JP2007511889A - カラーフィルタを含むエレクトロルミネセンスデバイスの製造方法 - Google Patents

Abstract

１つもしくはそれ以上のカラーフィルタを含むエレクトロルミネセンスデバイスの製造方法が開示される。一実施形態では、本方法は、エレクトロルミネセンス素子を基板上に形成するステップを含む。本方法は、複数のカラーフィルタを選択的に熱転写するステップをさらに含む。

Description

一般に、本開示は、エレクトロルミネセンスデバイスに関する。より詳しくは、本開示は、エレクトロルミネセンス素子および少なくとも１つのカラーフィルタを含むエレクトロルミネセンスデバイスの形成方法に関する。

有機または無機エレクトロルミネセンスデバイスなどの発光デバイスは、様々なディスプレイ、照明、および他の応用において有用である。一般に、これら発光デバイスには、２つの電極（アノードおよびカソード）間に配置される少なくとも１つの発光層を含めて、１つもしくはそれ以上のデバイス層が含まれる。２つの電極間に電圧降下または電流が提供されると、それによって発光層内の発光材料が、それは有機質または無機質とすることができるが、ルミネセンスを示すようになる。一般に、電極の一方または両方は透明であり、その結果、光は、電極を経由して視聴者または他の光受信器まで透過することができる。

エレクトロルミネセンスデバイスは、それが最上部発光デバイスまたは底部発光デバイスのいずれかであるように組み立てることができる。最上部発光エレクトロルミネセンスデバイスでは、発光層は、基板と視聴者の間に配置される。底部発光エレクトロルミネセンスデバイスでは、透明または半透明の基板が、発光層と視聴者の間に配置される。

典型的なカラーエレクトロルミネセンスディスプレイでは、１つもしくはそれ以上のエレクトロルミネセンスデバイスが、単一の基板上に形成され、グループまたはアレイに配置され得る。カラーエレクトロルミネセンスディスプレイを製造するにはいくつかの手法が存在する。例えば、一つの手法では、互いの隣に配置される赤、緑、および青のエレクトロルミネセンスデバイスサブ画素を有するアレイを含む。他の手法では、例えば、赤、緑、および青のカラーフィルタと併せて白色の画素化したディスプレイを利用する。

本開示は、エレクトロルミネセンス素子と光学的に協働するカラーフィルタを含むエレクトロルミネセンスデバイスの製造方法を提供する。より詳しくは、本開示は、エレクトロルミネセンスデバイスと共に使用するためのカラーフィルタの選択的な熱転写（例えばレーザ誘起サーマルイメージングＬａｓｅｒ Ｉｎｄｕｃｅｄ Ｔｈｅｒｍａｌ Ｉｍａｇｉｎｇ（ＬＩＴＩ））を含む技術を提供する。

フルカラーデバイス用の赤、緑、および青色発光の原色有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）材料のパターン化は、難しいことが判明した。レーザ熱パターン化、インクジェットパターン化、シャドーマスクパターン化、および光リソグラフィパターン化を含めて、かかるパターン化について多くの技術が説明されてきた。

発光材料をパターン化することなくフルカラーディスプレイを提供する代替の技術としては、本明細書に記載したようなカラーフィルタを使用することが挙げられる。しかし、従来の底部発光エレクトロルミネセンスデバイス構造体にこれら代替の技術を使用するのは、物理的および光学的要因によって制限される。実際的な理由として、カラーフィルタは、ガラスの独立した片上または基板上のいずれかにパターン化しなければならない。この場合、発光層とカラーフィルタの間の距離の作用が、視差の問題をまねく。換言すれば、エレクトロルミネセンスデバイスからの完全拡散発光（Ｌａｍｂｅｒｔｉａｎ ｅｍｉｓｓｉｏｎ）により、光が、対応するカラーフィルタのみならず、相当数の隣接するカラーフィルタに到達するのが可能になる。その結果、エレクトロルミネセンスディスプレイの色飽和度レベルが低減される。

一方、最上部発光エレクトロルミネセンスデバイスでは、より複雑な画素制御回路、並びに、半導体および基板の選択においてより大きい適応性を考慮に入れることができる。典型的な最上部発光デバイスでは、エレクトロルミネセンスデバイス層を基板上に堆積させ、続けて薄い透明金属電極および保護層を形成することができる。

いくつかの実施形態では、本開示は、最上部発光エレクトロルミネセンスデバイスを形成するための選択的な熱転写（例えばＬＩＴＩ）技術を提供し、この最上部発光エレクトロルミネセンスデバイスは、エレクトロルミネセンス素子の最上部電極の上、または、エレクトロルミネセンスデバイス上に形成される保護層上に形成されるカラーフィルタを含む。カラーフィルタを最上部電極上にまたは保護層上に直接に提供すると、位置合せの問題を解消する助けになり得る。本開示はまた、底部発光エレクトロルミネセンスデバイスを形成するための選択的な熱転写（例えばＬＩＴＩ）技術を提供し、この底部発光エレクトロルミネセンスデバイスは、エレクトロルミネセンス素子の反対側の基板表面に形成されるカラーフィルタを含む。

さらに、選択的な熱転写パターン化（例えばＬＩＴＩパターン化、これは乾式のデジタル方式の方法である）は、有機エレクトロルミネセンスデバイスに使用される材料により適合できる。それは乾式の技術であるので、選択的な熱転写により、それぞれの層の相対溶解度について心配することなく、単一の基板上に多重層をパターン化することも可能になる。

加えて、カラーフィルタの選択的な熱転写パターン化は、より容易に元に戻せる技術を提供できる。例えば、カラーフィルタのパターンが品質管理検査に合格しなかった場合、このフィルタは、エレクトロルミネセンスデバイスを過度に損傷させることなく、洗浄して再度形成できる。

一態様では、本開示は、エレクトロルミネセンスデバイスの製造方法を提供する。本方法は、エレクトロルミネセンス素子を基板上に形成するステップを含む。本方法は、複数のカラーフィルタをエレクトロルミネセンス素子に選択的に熱転写するステップをさらに含む。

別の態様では、本開示は、エレクトロルミネセンスデバイスの製造方法を提供する。本方法は、基板の第１の主表面上にエレクトロルミネセンス素子を形成するステップを含む。本方法は、基板の第２の主表面に複数のカラーフィルタを選択的に熱転写するステップをさらに含む。

別の態様では、本開示は、エレクトロルミネセンスデバイスの製造方法を提供する。本方法は、エレクトロルミネセンス素子を基板上に形成するステップを含む。本方法は、エレクトロルミネセンス素子の少なくとも一部の上に保護層を形成するステップと、この保護層に複数のカラーフィルタを選択的に熱転写するステップとをさらに含む。

別の態様では、本開示は、少なくとも１つのエレクトロルミネセンスデバイスを含むエレクトロルミネセンスカラーディスプレイの製造方法を提供する。本方法は、少なくとも１つのエレクトロルミネセンスデバイスを基板上に形成するステップを含む。少なくとも１つのエレクトロルミネセンスデバイスを形成するステップは、基板上にエレクトロルミネセンス素子を形成するステップと、このエレクトロルミネセンス素子に複数のカラーフィルタを選択的に熱転写するステップを含む。

本明細書で使用されるとき、「ａ」、「ａｎ」、「ｔｈｅ」、「少なくとも１つ」および、「１つもしくはそれ以上」は互換性があるように使用される。

上記本発明の課題を解決するための手段は、本発明のそれぞれ開示された実施形態またはあらゆる実施態様を記載することを目的としていない。以下の図面および発明を実施するための最良の形態により、例示的な実施形態をより詳しく例示する。

例示的な実施形態についての以下の発明を実施するための最良の形態では、本明細書の一部を形成する添付図面に言及され、この場合、例として、本発明が実施できる特定の実施形態が示される。他の実施形態を利用することが可能であり、本発明の範囲から逸脱することなく、構造上の変更を行えることが理解されるべきである。

本開示は、エレクトロルミネセンスデバイスの製造方法に適用できると考えられる。エレクトロルミネセンスデバイスは、有機質または無機質発光体、あるいは、両方のタイプの発光体の組合せを含むことができる。有機エレクトロルミネセンス（ＯＥＬ）ディスプレイまたはデバイスは、少なくとも１種の有機発光材料を含むエレクトロルミネセンスディスプレイまたはデバイスを指し、それは、ＯＥＬディスプレイまたはデバイスにおいて、単独で、あるいは、官能性または非官能性である他の有機質もしくは無機質材料と組合わせて提供されるかどうかに関係なく、その発光材料が、小分子（ＳＭ）発光体（例えば非高分子発光体）、ＳＭをドープした高分子、ＳＭを混合した高分子、発光高分子（ＬＥＰ）、ドープしたＬＥＰ、混合したＬＥＰ、または他の有機発光材料であるかどうかには関係ない。無機質発光材料としては、リン、半導体ナノ結晶等が挙げられる。

一般に、エレクトロルミネセンスデバイスは、少なくとも１つの発光層を含めて、２つの電極（アノードおよびカソード）間に配置される１つもしくはそれ以上のデバイス層を有する。電圧降下または電流が２つの電極間に提供されると、それによって発光体がルミネセンスを示すようになる。

