JP2007324477A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板を収納する処理管41と、該処理管を囲む様に設けられた加熱手段44と、前記処理管と前記加熱手段との間に配置された電極管42と、前記処理管内に所望の処理ガスを供給するガス供給手段と、前記電極管内面の所要範囲に亘って取付けられたプラズマ発生用の一対の帯状高周波電極49,50と、該帯状高周波電極に高周波電力を印加する高周波電源51と、前記電極管の前記帯状高周波電極に対向する複数箇所に形成された開口部64とを具備する。
【選択図】図3
Description
29 処理炉
35 ウェーハ
41 処理管
42 電極管
43 均熱管
48 石英管
49 印加側電極
50 アース側電極
53 電力導入端子
54 接地端子
55 印加側対向電極部
56 印加側電極端連続部
57 アース側対向電極部
58 アース側電極端連続部
59 固定具
63 貫通孔
64 開口部
65 抜き孔
66 抜き孔
67 開口
Claims (1)
- 基板を収納する処理管と、該処理管を囲む様に設けられた加熱手段と、前記処理管と前記加熱手段との間に配置された電極管と、前記処理管内に所望の処理ガスを供給するガス供給手段と、前記電極管内面の所要範囲に亘って取付けられたプラズマ発生用の一対の帯状高周波電極と、該帯状高周波電極に高周波電力を印加する高周波電源と、前記電極管の前記帯状高周波電極に対向する複数箇所に形成された開口部とを具備することを特徴とする基板処理装置。
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