JP2008010606A - 基板用カセット保持装置、その保持方法およびその保管方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】基板をカセットに入れて、長時間保管してもゴミの付着がないように保管出来るようにする。
【解決手段】基板1を収納するカセット10と、このカセット10を底面で支える支柱ベース21と、前記カセット10を側面で支える支柱ベース22と、これらベースを前記カセット10と共に回転させるカセット回転手段(23)とを備え、前記カセット回転手段が前記基板1の成膜またはパターン面が、水平面に対して90°を超える範囲で傾斜した状態にして保持する。
【選択図】 図1

Description

本発明は、基板用カセット保持装置、その保持方法およびその保管方法に関し、特に基板表面へのゴミ付着を少なくした基板用カセット保持装置、その保持方法およびその保管方法に関する。
一般に、カラー液晶表示装置の製造工程においては、ガラス基板等の表示パネル用基板を製造する前工程で、カセットと呼ばれる保管用のケースにガラス基板を複数枚収納して保管ならびに搬送している。このカセットを使用するのは、次の理由による。すなわち、ガラス基板は、一枚毎に製造装置で処理を行っていると、ガラス基板の搬送能力がないため設備に必要なだけ搬送できなくなり、設備能力が低下する。これを防止するために、ガラス基板を数枚毎にカセットにてまとめて搬送し、装置の処理能力を落とさないようにしている。特に、アレイ処理工程においては、各種設備を定期的に清掃する必要があり、そのためカセットの保管数量が多くなる傾向にある。
通常、この種のガラス基板製造ラインでは、この保管に伴うゴミ付着低減のため、ガラス基板の保管場所のクリーン度の向上、もしくは製造装置側でのゴミ除去の検討を行っている。また、平面表示パネルの製造設備は、大型化が進む一方でG1(ジェネレーション1:ガラス基板サイズ300×350mm)等の小型基板サイズも生産を継続しているが、生産設備が古いため、ゴミの発生ならびにゴミの除去率が低いなどの問題を抱えている。
さらに、ガラス基板を保管しておくことで、ガラス基板表面の変質も起こり、ゴミ自体の除去率が低下することも確認されており、ゴミを如何にガラス基板につけないで保管するかが重要な課題であった。
一般に、ガラス基板は、図9の断面図に示すように構成される。すなわち、ガラス基板1は、ガラス基材3の表面に、画素電極等の成膜もしくはパターン2が形成されたものである。このガラス基板1は、図10に示すように、カセット10に収納される。
このカセット10は、図11に示すような構成になっている。すなわち、底板11と、天板12とが、側面に設けた支柱13により支持された枠形の間に、背面部の支柱となるストッパ14が設けられて箱形になっている。支柱13は、ガラス基板1を側面で支持するためのものであり、ストッパ14は、ガラス基板1をカセット10に収納する際に、収納と同時に逆側に飛び出さないための支柱となっている。
また、センター支柱15は、ストッパ14に取り付けられ、ガラス基板1を支えるように設けられている。このセンター支柱15は、ガラス基板1の反り防止のための支柱ともなっている。ガラス基板1のサイズが大きくなると、ガラス基板1を水平に置いたとき、基板の中央部でたわみが大きくなるため、ガラス基板1の間で干渉を生じるので、ガラス基板1の間隔を大きく取る必要が生じ、ガラス基板1の収納枚数が減ることになる。このようなことを避けるため、ガラス基板1を中央部で支えるセンター支柱15が設けられている。このセンター支柱15により、取り付け干渉しないようになり、また、ガラス基板1の搬送時にガラス基板1がおどって基板割れが発生するのを防止している。
なお、側面の支柱13にもガラス基板1の端部を抑えてガラス基板1の落下を防止する支持板16が設けられている。この支持板16は、支柱13に取付けられたり、また、支柱13自体にスロットのように設けられたものである。
なお、従来例1(特開2003−152069号公報)には、液晶表示装置のガラス基板を水平に複数個収納するカセットとして、図10と類似したカセットが示されている。このカセットは、ガラス基板を水平に置いたとき、基板の中央部でのたわみを支えるセンター支柱の位置を調整できるように、ストッパ14の位置を左右に可動出来るようにしたものである。