エレクトロルミネセンスデバイスは、薄膜エレクトロルミネセンスディスプレイまたはデバイスも含むことができる。薄いフィルムのエレクトロルミネセンスデバイスは、透明誘電層と行列電極のマトリックスの間にはさまれる発光材料を含む。こうした薄いフィルムのエレクトロルミネセンスディスプレイとしては、例えば米国特許第４，８９７，３１９号明細書（サン（Ｓｕｎ））および米国特許第５，６５２，６００号明細書（コルマエイ（Ｋｈｏｒｍａｅｉ）ら）に記載されているものを挙げることができる。

図１は、エレクトロルミネセンスデバイス１０の一実施形態の概略図である。エレクトロルミネセンスデバイス１０は、基板１２、基板１２の主表面１４上に形成されるエレクトロルミネセンス素子２０、並びに、エレクトロルミネセンス素子２０上に形成されるカラーフィルタ３０ａ、３０ｂ、および３０ｃ（以下ひとまとめにしてカラーフィルタ３０と称する）を含む。エレクトロルミネセンス素子２０は、第１の電極２２、第２の電極２６、および、第１の電極２２と第２の電極２６の間に配置される１つもしくはそれ以上のデバイス層２４を含む。

エレクトロルミネセンスデバイス１０の基板１２は、エレクトロルミネセンスデバイスまたはディスプレイ用途に適する適宜の基板とすることができる。例えば、基板１２は、ガラス、透明プラスチック、または、可視光に対して実質的に透明な他の適切な材料から製造することができる。基板１２は、可視光に対して不透明な、例えばステンレス鋼、結晶性シリコン、ポリシリコン等とすることができる。事例によっては、エレクトロルミネセンス素子２０の第１の電極２２を基板１２とすることができる。エレクトロルミネセンスデバイスの少なくとも一部に使用される材料が、特に酸素または水に曝露されることによって損傷を受けやすい可能性があるので、適切な基板は、十分な環境障壁を提供するように選択することができ、あるいは、十分な環境障壁を提供する１つもしくはそれ以上の層、被覆、または積層体を与えられる。

基板１２は、トランジスタアレイおよび他の電子デバイス；カラーフィルタ、偏光子、波長板、ディフューザ、および他の光学デバイス；絶縁体、障壁リブ、ブラックマトリックス、マスクワーク、および他のかかる構成要素等などのエレクトロルミネセンスデバイスおよびディスプレイに適するデバイスまたは構成要素をいくつも含むことができる。基板１２は、例えば欧州特許出願公開第１，２２０，１９１号明細書（クウォン（Ｋｗｏｎ））に記載されているような、複数の独立してアドレス可能な能動デバイスも含むことができる。

エレクトロルミネセンスデバイス１０は、基板１２の主表面１４上に形成されるエレクトロルミネセンス素子２０をさらに含む。図１では、エレクトロルミネセンス素子２０を、基板１２の主表面１４上に、かつそれと接触して形成されたものとして例示されているが、エレクトロルミネセンス素子２０と基板１２の主表面１４の間に、１つもしくはそれ以上の層またはデバイスを含むことができる。エレクトロルミネセンス素子２０は、第１の電極２２、第２の電極２６、および、第１の電極２２と第２の電極２６の間に配置される１つもしくはそれ以上のデバイス層２４を含む。第１の電極２２をアノードとすることができ、第２の電極２６をカソードとすることができ、あるいは、第１の電極２２をカソードとすることができ、第２の電極２６をアノードとすることができる。

第１の電極２２および第２の電極２６は、一般に、金属、合金、金属化合物、金属酸化物、導電性セラミック、導電性分散液、および導電性高分子などの導電性材料を使用して形成される。適切な材料の例としては、例えば金、白金、パラジウム、アルミニウム、カルシウム、チタン、窒化チタン、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、フッ素酸化スズ（ＦＴＯ）、およびポリアニリンが挙げられる。第１および第２の電極２２および２６は、単層の導電性材料とすることができ、または、それらは多重層を含むことができる。例えば、第１の電極２２および第２の電極２６のうちのいずれか一方または両方は、アルミニウム層と金層、カルシウム層とアルミニウム層、アルミニウム層とフッ化リチウム層、または、金属層と導電性有機層を含むことができる。

第１の電極２２と第２の電極２６の間に形成されるのは、１つもしくはそれ以上のデバイス層２４である。１つもしくはそれ以上のデバイス層２４は発光層を含む。場合により、１つもしくはそれ以上のデバイス層２４は、例えば正孔輸送層、電子輸送層、正孔注入層、電子注入層、正孔障壁層、電子障壁層、バッファ層、またはこれらの適宜の組合せなどの、１つもしくはそれ以上の追加の層を含むことができる。

発光層は発光材料を含む。適宜の適切な発光材料が発光層に使用できる。ＬＥＰおよびＳＭ発光体を含めて、様々な発光材料が使用できる。発光体としては、例えば蛍光性およびリン光性材料が挙げられる。適切なＬＥＰ材料の一群の例としては、ポリ（フェニレンビニレン）（ＰＰＶ）、ポリ−パラ−フェニレン（ＰＰＰ）、ポリフルオレン（ＰＦ）、現在知られているまたは後に開発される他のＬＥＰ材料および共重合体、あるいはそれらの混合物が挙げられる。適切なＬＥＰには、分子的にドープする、蛍光染料または他の材料を分散する、活性または非活性材料を混合する、活性または非活性材料を分散するなどのこともできる。適切なＬＥＰ材料の例は、クラフト（Ｋｒａｆｔ）らのアンゲバンテ・ケミー・インターナショナル・エディション（Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．）（３７、４０２〜４２８（１９９８））、米国特許第５，６２１，１３１号明細書（クロイダー（Ｋｒｅｕｄｅｒ）ら）、米国特許第５，７０８，１３０号明細書（ウー（Ｗｏｏ）ら）、米国特許第５，７２８，８０１号明細書（ウ（Ｗｕ）ら）、米国特許第５，８４０，２１７号明細書（ルポ（Ｌｕｐｏ）ら）、米国特許第５，８６９，３５０号明細書（ヒーガー（Ｈｅｅｇｅｒ）ら）、米国特許第５，９００，３２７号明細書（ペイ（Ｐｅｉ）ら）、米国特許第５，９２９，１９４号明細書（ウーら）、米国特許第６，１３２，６４１号明細書（リッツ（Ｒｉｅｔｚ）ら）、および米国特許第６，１６９，１６３号明細書（ウーら）、並びにＰＣＴ特許出願公開第９９／４０６５５号パンフレット（クロイダーら）に記載されている。

ＳＭ材料は、一般に、非高分子有機または有機金属の分子材料であり、それは、ＯＥＬディスプレイおよびデバイスにおいて、発光体材料として、電荷輸送材料として、発光体層におけるドーパントとして（例えば発光色を制御するために）、あるいは、電荷輸送層等として、使用できる。一般に使用されるＳＭ材料としては、トリス（８−ヒドロキシキノリン）アルミニウム（ＡｌＱ）およびＮ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジン（ＴＰＤ）などの金属キレート化合物が挙げられる。その他のＳＭ材料は、例えば、Ｃ．Ｈ．チェン（Ｃｈｅｎ）らのマクロモレキュラ・シンポジウム（Ｍａｃｒｏｍｏｌ．Ｓｙｍｐ．）（１２５：１（１９９７））、日本特許出願公開第２０００−１９５６７３号明細書（フジイ（Ｆｕｊｉｉ））、米国特許第６，０３０，７１５号明細書（トンプソン（Ｔｈｏｍｐｓｏｎ）ら）、米国特許第６，１５０，０４３号明細書（トンプソンら）、および米国特許第６，２４２，１１５号明細書（トムソンら）、並びに、ＰＣＴ特許出願公開の国際公開第００／１８８５１号パンフレット（シップレイ（Ｓｈｉｐｌｅｙ）ら）（二価のランタニド金属錯体類）、国際公開第００／７０６５５号パンフレット（フォレスト（Ｆｏｒｒｅｓｔ）ら）（シクロメタル化イリジウム化合物およびその他）、および国際公開第９８／５５５６１号パンフレット（クリストー（Ｃｈｒｉｓｔｏｕ））に開示されている。

１つもしくはそれ以上のデバイス層２４は、正孔輸送層も含むことができる。正孔輸送層は、アノードからエレクトロルミネセンス素子２０の中への正孔の注入および再結合ゾーンに向かうそれらの移動を容易にする。正孔輸送層はさらに、電子のアノードへの通過に対して障壁として働くことができる。適宜の適切な材料、例えば、ナイワ（Ｎａｌｗａ）らの「ルミネセンスのハンドブック（Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）、ディスプレイ材料およびデバイス（Ｄｉｓｐｌａｙ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ａｎｄ Ｄｅｖｉｃｅｓ）」（スティーヴンズランチ（Ｓｔｅｖｅｎｓ Ｒａｎｃｈ）、カリフォルニア州、アメリカンサイエンティフィック（Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）出版社、２００３、ｐ．１３２〜１９５）；チェンらの「分子有機エレクトロルミネセンス材料の最近の開発（Ｒｅｃｅｎｔ Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔｓ ｉｎ Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ）」、マクロモレキュラ・シンポジウム、１：１２５（１９９７）；およびシナル（Ｓｈｉｎａｒ）、ジョセフ（Ｊｏｓｅｐｈ）編集「有機発光デバイス（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ−Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｅｖｉｃｅｓ）」（ベルリン、スプリンガーフェアラーグ（Ｓｐｒｉｎｇｅｒ Ｖｅｒｌａｇ）、２００３、ｐ．４３〜６９）に記載されている材料が、正孔輸送層に使用できる。

