JP2007507404A5 - - Google Patents
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Claims (20)
- 赤外線および/あるいは太陽エネルギー輻射線の範囲において反射性を有する一つ以上の機能金属銀ベース層、機能金属層と接触している一つ以上の金属バリヤー層および一つ以上の上部誘電体層を含む薄膜多重層を備えている透明な基質であって、一つ以上のバリヤー層がジルコニウムに基づきかつ上部誘電体層が機能金属層あるいはバリヤー層と接触している一つ以上のZnOベースの層を含むことを特徴とする透明基質。
- 機能金属層は、ZnOベースの誘電体層を少なくとも上方に有するジルコニウムベースの上部バリヤー層で被覆されていることを特徴とする請求項1に記載の基質。
- 基質は、銀の下に、チタン、ニッケル−クロム、ニオブ及びジルコニウムからなる群から選ばれる金属に基づく低部バリヤー層を含むことを特徴とする請求項2に記載の基質。
- 基質は、ジルコニウムベースの低部バリヤー層と、機能金属層と直接接触するZnOベースの上部誘電体層とを含むことを特徴とする請求項1に記載の基質。
- 基質が、酸化物、窒化物および/あるいはオキシ窒化物、殊にSnO2, TiO2, ZnSnOx, ZnTiOxおよび/あるいはSi3N4に基づく上部機械的性質保護層を含み、かつこの上部層は任意にドープされていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の基質。
- 基質が、酸化物、窒化物および/あるいはオキシ窒化物、殊にSnO 2 , TiO 2 , ZnSnO x , ZnTiO x および/あるいはSi 3 N 4 に基づく上部機械的性質保護層を含み、かつこの上部層は任意にドープされていないことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の基質。
- 基質が、酸化物、窒化物および/あるいはオキシ窒化物、殊にSnO 2 , TiO 2 , ZnSnO x , ZnTiO x および/あるいはSi 3 N 4 に基づく上部機械的性質保護層を含み、かつこの上部層はドープされていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の基質。
- バリヤー層の厚さは、0.2ないし6 nm であることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の基質。
- 機能金属層の厚さは5ないし18 nmであることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の基質。
- 誘電体層の厚さは5ないし25 nmであることを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載の基質。
- 多重層は、500℃以上の温度での熱処理後、実質的にその光学的性質を保持することを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に記載の基質。
- 一つ以上のZrベースのバリヤー層は、任意に1ないし10重量%の付加的な元素、例えばCa, YあるいはHfを含有してよいジルコニウム金属ターゲットを用いてマグネトロンスパッタリングにより堆積されることを特徴とする請求項1〜11のいずれか1項に記載の基質。
- 一つ以上のZrベースのバリヤー層は、1ないし10重量%の付加的な元素、例えばCa, YあるいはHfを含有してよいジルコニウム金属ターゲットを用いてマグネトロンスパッタリングにより堆積されることを特徴とする請求項1〜11のいずれか1項に記載の基質。
- 多重層は、酸化物あるいは窒化物に基づく低部誘電体層を含むことを特徴とする請求項1〜13のいずれか1項に記載の基質。
- 低部誘電体層は、シーケンスSnO2/TiO2/ZnOを含むことを特徴とする請求項14に記載の基質。
- 低部誘電体層は、シーケンスSi3N4/ZnOを含むことを特徴とする請求項14に記載の基質。
- 請求項1〜16のいずれか1項に記載の基質を一つ以上組入れた、低輻射率グレージングあるいは防太陽エネルギーグレージング。
- 該グレージングは、ダブルグレージングとして別の基質を乗せた本発明の一つ以上の基質を含み、アセンブリーが40ないし90%の光透過率を有することを特徴とする請求項17に記載のグレージング。
- 該グレージングは、光透過率のソーラーファクターに対する比TL/SFにより定義される選択率を1.1ないし2.1の範囲で有することを特徴とする請求項17又は18に記載のグレージング。
- 赤外線および/あるいは太陽エネルギー輻射線の範囲において反射性を有する一つ以上の機能金属銀ベース層、機能金属層と接触している一つ以上の金属バリヤー層および一つ以上の上部誘電体層を含む薄膜多重層を備えている透明な基質の機械的強度を向上する方法であって、
一つ以上の機能金属層、それぞれ該機能金属層の上および/あるいは下のZrベースの低部バリヤー層および/あるいは上部バリヤー層、およびZnOベースの上部誘電体層をスパッターリングにより基質上に堆積させることを特徴とする方法。
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