また、従来例2(特開平10−18033号公報)には、液晶表示装置用のガラス基板を垂直に複数個配置するようにしたカセットが示されている。このカセットは、ガラス基板を水平に置いたときのたわみによるカセット構造の調整を容易にしたものである。
このようにカセットに収納されたガラスは、次の段階の製造設備に搬送され、または、一旦バッファと呼ばれるような一般空調とは異なる空間に保管される。一般に、クリーンルーム内にガラス基板を放置していても、次の理由によりゴミが付着する。すなわち、ガラス基板の表面に成膜、パターン形成を行うが、この時ガラス基板の裏面は製造装置のプレートなどに接触する。この接触時に、プレート上のゴミが、ガラス基板の裏面に転写される。このゴミが放置されることにより、カセットに収納された下側のガラス基板表面にゴミが落下する。
また、特許文献3(特開2002−343846号公報)には、ガラス基板を収納したカセットなどを収納するストッカが示され、また、カセットを搬送する搬送ロボットも示されている。このストッカは、クリーンルーム内で、塵埃除去用の送風を各保管部に万遍なく行き渡らせることにより、各保管部の塵埃除去を図ったものである。
特開2003−152069号公報(図1、段落番号[0004]) 特開平10−18033号公報(図4、段落番号[0030〜0035]) 特開2002−343846号公報(図1、段落番号[0015〜0019])
上述のように従来技術では、ガラス基板保管時のゴミの発生、付着ならびにゴミの除去が問題となっており、ゴミを如何にガラス基板につけないで保管するかが重要な課題であった。そのため従来例1のように、ガラス基板を水平に保管したカセットは、ガラス基板表面を上側にして放置するので、外部、たとえば人や装置からのゴミがガラス表面に付着する。これらのゴミは、一般的には放置時間に比例して増加する。また、これらのゴミを除去するために、通常は洗浄、もしくはバキュームクリーナ等を用い除去するが、ガラス基板が放置されることで、ガラス基板表面に有機系の皮膜ができゴミの除去能力が低下し、問題となる。
また、従来例2のように、ガラス基板を垂直に保管するカセットは、ゴミの付着が少なくなると考えられるが、定常的に置かれた場合には、ガラス基板の被覆やパターン部にゴミの付着が考えられ、十分な対策とはなっていない。
また、従来例4のように、カセットを、ベイまたはバッファとよばれる大型の保管装置に保管する場合がある。このバッファは、クリーンルーム内でありながらバッファ内で更にクリーン化する構造となっているため、このようなバッファに入れると当然収納スペースが大きくなってしまうという問題がある。
本発明の主な目的は、基板をカセットに入れて、長時間保管してもゴミの付着が出ないように保管する基板用カセット保持装置、その保持管方法およびその保管方法を提供することにある。
本発明の基板用カセット保持装置の構成は、基板が収納されるカセットを支持するカセット支持手段と、このカセット支持手段を回転させ、前記基板の成膜またはパターン面が水平面に対して90°を超える範囲で傾斜した状態にして保持するカセット回転手段とを有することを特徴とする。
本発明において、前記カセット支持手段が、前記カセットを底面で支える第1ベースと、前記カセットを側面で支える第2ベースと、これらベースの隅部で前記カセットをそれぞれ支える枠部とを備えることができ、また、前記カセットが、前記基板を囲みこむ機構または前記基板をコの字で挟み込む機構からなることができ、また、前記カセット回転手段は、前記カセット支持手段を載置し所定回転軸を中心に回転する回転台からなることができ、また、前記カセット回転手段は、手動またはアクチュエータにより回転でき、また、前記カセット回転手段は、前記基板が前記90°を超える範囲で傾斜した状態で前記回転軸の回転を固定するロック機構を有することができる。
本発明の基板用カセットの保管方法の構成は、上述したカセット保持装置を直接クリーンルーム内に載置して保管することを特徴とする。
本発明の他の構成は、基板を収納するカセットの保持方法において、前記基板を収納した前記カセットを回転させ、前記基板の成膜またはパターン面が、水平面に対して90°を超える範囲で傾斜した状態で前記カセットを保持することを特徴とする。