１つもしくはそれ以上のデバイス層２４は、電子輸送層も含むことができる。電子輸送層は、電子の注入および再結合ゾーンに向かうそれらの移動を容易にする。電子輸送層はさらに、必要に応じてカソードへの正孔の通過に対して障壁として働くことができる。適宜の適切な材料、例えば、ナイワらの「ルミネセンスのハンドブック、ディスプレイ材料およびデバイス」（スティーヴンズランチ、カリフォルニア州、アメリカンサイエンティフィック出版社、２００３、ｐ．１３２〜１９５）；チェンらの「分子有機エレクトロルミネセンス材料の最近の開発」（マクロモレキュラ・シンポジウム、１：１２５（１９９７））；および、シナル、ジョセフ編集「有機発光デバイス」（ベルリン、スプリンガーフェアラーグ、２００３、ｐ．４３〜６９）に記載されている材料が、電子輸送層に使用できる。

エレクトロルミネセンス素子２０が白色光を発光できることが好ましい場合がある。当業者なら、エレクトロルミネセンス素子２０の発光層用の材料としては、欧州特許出願公開第１，１８７，２３５号明細書（ハトウォー（Ｈａｔｗａｒ））に記載されているものなどの、エレクトロルミネセンス素子２０が白色光を発光できるように選択できることを理解するだろう。

１つもしくはそれ以上のデバイス層２４は、様々な技術によって、例えば、被覆（例えばスピン被覆）、印刷（例えばスクリーン印刷またはインクジェット印刷）、物理または化学蒸着、フォトリトグラフィ、および熱転写法（例えば米国特許第６，１１４，０８８号明細書（ウォルク（Ｗｏｌｋ）ら）に記載されている方法）によって、第１の電極２２と第２の電極２６の間に形成することができる。１つもしくはそれ以上のデバイス層２４を順番に形成することができ、または、２つ以上の層を同時に配置することができる。１つもしくはそれ以上のデバイス層２４を形成した後、または、デバイス層２４の堆積と同時に、１つもしくはそれ以上のデバイス層２４上に第２の電極２６が形成される、またはそうでない場合は配置される。あるいは、エレクトロルミネセンス素子２０は、例えば米国特許第６，１１４，０８８号明細書（ウォルクら）に記載されているような多層ドナーシートを含むＬＩＴＩ技術を使用して形成できる。

エレクトロルミネセンス素子２０は、本明細書にさらに記載されるようなエレクトロルミネセンス素子２０上に形成される保護層（図示せず）も含むことができる。

エレクトロルミネセンスデバイス１０はまた、エレクトロルミネセンス素子２０上に形成されるカラーフィルタ３０を含む。エレクトロルミネセンス素子２０から発光される光の少なくとも一部が、１つもしくはそれ以上のカラーフィルタ３０上へ入射するように、１つ、２つ、またはより多くのカラーフィルタ３０をエレクトロルミネセンス素子２０上に形成できる。換言すれば、カラーフィルタ３０は、エレクトロルミネセンス素子２０と光学的に協同する。カラーフィルタ３０は、特定の波長または周波数を減衰させ、一方、相対的な波長変化のない状態でその他を通す。例えば、カラーフィルタ３０ａは赤色光を通すことができ、カラーフィルタ３０ｂは緑色光を通すことができ、カラーフィルタ３０ｃは青色光を通すことができる。本明細書で使用されるとき、用語「赤色光」は、主に可視スペクトルの上の方の部分のスペクトルを有する光を指す。本明細書でさらに使用されように、用語「緑色光」は、主に可視スペクトルの中間部分のスペクトルを有する光を指す。そして、「青色光」は、主に可視スペクトルの下の方の部分のスペクトルを有する光を指す。

カラーフィルタ３０は、適宜の適切な材料を含むことができる。例えば、カラーフィルタ３０は、適宜の適切な着色剤、例えばカラー染料、カラー顔料、あるいは、それらが電磁波の特定の波長または周波数を選択的に減衰させ得るという条件で他の任意の材料を含むことができる。これらの材料は、硬化可能なバインダ、例えばモノマー、オリゴマー、または高分子バインダ中に分散させることができる。

カラーフィルタ３０は、適宜の適切な技術、例えば、被覆（例えばスピン被覆）、印刷（例えばスクリーン印刷またはインクジェット印刷）、物理または化学蒸着、フォトリトグラフィ、および熱転写法（例えば米国特許第６，１１４，０８８号明細書（ウォルクら）に記載されている方法）を使用して、エレクトロルミネセンス素子２０上に形成できる。本明細書にさらに記載されるようなＬＩＴＩ技術を使用して、カラーフィルタ３０をエレクトロルミネセンス素子２０上に形成することが好ましい場合がある。

本開示の方法では、発光高分子（ＬＥＰ）または他の材料、色変換素子、およびカラーフィルタを含めて、発光材料を、ドナー要素の転写層をレセプタ（例えばエレクトロルミネセンス素子２０）に隣接して配置することによって、かつ、ドナー要素を選択的に加熱することによって、ドナーシートの転写層からレセプタ基材へ選択的に転写することができる。例えば、色変換素子の選択的な転写の例として同時係属の米国特許出願第 号明細書（弁護士ドケット番号５９０１２ＵＳ００７、表題「色変換素子を含むエレクトロルミネセンスデバイスの製造方法（Ａ ＭＥＴＨＯＤ ＯＦ ＭＡＫＩＮＧ ＡＮ ＥＬＥＣＴＲＯＬＵＭＩＮＥＳＣＥＮＴ ＤＥＶＩＣＥ ＩＮＣＬＵＤＩＮＧ Ａ ＣＯＬＯＲ ＣＯＮＶＥＲＳＩＯＮ ＥＬＥＭＥＮＴ）」、本願と同日出願）を参照されたい。例示として、ドナー層中に、しばしば独立したＬＴＨＣ層中に配置される光熱変換（ＬＴＨＣ）材料が吸収し得る画像形成電磁波を用いてドナー要素を照射し、かつこれを熱に変換することによって、ドナー要素を選択的に加熱することができる。あるいは、ＬＴＨＣは、ドナー要素および／またはレセプタ基材中のいずれかの適宜の１つまたは複数の層に存在することができる。これらの場合、ドナーを、ドナー基材を経由し、レセプタを経由し、またはその両方を経由する画像形成電磁波に暴露させることができる。この電磁波は、可視光、赤外光、または紫外光を含めて、例えばレーザ、ランプ、または他のかかる照射源からの１つもしくはそれ以上の波長を含むことができる。感熱印字ヘッドの使用、または、加熱ホットスタンプ（例えば、ドナーを選択的に加熱するのに使用できるレリーフパターンを有する加熱されたシリコーンスタンプなどの、パターン化した加熱ホットスタンプ）の使用などの、その他の選択的加熱技術も使用できる。このようにして、熱転写層からの材料をレセプタに選択的に転写して、転写された材料のパターンをレセプタ上に画像通りに形成することができる。多くの場合、正確さおよび精密さをしばしば達成できるので、例えばランプまたはレーザからの光を使用して、ドナーをパターン通りに暴露させる熱転写が有利なことがある。転写されるパターンのサイズおよび形状（例えば、線、円、正方形、または他の形状）は、例えば、光線のサイズ、光ビームの露出パターン、有向ビームがドナーシートに接触する継続時間、またはドナーシートの材料を選択することによって、制御することができる。転写されるパターンはまた、マスクを介してドナー要素に照射することよって制御することもできる。

上述のとおり、感熱印字ヘッドまたはその他の発熱体（または別の方法でパターン化したもの）を使用して、ドナー要素を選択的に直接に加熱し、それによって転写層の一部をパターン状に転写することもできる。そのような場合、ドナーシートまたはレセプタ中の光熱変換材料は、任意である。解像度の低い材料からパターンを製作する場合、または、その配置を正確に制御する必要のない素子をパターン化する場合、感熱印字ヘッドまたはその他の発熱体が特に適する場合がある。

転写層はまた、ドナーシートからそれらの全体を転写することができる。例えば、転写層を、本質的に一時的なライナとして働くドナー基材上に形成でき、ドナー基材は、転写層がレセプタ基材に接触した後、一般に熱または圧力をかけて引き離すことができる。こうした方法は、積層転写と称するが、全転写層またはこれらの大部分をレセプタに転写するのに使用できる。

使用される選択的加熱の形式、ドナーを暴露するのに使用される場合の照射のタイプ、材料の種類、並びに、任意選択のＬＴＨＣ層の特性、転写層中の材料の種類、ドナーの全体構造、レセプタ基材の種類等に依存して、熱転写の方式を変化させることができる。どんな理論にも束縛されることを望まないが、転写は、一般に１つもしくはそれ以上の機構を介して行われ、そのうちの１つもしくは複数は、画像形成条件、ドナー構造等々に依存する選択的な転写の際、強調されまたは強調されない場合がある。熱転写の１つの機構は、熱溶融粘着転写を含み、それによって、熱転写層とドナー要素の残りの部分の間の界面で加熱すると、ドナー要素が除去されるとき、転写層の選択された部分がレセプタにとどまるような、ドナーに対するよりもレセプタに対する方が強力な接着性が得られる。熱転写の他の機構にはアブレーション転写が含まれ、それによって、局所的加熱を使用して、ドナー要素の転写層の部分を溶発させ、それによって溶発した材料をレセプタの方に導くことができる。熱転写のさらに別の機構には昇華が含まれ、それによって、転写層中に分散した材料を、ドナー要素中に生成された熱によって昇華させることができる。昇華する材料の一部は、レセプタに凝縮させることができる。本発明は、１つもしくは複数のこれらおよびその他の機構を含む転写方式を企図しており、それによって、ドナーシートの選択的加熱を使用して、転写層からレセプタ表面に材料の転写を引き起こすことが可能になる。

