JP2007286159A - Optical filter for display and plasma display panel using same - Google Patents
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Description
本発明はディスプレイ用光学フィルター、およびそれを用いたプラズマディスプレイパネルに関する。 The present invention relates to an optical filter for display and a plasma display panel using the same.
ディスプレイはテレビジョン用、パーソナルコンピューター用、モニター用等として広く普及し、また、その薄型化、大型化が進んでいる。大型の薄型ディスプレイとしては、プラズマディスプレイパネルが注目されている。しかしプラズマディスプレイパネルは、その構造や動作原理上、強度の電磁波、近赤外線を発生する。電磁波に関しては電気製品取締法等により規制が設けられており、規格値内に抑えることが必要となっている。また、近赤外線は、赤外線リモコン機器等の周辺電子機器に作用して誤動作を引き起こす問題が生じており、近赤外領域である波長８００〜１０００ｎｍの波長領域の光を実用上問題ないレベルまでカットする必要がある。現在プラズマディスプレイパネル前面にはこれらの電磁波および近赤外線を遮蔽するための光学フィルターが設置されている。 Displays are widely used for televisions, personal computers, monitors, and the like, and are becoming thinner and larger. Plasma display panels are attracting attention as large thin displays. However, the plasma display panel generates strong electromagnetic waves and near infrared rays due to its structure and operating principle. The electromagnetic wave is regulated by the Electrical Appliance and Material Control Law, and it is necessary to keep it within the standard value. In addition, near infrared rays have a problem of causing malfunctions by acting on peripheral electronic devices such as infrared remote control devices, and light in the wavelength range of 800 to 1000 nm, which is the near infrared region, is cut to a level where there is no practical problem. There is a need to. Currently, an optical filter for shielding these electromagnetic waves and near infrared rays is installed on the front surface of the plasma display panel.
光学フィルターに電磁波遮蔽能を付与するには、電気伝導性が高く、かつディスプレイ表示を著しく妨げないように透明性を有する電磁波シールド材を使用する必要がある。このような要求を見たす電磁波シールド材として、透明基材上に酸化物、金属等の透明多層薄膜をスパッタリングなどの方法で形成した透明電気伝導性薄膜フィルムと、高分子フィルムを基材にしてメッシュ状の金属層を形成した電気伝導性メッシュフィルムの大きく２種が知られている。一般に透明電気伝導性薄膜フィルムの方が電気伝導性は低いが、近赤外線カット能を併せ持つため、別途近赤外線をカットする機能を付与する必要がある電気伝導性メッシュフィルムより低コストで光学フィルターが作製できるメリットがある。 In order to impart an electromagnetic wave shielding ability to the optical filter, it is necessary to use an electromagnetic wave shielding material having high electrical conductivity and transparency so as not to disturb display display remarkably. As an electromagnetic shielding material that meets such requirements, a transparent electroconductive thin film formed by sputtering or the like on a transparent base material and a polymer film is used as a base material. Two types of electrically conductive mesh films having a mesh-like metal layer are known. In general, transparent conductive thin film has lower electrical conductivity, but also has near-infrared cutting ability, so optical filters can be manufactured at lower cost than electrical conductive mesh films that need to be provided with a function to cut near-infrared light separately. There is a merit that can be produced.
光学フィルターを低コストで作製するために、できるだけ単純な構成とし、透明電気伝導性フィルム一枚をプラズマディスプレイパネル前面に接着材を介して貼り合わせた構成を想到する事ができる。しかし透明電気伝導性薄膜フィルムは耐環境性が弱い為、外気との接触を防ぐために透明多層薄膜表面に何らかの保護層を設ける必要がある。特許文献１（特開２０００−１６２４３０号公報）では、フィルターに使用する基材フィルムを一枚のみとし、透明多層薄膜面をディスプレイ本体との接着貼合面とすることで、使用する部材が少なく透明多層薄膜が保護された光学フィルターが開示されている。しかし、光学フィルターが電磁波遮蔽能を発揮する為には電気伝導性を有する層がディスプレイ本体内部と電気的に接続している必要があるため、透明多層薄膜の周囲に電極を形成し、接着材層で覆われていない部分を設けるなど、工程が煩雑化するという課題を残していた。
本発明の課題は、上記の従来技術を鑑み、製造工程の煩雑さを低減しディスプレイ用フィルターを低コストで生産効率良く提供することにある。 In view of the above-described prior art, an object of the present invention is to reduce the complexity of the manufacturing process and to provide a display filter at low cost with high production efficiency.
本発明者らは、上記の課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、透明でかつ電気伝導性を有する接着材を使用することで極めて簡単な工程でディスプレイ用光学フィルターを作製できる事を見出し、本発明に到った。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that an optical filter for display can be produced in a very simple process by using a transparent and electrically conductive adhesive. The headline and the present invention were reached.
すなわち、本発明は、
（１）少なくとも透明基材（Ａ）の一方の面に設けた電磁波シールド層（Ｂ）と該電磁波シールド層（Ｂ）の上に設けた接着材層（Ｃ）で構成されるディスプレイ用光学フィルターにおいて、接着材層（Ｃ）が少なくとも一種以上の電気伝導性微粒子を含み、該接着材層（Ｃ）の可視光透過率が２０％以上、表面抵抗率が５０Ω／□以下であることを特徴とするディスプレイ用光学フィルターであり、
（２）電気伝導性微粒子が、ニッケル、銀、銅、アルミニウム、鉄、インジウム、錫、亜鉛から選ばれる少なくとも１種の元素を含むことを特徴とする（１）記載のディスプレイ用光学フィルターであり、（３）接着材層（Ｃ）が、波長４００以上７００ｎｍ以下の領域の一部を吸収する色素を含有することを特徴とする（１）または（２）記載のディスプレイ用光学フィルターであり、（４）透明基材（Ａ）の電磁波シールド層（Ｂ）とは反対面に、ハードコート性、反射防止性、防眩性、静電気防止性、防汚性、紫外線カット性、近赤外線カット性の中から選ばれるいずれか１つ以上の機能を有する機能層（Ｄ）を設けることを特徴とする（１）〜（３）に記載のディスプレイ用光学フィルターであり、
（５）プラズマディスプレイパネル用であることを特徴とする（１）〜（４）に記載のディスプレイ用光学フィルターであり、（６）プラズマディスプレイパネル前面周縁部に電気伝導性を有する電極を設け、該電極の一部と、（５）記載のディスプレイ用光学フィルターの接着材層（Ｃ）が接触するように貼り合わせたことを特徴とするプラズマディスプレイパネルであり、
（７）電極が黒色であることを特徴とする（６）に記載のプラズマディスプレイパネルに関する。
That is, the present invention
(1) An optical filter for display comprising at least an electromagnetic wave shielding layer (B) provided on one surface of a transparent substrate (A) and an adhesive layer (C) provided on the electromagnetic wave shielding layer (B). The adhesive layer (C) contains at least one kind of electrically conductive fine particles, and the adhesive layer (C) has a visible light transmittance of 20% or more and a surface resistivity of 50Ω / □ or less. And an optical filter for display
(2) The optical filter for display according to (1), wherein the electrically conductive fine particles contain at least one element selected from nickel, silver, copper, aluminum, iron, indium, tin, and zinc. (3) The adhesive layer (C) contains a dye that absorbs a part of a region having a wavelength of 400 or more and 700 nm or less, (1) or the optical filter for display according to (2), (4) On the surface opposite to the electromagnetic shielding layer (B) of the transparent substrate (A), hard coat property, antireflection property, antiglare property, antistatic property, antifouling property, ultraviolet ray cut property, near infrared ray cut property The optical filter for display according to any one of (1) to (3), wherein a functional layer (D) having any one or more functions selected from the above is provided,
(5) The optical filter for display according to any one of (1) to (4), characterized in that it is used for a plasma display panel, (6) an electrode having electrical conductivity is provided on the peripheral edge of the front surface of the plasma display panel, It is a plasma display panel characterized in that a part of the electrode and the adhesive layer (C) of the optical filter for display according to (5) are bonded to each other,
(7) The plasma display panel according to (6), wherein the electrode is black.
