ となる。すなわち、ウェーネルト電極22の温度は、2
3+2.6=25.6℃程度にしか上昇しない。したが
って、熱膨張に伴うウェーネルト電極22の寸法の狂い
が防止できる。また、ウェーネルト電極22や制御アノ
ード電極23、高圧碍子27からの放出ガスが低く抑え
られるので、真空度低下による放電やコンタミネーショ
ンの成長を抑えることができる。
【0029】次いで、電子銃1から下方に放射された電
子線は、図1の説明において上述したように、電子光学
鏡筒内で収束及び偏向され、レチクル14の一つのサブ
フィールド(単位露光パターン領域)を照明する。そし
て、レチクル14のパターン部を通過した電子線は、投
影レンズ7A、7Bによって縮小され、ウエハ9上の所
定の位置に結像される。
【0030】このような電子光学鏡鏡筒では、各開口
4、10、12及び15を支持する各支持スペーサ3、
11、13及び16が高熱伝導SiCからなるので、ビ
ームの入射に伴う温度上昇が抑えられる。具体的には、
各開口に入射する電子線による熱入力を10W、各開口
を保持している支持スペーサの厚みを1×10-3m、各
開口を保持している支持スペーサの有効面積を1×10
-42とすると、支持スペーサの両面間の温度差は、 (10/270)×(1×10-3/1×10-4)=0.
37°K となる。したがって、熱膨張による寸法変化や熱歪みに
よる変形が回避でき、電極の温度上昇に伴う放出ガスの
発生が抑えられるのでコンタミネーションの成長も抑え
ることができる。
【0031】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、電極の温度上昇を低減でき、コンタミネーシ
ョンが成長しにくく、絶縁破壊等が起こりにくい電子銃
及び電子光学鏡筒を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例に係る電子光学鏡筒を示す模
式的構成図である。
【図2】本発明の一実施例に係る電子銃の構成を示す断
面図である。
【符号の説明】
1 電子銃 2、5 コ
ンデンサレンズ 3、11、13、16 支持スペーサ 4 トリム
開口 6A、6B 照射レンズ 7A、7B
投影レンズ 9 ウエハ 10 成形
開口 12 ブランキング開口 14 レ
チクル 15 コントラスト開口 21 カ
ソード 22 ウェーネルト電極 23 制
御アノード電極 24 電子銃室 25 石
英スペーサ 26 フィラメント 27 高圧碍子 27a
ヒダ 28a〜28d ハーメチャックシール 41 ブ
ランキング偏向器

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電子線を放出するカソードと、該カソー
    ドから放出される電子線を加速するアノードと、該アノ
    ードと前記カソードの間に配置された前記電子線を収束
    させるウェーネルト電極と、を備える電子銃であって;
    前記ウェーネルト電極を支持・固定する高圧碍子が、高
    熱伝導SiC製であることを特徴とする電子銃。
  2. 【請求項2】 前記碍子の一端部に、前記ウェーネルト
    電極又はそのサポート金具が固定されており、 前記碍子の他端部に、接地された電子銃室が接続されて
    おり、 前記碍子の一端部から他端部に至る表面に凹凸が形成さ
    れていることを特徴とする請求項1記載の電子銃。
  3. 【請求項3】 前記カソードの電子放出面の直径が5m
    m以上であることを特徴とする請求項1又は2記載の電
    子銃。
  4. 【請求項4】 前記カソードの動作温度が1800°K
    以上であることを特徴とする請求項3記載の電子銃。
  5. 【請求項5】 電子銃と、該電子銃から放出された電子
    線又はその散乱ビームを検出する開口板電極と、を備え
    る電子光学鏡筒であって;該開口板電極を絶縁又は支持
    するスペーサが、高熱伝導SiC又はAlN製であるこ
    とを特徴とする電子光学鏡筒。
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