様々な電磁波発光源を使用して、ドナーシートを加熱することが可能である。アナログ技術（例えばマスクを経由する曝露）としては、強力な光源（例えばキセノン閃光電球およびレーザ）が有用である。デジタル方式の画像技術としては、赤外線、可視光、および紫外線レーザが特に有用である。適切なレーザとしては、例えば、高出力（≧１００ｍＷ）単一モードレーザダイオード、ファイバ結合レーザダイオード、およびダイオード励起の固体レーザ（例えばＮｄ：ＹＡＧおよびＮｄ：ＹＬＦ）が挙げられる。レーザ曝露滞留時間は、例えば１００分の数マイクロ秒から数１０マイクロ秒以上まで広範に変化させることができ、レーザフルエンスは、例えば約０．０１〜約５Ｊ／ｃｍ^２以上の範囲とすることができる。とりわけ、ドナー要素構造、転写層材料、熱物質転写の方式、およびその他のかかる要因に基づき、その他の照射源および照射条件が適切であることもある。

基板の大きい領域にわたり高精度のスポット配置が所望されるとき（例えば、大容量情報のディスプレイおよびその他のかかる用途の場合に素子をパターン化するとき）、レーザが特に照射源として有用である可能性がある。レーザ光源はまた、大きい剛性基板（例えば１ｍ×１ｍ×１．１ｍｍのガラス）および連続的なまたは被覆されたフィルム基板（例えば厚さ１００μｍのポリイミドシート）の両方に適合できる。

画像形成する際、ドナーシートは、（典型的には熱溶融粘着転写機構の場合のように）レセプタと密接に接触させることができ、あるいは、ドナーシートは、（アブレーション転写機構または材料昇華転写機構の場合に可能なように）レセプタからある程度の間隔を置くことができる。少なくともいくつかの場合、圧力または真空を使用して、ドナーシートをレセプタと密接に接触させて保持することが可能である。事例によっては、マスクをドナーシートとレセプタの間に配置することができる。そのようなマスクは、着脱可能にすることができ、または、転写の後、レセプタにとどまることができる。光熱変換材料がドナー内に存在する場合、照射源を使用して、ＬＴＨＣ層（または電磁波吸収材を含むその他の層）を、（例えば、デジタル的またはマスクを経由するアナログ的曝露によって）画像通りに加熱し、ドナーシートからレセプタへ、転写層の画像通りの転写またはパターン化を行うことができる。

一般に、本明細書にさらに記載されるように、任意選択の中間層またはＬＴＨＣ層など、ドナーシートのその他の層の重要な部分が転写されずに、転写層の選択された部分がレセプタに転写される。任意選択の中間層の存在により、ＬＴＨＣ層または他の近接する層（例えば他の中間層）からレセプタへの材料の転写をなくすまたは低減することができ、あるいは、転写層の転写された部分の歪みを低減することができる。画像形成条件下で、任意選択の中間層のＬＴＨＣ層への接着性が、中間層の転写層への接着性より大きいことが好ましい。この中間層は、画像形成電磁波に対して透過性、反射性、または吸収性のものであり、これを使用して、ドナーを経由して送出される画像形成電磁波のレベルを減衰させる、またはさもなくば制御することが可能であり、あるいは、ドナー内の温度を管理すること、例えば、画像形成の際、熱または電磁波に基づく転写層の損傷を低減することが可能である。多重中間層が存在することができる。

１メートル以上の長さおよび幅の寸法を有するドナーシートを含めて、大きいドナーシートが使用できる。操作時、大きいドナーシート全体にわたりレーザをラスターするか、またはそうでない場合は移動させることができ、レーザは、所望のパターンに従ってドナーシートの部分を照らすように選択的に操作される。あるいは、レーザが固定され、ドナーシートまたはレセプタ基材がレーザの真下を移動してもよい。

事例によっては、２種以上のドナーシートを順番に使用してレセプタ上に電子デバイスを形成することが必要である、望ましい、または便利である場合がある。例えば、異なるドナーシートからの独立した層、または、独立した層の積層体を転写することによって、多重層デバイスを形成できる。多層積層体はまた、例えば米国特許第６，１１４，０８８号明細書（ウォルクら）に記載されているように、単一のドナー要素から単一の転写単位体として転写できる。例えば、正孔輸送層とＬＥＰ層を単一のドナーから共転写できる。他の例として、高分子半導体と発光層を単一のドナーから共転写できる。多重ドナーシートを使用して、レセプタ上の同じ層に別々の構成要素を形成することも可能である。例えば、（配向したまたはしてない）電気的活性有機材料の選択的熱転写、続けて、１つもしくはそれ以上の画素またはサブ画素素子例えばカラーフィルタ（例えばカラーフィルタ３０）、発光層、電荷輸送層、電極層等の選択的熱転写パターン化によって、エレクトロルミネセンス素子（例えばエレクトロルミネセンス素子２０）をパターン化することができる。

別々のドナーシートからの材料を、レセプタ上の他の材料に隣接して転写して、隣接するデバイス、隣接するデバイスの一部分、または、同じデバイスの異なる部分を形成することができる。あるいは、別々のドナーシートからの材料を、熱転写または他のなんらかの方法（例えば、フォトリトグラフィ、シャドーマスクを通じての蒸着等）によってレセプタ上に以前にパターン化した他の層または材料の上面に直接に、あるいは、それと部分的に覆い被さる位置に合せて、転写することができる。２つ以上のドナーシートのその他の様々な組合せを使用して、デバイスを形成することが可能である。各ドナーシートは、デバイスの１つもしくはそれ以上の部分を形成するために使用される。これらデバイスのその他の部分またはレセプタ上のその他のデバイスは、従来から使用されているかまたは新しく開発されるかどうかに関係なく、光リトグラフィプロセス、インクジェットプロセス、および様々なその他の印刷またはマスクに基づくプロセスを含む、適宜の適切な方法によって、全体的にあるいは部分的に形成できることが理解されよう。

ドナー基材は、高分子フィルムとすることができる。高分子フィルムの１つの適切な種類は、ポリエステルフィルム、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）またはポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）フィルムである。しかし、特定の用途に依存して、特定の波長での光の高い透過率、または、十分な機械的および熱的安定性特性を含めて、十分な光学的特性を有するその他のフィルムを使用できる。ドナー基材は、少なくとも一部の場合、そこに均一な被覆が形成できるように平坦である。ドナー基材はまた、一般に、ドナーの１つもしくはそれ以上の層を加熱しても安定にとどまる材料から選択される。しかし、本明細書に記載したように、基材とＬＴＨＣ層の間に基層を含めることは、画像形成の際にＬＴＨＣ層に生成される熱から基材を断熱するのに使用できる。より厚いまたはより薄いドナー基材を使用できるが、ドナー基材の典型的な厚さは０．０２５〜０．１５ｍｍ、好ましくは０．０５〜０．１ｍｍの範囲である。

ドナー基材および任意選択の隣接する基層を形成するのに使用される材料は、ドナー基材と基層の間の接着性を改善するように、基材と基層の間の熱輸送を制御するように、ＬＴＨＣ層への画像形成電磁波輸送を制御するように、画像欠陥を低減するように、などのように選択することができる。任意選択の下塗り層を使用して、基材上に後続の層を被覆する際の均一性を増大させ、また、ドナー基材と隣接する層の間の結合力を増大させることができる。

任意選択の基層を被覆して、またはそうでない場合はドナー基材とＬＴＨＣ層の間に配置して、例えば、画像形成の際、基材とＬＴＨＣ層の間の熱の流れを制御することができ、あるいは、保存、取扱い、ドナー処理、または画像形成のための機械的安定性をドナー要素に提供することができる。適切な基層および基層を提供する技術の例は、米国特許第６，２８４，４２５号明細書（スターラル（Ｓｔａｒａｌ）ら）に開示されている。

基層は、ドナー要素に所望の機械的または熱的特性を与える材料を含むことができる。例えば、基層は、ドナー基材と比較して小さい（比熱×密度）または低い熱伝導率を示す材料を含むことができる。そのような基層を使用して、転写層への熱の流れを増大させることができ、例えばドナーの画像形成感度を改善することができる。

基層は、それらの機械的特性のための材料、または、基材とＬＴＨＣの間の接着のための材料も含むことができる。基材とＬＴＨＣ層の間の接着性を改善する基層を使用すると、転写された画像において歪みの少ないものにすることができる。一例として、ある場合には、基層を使用して、ＬＴＨＣ層の層割れまたは剥離を、低減するかまたはなくすことができ、例えば、層割れまたは剥離は、普通ならドナー媒体の画像形成の際に起こる可能性がある。これは、転写層の転写された部分が示す物理的歪みの量を低減できる。しかし、他の場合には、画像形成の際、層間または層中に少なくともある程度の剥離を助長する基層、例えば、画像形成の際、層間に断熱機能を提供できる空気ギャップを作り出す基層を使用することが望ましいだろう。画像形成の際の剥離により、画像形成の際のＬＴＨＣ層の加熱によって生成されることがあるガスの放出用のチャンネルも提供できる。そのようなチャンネルを提供すると、画像欠陥の少ないものになり得る。