本発明によれば、低コストのディスプレイ用光学フィルターを非常に生産効率良く提供する事が出来る。 According to the present invention, a low-cost optical filter for display can be provided with very high production efficiency.
本発明は、透明基材（Ａ）に設けた電磁波シールド層（Ｂ）の上に接着材層（Ｃ）を設けたディスプレイ用光学フィルターにおいて当該接着材層（Ｃ）が透明な電気伝導性接着材であることを特徴とするものである。このディスプレイ用フィルターはプラズマディスプレイパネルと貼り合せる接着材層が電気伝導性を有する為、プラズマディスプレイパネルと電気的に接続できる。 本発明を図面で持って説明する。本発明は図面に記載の構成に限定されるものではない。図１は本発明におけるディスプレイ用光学フィルターの最も単純な構成を示す断面図である。図１は透明基材（Ａ）上に電磁波シールド層（Ｂ）を設け、この上に接着材層（Ｃ）を設けた構成となっている。また、図２に示すように、透明基材（Ａ）の電磁波シールド層（Ｂ）の反対側の面に別の機能層（Ｄ）を設けてもよい。機能層（Ｄ）は、透明基材（Ａ）における電磁波シールド層（Ｂ）が設けられた側の反対側に、（Ｄ）／（Ａ）／（Ｂ）／（Ｃ）の構成となるように設けられる。この場合、透明基材（Ａ）上に電磁波シールド層（Ｂ）を設けた後に機能層（Ｄ）を設けてもよいし、透明基材（Ａ）に機能層（Ｄ）を設けた後に電磁波シールド層（Ｂ）を設けてもよい。 The present invention relates to an electroconductive adhesive in which the adhesive layer (C) is transparent in an optical filter for display in which an adhesive layer (C) is provided on an electromagnetic wave shielding layer (B) provided on a transparent substrate (A). It is characterized by being a material. This display filter can be electrically connected to the plasma display panel because the adhesive layer to be bonded to the plasma display panel has electrical conductivity. The present invention will be described with reference to the drawings. The present invention is not limited to the configuration described in the drawings. FIG. 1 is a sectional view showing the simplest configuration of an optical filter for display according to the present invention. In FIG. 1, an electromagnetic wave shielding layer (B) is provided on a transparent substrate (A), and an adhesive layer (C) is provided thereon. Moreover, as shown in FIG. 2, you may provide another functional layer (D) in the surface on the opposite side of the electromagnetic wave shielding layer (B) of a transparent base material (A). The functional layer (D) has a configuration of (D) / (A) / (B) / (C) on the opposite side of the transparent substrate (A) where the electromagnetic wave shielding layer (B) is provided. Provided. In this case, the functional layer (D) may be provided after the electromagnetic wave shielding layer (B) is provided on the transparent base material (A), or the electromagnetic wave after the functional layer (D) is provided on the transparent base material (A). A shield layer (B) may be provided.
また、本発明のフィルターは接着材層（Ｃ）をプラズマディスプレイパネル（Ｅ）の前面に貼合して使用されるが、図３に示すようにプラズマディスプレイパネル（Ｅ）の前面の周縁部に当該ディスプレイ用光学フィルターよりも大きくなるように、電気伝導性を有する電極を設けることでプラズマディスプレイ本体と電気的接続を取る事ができる。また、図４に示すように、本発明のディスプレイ用光学フィルターをプラズマディスプレイパネルの前面に直接貼り合わせず、透明支持体（Ｆ）の表面に図３でプラズマディスプレイパネルの前面の周縁部に設けた電極と同様に電極を設けた後、本発明のディスプレイ用光学フィルターを貼り合わせ、電極からプラズマディスプレイパネル本体と電気的接続を取っても良い。 The filter of the present invention is used by bonding the adhesive layer (C) to the front surface of the plasma display panel (E), but as shown in FIG. By providing an electrode having electrical conductivity so as to be larger than the optical filter for display, the plasma display main body can be electrically connected. Further, as shown in FIG. 4, the display optical filter of the present invention is not directly bonded to the front surface of the plasma display panel, but is provided on the surface of the transparent support (F) at the peripheral edge of the front surface of the plasma display panel in FIG. After the electrodes are provided in the same manner as the above electrodes, the optical filter for display of the present invention may be bonded and the plasma display panel main body may be electrically connected from the electrodes.
本発明で用いる透明基材（Ａ）としては、可視光線領域において光を透過するものであればよい。本発明において、透明とは可視光線領域の光を透過することを指す。透明基材（Ａ）としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン等が好ましく使用される、これらに限定されるものではない。透明基材（Ａ）は、ハードコート層等を有していても良い。電磁波シールド層（Ｂ）を形成する前に、透明基材（Ａ）に対して、洗浄処理やコロナ処理等の必要な各種公知の前処理を行うことも出来る。透明基材（Ａ）の厚さとしては、１０〜２５０μｍが好適であるがこの限りではない。後述する、接着材等に添加する色素の劣化を防ぐ為に透明基材（Ａ）の中にＵＶ吸収剤を添加してもよい。 The transparent substrate (A) used in the present invention may be any material that transmits light in the visible light region. In the present invention, the term “transparent” refers to transmitting light in the visible light region. As the transparent substrate (A), polyethylene terephthalate, polyethersulfone, polystyrene, polyethylene naphthalate, polyarylate, polyetheretherketone, polycarbonate, polyethylene, polypropylene and the like are preferably used, but not limited thereto. Absent. The transparent substrate (A) may have a hard coat layer or the like. Before forming the electromagnetic wave shielding layer (B), necessary various known pretreatments such as washing treatment and corona treatment can be performed on the transparent substrate (A). As thickness of a transparent base material (A), although 10-250 micrometers is suitable, it is not this limitation. A UV absorber may be added to the transparent substrate (A) in order to prevent deterioration of the pigment added to the adhesive or the like, which will be described later.
透明基材（Ａ）上に形成される電磁波シールド層（Ｂ）としては前述した透明多層薄膜や電気伝導性メッシュをはじめとする従来公知のものを用いることが出来る。透明多層薄膜はディスプレイ用光学フィルタ―として最低限要求される電磁波シールド能と近赤外線カット能を併せ持っているため、本発明のような構成の単純化と低コスト化を目標とする場合特に好適である。透明多層薄膜としては金属層および高屈折率層を十分な光線透過率および表面抵抗率が得られる膜厚の組み合わせで多層積層したものを好適に用いる事ができる。透明多層薄膜の好ましい可視光透過率は、４０％以上、より好ましくは５０％以上、更に好ましくは６０％以上である。 As the electromagnetic wave shielding layer (B) formed on the transparent substrate (A), conventionally known ones such as the above-described transparent multilayer thin film and electrically conductive mesh can be used. Since the transparent multilayer thin film has both the electromagnetic shielding ability and the near infrared ray cutting ability, which are the minimum requirements for an optical filter for display, it is particularly suitable for the purpose of simplifying the structure and reducing the cost as in the present invention. is there. As the transparent multilayer thin film, a laminate in which a metal layer and a high refractive index layer are multilayered with a combination of film thicknesses capable of obtaining sufficient light transmittance and surface resistivity can be suitably used. The preferable visible light transmittance of the transparent multilayer thin film is 40% or more, more preferably 50% or more, and still more preferably 60% or more.
また、透明多層薄膜の好ましい表面抵抗率は５０Ω／□以下、より好ましくは１０Ω／□以下、更に好ましくは３Ω／□以下である。可視光透過率は、ＪＩＳ−Ｒ−３１０６の方法によって、波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの領域の分光透過率から得られる。本発明では表面抵抗率は四探針法によって測定した。 The preferable surface resistivity of the transparent multilayer thin film is 50Ω / □ or less, more preferably 10Ω / □ or less, and further preferably 3Ω / □ or less. The visible light transmittance is obtained from the spectral transmittance in the wavelength region of 380 nm to 780 nm by the method of JIS-R-3106. In the present invention, the surface resistivity was measured by a four-probe method.
