JP2007311647A - 固体撮像素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体基板上方に形成された下部電極と、前記下部電極上方に形成された上部電極と、前記下部電極と前記上部電極との間に形成された有機光電変換層を含む中間層とを有する光電変換素子と、前記光電変換素子で発生した信号電荷に応じた信号を外部に読み出す信号読み出し部とを備える固体撮像素子であって、
前記下部電極と前記上部電極間に0.1V以上3V以下のバイアス電圧を印加して撮像を行った場合に、前記有機光電変換層で吸収する光の波長域での外部量子効率が1%以上となる固体撮像素子。
【選択図】図4
Description
前記下部電極と前記上部電極間に0.1V以上3V以下のバイアス電圧を印加して撮像を行った場合に、前記有機光電変換層で吸収する光の波長域での外部量子効率が1%以上となる固体撮像素子。
前記金属薄膜は、前記中間層と前記透明な電極との間に位置する固体撮像素子。
図1に示す固体撮像素子パッケージは、固体撮像素子チップ200を収容するための収容部500を有する凹状のパッケージ本体100と、パッケージ本体100の開口を塞いで収容部500内に固体撮像素子パッケージ200を封止する封止部材であるガラス板400とを含み、パッケージ本体100の開口の周縁部とガラス板400とが、図示しない樹脂等の接着剤を介して貼り合わせられた構成となっている。
固体撮像素子チップ200は、シリコン等の半導体基板1上に二次元状に配列された多数の画素200bと、多数の画素200bが形成される領域以外の部分に形成された多数の電極パッド200aとを備える。多数の電極パッド200aには、外部機器と固体撮像素子チップ200との電気的接続を行うために配線300がボンディングされている。
図3に示すように、固体撮像素子チップ200の画素200bは、p型シリコン基板1上方に形成された下部電極11と、下部電極11上に形成された有機光電変換層122を含む中間層12と、中間層12上に形成された上部電極13とからなる光電変換素子を備える。下部電極11は、電極11aと電極11a上に形成された電極11bとの2層構造となっている。下部電極11及び上部電極13間にバイアス電圧を印加することで、有機光電変換層122内で発生した電荷が下部電極11と上部電極13に移動し、いずれかの電極に移動した電荷に応じた信号が、p型シリコン基板1内に設けられたCCDやCMOS回路等の信号読み出し部(図示せず)で読み出される構成となっている。
暗電流の原因の一つとして、バイアス印加時に電子取り出し用の電極から光電変換層へと流入する電流が考えられる。ITO透明電極等の透明性の高い電極を電子取り出し用の電極とした場合は、その電極の仕事関数が比較的大きいことにより、正孔が電子取り出し用の電極から光電変換層へと移動する際の障壁が低くなり、光電変換層への正孔注入が起こりやすくなるのではないかと考えられた。実際、ITO等の透明性の高い金属酸化物系透明電極の仕事関数を調べてみると、例えばITO電極の仕事関数は4.8eV程度であり、Al(アルミニウム)電極の仕事関数が約4.3eVであるのと比べてかなり高く、また、ITO以外の他の金属酸化物系の透明電極も、最も小さいAZO(Alがドープされた酸化亜鉛)の4.5eV程度を除くと、約4.6〜5.4とその仕事関数は比較的大きいものであることが知られている(例えば、J.Vac.Sci.Technol.A17(4),Jul/Aug 1999 p.1765−1772のFig.12参照)。
例えば、電極11aとしてITOを使用し、電極11bとして仕事関数4.5eV以下のInまたはAgまたはMgを含む金属薄膜を使用する。Inを用いた場合は、後述する実施例にも示されるように、その厚みは0.5〜10nmであることが好ましい。
(B)下部電極11として、仕事関数4.5eV以下の導電性透明金属酸化物薄膜を使用する。