基層は、画像形成波長において実質的に透明でもよく、または、画像形成電磁波を少なくとも部分的に吸収または反射するものでもよい。基層による画像形成電磁波の減衰または反射を使用して、画像形成の際の熱発生を制御することができる。

照射エネルギーをドナーシートに結びつけるため、本開示のドナーシートにＬＴＨＣ層を含めることができる。ＬＴＨＣ層は、入射電磁波（例えばレーザ光線）を吸収する電磁波吸収材を含むことが好ましく、入射電磁波の少なくとも一部を、ドナーシートからレセプタへの転写層の転写を可能にする熱に変換することが好ましい。

一般に、ＬＴＨＣ層中の電磁波吸収材は、電磁スペクトルの赤外線、可視光、または紫外線領域の光を吸収し、吸収した電磁波を熱に変換する。電磁波吸収材は、一般に選択された画像形成電磁波について吸収性が高く、画像形成電磁波の波長で約０．２〜３以上の範囲の光学濃度を有するＬＴＨＣ層が提供される。層の光学濃度は、層を経由して透過する光の強さ対層の上に入射する光の強さの比の対数（底１０）の絶対値である。

電磁波吸収材料は、ＬＴＨＣ層の全体にわたって均一に配置することができ、または、非均一に分散させることができる。例えば米国特許第６，２２８，５５５号明細書（ホヘンド（Ｈｏｆｆｅｎｄ）ジュニアら）に記載されているように、非均質のＬＴＨＣ層を使用して、ドナー要素中の温度プロフィールを制御することができる。これにより、改善された転写特性（例えば、所期の転写パターンと実際の転写パターンの間のより良好な正確さ）を有するドナーシートを生じさせることができる。

適切な電磁波吸収材料としては、例えば、染料（例えば可視光染料、紫外光染料、赤外光線染料、蛍光染料、および電磁波偏光染料）、顔料、金属、金属間化合物、金属フィルム、黒体吸収材、およびその他の適切な吸収材料を挙げることができる。適切な電磁波吸収材の例としては、カーボンブラック、金属酸化物、および金属硫化物が挙げられる。適切なＬＴＨＣ層の一例としては、カーボンブラックなどの顔料、および有機高分子などのバインダを挙げることができる。他の適切なＬＴＨＣ層としては、薄いフィルムとして形成される金属または金属／金属酸化物、例えばブラックアルミニウム（すなわち、視覚的に黒の外観を有する部分酸化アルミニウム）が挙げられる。金属および金属化合物フィルムは、例えばスパッタリングおよび蒸着などの技術によって形成できる。微粒子被覆は、バインダおよび適宜の適切な乾式または湿式の被覆技術を使用して形成できる。ＬＴＨＣ層はまた、同種または異種材料を含む２つ以上のＬＴＨＣ層を組み合わせることによって形成することができる。例えば、ＬＴＨＣ層は、バインダ中に配置されたカーボンブラックを含む被覆の上に、ブラックアルミニウムの薄層を蒸着することによって形成できる。

ＬＴＨＣ層中で電磁波吸収材として使用するのに適する染料は、バインダ材料中に溶解した、または、バインダ材料中に少なくとも部分的に分散した微粒子の形で存在することができる。分散された微粒子電磁波吸収材が使用されるとき、その粒子径は、事例によっては、少なくとも約１０μｍ以下とすることができ、約１μｍ以下とすることができる。適切な染料としては、スペクトルのＩＲ領域で吸収する染料が挙げられる。特定の染料は、特定のバインダまたは被覆溶剤中での溶解性、および、それとの相溶性、並びに、吸収波長の領域などの因子に基づいて選択することができる。

顔料材料は、ＬＴＨＣ層で電磁波吸収材として使用することも可能である。適切な顔料の例としては、カーボンブラックおよびグラファイト、並びに、フタロシアニン、ニッケルジチオレン、並びに、米国特許第５，１６６，０２４号明細書（バグナー（Ｂｕｇｎｅｒ）ら）および米国特許第５，３５１，６１７号明細書（ウィリアムズ（Ｗｉｌｌｉａｍｓ）ら）に記載されているその他の顔料が挙げられる。加えて、銅またはクロム錯体類に基づく黒色アゾ顔料、例えば、ピラゾロンイエロー、ジアニシジンレッド、およびニッケルアゾ系イエローが有用なはずである。例えば、アルミニウム、ビスマス、スズ、インジウム、亜鉛、チタン、クロム、モリブデン、タングステン、コバルト、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、銅、銀、金、ジルコニウム、鉄、鉛、およびテルルなどの金属の酸化物および硫化物を含めて、無機顔料も使用できる。金属ホウ化物、炭化物、窒化物、炭窒化物、ブロンズ構造を持つ酸化物、および構造的にブロンズ系統に関係付けられる酸化物（例えばＷＯ_２．９）も使用可能である。

金属電磁波吸収剤は、例えば米国特許第４，２５２，６７１号明細書（スミス（Ｓｍｉｔｈ））に記載されているような微粒子の形態で、または、米国特許第５，２５６，５０６号明細書（エリス（Ｅｌｌｉｓ）ら）に開示されているようなフィルムとして、いずれも使用できる。適切な金属としては、例えばアルミニウム、ビスマス、スズ、インジウム、テルル、および亜鉛が挙げられる。

ＬＴＨＣ層に用いる適切なバインダとしては、例えば、フェノール樹脂（例えばノボラックおよびレゾール樹脂）、ポリビニルブチラール樹脂、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアセタール、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリレート、セルロース誘導体エーテルおよびエステル、ニトロセルロース、並びに、ポリカルボナートなどの、フィルム形成高分子が挙げられる。適切なバインダは、モノマー、オリゴマー、あるいは、重合または架橋されているかまたはそれができる高分子を含むことができる。ＬＴＨＣバインダの架橋を助けるため、光重合開始剤などの添加剤も含むことができる。実施形態によっては、バインダは、主に任意選択の高分子と架橋可能なモノマーまたはオリゴマーの被覆を使用して形成される。

熱可塑性樹脂（例えば高分子）を含めると、少なくとも一部の場合、ＬＴＨＣ層の性能（例えば転写特性または被覆性）を改善することができる。熱可塑性樹脂により、ドナー基材へのＬＴＨＣ層の接着性を改善できると考えられる。一実施形態では、バインダは、２５〜５０重量％（重量パーセントを算出するとき溶剤を除いて）の熱可塑性樹脂、好ましくは３０〜４５重量％の熱可塑性樹脂を含む。とはいえ、より低量（例えば１〜１５重量％）の熱可塑性樹脂を使用できる。熱可塑性樹脂は、一般に、バインダの他の材料と相溶である（すなわち１相の化合物を形成する）ように選択される。少なくとも一部の実施形態では、９〜１３（ｃａｌ／ｃｍ^３）^１／２、好ましくは９．５〜１２（ｃａｌ／ｃｍ^３）^１／２の範囲の溶解度パラメーターを有する熱可塑性樹脂が、バインダ用に選択される。適切な熱可塑性樹脂の例としては、ポリアクリル、スチレン−アクリル重合体および樹脂、およびポリビニルブチラールが挙げられる。

界面活性剤および分散剤などの従来の被覆助剤を加えて、被覆プロセスを助けることができる。ＬＴＨＣ層は、当技術分野で知られている様々な被覆方法を使用してドナー基材上に被覆することができる。高分子または有機質のＬＴＨＣ層は、少なくとも一部の場合、０．０５μｍ〜２０μｍ、好ましくは０．５μｍ〜１０μｍ、より好ましくは１μｍ〜７μｍの厚さまで被覆することができる。無機質ＬＴＨＣ層は、少なくとも一部の場合、０．０００５〜１０μｍ、好ましくは０．００１〜１μｍの範囲の厚さまで被覆することができる。

少なくとも１つの任意選択の中間層を、ＬＴＨＣ層と転写層の間に配置することができる。中間層を使用して、例えば、転写層の転写された部分の損傷および汚染を最小化することができ、転写層の転写された部分内の歪みまたは機械的損傷も低減することができる。中間層はまた、ドナーシートの残りの部分への転写層の接着性に影響を与えることができる。一般に、中間層は大きい熱抵抗を有する。中間層は、特に転写された画像を非機能化させる程度にまで、画像形成条件下で変形しないまたは化学的に分解しないことが好ましい。中間層は、一般に、転写プロセスの間、ＬＴＨＣ層と接触した状態にとどまり、実質的に転写層と一緒に転写されない。

適切な中間層としては、例えば、高分子フィルム、金属層（例えば蒸着された金属層）、無機質層（例えば無機酸化物（例えばシリカ、チタニア、およびその他の金属酸化物）のゾル−ゲル堆積層および蒸着層）、並びに、有機／無機質複合材料層が挙げられる。中間層材料として適切な有機質の材料には、熱硬化性および熱可塑性材料が挙げられる。適切な熱硬化性材料としては、これらに限定されないが、架橋されたまたは架橋可能なポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリエステル、エポキシ、およびポリウレタンを含めて、熱、電磁波、または化学処理によって架橋できる樹脂が挙げられる。熱硬化性材料は、例えば熱可塑性材料前駆体としてＬＴＨＣ層上に被覆し、その後架橋して、架橋された中間層を形成することができる。