上記透明多層薄膜の金属層に使用する材料としてはできるだけ電気伝導性が高く、薄膜状態で透明性の高いものが好ましい。例を挙げると、銀、銅、パラジウム、白金、またはそれらの合金が好ましく用いられるが、これらに限定されるものではない。中でも銀は比抵抗が１．５９×１０−６（Ω・ｃｍ）とあらゆる材料の中で最も電気伝導性が高く、薄膜状態での可視光透過率が高い為、最も好適に用いる事ができるが、薄膜時の安定性が低いという問題も有している。そこで、安定性を高くする為に銀と金、銀と銅、又は銀とパラジウム又は銀と白金等の合金を用いても良い。また、銀に次いで電気伝導性の高い銅、また銅の次に電気伝導性の高い金も金属層に好適に用いる事ができる。 As a material used for the metal layer of the transparent multilayer thin film, a material having as high electrical conductivity as possible and having high transparency in a thin film state is preferable. For example, silver, copper, palladium, platinum, or an alloy thereof is preferably used, but is not limited thereto. Among them, silver has a specific resistance of 1.59 × 10 −6 (Ω · cm), which has the highest electrical conductivity among all materials, and has a high visible light transmittance in a thin film state, so that it can be most suitably used. However, there is also a problem that the stability in a thin film is low. Therefore, in order to increase the stability, an alloy such as silver and gold, silver and copper, silver and palladium, or silver and platinum may be used. Further, copper having the highest electrical conductivity after silver and gold having the second highest electrical conductivity after copper can also be suitably used for the metal layer.
上記金属層の形成には公知の方法を用いる事ができるが、中でも真空蒸着法またはスパッタリング法が好適に用いられる。真空蒸着法では所望の金属を蒸着源として利用し、抵抗過熱、電子ビーム加熱等により加熱蒸着させることで簡便に金属薄膜を形成する事ができる。また、スパッタリング法を用いる場合はターゲットに所望の金属材料を用いてスパッタリングガスにアルゴン、ネオン等の不活性ガスを使用し、直流スパッタリング法や高周波スパッタリング法を用いて金属薄膜を形成することができる。 A known method can be used for forming the metal layer, and among them, a vacuum deposition method or a sputtering method is preferably used. In the vacuum deposition method, a desired metal is used as a deposition source, and a metal thin film can be easily formed by heating and vapor deposition by resistance overheating, electron beam heating, or the like. In the case of using a sputtering method, a metal thin film can be formed by using a desired metal material for a target, an inert gas such as argon or neon as a sputtering gas, and a direct current sputtering method or a high frequency sputtering method. .
高屈折率層としてはできるだけ透明性に優れたものであることが好ましく、波長５５０ｎｍの光に対する屈折率が、１．４以上の材料が用いられる。高屈折率層に好適に用いることができる材料を例示すると、インジウムとスズとの酸化物（略称：ＩＴＯ）、カドミウムとスズとの酸化物（略称：ＣＴＯ）、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、亜鉛とアルミニウムとの酸化物（略称：ＡＺＯ）、酸化マグネシウム、酸化トリウム、酸化スズ、酸化ランタン、酸化シリコン、酸化インジウム、酸化ニオブ、酸化アンチモン、酸化ジルコニウム、酸化セシウム、酸化チタン、酸化ビスマス等である。また、透明高屈折率硫化物を用いても良い。具体的に例示すると、硫化亜鉛、硫化カドミウム、硫化アンチモン等があげられる。高屈折率層の材料としては、中でも、ＩＴＯ、酸化チタン、ＡＺＯが特に好ましい。ＩＴＯ及びＡＺＯは、電気伝導性を持つ上、可視光線領域における屈折率が２．０程度と高く、さらに可視光線領域の光をほとんど吸収しないため、好ましく使用される。酸化チタンは絶縁物であり、可視光線領域の光をわずかに吸収するが、可視光に対する屈折率が２．３程度と大きいため好ましく使用される。 The high refractive index layer is preferably as highly transparent as possible, and a material having a refractive index of 1.4 or more with respect to light having a wavelength of 550 nm is used. Examples of materials that can be suitably used for the high refractive index layer include oxides of indium and tin (abbreviation: ITO), oxides of cadmium and tin (abbreviation: CTO), aluminum oxide, zinc oxide, and zinc. Examples thereof include oxides with aluminum (abbreviation: AZO), magnesium oxide, thorium oxide, tin oxide, lanthanum oxide, silicon oxide, indium oxide, niobium oxide, antimony oxide, zirconium oxide, cesium oxide, titanium oxide, and bismuth oxide. A transparent high refractive index sulfide may be used. Specific examples include zinc sulfide, cadmium sulfide, antimony sulfide and the like. As materials for the high refractive index layer, ITO, titanium oxide, and AZO are particularly preferable. ITO and AZO are preferably used because they have electrical conductivity and have a high refractive index of about 2.0 in the visible light region and hardly absorb light in the visible light region. Titanium oxide is an insulator and absorbs light in the visible light region slightly, but is preferably used because its refractive index with respect to visible light is as large as about 2.3.
上記高屈折率層の形成方法としては公知の方法を使用できるが、中でもイオンプレーティング法や反応性スパッタリング法が好適に用いられる。イオンプレーティング法はガスプラズマ中で所望の金属または焼結体を抵抗加熱法、電子ビーム加熱法等で加熱する真空蒸着法の一種である。また反応性スパッタリング法はターゲットに所望の金属又は焼結体を使用し、アルゴン、ネオン等の不活性ガスをスパッタリングガスとし、酸素等の反応性ガスを添加したスパッタリング法である。例えば、ＩＴＯ膜を形成する場合にはインジウムと錫の化合物を用いて酸素ガス中で直流マグネトロンスパッタリングを行う。この際、ロールツーロールで連続的にスパッタリングを行う事が生産効率上好ましい。 As a method for forming the high refractive index layer, known methods can be used. Among them, an ion plating method and a reactive sputtering method are preferably used. The ion plating method is a kind of vacuum deposition method in which a desired metal or sintered body is heated in a gas plasma by a resistance heating method, an electron beam heating method, or the like. The reactive sputtering method is a sputtering method in which a desired metal or sintered body is used as a target, an inert gas such as argon or neon is used as a sputtering gas, and a reactive gas such as oxygen is added. For example, when forming an ITO film, direct current magnetron sputtering is performed in an oxygen gas using a compound of indium and tin. At this time, it is preferable in terms of production efficiency to perform sputtering continuously in a roll-to-roll manner.
一方、電磁波シールド層として電気伝導性メッシュも好適に使用できる。電気伝導性メッシュの形成方法としては従来公知のものを使用できる。中でも透明基材（Ａ）に貼合した銅箔をメッシュパターン状にエッチングする方法（以下エッチング法と略す）や、透明基材（Ａ）上に電気伝導性物質をメッシュパターン状に印刷し、その後メッキ処理により電気伝導性メッシュを形成する方法（以下印刷法と略す）、さらには銀塩を含むゼラチン層を透明基材（Ａ）に塗布し、レーザー露光および現像によるパターニングの後、メッキ処理を行う事で電気伝導性メッシュを形成する方法（以下銀塩法と略す）などを好適に用いる事ができる。例示した以外にも、金属を含む繊維でできたメッシュも電磁波シールド層として使用できる。 On the other hand, an electrically conductive mesh can also be suitably used as the electromagnetic wave shielding layer. A conventionally known method can be used as a method for forming the electrically conductive mesh. Among them, a method of etching the copper foil bonded to the transparent substrate (A) into a mesh pattern (hereinafter abbreviated as an etching method), an electrically conductive substance is printed in a mesh pattern on the transparent substrate (A), Thereafter, a method of forming an electrically conductive mesh by plating treatment (hereinafter abbreviated as printing method), a gelatin layer containing silver salt is applied to the transparent substrate (A), and after patterning by laser exposure and development, plating treatment is performed. A method of forming an electrically conductive mesh by performing (hereinafter abbreviated as a silver salt method) or the like can be suitably used. In addition to the examples illustrated above, a mesh made of a metal-containing fiber can also be used as the electromagnetic wave shielding layer.