本発明において、前記カセットが、前記基板を囲みこむ機構または前記基板をコの字で挟み込む機構をもつことができ、また、前記カセットの回転は、前記カセットを載置した回転台の所定回転軸を中心に回転により行うことができ、また、前記カセットの回転は、前記基板が前記90°を超える範囲の傾斜した状態で前記回転軸の回転をロック機構により固定することができる。
以上説明したように、本発明によれば、基板を収納したカセットを回転させ、基板の成膜またはパターン面が、水平面から90°を超える角度で保持させることにより、基板を長時間保管しても基板面にゴミの付着が出ないように保管できるという効果がある。
また、保管時にカセットと基板とのこすれも生じ、それによるゴミも発生するが、カセットを回転させることにより、それらのゴミも基板表面にとどまること無く 下方に落下できるため、成膜面上にゴミの量が増加することはない。
次に図面により本発明の実施形態を説明する。図1は本発明の一実施形態を説明するガラス基板用カセット保持装置の斜視図、図2(a)(b)は図1の保持装置の正面図およびその側面図である。なお、本実施形態は、従来例(図9,10)で説明したガラス基板1およびカセット10を用いている。
本実施形態は、図1に示すように、カセット10を底面に載せる支柱ベース21と、カセット10を側面で支える支柱ベース22と、支柱ベース21の底面中央に設けられ支柱ベース21、22を回転させる回転台23から構成される。この回転台23は回転軸24を中心にして回転できるようになっている。また、各支柱ベース21、22のカセット10を支える面の四隅に、枠部25,26がそれぞれ設けられ、カセット10を支えることが出来る。ここでは、支柱ベース21の枠部25はL字型支持部材であり、支柱ベース22の枠部26は板状の部支持材である。
なお、支柱ベース21,22は、分離されている必要はなく、一体に形成されても良い。カセット10を置く際の置き場として、カセット10の下側を支える方が支柱ベース21で、側壁側を支える方が支柱ベース22となっている。
本実施形態においては、カセット10が、支柱ベース21,22にセットされた後、カセット10をのせた支柱ベース21,22が回転台23の回転軸24を中心に回転できるので、カセット10が回転される。この回転は、支柱ベース21の中央部を中心に。図3の正面図のように、回転台23の回転軸24を中心に回転が行われる。このカセット10の回転角度は、ガラス基板面へのゴミに付着をなくすように、90°を超えてガラス基板1の表面が必ず下側を向くことが好ましい。
本実施形態では、ガラス基板1を従来のようにカセット10に収納し、ガラス基板1と製造装置との受け渡しも、従来と同様に行われるが、ゴミの付着が主にガラス基板1の保管時にあることから、ガラス基板1の保管時におけるゴミ付着をなくすようにしたものである。そのため本実施形態では、ガラス基板1をカセット10に収納した後、このガラス基板1を水平面に対して90°を超える範囲で傾斜した状態で保持、保管することを特徴とする。
通常は、保管装置からガラス基板が払い出される時、カセット10はガラス基板1のパターン面を上にして受け取るが、本実施形態では、カセット10を保持、保管する際、もしくは搬送時に、ガラス基板1のパターン面を必ず下向きになるようにするため、カセット10を傾斜させておく必要がある。このようにカセット10を傾斜させた場合、ベース22でカセット10を支えないと落ちないように、支柱ベース21には枠部25を設け、また、支柱ベース22には枠部26を設けて、カセット10に対してコの字型で支えるベースとなっている。
また、本実施形態は、カセット10を90°を超え所定の角度回転させた後に、カセット10の傾斜角度を保持、維持させるために、回転台23の回転軸24が動かないように、ロック(固定)する必要がある。この場合には、回転台23の回転軸24を回転させた後に、その回転軸24にピンやネジなどの通常の固定手段で容易にロックすることが出来る。
また、回転台23は、この回転台23の回転軸24を中心に回転させることにより、カセット10の支柱ベース21面を反転させることもできる。この場合、180°回転により、図4の正面図のように、ガラス基板1のパターン面を下向きにすることが出来る。
