JP2007504500A - 光学基板上の反射防止被膜処理法と被膜処理された光学基板および被膜処理実施装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の方法は、低屈折率の弗素化ポリマー含有層の物理的気相蒸着を実施する工程を含んでおり、また、この工程は、珪素または弗化マグネシウムと弗素化ポリマーを同時に気相蒸着させることにより、珪素または弗化マグネシウムと弗素化ポリマーの混成層(21d)を堆積させることに関与していることを特徴とする。好ましい実施形態では、弗素化ポリマーは重合体またはテトラフルオロエチレン重合体の形態で実施され、個々の構成要素はジュール効果または電子衝撃により蒸発させられる。本発明の方法は、何らかの光学基板または本発明の基板の上に堆積される反射防止被膜を積層した下位隣接層に低屈折率層を粘着させる工程を向上させるために利用されると有利である。この方法によって製造される基板と、この方法を実施するための装置も開示されている。
【選択図】 図2
Description
- 析出用チャンバーと、
- チャンバーに収納された少なくとも2個の蒸発源とを備えており、蒸発源は 各々が、真空中における物理的気相成長により堆積されるとともに混成層を 堆積することができるようにする物質を蒸発させるように設計されており、 装置は、
- チャンバーに収納される基板担体と、
- チャンバー内に真空を設けるポンプシステムとを更に備えている。
- 制御ループにより蒸発源に接続され、堆積される物質の各々の量を継続的に 判定する手段が設けられており、かつ/または、
- 判定手段は蒸発源の一方とそれぞれに関与する2個の石英微量天秤を備えて おり、かつ/または、
- 蒸発源は少なくとも1つのジュール効果蒸発源と電子銃を備えており、かつ /または、
- 低温捕獲容器が設けられて、水のくみ上げ速度を増大させる。
Claims (25)
- 屈折率が低い、弗素化ポリマーを含有する層を真空中で物理的気相成長(PVD)させる工程を含む、光学基板に反射防止処理を適用する方法であって、該工程は、真空中でシリカまたは弗化マグネシウムと弗素化ポリマーを同時蒸着させることによりシリカ(SiO2)または弗化マグネシウム(MgF2)と弗素化ポリマーの混成層を堆積させることを特徴とする、方法。
- シリカまたは弗化マグネシウムと弗素化ポリマーを共蒸着することで、個々の構成要素が低指数層の厚さ全体にわたって一定の割合で存在するようにすることを特長とする、請求項1に記載の方法。
- 低指数層中の弗素化ポリマーの量は約30重量%よりも低いか、30重量%に等しいレベルに維持され、残余の重量はシリカと弗化マグネシウムが占めることを特徴とする、請求項2に記載の方法。
- シリカまたは弗化マグネシウムと弗素化ポリマーを共蒸着する際に、低指数層の厚さの全体またはその一部にわたって制御された態様で個々の構成要素の比率を変動させることができるようにしたことを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 低指数層中の弗素化ポリマーの量は、基板から混成層の表面に向かう方向に0重量%から約80重量%までの範囲に入り、残余の重量はシリカと弗化マグネシウムが占めることを特徴とする、請求項4に記載の方法。
- 前記方法は、形成される低指数層の屈折率、もしくは、シリカまたは弗化マグネシウムと弗素化ポリマーのそれぞれの析出率を継続的に測定する工程と、これら測定値に基づいて、析出されたシリカまたは弗化マグネシウムと弗素化ポリマーのそれぞれの量を判定する工程と、シリカまたは弗化マグネシウムおよび/または弗素化ポリマーの個々の析出パラメータを調節して、低指数層の厚さ全体にわたって選択された比率で個々の構成要素を堆積させる工程とを、連続工程として含んでいることを特徴とする、請求項2から請求項5のいずれかに記載の方法。
- シリカまたは弗化マグネシウムと弗素化ポリマーはジュール効果で蒸着されるか、または、電子銃で蒸着されることを特徴とする、請求項1から請求項6のいずれかに記載の方法。
- シリカまたは弗化マグネシウムは電子銃により蒸着され、弗素化ポリマーはジュール効果により蒸着されることを特徴とする、請求項7に記載の方法。
- 弗素化ポリマーはテトラフルオロエチレンの重合体または共重合体であることを特徴とする、請求項1から請求項8のいずれかに記載の方法。
- 前記テトラフルオロエチレンの共重合体は、2,2-ビストリフルオロメチル-4,5-ジフルオロ-1,3-ジオクソルとテトラフルオロエチレンのアモルファス共重合体であることを特徴とする、請求項9に記載の方法。
- 前記基板は有機素材基板であることを特徴とする、請求項1から請求項10のいずれかに記載の方法。
- 前記低指数層は前記光学基板上に堆積された反射防止多層フィルムの外側層であることを特徴とする、請求項1から請求項11のいずれかに記載の方法。
- ZrO2層、SiO2層、ZrO2層の3種の層を真空中で物理的気相成長させる工程と、低指数外側層を堆積させる工程とを連続工程として実施することにより反射防止多層フィルムを製造することを特徴とする、請求項12に記載の方法。
- 真空中における物理的気相成長の工程はいずれも、約10-2パスカルよりも低い圧力、または、それに等しい圧力で実行されることを特徴とする、請求項13に記載の方法。
- 請求項1から請求項14のいずれか1つに従って前記方法を利用して、光学基板上に堆積された反射防止多層フィルムの下層に低屈折率層を粘着させる工程または光学基板それ自体に低屈折率層を粘着させる工程を改良する、前記方法の用途。