エッチング法としては、透明基材（Ａ）に貼合した金属箔上に感光性レジストを塗布後、フォトマスク等を使用して露光し、現像することでメッシュ形状のレジストパターンを形成し、適当なエッチング液でレジストパターン部以外の金属を溶出させて金属メッシュを形成する方法が挙げられる。具体的な例としては、高分子フィルムにウレタン系の接着層を介して銅箔を貼り合わせ、銅箔上にフォトマスクによりメッシュ状のレジストパターンを形成し、乾燥後、塩化第二鉄等のエッチング液により非レジストパターン部の銅箔を除去し、水洗後、アルカリによるレジスト剥離を行う方法をあげることができる。この方法ではフォトマスクのパターンを微細化することで非常に高精細なメッシュパターンを得ることができる。 As an etching method, a photosensitive resist is applied on the metal foil bonded to the transparent base material (A), then exposed using a photomask or the like, and developed to form a mesh-shaped resist pattern. A method of forming a metal mesh by eluting metals other than the resist pattern portion with an etching solution. As a specific example, a copper foil is bonded to a polymer film via a urethane-based adhesive layer, a mesh-like resist pattern is formed on the copper foil with a photomask, and after drying, such as ferric chloride A method of removing the copper foil in the non-resist pattern portion with an etching solution, washing with water, and stripping the resist with an alkali can be given. In this method, a very high-definition mesh pattern can be obtained by miniaturizing the photomask pattern.
印刷法は透明基材（Ａ）上にインクジェット法、凹版印刷法、凸版印刷法、平版印刷法、孔版印刷法等により電気伝導性物質を直接印刷し、その後メッキを行うことでメッシュパターンを得る方法が挙げられる。具体例としては銀を含む電気伝導性ペーストをグラビア印刷により透明基材（Ａ）上に連続的に塗布し、その後銅メッキ・洗浄を行う事で電気伝導性メッシュを得る方法が挙げられる。この方法はエッチング法と比較して生産性が高いという利点を有する。 As for the printing method, an electroconductive substance is directly printed on the transparent substrate (A) by an ink jet method, an intaglio printing method, a relief printing method, a planographic printing method, a stencil printing method, etc., and then a mesh pattern is obtained by plating. A method is mentioned. As a specific example, a method of obtaining an electrically conductive mesh by continuously applying an electrically conductive paste containing silver onto the transparent substrate (A) by gravure printing and then performing copper plating and washing. This method has an advantage of high productivity as compared with the etching method.
銀塩法は写真印刷の原理を応用し、銀塩を含むゼラチン層をレーザー等で連続露光して得られた銀塩凝集部にメッキすることでメッシュパターンを得る方法である。具体的には透明基材（Ａ）上に主にハロゲン化銀とゼラチンからなる乳剤を塗布し、レーザーを走査することでメッシュ形状を連続的にパターニングした後、現像・定着を行い、その後硫酸銅を用いて電解メッキすることでメッシュパターンを得る方法が挙げられる。この方法は高感度の銀塩とレーザー描画を用いる事で生産効率高く電気伝導性メッシュが得られるという利点がある。 The silver salt method is a method of obtaining a mesh pattern by applying the principle of photographic printing and plating a silver salt agglomerated portion obtained by continuously exposing a gelatin layer containing silver salt with a laser or the like. Specifically, an emulsion mainly composed of silver halide and gelatin is coated on the transparent substrate (A), and the mesh shape is continuously patterned by scanning with a laser, followed by development and fixing, and then sulfuric acid. There is a method of obtaining a mesh pattern by electrolytic plating using copper. This method has an advantage that an electrically conductive mesh can be obtained with high production efficiency by using highly sensitive silver salt and laser drawing.
電気伝導性メッシュの厚さ、メッシュパターンは、必要な電磁波シールド能と、可視光透過率、および電気伝導性層メッシュの形成方法によって決定される。プラズマディスプレイパネルの電磁波遮蔽に必要な電気伝導性は、要求される電磁波規格やプラズマディスプレイパネルからの電磁波放射強度にもよるが、表面抵抗率で好ましくは０．０１〜１Ω/□、さらに好ましくは０．０１〜０．５Ω/□である。導電メッシュの厚さとしては、０．５〜２０μｍが好ましいが、これに限定されるものではない。導電メッシュの厚さが薄すぎると電気伝導性が不足し、厚すぎるとコストアップや重量増につながる為、好適には５〜１５μｍである。 The thickness and mesh pattern of the electrically conductive mesh are determined by the required electromagnetic shielding ability, visible light transmittance, and the method of forming the electrically conductive layer mesh. The electrical conductivity necessary for shielding the electromagnetic wave of the plasma display panel depends on the required electromagnetic wave standard and the electromagnetic wave radiation intensity from the plasma display panel, but is preferably 0.01 to 1Ω / □, more preferably in terms of surface resistivity. 0.01 to 0.5Ω / □. The thickness of the conductive mesh is preferably 0.5 to 20 μm, but is not limited thereto. If the thickness of the conductive mesh is too thin, the electrical conductivity is insufficient, and if it is too thick, it leads to an increase in cost and weight, so the thickness is preferably 5 to 15 μm.
本発明に用いる接着材層（Ｃ）としては、透明であり、かつ電気伝導性を有していることが好ましい。接着材層（Ｃ）の可視光透過率は２０％以上である事が好ましく、更に好ましくは３０％以上である。可視光透過率の値は、接着材層（Ｃ）を光学フィルターに使用する時と同じ厚さの値である。測定は、他の基材上に接着材層（Ｃ）を形成した状態で行ってもよい。その場合、測定後、基材の可視光透過率と測定値から接着材層（Ｃ）の可視光透過率が計算によって求められる。可視光透過率は、ＪＩＳ−Ｒ−３１０６の方法によって、波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの領域の分光透過率から得られる。また、本発明における接着材層（Ｃ）は電磁波シールド層（Ｂ）と電気的に接続させる為、電気伝導性を有している事が望ましい。具体的には表面抵抗率にして５０ＫΩ／□以下である事が好ましく、更に好ましくは２０ＫΩ／□以下、更に好ましくは５ＫΩ／□以下である。表面抵抗率は、本発明では四探針法の抵抗計で測定した。 The adhesive layer (C) used in the present invention is preferably transparent and has electrical conductivity. The visible light transmittance of the adhesive layer (C) is preferably 20% or more, and more preferably 30% or more. The value of the visible light transmittance is the same thickness value as when the adhesive layer (C) is used for the optical filter. You may perform a measurement in the state which formed the adhesive material layer (C) on the other base material. In that case, after the measurement, the visible light transmittance of the adhesive layer (C) is obtained by calculation from the visible light transmittance of the substrate and the measured value. The visible light transmittance is obtained from the spectral transmittance in the wavelength region of 380 nm to 780 nm by the method of JIS-R-3106. Moreover, since the adhesive layer (C) in the present invention is electrically connected to the electromagnetic wave shielding layer (B), it is desirable to have electrical conductivity. Specifically, the surface resistivity is preferably 50 KΩ / □ or less, more preferably 20 KΩ / □ or less, and further preferably 5 KΩ / □ or less. In the present invention, the surface resistivity was measured with a four-probe resistance meter.