このカセット10の回転は、アクチュエータなどの駆動部品が支柱ベース21に取り付けられており、その駆動手段を用いて回転を行い任意の角度で停止する。このカセット10の回転後は、支柱ベース22がカセット10を保持することになる。この際、図3に示すように、カセット10が90°を超えて回転しても、支柱ベース21、22と、その枠部25,26とによりカセット10が支持されており落下することはない。
また、カセット10の回転スピードは、カセット10の回転時に、ガラス基板10ががたつかないようにできる限り低速が好ましい。なお、カセット10の保管期限が終了した場合は、逆に回転して図1の状態に戻してカセット10を取り出すことが出来る。
一方、本実施形態のカセット保持装置20を保管する場合を考える。従来の構造では、クリーンルーム内でありながらカセットを保管するためには、ベイまたはバッファとよばれる大型の保管装置が必要であり、クリーンルーム内のクリーンエアをカセット10に当ててクリーン状態を維持する必要があった。これに対し本実施形態のカセット保持装置20は、カセット10が回転台23を中心に回転するため、カセット10を収納するため相当広い場所(空間)を必要とすることになる。しかし、本実施形態のカセット保持装置を保管する場合は、ガラス基板1のパターン面にゴミがつくことはなくカセット10を保持できので、本実施形態では、カセット保持装置20をクリーンルーム内に保管するだけでガラス基板1を十分クリーンに保管することができ、ベイまたはバッファとよばれる大型の保管装置を必要としなくなり、結果的に収納スペースを小さくすることが出来る。
また、ガラス基板1が小さく、カセット10の収納枚数が少なく、人手による搬送が可能な場合、人手で回転台23を回転し、保管形態だけを、図3または図4のようにして、保持すれば良いので、回転台23の駆動手段が必要なくなる。なお、カセット10が大きい場合でも収納前に回転させて保管することもできる。
本実施形態では、カセット10を支柱ベース21に置いて、この置いたところでカセット10を回転させているが、別機能のものとして、回転させる装置と保管する形態を分けてもかまわない。
また、本実施形態では、カセット10を傾斜させ、ガラス基板1を傾斜して保管するため、上述したバッファも不要となる。すなわち、本実施形態では、パターン面を傾斜させ保管させるため、ゴミがつかず、そのためクリーンルーム内での保管で十分であり、バッファなどの保管装置は不要となる。
次に、図1の実施形態を、実施例1として、その動作を説明する。ガラス基板1が収納されたカセット10は、前述のように、支柱ベース21,22に搭載される。このガラス基板1の搭載は、人手でもよいし、従来例4のような搬送ロボットでも構わない。このカセット10が、ガラス基板1の搭載された信号を受けると、ロータリー型のアクチュエータにより、回転台23を駆動してカセット10を回転させる。この場合、ガラス基板1の搭載されたことを示す信号は、支柱ベース21,22にセンサーを設けてもよいし、従来例4のようなストッカであれば保管場所の在荷信号でもよい。
また、カセット10の保管期限が終了すれば、上記アクチュエータを解除して元の状態にカセット10を戻し、搭載した時の逆の動作でカセット10を取り出せばよい。
なお、図5は、ガラス基板の表面に付着したゴミの個数を保管時間(H)に対して測定したグラフである。従来例の場合、ガラス基板の表面に付着したゴミの個数は、黒四角の点線ように250時間で100個であった。この従来例のガラス基板を洗浄した後でも、ゴミの個数は250時間で50個近く残っている。これに対して、本実施例の場合、ゴミの個数は250時間で10個以下に減少しており、大幅に減少したことが判明した。このようにガラス基板を90°を超えて傾けることにより、ゴミの付着をほぼゼロにできることが、確認できた。
図6は本発明の第2の実施例を説明するガラス基板保管用カセットの収納構造の斜視図であり、図7は図6の正面図である。本実施例は、図1のようなガラス基板をサイド横方向でなく、図6のように、ガラス基板を図の奥側に回転させたカセット保持装置20aの事例である。この実施例の場合は、カセット10自体は、支柱ベース21、22aで保持されるが、支柱ベース22aが、支柱ベース21の背面側に設けられ、回転台23aも実施例1に対して90°回転させ横向きに設けられている。これら支柱ベース21、22aにも、カセット10を支える面の四隅には、L字形の枠部25,26aがそれぞれ設けられている。