- 請求項1から請求項12のいずれか1つに従って前記方法によって得られ、かつ、約30重量%よりも少ない量、または、30重量%に等しい量で弗素化ポリマーを含み、残余の重量をシリカまたは弗化マグネシウムが占める、シリカまたは弗化マグネシウムと弗素化ポリマーの低屈折率の混成層(21d)が設けられていることを特徴とする、光学基板(17)、特に、眼科用レンズ。
- シリカまたは弗化マグネシウムと弗素化ポリマーのそれぞれの割合が、低指数層の厚さ全体にわたって一定であることを特徴とする、請求項16に記載の光学基板。
- 弗素化ポリマーはテトラフルオロエチレンの重合体または共重合体であることを特徴とする、請求項16または請求項17に記載の光学基板。
- 前記光学基板は有機素材から構成されていることを特徴とする、請求項16から請求項18のいずれかに記載の光学基板。
- 前記低指数層は、ZrO2反射防止層(21a)、SiO2反射防止層(21b)、ZrO2反射防止層(21c)の3種の反射防止層からなる多層フィルム上の混成外側層であることを特徴とする、請求項16から請求項19のいずれかに記載の光学基板。
- 請求項1から請求項14のいずれかに記載の方法を実現するための装置であって、該装置は、
- 析出用チャンバー(12)と、
- チャンバー(12)に収納された少なくとも2個の蒸発源(13、14)とを備えており、蒸発源は各々が、真空中における物理的気相成長により堆積されるとともに混成層を堆積することができるようにする物質を蒸発させるように設計されており、該装置は、
- チャンバー(12)に収納される基板担体と、
- チャンバー(12)内を真空を設けるポンプシステムとを更に備えていることを特徴とする、装置。 - 前記装置は、制御ループにより前記蒸発源(13、14)に接続され、堆積される物質の各々の量を継続的に判定する手段が設けられていることを特徴とする、請求項21に記載の装置。
- 前記判定手段は、前記蒸発源の一方とそれぞれに関与する2個の石英微量天秤を備えていることを特徴とする、請求項22に記載の装置。
- 前記蒸発源は、少なくとも1つのジュール効果蒸発源(14)と1個の電子銃(13)を備えていることを特徴とする、請求項21から請求項23のいずれかに記載の装置。
- 前記装置は、低温捕獲容器が設けられて、水のくみ上げ速度を増大させるようになっていることを特徴とする、請求項21から請求項24のいずれかに記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR0310473A FR2859485B1 (fr) | 2003-09-04 | 2003-09-04 | Procede de realisation d'un traitement anti-reflets sur un substrat optique, substrat optique obtenu par ce procede et dispositif de mise en oeuvre du procede |
PCT/FR2004/002222 WO2005024087A1 (fr) | 2003-09-04 | 2004-09-01 | Procede de realisation d'un traitement anti-reflets sur un substrat optique, substrat optique obtenu par ce procede et dispositif de mise en oeuvre du procede |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007504500A true JP2007504500A (ja) | 2007-03-01 |
Family
ID=34178793
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006525162A Pending JP2007504500A (ja) | 2003-09-04 | 2004-09-01 | 光学基板上の反射防止被膜処理法と被膜処理された光学基板および被膜処理実施装置 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10011522B2 (ja) |
EP (1) | EP1664367B1 (ja) |
JP (1) | JP2007504500A (ja) |
AT (1) | ATE414185T1 (ja) |
DE (1) | DE602004017754D1 (ja) |
FR (1) | FR2859485B1 (ja) |
WO (1) | WO2005024087A1 (ja) |
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EP1664367A1 (fr) | 2006-06-07 |
FR2859485A1 (fr) | 2005-03-11 |
ATE414185T1 (de) | 2008-11-15 |
DE602004017754D1 (de) | 2008-12-24 |
US20060257557A1 (en) | 2006-11-16 |
FR2859485B1 (fr) | 2006-09-15 |
WO2005024087A1 (fr) | 2005-03-17 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A601 | Written request for extension of time |
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A602 | Written permission of extension of time |
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