例えば、導電性透明金属酸化物薄膜として、仕事関数4.5eVのAZO薄膜を使用する。
(C)下部電極11として、金属酸化物にドープして仕事関数を4.5eV以下とした透明電極を使用する。
例えば、導電性金属酸化物としてのITOにCsをドープして仕事関数を4.5eV以下とした電極を使用する。
(D)下部電極11として、導電性透明金属酸化物薄膜を表面処理して仕事関数を4.5eV以下とした電極を使用する。
例えば、下部電極11としてITOを用い、このITOをアルカリ性溶液に浸して表面処理し、仕事関数を4.5eV以下とした電極を使用する。または、ITOをArイオンまたはNeイオンでスパッタして表面処理し、仕事関数を4.5eV以下とした電極を使用する。
(E)図4において、上部電極13と平滑層123との間に、上部電極13の仕事関数を調整する電極を設け、電極11bは削除する。例えば、上部電極13としてITOを使用し、仕事関数調節のための電極として仕事関数4.5eV以下のInまたはAgまたはMgを含む金属薄膜を使用する。
図5は、図2に示す1つの画素の概略構成を示す断面模式図であり、第一の変形例を示す図である。
図5に示す画素200bは、図4に示した構成の光電変換素子と、この光電変換素子下方のシリコン基板1に形成された2つのフォトダイオードとを有する構成である。図5において、図3と同様の符号には同一符号を付してある。
無機層は、結晶シリコン、アモルファスシリコン、GaAsなどの化合物半導体のpn接合またはpin接合が一般的に用いられる。この場合、シリコンの光進入深さで色分離を行っているため積層された各受光部で検知するスペクトル範囲はブロードとなる。しかしながら、図5に示すように中間層12を上層に用いることにより、すなわち中間層12を透過した光をシリコンの深さ方向で検出することにより色分離が顕著に改良される。特に図5に示すように、中間層12でG光を検出すると、中間層12を透過する光はB光とR光になるため、シリコンでの深さ方向での光の分別はBR光のみとなり色分離が改良される。中間層12がB光またはR光を検出する場合でも、シリコンのpn接合面の深さを適宜選択することにより顕著に色分離が改良される。
第二の変形例では、第一の変形例で説明した図5に示す構成の無機層を、p型シリコン基板内で2つのフォトダイオードを積層するのではなく、入射光の入射方向に対して垂直な方向に2つのフォトダイオードを配列して、p型シリコン基板内で2色の光を検出するようにしたものである。
図6に示す画素200bは、p型シリコン基板17と、p型シリコン基板17上方に形成された図4に示した構成の光電変換素子とを含んで構成され、光電変換素子上には開口の設けられた遮光膜34が形成されている。また、遮光膜34及び上部電極13上には透明な封止膜33が形成されている。
尚、信号読出し部は、CMOS回路ではなくCCDとアンプによって構成しても良い。つまり、n領域18、n領域20、及びn+領域23に蓄積された電子をp型シリコン基板17内に形成した電荷転送チャネルに読み出し、これをアンプまで転送して、アンプからその電子に応じた信号を出力させるような信号読出し部であっても良い。
第三の変形例では、第一の変形例で説明した図5に示す構成の無機層を設けず、シリコン基板上方に図4に示した構成の光電変換素子を複数(ここでは3つ)積層した構成である。
図7は、図2に示す1つの画素の概略構成を示す断面模式図であり、第三の変形例を示す図である。図7では、光電変換素子として、G光を検出する光電変換素子と、R光を検出する光電変換素子と、B光を検出する光電変換素子とを積層した構成例を示している。それぞれの光電変換素子は、図4に示した構成と同様である。図7では、3つの光電変換素子を区別するために、図4とは符号を変えてある。