接着材層（Ｃ）の電気伝導性の付与方法としては特に制限はないが、接着性を有する樹脂に電気伝導性微粒子を分散させたものが好適に使用される。電気伝導性微粒子としては、金属微粒子、金属酸化物微粒子、カーボン微粒子またはそれらの混合物が好適に使用されるが、これらに限定されるものではない。なかでも電気伝導性微粒子が、ニッケル、銀、銅、アルミニウム、鉄、インジウム、亜鉛、錫から選ばれる少なくとも１種の元素を含むことをことが好ましい。さらに、電気伝導性の高い金属微粒子を好適に用いる事ができる。具体的には、銀、銅、ニッケル、アルミニウム、鉄等を例示する事ができる。また、金属酸化物微粒子としては、酸化インジウム，酸化錫、酸化亜鉛、酸化アルミニウム等を例示する事ができる。また使用する粒子の形状は特に制限がなく、りん片状、樹枝状、粒状、ペレット状等の任意の形状を取る事ができる。 Although there is no restriction | limiting in particular as an electrical conductivity provision method of an adhesive material layer (C), What disperse | distributed electroconductive fine particles to resin which has adhesiveness is used suitably. As the electrically conductive fine particles, metal fine particles, metal oxide fine particles, carbon fine particles or a mixture thereof is preferably used, but is not limited thereto. In particular, it is preferable that the electrically conductive fine particles contain at least one element selected from nickel, silver, copper, aluminum, iron, indium, zinc, and tin. Furthermore, metal fine particles having high electrical conductivity can be suitably used. Specifically, silver, copper, nickel, aluminum, iron, etc. can be illustrated. Examples of the metal oxide fine particles include indium oxide, tin oxide, zinc oxide, and aluminum oxide. The shape of the particles to be used is not particularly limited, and any shape such as a flake shape, a dendritic shape, a granular shape, or a pellet shape can be taken.
接着性を有する樹脂に対する電気伝導性微粒子の配合量は、好ましくは０．１〜６０重量％であり、特に好ましくは１〜４０重量％である。微粒子の粒経は特に制限はないが、小さすぎると電気伝導性が得にくくなり、また大きすぎると光散乱が強くなりディスプレイ用光学フィルターとしての使用に問題が生ずる為、適度な大きさである事が好ましい。具体的には直径１〜１００μｍが好ましく、更に好ましくは５〜５０μｍである。上記のように配合量と粒経を調整することで電気伝導性微粒子の凝集を防止し、電気伝導性と透明性を両立させることできる。 The blending amount of the electrically conductive fine particles with respect to the adhesive resin is preferably 0.1 to 60% by weight, particularly preferably 1 to 40% by weight. The particle size of the fine particles is not particularly limited. However, if the particle size is too small, it is difficult to obtain electrical conductivity. If the particle size is too large, light scattering becomes strong and problems arise in use as an optical filter for display. Things are preferable. Specifically, the diameter is preferably 1 to 100 μm, more preferably 5 to 50 μm. By adjusting the blending amount and particle size as described above, aggregation of the electrically conductive fine particles can be prevented, and both electrical conductivity and transparency can be achieved.
接着材層（Ｃ）に使用する接着性を有する樹脂としては、できるだけ分散させる電気伝導性微粒子に対して化学的に不活性であり、かつ透明なものが好ましい。使用される樹脂としては、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、エチレン―酢酸ビニル系樹脂などを例示する事ができる。中でもアクリル系の樹脂は透明性及び耐熱性に優れる為に特に好適に用いられる。また、樹脂中の電気伝導性微粒子の分散性を高める為に、分散剤や沈降防止剤を加えても良い。沈降防止剤としては脂肪酸アミド系の化合物を例示する事ができる。また、金属による樹脂の腐食を防ぐ為にベンゾトリアゾールなどの酸化防止剤を加えても良い。 As the adhesive resin used for the adhesive layer (C), a resin that is chemically inert and transparent to the electrically conductive fine particles dispersed as much as possible is preferable. Examples of the resin used include acrylic resins, silicone resins, urethane resins, polyvinyl butyral resins, and ethylene-vinyl acetate resins. Among these, acrylic resins are particularly preferably used because they are excellent in transparency and heat resistance. Further, in order to improve the dispersibility of the electrically conductive fine particles in the resin, a dispersant or an anti-settling agent may be added. Examples of the precipitation inhibitor include fatty acid amide compounds. In addition, an antioxidant such as benzotriazole may be added to prevent corrosion of the resin by metal.
本発明では接着材層（Ｃ）は電磁波シールド層（Ｂ）の上に設けられるが、その方法は公知のものを用いる事ができる。例えば、ある離型フィルム１の上に適当な厚みをもった接着材層（Ｃ）を塗工し、更にその上に異なる剥離力を有する離型フィルム２を貼合した、離型フィルム１／接着材層（Ｃ）／離型フィルム２の構成を持つ接着材フィルムを、透明基材（Ａ）の電磁波シールド層（Ｂ）側に剥離力の低い離型フィルムを剥離しながらロールツーロールで貼合していく方法や、透明基材（Ａ）に設けられた電磁波シールド層（Ｂ）上に直接接着材層（Ｃ）を塗工し、その上に離型フィルムを貼合していく方法を例示する事ができる。接着材層（Ｃ）の厚みについては特に制限はないが、厚過ぎると十分な電気伝導性と透明性を得ることが困難となり、また薄すぎると加工上問題を有する為、適度な厚みを持っている事が望ましい。具体的に好ましい厚みは５μｍ以上１００μｍ以下であり、更に好ましくは１０μｍ以上５０μｍ以下である。 In the present invention, the adhesive layer (C) is provided on the electromagnetic wave shielding layer (B), and a known method can be used. For example, an adhesive layer (C) having an appropriate thickness is applied on a certain release film 1, and a release film 2 having a different peeling force is further bonded thereon. Roll-to-roll with an adhesive film having a configuration of adhesive layer (C) / release film 2 while peeling a release film having a low peeling force on the electromagnetic shielding layer (B) side of the transparent substrate (A). The adhesive layer (C) is applied directly on the electromagnetic shielding layer (B) provided on the transparent base material (A) and the release film is pasted thereon. The method can be illustrated. The thickness of the adhesive layer (C) is not particularly limited, but if it is too thick, it will be difficult to obtain sufficient electrical conductivity and transparency, and if it is too thin, there will be a problem in processing. It is desirable that Specifically, the preferable thickness is 5 μm or more and 100 μm or less, and more preferably 10 μm or more and 50 μm or less.
電磁波シールド層（Ｂ）が付与された透明基材（Ａ）の反対側に、ハードコート性、反射防止性、防眩性、静電気防止性、防汚性、紫外線カット性、近赤外線カット性の中から選ばれるいずれか一つ以上の機能を有する機能層（Ｄ）を設けてもよい。機能層（Ｄ）は、必要に応じて各機能を有する層を単数又は複数層形成してもよい。 On the opposite side of the transparent base material (A) provided with the electromagnetic wave shielding layer (B), hard coat properties, antireflection properties, antiglare properties, antistatic properties, antifouling properties, ultraviolet ray cut properties, near infrared ray cut properties A functional layer (D) having any one or more functions selected from among them may be provided. As the functional layer (D), one or more layers having each function may be formed as necessary.
ディスプレイは、照明器具等の映り込みによって表示画面が見づらくなってしまうので、機能層（Ｄ）は、外光反射を抑制するための反射防止（ＡＲ：アンチリフレクション）性、または、鏡像の映り込みを防止する防眩（ＡＧ：アンチグレア）性、またはその両特性を備えた反射防止防眩（ＡＲＡＧ）性のいずれかの機能を有するものが好ましい。ディスプレイ用光学フィルター表面の可視光反射率が低いと、映り込みを防止できるだけではなく、コントラストを向上させることができる。可視光反射率は、ＪＩＳ−Ｒ−３１０６の方法によって、波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの領域の分光反射率から得られる。 Since the display screen becomes difficult to see due to the reflection of lighting fixtures, the functional layer (D) has anti-reflection (AR: anti-reflection) properties to suppress external light reflection, or mirror image reflection. Those having either antiglare (AG: antiglare) property to prevent the above, or antireflection antiglare (ARAG) property having both of these characteristics are preferred. When the visible light reflectance on the surface of the optical filter for display is low, not only the reflection can be prevented but also the contrast can be improved. The visible light reflectance is obtained from the spectral reflectance in the wavelength region of 380 nm to 780 nm by the method of JIS-R-3106.