この場合、カセット10を奥側に回転させると、ガラス基板1は、ストッパ14で支持され、カセット10自体はベース支柱22で保持されることになる。このカセット10自体の回転方向は、できうるならばガラス基板1の長辺側を下側になるようにして回転させることが望ましい。これはガラス基板1が回転するとき安定するためである。
本発明は、上述したように表示パネル用基板保管用カセッ保持装置、そのお保持方法よびその保管方法に適用できるが、一般にガラス基板に限らず、プラスチック基板、セラミック基板、半導体ウェハーを用いる装置にも適用できることは明らかである。
本発明の第1の実施形態を説明するガラス基板用カセット保持装置の斜視図である。 (a)(b)は図1の収納構造の正面図およびその側面図である。 図1の収納構造を90°を超えて回転させた場合の断面図である。 図1の収納構造を180°回転させた場合の断面図である。 本発明の第1の実施例によるゴミ付着状況を説明する特性図である。 本発明の第2の実施例を説明するガラス基板用カセットの保管装置の斜視図である。 図6の収納構造の正面図である。 図6のカセットの収納構造の斜視図である。 一般のガラス基板の構造を説明する断面図である。 従来のガラス基板の収納構造(カセット)の斜視図である。 (a)(b)は図10のカセットの斜視図およびその断面図である。
符号の説明
1 ガラス基板
2 パターン
3 ガラス基材
10 カセット
11 底板
12 天板
13 支柱
14 ストッパ
15 センター支柱
16 支持板
20,20a カセット保持装置
21,22,22a 支柱ベース
23,23a 回転台
24 回転軸
25,26,26a 枠部

Claims (11)

  1. 基板が収納されるカセットを支持するカセット支持手段と、このカセット支持手段を回転させ、前記基板の成膜またはパターン面が水平面に対して90°を超える範囲で傾斜した状態にして保持するカセット回転手段とを有することを特徴とする基板用カセット保持装置。
  2. 前記カセット支持手段が、前記カセットを底面で支える第1ベースと、前記カセットを側面で支える第2ベースと、これらベースの隅部で前記カセットをそれぞれ支える枠部とを備える請求項1記載の基板用カセット保持装置。
  3. 前記カセットが、前記基板を囲みこむ機構または前記ガラス基板をコの字で挟み込む機構からなる請求項1または2記載の基板用カセット保持装置。
  4. 前記カセット回転手段は、前記カセット支持手段を載置し所定回転軸を中心に回転する回転台からなる請求項1,2または3記載の基板用カセット保持装置。
  5. 前記カセット回転手段は、手動またはアクチュエータにより回転できる請求項1,2,3または4記載の基板用カセット保持装置。
  6. 前記カセット回転手段は、前記基板が前記90°を超える範囲で傾斜した状態で前記回転軸の回転を固定するロック機構を有する請求項4または5記載の基板用カセット保持装置。
  7. 請求項1乃至6のうちの1項に記載のカセット保持装置を直接クリーンルーム内に載置して保管することを特徴とする基板用カセット保管方法。
  8. 基板を収納するカセットの保持方法において、前記基板を収納した前記カセットを回転させ、前記基板の成膜またはパターン面が、水平面に対して90°を超える範囲で傾斜した状態で前記カセットを保持することを特徴とする基板用カセットの保持方法。
  9. 前記カセットが、前記基板を囲みこむ機構または前記基板をコの字で挟み込む機構をもつ請求項8記載の基板用カセット保持方法。
  10. 前記カセットの回転は、前記カセットを載置した回転台の所定回転軸を中心とした回転により行う請求項8または9記載の基板用カセット保持方法。
  11. 前記カセットの回転は、前記基板が前記90°を超える範囲の傾斜した状態で前記回転軸の回転をロック機構により固定する請求項10記載の基板用カセット保持方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100957816B1 (ko) 2008-02-20 2010-05-13 세메스 주식회사 웨이퍼 버퍼를 반전시키는 장치
JP6523590B1 (ja) * 2018-09-06 2019-06-05 三菱電機株式会社 キャリアの位置決め部材及びキャリア載置台