図1〜図4に示した構成の固体撮像素子パッケージを作製した。CMOS回路及び高濃度不純物領域を形成したp型シリコン基板1上に酸化シリコンからなる絶縁膜7を形成し、その上に、15.6μm角、厚み100nmの下部電極11aを、マグネトロンスパッタ法およびフォトリソグラフィー法によって横160×縦120個形成した。図8に示すように、各下部電極11a間の距離は4.4μmとした。図8は実施例1で作製した固体撮像素子チップの部分断面模式図であり、図3と同じ構成には同一符号を付してある。
実施例1において、固体撮像素子チップをガラス板によって封止しない固体撮像素子パッケージを作製した。作製した固体撮像素子パッケージを用いて撮像を行った。撮像に際しては、上部電極に対して下部電極側が正バイアスとなるようバイアス電圧を印加した。
実施例1の固体撮像素子チップの上部電極上に、光電変換素子を封止する封止膜として、原子層堆積(ALD)法により、金属酸化物の一例であるAl2O3を100nm積層した。ALD法によるAl2O3膜の成膜においては、トリメチルアルミニウムガスとオゾンガスを用いた。トリメチルアルミニウムガスの導入、パージのための窒素ガスの導入、オゾンガスの導入、パージのための窒素ガスの導入、という手順を繰り返すことで、1原子層ずつの成膜が可能となる。基板温度100℃、成膜速度0.8Å/sの条件でAl2O3を100nm成膜した。
(比較例1)
厚み250nmのITO下部電極(理研計器(株)製の大気中光電子分光装置AC−2で求めた仕事関数4.8eV;可視域光透過率約90%)が積層されたガラス基板(市販品)の上に、厚み100nmのキナクリドンおよび厚み100nmのAl上部電極(仕事関数4.3eV;可視域光透過率0%)を順次真空蒸着により積層した構造で、ITO下部電極側で電子を捕集する場合を例として挙げる。素子面積2mm×2mmとして実際に素子作製および測定を行った結果、電圧1V印加時(下部電極を正バイアスとして電子捕集、以下も同様)で暗電流が9.3μA/cm2となった。
この場合、電子取り出し用の電極であるITO下部電極の仕事関数が大きいため、バイアス電圧印加時には、ITO下部電極からキナクリドンへの正孔注入が起こりやすく、暗電流が大きくなると考えられる。
一方、仕事関数が4.3eVと小さいInを2nm真空蒸着によりITO下部電極とキナクリドンの間に形成した以外は比較例1と同様の素子を作製した(2nmのInの可視域光透過率は約98%)。その結果、電圧1V印加時の暗電流が1.8nA/cm2と4桁程度大きく抑制された。このことは、電子取り出し用の電極である下部電極の仕事関数を小さくすることで電子取り出し用の電極からの正孔注入が大きく抑制されたことを示している。同じく1Vバイアス印加条件で、下部ITO側から550nmの光を照射強度50μW/cm2で入射したところ、外部量子効率(入射フォトン数に対する測定電荷数)で12%であった。また、バイアス2V印加時においては、暗電流は約100nA/cm2、外部量子効率は19%であった。
200 固体撮像素子チップ
400 ガラス板
200b 画素
1 シリコン基板
6 高濃度不純物領域
7 絶縁層
9 接続部
11a,11b 下部電極
12 中間層
13 上部電極
15 封止膜
122 有機光電変換層
123 平滑層
Claims (27)
- 半導体基板上方に形成された下部電極と、前記下部電極上方に形成された上部電極と、前記下部電極と前記上部電極との間に形成された有機光電変換層を含む中間層とを有する光電変換素子と、前記光電変換素子で発生した信号電荷に応じた信号を外部に読み出す信号読み出し部とを備える固体撮像素子であって、
前記下部電極と前記上部電極間に0.1V以上3V以下のバイアス電圧を印加して撮像を行った場合に、前記有機光電変換層で吸収する光の波長域での外部量子効率が1%以上となる固体撮像素子。 - 請求項1記載の固体撮像素子であって、
前記上部電極が透明電極である固体撮像素子。 - 請求項2記載の固体撮像素子であって、
前記下部電極が透明電極である固体撮像素子。 - 請求項2又は3記載の固体撮像素子であって、