また、ディスプレイ用光学フィルターに耐擦傷性を付加するために、機能層（Ｄ）がハードコート性を有していることも好ましい。さらに、ディスプレイ用光学フィルターは、静電気帯電によりホコリが付着しやすく、また、人体が接触したときに放電して人が電気ショックを受けることがあるため、帯電防止性が必要とされる場合がある。従って、静電気防止性を付与するために、機能層（Ｄ）が電気伝導性を有していても良い。機能層（Ｄ）であるハードコート膜や反射防止膜、防眩膜が、電気伝導性を有しているもの、電気伝導性微粒子を含有しているものが好適に使用される。さらに、指紋等の汚れ防止や汚れが付いたときに簡単に取り除くことができるよう、機能層（Ｄ）表面が防汚性を有していると良い。反射防止膜に、防汚性のある材料を用いると、防汚性を有する反射防止膜が得られて好ましい。 In order to add scratch resistance to the optical filter for display, it is also preferred that the functional layer (D) has a hard coat property. Furthermore, the optical filter for display is likely to adhere to dust due to electrostatic charging, and may discharge when a human body comes in contact with the person, resulting in an electric shock. . Therefore, the functional layer (D) may have electrical conductivity in order to impart antistatic properties. The functional layer (D) that is a hard coat film, an antireflection film, or an antiglare film that has electrical conductivity and that contains electrically conductive fine particles is preferably used. Furthermore, it is preferable that the surface of the functional layer (D) has antifouling properties so that fingerprints and the like can be prevented and easily removed when they are attached. It is preferable to use an antifouling material for the antireflection film because an antireflection film having antifouling properties can be obtained.
プラズマディスプレイパネルは強度の近赤外線を発生する為、実用上問題無いレベルまで近赤外線が外部に放出されないようにカットする必要がある。また、プラズマディスプレイパネルに用いるディスプレイ用光学フィルターはその透過色がニュートラルグレーまたはブルーグレーであることが好ましい。これは、プラズマディスプレイパネルの発光特性及び発光色のコントラストを維持または向上させる必要があり、さらに標準白色より若干高めの色温度の白色が好まれる場合があるからである。さらにまた、カラープラズマディスプレイパネルはその色再現性が不十分と言われており、その原因である蛍光体又は放電ガスからの不要発光をディスプレイ用光学フィルターで選択的に低減することが好ましい。 Since the plasma display panel generates intense near-infrared rays, it is necessary to cut the near-infrared rays so that the near-infrared rays are not emitted outside to a level where there is no practical problem. Moreover, it is preferable that the transmission color of the optical filter for display used in the plasma display panel is neutral gray or blue gray. This is because it is necessary to maintain or improve the light emission characteristics and light emission color contrast of the plasma display panel, and white color having a slightly higher color temperature than standard white color may be preferred. Furthermore, it is said that the color plasma display panel has insufficient color reproducibility, and it is preferable to selectively reduce unnecessary light emission from the phosphor or discharge gas which is the cause of the color plasma display panel with an optical filter for display.
これらの光学特性は、ディスプレイ用光学フィルターに色素を含有させることによって制御できる。つまり、近赤外線カットには近赤外線吸収する色素を用いる。また、不要発光の低減には該当する波長の光を吸収する色素を用いることで、所望の光学特性とすることが出来る。特に波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの光を選択的に吸収する色素を用いると、所望の光学特性とすることが出来て好ましい。また、ディスプレイ用光学フィルターの色調は、可視光線領域に適当な吸収のある色素を用いて好適なものとすることができる。 These optical characteristics can be controlled by including a dye in the optical filter for display. That is, the near-infrared cut uses a dye that absorbs near-infrared rays. Further, for reducing unnecessary light emission, a desired optical characteristic can be obtained by using a dye that absorbs light of a corresponding wavelength. In particular, it is preferable to use a dye that selectively absorbs light having a wavelength of 400 nm to 700 nm because desired optical characteristics can be obtained. Moreover, the color tone of the optical filter for display can be made suitable by using a dye having an appropriate absorption in the visible light region.
色素をディスプレイ用光学フィルターに含有させる方法としては、（イ）色素を高分子フィルムや樹脂板に混錬する方法、（ロ）色素を、樹脂または樹脂モノマーを有機系溶媒に溶解した液に分散・溶解させ、キャスティング法により高分子フィルムや樹脂板を作製する方法、（ハ）色素を樹脂バインダーと有機系溶媒に加え塗料とし、高分子フィルムまたは樹脂板上にコーティングする方法、（二）色素を接着材に含有させる方法、のいずれか一つ以上選択できるが、これらに限定されない。本発明でいう含有とは、基材または塗膜等の層または接着材の内部に含有されることは勿論、基材または基材の表面に塗布した状態をも意味する。含有する色素は複数の種類でも構わない。 As a method of incorporating a dye into an optical filter for display, (a) a method of kneading a dye in a polymer film or a resin plate, (b) a dye is dispersed in a solution obtained by dissolving a resin or a resin monomer in an organic solvent.・ Method of dissolving and producing polymer film or resin plate by casting method, (c) Method of coating on polymer film or resin plate with pigment added to resin binder and organic solvent, (2) Dye Any one or more of these methods can be selected, but is not limited thereto. The inclusion in the present invention means not only that it is contained in a layer such as a substrate or a coating film or an adhesive, but also a state where it is applied to the surface of the substrate or substrate. A plurality of types of dyes may be contained.
また、本発明においては異なる吸収波長を有する色素を２種類以上一つの媒体または塗膜に含有させても良いし、色素を含有する媒体、塗膜を２つ以上有していても良い。色素は透明基材（Ａ）、電磁波シールド層（Ｂ）、接着材層（Ｃ）、機能層（Ｄ）のいずれに含まれてもよい。 In the present invention, two or more types of pigments having different absorption wavelengths may be contained in one medium or coating film, or two or more media and coating films containing pigments may be included. A pigment | dye may be contained in any of a transparent base material (A), an electromagnetic wave shield layer (B), an adhesive material layer (C), and a functional layer (D).
本発明のディスプレイ用光学フィルターは接着材層（Ｃ）をプラズマディスプレイパネル（Ｅ）の前面に貼合して使用しても良いプラズマディスプレイパネル（Ｅ）の前面に直接貼り合わせずに、透明支持体（Ｆ）と貼り合わせても良い。透明支持体（Ｆ）としてはガラス板やアクリル樹脂等のプラスチック板等公知のものを用いる事ができる。本発明のディスプレイ用光学フィルターをプラズマディスプレイパネルの前面に貼り合せることで、プラズマディスプレイパネル／光学フィルター間の多重反射を減らすことができ、画質を向上させることができる。このような形態のプラズマディスプレイパネルはディスプレイ用光学フィルターに使用する部材数が少ない為、コスト優位性が高くなり好ましい。 The optical filter for display of the present invention may be used by bonding the adhesive layer (C) to the front surface of the plasma display panel (E). It may be bonded to the body (F). As the transparent support (F), a known material such as a glass plate or a plastic plate such as an acrylic resin can be used. By bonding the optical filter for display of the present invention to the front surface of the plasma display panel, multiple reflections between the plasma display panel and the optical filter can be reduced, and the image quality can be improved. Since the plasma display panel of such a form has few members used for the optical filter for a display, a cost advantage becomes high and is preferable.
本発明のディスプレイ用光学フィルターにおいて電磁波シールド能を発揮させるには、ディスプレイ用光学フィルターの電磁波シールド層（Ｂ）とディスプレイ本体を電気的に接続させ、アースをとる必要がある。一般に、電気機器から発生する電磁波は電気伝導性物質に吸収されることにより該電気伝導性物質上に電荷を発生させる。発生した電荷は該電気伝導性物質をアンテナとして再び電磁波を発振させるため、アースをとることによって、発生した電荷を速やかに外部へ逃がさなければ電磁波が漏洩する恐れがある。従って、本発明においては電磁波シールド層（Ｂ）上には電気伝導性を有する接着材層（Ｃ）が設けられており、該接着材層（Ｃ）に貼合するプラズマディスプレイパネル（Ｅ）前面もしくは透明支持体（Ｆ）の一部が電気伝導性を有し、かつ接着材層（Ｃ）と部分的に接触し電気的に接続している必要がある。 In order to exhibit the electromagnetic wave shielding ability in the optical filter for display according to the present invention, it is necessary to electrically connect the electromagnetic wave shielding layer (B) of the optical filter for display and the display main body and to provide grounding. In general, an electromagnetic wave generated from an electrical device is absorbed by the electrically conductive material to generate a charge on the electrically conductive material. Since the generated charges cause the electromagnetic waves to oscillate again using the electrically conductive substance as an antenna, there is a possibility that the electromagnetic waves will leak if the generated charges are not released quickly by taking the ground. Therefore, in the present invention, the adhesive layer (C) having electrical conductivity is provided on the electromagnetic wave shielding layer (B), and the front surface of the plasma display panel (E) to be bonded to the adhesive layer (C). Alternatively, it is necessary that a part of the transparent support (F) has electrical conductivity and is in partial contact with and electrically connected to the adhesive layer (C).