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100978261B1 (ko) * 2005-12-29 2010-08-26 엘지디스플레이 주식회사 액정표시소자의 카세트
KR101213538B1 (ko) 2011-06-28 2012-12-24 (주) 씨앤아이테크놀로지 디스플레이 패널 적재용 카세트, 이를 포함한 회전장치 및 이의 구동방법
KR101898677B1 (ko) * 2012-04-30 2018-09-13 삼성전자주식회사 멀티 스택 큐어 시스템 및 그 운전 방법
CN103387333A (zh) * 2012-05-07 2013-11-13 杜邦太阳能有限公司 一种基板卡匣装置
CN102700838B (zh) * 2012-06-21 2015-02-18 深圳市华星光电技术有限公司 一种背光模组的包装装置
CN103662454B (zh) * 2013-11-27 2015-09-30 深圳市华星光电技术有限公司 基板盒
JP2016043488A (ja) * 2014-08-19 2016-04-04 株式会社Isowa 糊付装置
CN104743341A (zh) * 2015-01-20 2015-07-01 京东方科技集团股份有限公司 挡块、基板卡匣组件
KR20190088493A (ko) 2016-11-18 2019-07-26 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 헤테로접합 태양 전지 형성을 위한 교환 및 플립 챔버 설계

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5507614A (en) * 1995-03-02 1996-04-16 Cybeq Systems Holder mechanism for simultaneously tilting and rotating a wafer cassette
TW331550B (en) * 1996-08-14 1998-05-11 Tokyo Electron Co Ltd The cassette receiving room
JPH10139159A (ja) * 1996-11-13 1998-05-26 Tokyo Electron Ltd カセットチャンバ及びカセット搬入搬出機構
JPH10203584A (ja) * 1997-01-22 1998-08-04 Nec Corp 基板用カセット
US6152680A (en) * 1997-08-26 2000-11-28 Daitron, Inc. Wafer cassette rotation mechanism
US6427096B1 (en) * 1999-02-12 2002-07-30 Honeywell International Inc. Processing tool interface apparatus for use in manufacturing environment
US6582578B1 (en) * 1999-04-08 2003-06-24 Applied Materials, Inc. Method and associated apparatus for tilting a substrate upon entry for metal deposition
WO2004046418A1 (ja) * 2002-11-15 2004-06-03 Ebara Corporation 基板処理装置及び基板処理方法
TWI268265B (en) * 2004-08-13 2006-12-11 Au Optronics Corp Glass substrate cassette

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100957816B1 (ko) 2008-02-20 2010-05-13 세메스 주식회사 웨이퍼 버퍼를 반전시키는 장치
JP6523590B1 (ja) * 2018-09-06 2019-06-05 三菱電機株式会社 キャリアの位置決め部材及びキャリア載置台

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