適切な熱可塑性材料としては、例えば、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリスチレン、ポリウレタン、ポリスルホン、ポリエステル、およびポリイミドが挙げられる。これらの熱可塑性有機材料は、従来の被覆技術（例えば溶剤被覆、スプレー被覆、または押出し被覆）によって塗布することができる。一般に、中間層に使用するのに適する熱可塑性材料のガラス転移温度（Ｔ_ｇ）は、２５℃以上、好ましくは５０℃以上である。実施形態によっては、中間層は、画像形成の際、転写層で得られるいかなる温度より高いＴ_ｇを有する熱可塑性材料を含む。中間層は、画像形成電磁波波長で透過性、吸収性、反射性、またはこれらの一部の組合せのいずれでもよい。

中間層材料として適切な無機材料としては、画像形成光波長で高度に透過性または反射性である材料を含めて、例えば金属、金属酸化物、金属硫化物、および無機態炭素被覆が挙げられる。これらの材料は、慣用技術（例えば真空スパッタリング、真空蒸発、またはプラズマジェット蒸着）によって、光熱変換層に塗布することができる。

中間層は、相当数の利点を提供できる。中間層は、光熱変換層からの材料の転写に対して障壁になることができる。中間層は、それに近接する層へまたはそれに近接する層からの何らかの材料交換または汚染交換を防止できる障壁として働くこともできる。それは、熱的に不安定な材料が転写できるように、転写層中に得られる温度を調節することもできる。例えば、中間層は、中間層と転写層の間の界面の温度を、ＬＴＨＣ層中で得られる温度に関連させて制御する熱拡散体として働くことができる。これにより、転写された層の品質（すなわち表面粗さ、エッジ粗さ等）を改善することができる。中間層の存在により、転写された材料において改善された塑性復原を得ることもできる。

中間層は、例えば光重合開始剤、界面活性剤、顔料、可塑剤、および被覆助剤を含めて、添加剤を含むことができる。中間層の厚さは、例えば、中間層の材料、ＬＴＨＣ層の材料および特性、転写層の材料および特性、画像形成電磁波の波長、並びに、画像形成電磁波へのドナーシートの曝露の所要時間などの因子に依存する場合がある。高分子中間層の場合、中間層の厚さは、一般に０．０５μｍ〜１０μｍの範囲にある。無機質中間層（例えば金属または金属間化合物の中間層）の場合、中間層の厚さは、一般に０．００５μｍ〜１０μｍの範囲にある。多重中間層も使用できる。例えば、有機質ベースの中間層を、無機質ベースの中間層で覆い、熱転写プロセス時の転写層に対する追加の保護を提供することができる。

熱転写層は、ドナーシート内に含まれる。転写層は、単独でまたは他の材料と組合わせて、１つもしくはそれ以上の層内に配置された適宜の適切な材料を含むことができる。転写層は、ドナー要素が、加熱に直接暴露されるとき、あるいは、光熱変換材料が吸収して熱に変換できる画像形成電磁波に暴露されるとき、適宜の適切な転写機構によって単位体または部分として選択的に転写され得る。実施形態によっては、熱転写層が、光熱変換材料を含むことができる。

熱転写層を使用して、例えば、カラーフィルタ、電子回路、抵抗体、キャパシタ、ダイオード、整流器、エレクトロルミネセンスランプ、記憶素子、電界効果トランジスタ、バイポーラトランジスタ、単接合トランジスタ、ＭＯＳトランジスタ、金属−絶縁体−半導体トランジスタ、電荷結合デバイス、絶縁体−金属−絶縁体積層体、有機電導体−金属−有機電導体積層体、集積回路、光検出器、レーザ、レンズ、導波路、回折格子、ホログラフィック素子、フィルタ（例えばアッド・ドロップ（ａｄｄ−ｄｒｏｐ）フィルタ、ゲインフラットニング（ｇａｉｎ−ｆｌａｔｔｅｎｉｎｇ）フィルタ、カットオフ（ｃｕｔ−ｏｆｆ）フィルタ等）、ミラー、スプリッタ、カプラー、コンバイン、モジュレータ、センサ（例えば、エバネッセント（ｅｖａｎｅｓｃｅｎｔ）センサ、位相変調センサ、干渉計測センサ等）、光共振器、圧電デバイス、強誘電体デバイス、薄膜電池、またはこれらの組合せ；例えば、光学ディスプレイ用のアクティブマトリックスアレイとしての電界効果トランジスタと有機エレクトロルミネセンスランプの組合せ、を形成することができる。多成分転写単位体および／または単一の層を転写することによってその他の品目も形成できる。

転写層は、ドナー要素から最も近接して配置されたレセプタ基材に選択的に熱転写することができる。単一のドナーシートを使用して多層構造が転写されるように、必要に応じて、２つ以上の転写層とすることができる。レセプタ基材は、これらに限定されないが、ガラス、透明フィルム、反射性フィルム、金属、半導体、およびプラスチックスを含めて、特定の用途に適する適宜のアイテムでよい。例えば、レセプタ基材は、ディスプレイ応用、例えば発光型ディスプレイ、反射型ディスプレイ、反射透過型ディスプレイ、超小形メカニカルディスプレイ等に適する任意のタイプの基材またはディスプレイ素子とすることができる。液晶ディスプレイまたは発光型ディスプレイなどのディスプレイに使用するのに適するレセプタ基材としては、可視光に対して実質的に透過性である剛性または可撓性基材が挙げられる。適切な剛性レセプタの例としては、インジウムスズ酸化物を用いて被覆またはパターン化され、あるいは、有機トランジスタを含めて、低温ポリ−シリコン（ＬＴＰＳ）またはその他のトランジスタ構造体を用いて回路が形成されたガラスおよび硬質プラスチックが挙げられる。

適切な可撓性基材としては、実質的にクリアかつ透過性の高分子フィルム、反射性フィルム、反射透過性フィルム、偏光膜、多層光学フィルム、金属フィルム、金属シート、金属箔等が挙げられる。可撓性基材は、電極材料またはトランジスタを用いて被覆またはパターン化することができ、例えば、可撓性基材上に直接形成されるトランジスタアレイ、または、一時的なキャリア基材上に形成された後に可撓性基材に転写されるトランジスタアレイがある。適切な高分子基材としては、ポリエステル系（例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、ポリカルボナート樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリビニル樹脂（例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアセタール等）、セルロースエステル系（例えばトリアセチルセルロース、アセチルセルローズ）、および担持体として使用されるその他の従来の高分子フィルムが挙げられる。有機エレクトロルミネセンスデバイスをプラスチック基材上に製造する場合、プラスチック基材の一または両面上にバリヤフィルムまたは被覆を含み、水、酸素等への望ましくないレベルまでの曝露から有機発光デバイスおよびそれらの電極を保護することがしばしば望ましい。

レセプタ基材は、適宜の１つもしくは複数の、電極、トランジスタ、キャパシタ、絶縁体リブ、スペーサ、カラーフィルタ、ブラックマトリックス、正孔輸送層、電子輸送層、および電子ディスプレイもしくは他のデバイスに有用なその他の素子を用いてプレパターン化することができる。

カラーフィルタ（例えば図１のカラーフィルタ３０）を形成するためには、ドナーシートの１つもしくはそれ以上の転写層内に適宜の適切なカラー材料を含むことができる。転写層のカラーは、カラーフィルタにおいて普通にまたは特別に使用される入手可能な多くのカラー、例えばシアン、黄色、マジェンタ、赤、青、緑、白、およびその他のカラー、並びに、企図したスペクトルの色調の中から、ユーザーが必要に応じて選択できる。染料は、レセプタ基材に転写されるときの予め選択された特定波長を透過させることができる。多くの応用の場合、高度に透過性の染料、例えば、その染料がレセプタ基材上に存在するとき、１０ナノメートル以下の狭い波長分布の範囲内で０．５光学濃度単位未満の光学濃度を有する染料が、好ましい場合がある。その狭い波長帯の範囲内で吸収特性がより小さい染料であっても、さらに好ましい場合がある。

典型的なカラーフィルタ転写層は、少なくとも１つの有機質もしくは無機質着色剤または顔料、場合により有機高分子またはバインダを含むことができる。転写層材料は、画像形成されたカラーフィルタの性能を改善するために、場合によりレーザ転写の前か後に架橋することができる。カラーフィルタ材料の架橋は、電磁波、熱、および／または化学硬化剤によって実行することができる。カラーフィルタ転写層はまた、これらに限定されないが、染料、可塑剤、紫外線安定剤、フィルム形成添加剤、光架橋化されたまたは光架橋可能なカラーフィルタ転写層用の光重合開始剤、および接着剤を含めて、様々な添加剤を含むことができる。染料が添加剤として使用されるとき、染料が画像形成光源と同じ周波数の光を吸収することが一般に好ましい。任意選択の接着剤層も、画像形成レーザまたは光源と同じ周波数の光を吸収する染料を含むことができる。

