JP2008000867A - 研磨液、その製造方法、および研磨方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】研磨対象物Wを研磨するための研磨粒子2と、研磨粒子2が混入された分散媒1と、を含む研磨液Aであって、研磨粒子2よりもその平均粒径が小さく、研磨粒子2に凝集することにより研磨粒子2を分散媒1中において懸濁させる懸濁粒子3、をさらに備える。
【選択図】 図1
Description
1 分散媒
2 研磨粒子
3 懸濁粒子
Claims (5)
- 研磨対象物を研磨するための研磨粒子と、
上記研磨粒子が混入された分散媒と、を含む研磨液であって、
上記研磨粒子よりもその平均粒径が小さく、上記研磨粒子に凝集することにより上記研磨粒子を上記分散媒中において懸濁させる懸濁粒子、をさらに備えることを特徴とする、研磨液。 - 上記研磨粒子は、その平均粒子径が300nm以上であり、
上記懸濁粒子は、その平均粒子径が120nm以下である、請求項1に記載の研磨液。 - 上記研磨粒子は、ダイヤモンドからなり、
上記懸濁粒子は、SiO2またはAl2O3からなる、請求項1または2に記載の研磨液。 - 請求項3に記載の研磨液を製造する研磨液の製造方法であって、
上記分散媒とSiO2とを混合し、pH8以上の状態とする工程と、
酸およびダイヤモンドからなる上記研磨粒子を上記分散媒に加えることにより、上記分散媒をpH5〜pH8の状態とする工程と、
さらに上記酸およびダイヤモンドからなる上記研磨粒子を上記分散媒に加えることにより、上記分散媒をpH2〜pH5の範囲にする工程と、を有することを特徴とする、研磨液の製造方法。 - 研磨対象物に対して定盤を相対動させるとともに、
上記研磨対象物と上記定盤との間に研磨液を供給する研磨方法であって、
上記研磨液として、請求項1ないし3のいずれかに記載の研磨液を用いることを特徴とする、研磨方法。
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