上記のような電気的な接続を得るため、図３、図４に示すようにプラズマディスプレイパネル（Ｅ）前面または透明支持体（Ｆ）の周縁部に電気伝導性を有する電極を、ディスプレイ用光学フィルタ―の外周よりも大きくなるように形成し、その上に当該ディスプレイ用光学フィルターを貼合すると好ましい。この場合、露出した電極部をディスプレイ本体のアース部品と接続する事で吸収した電磁波を電荷としてうまく外部に逃がし、電磁波漏洩を防ぐ事ができる。プラズマディスプレイパネル（Ｅ）前面または透明支持体（Ｆ）上の周縁部に電極を形成する方法としては、電気伝導性ペーストを塗布する方法や、電気伝導性テープを周囲四辺に貼合する方法が好ましく使用できる。 In order to obtain the electrical connection as described above, as shown in FIG. 3 and FIG. 4, an electrode having electrical conductivity is provided on the front surface of the plasma display panel (E) or the peripheral edge of the transparent support (F). It is preferable to form the filter so as to be larger than the outer periphery of the filter, and to bond the display optical filter thereon. In this case, by connecting the exposed electrode part to the ground component of the display main body, the absorbed electromagnetic wave can be released to the outside as a charge, and electromagnetic wave leakage can be prevented. As a method of forming electrodes on the front surface of the plasma display panel (E) or the peripheral portion on the transparent support (F), there are a method of applying an electrically conductive paste and a method of bonding an electrically conductive tape to the surrounding four sides. It can be preferably used.
電気伝導性ペーストを電極として用いる場合、電気伝導性、耐触性、およびプラズマディスプレイパネル前面や透明支持体との密着性等の点から、銀、銅、ニッケル、アルミニウム、クロム、鉄、亜鉛、カーボン等の単体もしくは２種以上からなる合金や、これら単体または合金と合成樹脂との混合物、もしくは、これら単体または合金とホウケイ酸ガラスとの混合物からなるペーストを使用できる。電気伝導性ペーストの印刷、塗工には従来公知の方法を採用できる。使用するペーストは黒色である事が好ましい。形成された電極が黒色を有している事で従来ガラス周縁部上に施される、ディスプレイの表示部分と非表示部分を区別する為の黒色額縁印刷の代替とする事ができ、より低コストのフィルターが製造できる。この場合使用するペーストは上記に述べた合金及び樹脂の組み合わせを用いる事ができるが、カーボン単体と樹脂によるぺ―スト、もしくは銀や銅等の電気伝導性の高い金属ペーストにカーボン微粒子を添加して黒色としたものを特に好適に使用できる。また市販の電気伝導性接着テープも好適に使用できる。電気伝導性接着テープは両面ともに電気伝導性を有するものであって、カーボンやニッケルを分散した電気伝導性接着剤を用いた片面接着タイプ、両面接着タイプが好適に使用できる。電極の厚さは、特に限定されるものではないが、数μｍ〜数ｍｍ程度である。 When using an electrically conductive paste as an electrode, silver, copper, nickel, aluminum, chromium, iron, zinc, and the like from the viewpoint of electrical conductivity, touch resistance, and adhesion to the front surface of a plasma display panel and a transparent support. A paste made of a simple substance such as carbon or an alloy composed of two or more kinds, a mixture of the simple substance or an alloy and a synthetic resin, or a mixture of the simple substance or the alloy and borosilicate glass can be used. Conventionally known methods can be employed for printing and coating of the electrically conductive paste. The paste used is preferably black. Since the formed electrode has a black color, it can be used as an alternative to black frame printing to distinguish between the display and non-display parts of the display, which is conventionally applied on the peripheral edge of the glass. Can be manufactured. The paste used in this case can be a combination of the above-mentioned alloy and resin, but carbon fine particles are added to a paste made of carbon alone and resin, or a metal paste with high electrical conductivity such as silver or copper. In particular, those that are black can be preferably used. Moreover, a commercially available electroconductive adhesive tape can also be used conveniently. The electrically conductive adhesive tape has electrical conductivity on both sides, and a single-sided adhesive type and a double-sided adhesive type using an electrically conductive adhesive in which carbon or nickel is dispersed can be suitably used. The thickness of the electrode is not particularly limited, but is about several μm to several mm.
つぎに、本発明を実施例により具体的に説明する。本発明はこれらによりなんら制限されるものではない。尚、実施例における「部」は重量部を表す。
（実施例１）
（接着材の作製）
アクリル系接着材（綜研化学株式会社製、品名：ＳＫ２０９４）７０部にニッケル紛（日興ファインプロダクツ株式会社製、品名：＃２８７）３０部、波長５２０ｎｍに吸収を有する色素（三井化学株式会社製、品名：ＰＳ−Ｒｅｄ−Ｇ）、波長５７０ｎｍに吸収を有する色素（三井化学株式会社製、品名：ＰＳ−Ｖｉｏｌｅｔ−ＲＣ）各０．１重量部を十分混合して色素入りの電気伝導性接着材を得た。この接着材をポリエチレンテレフタレート（以下ＰＥＴ）フイルムとシリコーン離型層からなる離型フイルムＡ（可視光透過率：９２％）の離型層上に連続的に塗工し、送風乾燥後に別の離型フイルムＢ（可視光透過率：９２％）を塗工面に貼り合わせ、異なる剥離力を持った離型フイルムを両面に有する６１０ｍｍ巾の接着材フイルムロール（接着材厚み：２５μｍ）を得た。この接着材フイルムの離型フィルムＡを剥離し、四探針抵抗計（株式会社ダイヤインスツルメンツ製、品名：ロレスタ ＧＰ）を用いて測定したところ、表面抵抗率は３．１ＫΩ／□であった。また、離型フイルムＡのみを剥離した状態で、離型フイルムＢ側を入射面として分光光度計（株式会社日立製作所製、型番： Ｕ３４００）を用いて波長３８０〜７８０ｎｍの分光透過スペクトルを得た。ＪＩＳ−Ｒ−３１０６に記載の方法で可視光透過率を計算したところ、３５％であった。
（電磁波シールド層の作製）
巾６２０ｍｍのＵＶ吸収剤入りの２軸延伸ＰＥＴフィルム（厚さ：７５μｍ）に、スパッタリング法にてＰＥＴフイルムから順に酸化インジウム薄膜（膜厚４０ｎｍ）、銀薄膜（膜厚１１ｎｍ）、酸化インジウム薄膜（膜厚９５ｎｍ）、銀薄膜（膜厚１４ｎｍ）、酸化インジウム薄膜（膜厚９０ｎｍ）、銀薄膜（膜厚１２ｎｍ）、酸化インジウム薄膜（膜厚４０ｎｍ）の計７層を積層し電磁波シールド層を形成した。酸化インジウム薄膜は、ターゲットに酸化インジウム、スパッタリングガスにアルゴンガス、反応性ガスに酸素ガスを使用した反応性スパッタリング法で形成した。銀薄膜はターゲットに銀、スパッタリングガスにアルゴンガスを使用したスパッタ法で形成した。この電磁波シールド層の表面抵抗率を前述の方法で測定したところ、２．２Ω／□であった。
（機能層の作製）
上記ＰＥＴフイルムの電磁波シールド層と反対側の面にジペンタエリスリトールヘキサアクリレート７０重量部、１，６−ジアクリロイルオキシヘキサン３０重量部、光重合開始材（日本チバガイギー株式会社製、品名：イルカギュア−１８４）４重量部、イソプロピルアルコール１００重量部を含む溶液を乾燥膜厚が４μｍ程度となるように塗布し、紫外線照射装置を用いて硬化を行い、ハードコート層を得た。更にそのハードコート層の上に１０−ジアクリロイルオキシ−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９−オクタデカフルオロデカン７０重量部、テトラアクリル酸テトラメチロールメタン２０重量部、ブチルアルコール９００重量部、光重合開始剤（日本化薬株式会社製、品名： カヤキュアー ＢＭＳ）５重量部を混合した溶液を塗布後、光照射装置で硬化を行い、反射防止層を得た。
（ディスプレイ用光学フィルターの作製）
作製したフイルムの電磁波シールド層側に上記の接着材ロールをロールツーロールで巾が５８０ｍｍとなるように両端を裁断しながら貼合し、さらにロールを長さ９８０ｍｍとなるように裁断して９８０ｍｍ×５８０ｍｍのフィルム状のディスプレイ用光学フィルターを得た。
（プラズマディスプレイパネルへの貼合）
プラズマディスプレイパネルの周縁部四辺に銀およびカーボン粒子を含む電気伝導性ペースト（藤倉化成株式会社製、品名：ＸＡ−３０８７）をその外周部が上記ディスプレイ用フィルターよりも大きくなるように塗布し、電極を形成した。乾燥後に上記ディスプレイ用光学フィルターを四辺共に電気伝導性ペーストによる電極が露出するように貼合し、光学フィルター一体型のプラズマディスプレイパネルを得た。
得られたプラズマディスプレイパネルの断面図および平面図を図３，５に示す。
Next, the present invention will be specifically described with reference to examples. The present invention is not limited by these. In the examples, “parts” represents parts by weight.