顔料を含むカラーフィルタ転写層の場合、適宜の適切な顔料が使用できるが、しかし、好ましい顔料としては、「ＮＰＩＲＩ原材料データハンドブック（ＮＰＩＲＩ Ｒａｗ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｄａｔａ Ｈａｎｄｂｏｏｋ）」（巻４（顔料））に優れた無変色性および透明性を有するとして列挙されているものを挙げることができる。バインダ中で非水溶性または水溶性顔料のいずれの分散液も使用できる。非水溶性の場合、溶剤ベースの顔料分散液は、適切な溶剤ベースのバインダ（すなわち、デュポン（ＤｕＰｏｎｔ）から入手可能なエルバサイト（Ｅｌｖａｃｉｔｅ）（登録商標）アクリル酸樹脂）と共に使用できる。しかし、バインダ中の水溶性顔料の分散液を使用することが好ましい場合がある。この場合、最も好ましい顔料は、バインダなしの水溶性分散液（すなわち、ホイコテック（Ｈｅｕｃｏｔｅｃｈ）によって供給されるアクイズ（Ａｑｕｉｓ）ＩＩ（登録商標））の形とすることができ、最も好ましいバインダは、顔料湿潤剤（すなわち、ツェネカレジン（Ｚｅｎｅｃａ Ｒｅｓｉｎｓ）からのネオクリル（Ｎｅｏｃｒｙｌ）ＢＴ（登録商標）アクリル酸樹脂）用に特に設計されたものとすることができる。適切なバインダを使用すると、転写の際、鋭く明確に画定された線の形成を向上させることができる。高出力の光源（すなわちキセノン閃光電球）によってカラーフィルタ転写層が誘起されるとき、米国特許第５，３０８，７３７号明細書（ビルス（Ｂｉｌｌｓ）ら）および米国特許第５，２７８，０２３号明細書（ビルスら）に開示されているものなどの、高エネルギーのまたはガス発生の高分子をバインダとして含むことが必要な場合がある。

顔料／バインダの比は一般に１：１であるが、しかし０．２５：１〜４：１の範囲でもよい。マイヤー（Ｍａｙｅｒ）バーを使用して、着色剤層を被覆することができる。一般に、＃４バーを使用して、約１ミクロンの乾燥被覆厚さを得るため、約１０重量％の固形物を含む分散液を被覆する。分散液％固形物とマイヤーバー番号のその他の組合せを使用して、異なる厚さの被覆が得られる。一般に、０．１〜１０ミクロンの乾燥被覆厚さが所望される場合がある。

次に、図１のエレクトロルミネセンスデバイス１０を参照して、エレクトロルミネセンスデバイスの製造方法を説明する。デバイス１０のエレクトロルミネセンス素子２０は、適宜の適切な技術、例えば本明細書に記載するようなＬＩＴＩパターン化を使用して、基板１２の主表面１４上に形成される。カラーフィルタ３０は、やはり本明細書に記載されるように、エレクトロルミネセンス素子２０に選択的に熱転写される。カラーフィルタ３０は、カラーフィルタ３０が第２の電極２６上にあるように、エレクトロルミネセンス素子２０に転写することができる。あるいは、カラーフィルタ３０は、保護層（図示せず）に転写することができ、保護層は、本明細書にさらに記載されるように、エレクトロルミネセンス素子２０の少なくとも一部の上に形成される。実施形態によっては、本明細書にさらに記載されるように、エレクトロルミネセンス素子２０上にブラックマトリックスを形成し、その後、カラーフィルタ３０を、ブラックマトリックス内のアパーチャに転写してもよい。

図２は、エレクトロルミネセンスデバイス１００の他の実施形態の概略図である。このエレクトロルミネセンスデバイス１００は、図１のエレクトロルミネセンスデバイス１０と多くの点で類似している。図２に示す実施形態では、エレクトロルミネセンスデバイス１００は、基板１１２、基板１１２の主表面１１４上に形成されるエレクトロルミネセンス素子１２０、並びに、保護層１４０上に形成されるカラーフィルタ１３０ａ、１３０ｂ、および１３０ｃ（以下ひとまとめにしてカラーフィルタ１３０と称する）を含む。エレクトロルミネセンス素子１２０は、第１の電極１２２、第２の電極１２６、および第１の電極１２２と第２の電極１２６の間に配置される１つもしくはそれ以上のデバイス層１２４を含む。図１に例示した実施形態の基板１２、エレクトロルミネセンス素子２０、およびカラーフィルタ３０に関して本明細書に記載した構造上の考慮すべき点および可能性のすべては、図２に例示した実施形態の基板１１２、エレクトロルミネセンス素子１２０、およびカラーフィルタ１３０に等しく適用される。

エレクトロルミネセンスデバイス１００はまた、エレクトロルミネセンス素子１２０の少なくとも一部の上に形成される保護層１４０を含む。保護層１４０は、エレクトロルミネセンス素子１２０上に、それと接触させて形成できる。あるいは、エレクトロルミネセンス素子１２０と保護層１４０の間に任意選択の層を含むことができる。

保護層１４０は、エレクトロルミネセンス素子１２０を保護する適宜の適切なタイプの層、例えば障壁層、カプセルの材料層等とすることができる。保護層１４０は、例えば米国特許出願公開第２００４／０１９５９６７号明細書（パディアス（Ｐａｄｉｙａｔｈ）ら）および米国特許第６，５２２，０６７号明細書（グラフ（Ｇｒａｆｆ）ら）に記載されているような適宜の適切な材料を使用して形成できる。

カラーフィルタ１３０は、保護層１４０の主表面１４２に転写される。図１のエレクトロルミネセンスデバイス１０のカラーフィルタ３０に関して本明細書に記載したように、エレクトロルミネセンスデバイス１００のカラーフィルタ１３０は、適宜の適切な技術、例えば被覆（例えばスピン被覆）、印刷（例えばスクリーン印刷またはインクジェット印刷）、物理または化学蒸着、フォトリトグラフィ、および熱転写法（例えば米国特許第６，１１４，０８８号明細書（ウォルクら）に記載されている方法）を使用して形成できる。本明細書に記載したようなＬＩＴＩ技術を使用して、カラーフィルタ１３０を保護層１４０に転写することが好ましい場合がある。

その他の素子は、エレクトロルミネセンス素子または保護層、例えばブラックマトリックス等の上に形成できる。例えば、図３は、エレクトロルミネセンスデバイス２００の他の実施形態の概略図である。エレクトロルミネセンスデバイス２００は、図１のエレクトロルミネセンスデバイス１０および図２のエレクトロルミネセンスデバイス１００と多くの点で類似している。エレクトロルミネセンスデバイス２００は、基板２１２、基板２１２の主表面２１４上に形成されるエレクトロルミネセンス素子２２０、並びに、エレクトロルミネセンス素子２２０上に形成されるカラーフィルタ２３０ａ、２３０ｂ、および２３０ｃ（以下ひとまとめにしてカラーフィルタ２３０と称する）を含む。エレクトロルミネセンス素子２２０は、第１の電極２２２、第２の電極２２６、および第１の電極２２２と第２の電極２２６の間に配置される１つもしくはそれ以上のデバイス層２２４を含む。図１に例示した実施形態の基板１２、エレクトロルミネセンス素子２０、およびカラーフィルタ３０に関して本明細書に記載した構造上の考慮すべき点および可能性のすべては、図３に例示した実施形態の基板２１２、エレクトロルミネセンス素子２２０、およびカラーフィルタ２３０に等しく適用される。

エレクトロルミネセンスデバイス２００は、エレクトロルミネセンス素子２２０上に形成される任意選択のブラックマトリックス２６０をさらに含む。ブラックマトリックス２６０は、複数のアパーチャ２６２ａ、２６２ｂ、および２６２ｃ（以下ひとまとめにしてアパーチャ２６２と称する）を含む。図３に例示した実施形態は、３つだけのアパーチャ２６２を含むが、ブラックマトリックス２６０は、任意の適当な数のアパーチャを含むことができる。それぞれのアパーチャ２６２は、適宜の適切な形状、例えば楕円形、矩形、多角形等をとることができる。

一般に、ブラックマトリックスの被覆は、周囲光を吸収するため、コントラストを改善するため、およびＴＦＴを保護するために多くのディスプレイ用途において使用される。ブラックマトリックス２６０（一般に吸収性または非反射性の金属、金属酸化物、金属硫化物、染料または顔料を含んでいる）は、ディスプレイの個々の画素、色変換素子、またはカラーフィルタのまわりに形成される。多くのディスプレイでは、ブラックマトリックス２６０は、ディスプレイ基板上のブラック酸化クロムの０．１〜０．２μｍの被覆である。樹脂ブラックマトリックス（樹脂マトリックス中の顔料）は、ブラック酸化クロムの代替物である。樹脂ブラックマトリックスは、ディスプレイ基板またはエレクトロルミネセンスデバイス上に被覆し、次いで、フォトリトグラフィを使用してパターン化することができる。薄い樹脂ブラックマトリックス被覆中に高い光学濃度を達成するため、比較的大きい顔料仕込みを使用することが一般に必要であり、それは、フォトリトグラフィを使用してパターン化するのが難しいはずである。これに対して、ブラックマトリックス２６０は、例えば米国特許第６，４６１，７７５号明細書（ポコーニー（Ｐｏｋｏｒｎｙ）ら）に記載されている熱転写法を使用して、ドナーシートからデバイスに転写することができる。

実施形態によっては、カラーフィルタ２３０は、各カラーフィルタ２３０が、本明細書に記載したような適宜の適切な技術を使用して、任意選択のブラックマトリックス２６０のアパーチャ２６２に転写されるように、エレクトロルミネセンス素子２２０に転写することができる。例えば、カラーフィルタ２３０ａは、ブラックマトリックス２６０のアパーチャ２６２ａに転写することができる。