前記透明電極の材料が透明導電性酸化物である固体撮像素子。 - 請求項4記載の固体撮像素子であって、
前記透明導電性酸化物がITOである固体撮像素子。 - 請求項1〜5のいずれか1項記載の固体撮像素子であって、
前記有機光電変換層がキナクリドン骨格、フタロシアニン骨格、及びアントラキノン骨格のいずれかの材料を含む固体撮像素子。 - 請求項1〜6のいずれか1項記載の固体撮像素子であって、
前記中間層の前記上部電極側の表面の平均面粗さRaが1nm以下である固体撮像素子。 - 請求項1〜7のいずれか1項記載の固体撮像素子であって、
前記中間層の厚さが150nm以上である固体撮像素子。 - 請求項1〜8のいずれか1項記載の固体撮像素子であって、
前記上部電極及び前記下部電極のうち、前記有機光電変換層で発生した電子を取り出すための電極の仕事関数が4.5eV以下である固体撮像素子。 - 請求項9記載の固体撮像素子であって、
前記電子を取り出すための電極が、透明な電極と、仕事関数が4.5eV以下の金属薄膜との2層構造であり、
前記金属薄膜は、前記中間層と前記透明な電極との間に位置する固体撮像素子。 - 請求項10記載の固体撮像素子であって、
前記金属薄膜がInからなる固体撮像素子。 - 請求項11記載の固体撮像素子であって、
前記Inの厚みが0.5〜10nmである固体撮像素子。 - 請求項1〜12のいずれか1項記載の固体撮像素子であって、
前記光電変換素子上に形成され、前記光電変換素子を封止する封止膜を備える固体撮像素子。 - 請求項13記載の固体撮像素子であって、
前記封止膜が原子層堆積(ALD)法で成膜されたものである固体撮像素子。 - 請求項13又は14記載の固体撮像素子であって、
前記封止膜の材料が金属酸化物を含む固体撮像素子。 - 請求項15記載の固体撮像素子であって、
前記金属酸化物がAl2O3である固体撮像素子。 - 請求項15又は16記載の固体撮像素子であって、
前記封止膜が、前記金属酸化物からなる膜と、前記金属酸化物からなる膜上に形成された高分子化合物からなる膜との2層構造である固体撮像素子。 - 請求項17記載の固体撮像素子であって、
前記高分子化合物がパラキシリレン系樹脂である固体撮像素子。 - 請求項1〜18のいずれか1項記載の固体撮像素子であって、
前記光電変換素子が不活性ガス雰囲気中でパッケージ本体内にガラス封止された固体撮像素子。 - 請求項19記載の固体撮像素子であって、
前記不活性ガスに含まれる酸素の濃度が0.05%以下である固体撮像素子。 - 請求項19又は20記載の固体撮像素子であって、
前記不活性ガスの露点が−75℃以下である固体撮像素子。 - 請求項1〜21のいずれか1項記載の固体撮像素子であって、
前記信号読み出し部がCMOS回路からなる固体撮像素子。 - 請求項1〜22のいずれか1項記載の固体撮像素子であって、
前記半導体基板内に、前記光電変換素子の前記有機光電変換層を透過した光を吸収し、該光に応じた電荷を発生してこれを蓄積する基板内光電変換部を備える固体撮像素子。 - 請求項23記載の固体撮像素子であって、
前記基板内光電変換部が、前記半導体基板内に積層されたそれぞれ異なる色の光を吸収する2つのフォトダイオードである固体撮像素子。 - 請求項23記載の固体撮像素子であって、
前記基板内光電変換部が、前記半導体基板内の入射光の入射方向に対して垂直な方向に配列されたそれぞれ異なる色の光を吸収する2つのフォトダイオードである固体撮像素子。 - 請求項24又は25記載の固体撮像素子であって、
前記2つのフォトダイオードが、それぞれ、赤色、青色、及び緑色のいずれかの波長域の光を吸収する光電変換素子。 - 請求項1〜22のいずれか1項記載の固体撮像素子であって、
前記光電変換素子が、前記半導体基板上方に複数積層された固体撮像素子。
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