Example 1
(Production of adhesive)
70 parts of an acrylic adhesive (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., product name: SK2094) and 30 parts of nickel powder (manufactured by Nikko Fine Products Co., Ltd., product name: # 287), a dye having absorption at a wavelength of 520 nm (manufactured by Mitsui Chemicals, Product name: PS-Red-G), dye having absorption at a wavelength of 570 nm (Mitsui Chemicals Co., Ltd., product name: PS-Violet-RC) 0.1 parts by weight of each is sufficiently mixed, and the electroconductive adhesive containing the dye Got. This adhesive is continuously applied onto a release layer of a release film A (visible light transmittance: 92%) composed of a polyethylene terephthalate (PET) film and a silicone release layer. Mold film B (visible light transmittance: 92%) was bonded to the coated surface to obtain a 610 mm wide adhesive film roll (adhesive thickness: 25 μm) having release films having different peeling forces on both sides. The release film A of the adhesive film was peeled off and measured using a four-probe resistance meter (manufactured by Dia Instruments Co., Ltd., product name: Loresta GP). The surface resistivity was 3.1 KΩ / □. Further, with only the release film A peeled off, a spectral transmission spectrum having a wavelength of 380 to 780 nm was obtained using a spectrophotometer (manufactured by Hitachi, Ltd., model number: U3400) with the release film B side as the incident surface. . The visible light transmittance was calculated by the method described in JIS-R-3106 and found to be 35%.
(Preparation of electromagnetic shielding layer)
An indium oxide thin film (
(Production of functional layer)
70 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate, 30 parts by weight of 1,6-diacryloyloxyhexane, a photopolymerization initiator (manufactured by Ciba Geigy Co., Ltd., product name: IRKAGUA-184) on the surface opposite to the electromagnetic wave shielding layer of the PET film. ) A solution containing 4 parts by weight and 100 parts by weight of isopropyl alcohol was applied to a dry film thickness of about 4 μm and cured using an ultraviolet irradiation device to obtain a hard coat layer. Furthermore, 10-diacryloyloxy-2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9-octadecafluorodecane is formed on the hard coat layer. After applying a solution in which 70 parts by weight, 20 parts by weight of tetramethylol tetraacrylate, 900 parts by weight of butyl alcohol, and 5 parts by weight of a photopolymerization initiator (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., product name: Kayacure BMS) are applied, light irradiation is performed. Curing was performed with an apparatus to obtain an antireflection layer.
(Preparation of optical filter for display)
The above-mentioned adhesive material roll is bonded to the electromagnetic wave shielding layer side of the produced film by roll-to-roll while cutting both ends so as to have a width of 580 mm, and the roll is further cut to have a length of 980 mm to be 980 mm × A 580 mm film-shaped optical filter for display was obtained.
(Pasting to plasma display panel)
A conductive paste containing silver and carbon particles (product name: XA-3087, manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd.) is applied to the four peripheral edges of the plasma display panel so that the outer periphery is larger than the display filter, and the electrodes Formed. After drying, the optical filter for display was bonded so that the electrodes of the electrically conductive paste were exposed on all four sides to obtain an optical filter integrated plasma display panel.
A cross-sectional view and a plan view of the obtained plasma display panel are shown in FIGS.
(実施例２)
電磁波シールド層として、酸化インジウムと銀を積層した透明多層薄膜を用いるかわりに、下記を用いた以外は実施例１と同じ方法でディスプレイ用光学フィルターおよびフィルター一体型プラズマディスプレイパネルを作製した。
（電磁波シールド層の作成）
巾６２０ｍｍのＵＶ吸収剤入りの２軸延伸ＰＥＴフイルム（厚さ：７５μｍ）にハロゲン化銀とゼラチンを含む乳剤を塗布し、レーザーを用いて連続露光・現像し、メッシュパターン状に銀塩が凝集したフィルムを得た。次に硫酸銅を用いたロールツーロールの電解メッキ処理を施し、防錆処理を行う事でメッシュパターンが連続的に形成された表面抵抗率０．３Ω／□の導電性シールド層を得た。
(Example 2)
Instead of using a transparent multilayer thin film in which indium oxide and silver were laminated as an electromagnetic wave shielding layer, an optical filter for display and a filter-integrated plasma display panel were produced in the same manner as in Example 1 except that the following was used.
(Creation of electromagnetic shielding layer)
An emulsion containing silver halide and gelatin is coated on a biaxially stretched PET film (thickness: 75 μm) containing a UV absorber with a width of 620 mm, and the silver salt is aggregated in a mesh pattern by continuous exposure and development using a laser. Film was obtained. Next, a roll-to-roll electrolytic plating process using copper sulfate was performed, and a rust prevention process was performed to obtain a conductive shield layer having a surface resistivity of 0.3Ω / □ in which a mesh pattern was continuously formed.
上記実施例１、２で得られたディスプレイ用光学フィルターおよびプラズマディスプレイパネルは、実用上問題ない電磁波遮蔽能及び近赤外線カット能を有していた。表面に有する防汚性・静電防止能付き反射防止層とハードコート層により、静電気によるホコリの付着が少なく、防汚性、耐擦傷性、視認性にも優れていた。また、紫外線カット層により太陽光による色素の劣化が無く、耐候性にも優れていた。 The optical filter for display and the plasma display panel obtained in Examples 1 and 2 had an electromagnetic wave shielding ability and a near infrared ray cutting ability that were not problematic in practice. The anti-reflection layer with antifouling and antistatic ability on the surface and the hard coat layer have less dust adhesion due to static electricity, and are excellent in antifouling, scratch resistance and visibility. Moreover, there was no deterioration of the pigment | dye by sunlight with an ultraviolet cut layer, and it was excellent also in the weather resistance.
１０ 透明基材（Ａ）
２０ 電磁波シールド層（Ｂ）
３０ 接着材層（Ｃ）
４０ 機能層（Ｄ）
５０ プラズマディスプレイパネル（Ｅ）
６０ 電極
７０ 透明支持体（Ｆ）
10 Transparent substrate (A)
20 Electromagnetic shielding layer (B)
30 Adhesive layer (C)
40 Functional layer (D)
50 Plasma display panel (E)
60
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101927011B1 (en) | 2015-07-09 | 2018-12-07 | 니혼 이타가라스 가부시키가이샤 | Infrared cutoff filter, imaging device, and method for manufacturing infrared cutoff filter |
-
2006
- 2006-04-13 JP JP2006110699A patent/JP2007286159A/en active Pending
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