実施形態によっては、１つもしくはそれ以上の基板２１２、１つもしくはそれ以上のデバイス層２２４、およびカラーフィルタ２３０は、例えば米国特許第６，４８５，８８４号明細書（ウォルクら）および米国特許第５，６９３，４４６号明細書（スターラル（Ｓｔａｒａｌ）ら）にさらに記載されているように、偏光を提供するように構成することができる。

本明細書に記載したように、エレクトロルミネセンスデバイスは、最上部発光（例えば図１のエレクトロルミネセンスデバイス１０）または底部発光のいずれかとすることができる。底部発光デバイスのそのような一実施形態が、図４に例示されており、それは、エレクトロルミネセンスデバイス３００の他の実施形態の概略図である。エレクトロルミネセンスデバイス３００は、図１のエレクトロルミネセンスデバイス１０と多くの点で類似している。エレクトロルミネセンスデバイス３００は、基板３１２、および、基板３１２の第１の主表面３１４上に形成されるエレクトロルミネセンス素子３２０を含む。エレクトロルミネセンス素子３２０は、第１の電極３２２、第２の電極３２６、および第１の電極３２２と第２の電極３２６の間に配置される１つもしくはそれ以上のデバイス層３２４を含む。

エレクトロルミネセンスデバイス３００と図１のエレクトロルミネセンスデバイス１０の間の１つの相違点は、デバイス３００が底部発光エレクトロルミネセンスデバイスであることである。本実施形態では、カラーフィルタ３３０ａ、３３０ｂ、および３３０ｃ（以下ひとまとめにしてカラーフィルタ３３０と称する）は、カラーフィルタ３３０がエレクトロルミネセンス素子３２０と光学的に協同するように、基板３１２の第２の主表面３１６上に形成される。換言すれば、エレクトロルミネセンス素子３２０によって発光される光の少なくとも一部が、基板３１２を経由して通過し、少なくとも１つのカラーフィルタ３３０に入射する。３つだけのカラーフィルタ３３０が例示されているが、エレクトロルミネセンスデバイス３００は、任意の適当な数のカラーフィルタ、例えば赤および緑；赤、緑、青等を含むことができる。さらに、本明細書にさらに記載されるように、エレクトロルミネセンスデバイス３００は、基板３１２の第２の主表面３１６上に形成されるブラックマトリックスを含むことができる。

図１の基板１２、エレクトロルミネセンス素子２０、およびカラーフィルタ３０に関して本明細書に記載した構造上の考慮すべき点および可能性のすべては、図４に例示した実施形態の類似の要素に等しく適用される。

本発明の例示的な実施形態が検討され、本発明の範囲内で可能な変形形態に言及してきた。本発明におけるこれらおよびその他の変形形態および修正形態は、本発明の範囲を逸脱せずに、当業者に明らかであろう。本発明は、本明細書に示した例示的な実施形態に限定されないことが理解されるべきである。したがって、本発明は、以下に提供される特許請求の範囲によってだけ制限されるべきである。

エレクトロルミネセンス素子上に形成されたカラーフィルタを含む最上部発光エレクトロルミネセンスデバイスの一実施形態の概略図である。 保護層上に形成されたカラーフィルタを含む最上部発光エレクトロルミネセンスデバイスの他の実施形態の概略図である。 ブラックマトリックスのアパーチャ内のエレクトロルミネセンス素子上に形成されたカラーフィルタを含む最上部発光エレクトロルミネセンスデバイスの他の実施形態の概略図である。 基板上に形成されたカラーフィルタを含む底部発光エレクトロルミネセンスデバイスの一実施形態の概略図である。

Claims (28)

1. エレクトロルミネセンスデバイスの製造方法であって、
   エレクトロルミネセンス素子を基板上に形成するステップと、
   複数のカラーフィルタを前記エレクトロルミネセンス素子に選択的に熱転写するステップと、
   を含む方法。
2. 前記複数のカラーフィルタを選択的に熱転写するステップが、
   基層、光熱変換層、および転写層を含むドナーシートを提供するステップと、
   前記転写層が前記エレクトロルミネセンス素子に近接するように、前記ドナーシートを配置するステップと、
   前記ドナーシートの一部を選択的に照射して、前記転写層の一部を、前記ドナーシートから前記エレクトロルミネセンス素子へ熱転写するステップと、
   を含む、請求項１に記載の方法。
3. 前記転写層が少なくとも１種の着色剤を含む、請求項２に記載の方法。
4. 前記エレクトロルミネセンス素子上にブラックマトリックスを形成するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
5. 前記ブラックマトリックスを形成するステップが、前記ブラックマトリックスを前記エレクトロルミネセンス素子に選択的に熱転写するステップを含む、請求項４に記載の方法。
6. 前記ブラックマトリックスが複数のアパーチャを含む、請求項４に記載の方法。
7. 複数のカラーフィルタを選択的に熱転写するステップが、前記複数のカラーフィルタの各カラーフィルタが前記ブラックマトリックスの前記複数のアパーチャのうちの１つのアパーチャに転写されるように、複数のカラーフィルタを前記エレクトロルミネセンス素子に選択的に熱転写するステップを含む、請求項６に記載の方法。
8. 前記基板が複数の独立してアドレス可能な能動デバイスを含む、請求項１に記載の方法。
9. 前記エレクトロルミネセンス素子が有機発光材料を含む、請求項１に記載の方法。
10. 前記有機発光材料が発光高分子を含む、請求項９に記載の方法。
11. 前記エレクトロルミネセンス素子が白色光を発光できる、請求項１に記載の方法。
12. 前記複数のカラーフィルタの各カラーフィルタが、独立して顔料または染料を含む、請求項１に記載の方法。
13. 前記複数のカラーフィルタのうちの少なくとも１つのカラーフィルタが、赤色光を通すことができ、前記複数のカラーフィルタのうちの少なくとも１つのカラーフィルタが、緑色光を通すことができ、かつ、前記複数のカラーフィルタのうちの少なくとも１つのカラーフィルタが、青色光を通すことができる、請求項１に記載の方法。
14. エレクトロルミネセンスデバイスの製造方法であって、
    エレクトロルミネセンス素子を基板の第１の主表面上に形成するステップと、
    複数のカラーフィルタを前記基板の第２の主表面に選択的に熱転写するステップと、
    を含む方法。
15. 複数のカラーフィルタを選択的に熱転写するステップが、
    基層、光熱変換層、および転写層を含むドナーシートを提供するステップと、
    前記転写層が前記基板の第２の主表面に近接するように、前記ドナーシートを配置するステップと、
    前記ドナーシートの一部を選択的に照射して、前記転写層の一部を、前記ドナーシートから前記基板の前記第２の主表面へ熱転写するステップと、
    を含む、請求項１４に記載の方法。
16. 前記転写層が少なくとも１種の着色剤を含む、請求項１５に記載の方法。
17. 前記基板の前記第２の主表面上にブラックマトリックスを形成するステップをさらに含む、請求項１４に記載の方法。
18. 前記ブラックマトリックスを形成するステップが、前記ブラックマトリックスを前記エレクトロルミネセンス素子に選択的に熱転写するステップを含む、請求項１７に記載の方法。
19. 前記ブラックマトリックスが複数のアパーチャを含む、請求項１７に記載の方法。
20. 複数のカラーフィルタを選択的に熱転写するステップが、前記複数のカラーフィルタの各カラーフィルタが前記ブラックマトリックスの前記複数のアパーチャのうちの１つのアパーチャに転写されるように、複数のカラーフィルタを前記基板の前記第２の主表面に選択的に熱転写するステップを含む、請求項１９に記載の方法。
21. 前記基板が複数の独立してアドレス可能な能動デバイスを含む、請求項１４に記載の方法。
22. 前記エレクトロルミネセンス素子が有機発光材料を含む、請求項１４に記載の方法。
23. 前記有機発光材料が発光高分子を含む、請求項２２に記載の方法。
24. 前記エレクトロルミネセンス素子が白色光を発光できる、請求項１４に記載の方法。
25. 前記複数のカラーフィルタの各カラーフィルタが、独立して顔料または染料を含む、請求項１４に記載の方法。
26. 前記複数のカラーフィルタのうちの少なくとも１つのカラーフィルタが、赤色光を通すことができ、前記複数のカラーフィルタのうちの少なくとも１つのカラーフィルタが、緑色光を通すことができ、かつ、前記複数のカラーフィルタのうちの少なくとも１つのカラーフィルタが、青色光を通すことができる、請求項１４に記載の方法。
27. エレクトロルミネセンスデバイスの製造方法であって、
    エレクトロルミネセンス素子を基板上に形成するステップと、
    前記エレクトロルミネセンス素子の少なくとも一部の上に保護層を形成するステップと、
    前記保護層に複数のカラーフィルタを選択的に熱転写するステップと、
    を含む方法。
28. 少なくとも１つのエレクトロルミネセンスデバイスを含むエレクトロルミネセンスカラーディスプレイの製造方法であって、
    前記少なくとも１つのエレクトロルミネセンスデバイスを基板上に形成するステップであって、前記少なくとも１つのエレクトロルミネセンスデバイスを形成するステップが、
    エレクトロルミネセンス素子を前記基板上に形成する工程と、
    複数のカラーフィルタを前記エレクトロルミネセンス素子に選択的に熱転写する工程と、
    を含むステップ、
    を含む方法。

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