JP2007286000A - 検査装置、検査方法、及び検査処理プログラム - Google Patents
検査装置、検査方法、及び検査処理プログラム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007286000A JP2007286000A JP2006116693A JP2006116693A JP2007286000A JP 2007286000 A JP2007286000 A JP 2007286000A JP 2006116693 A JP2006116693 A JP 2006116693A JP 2006116693 A JP2006116693 A JP 2006116693A JP 2007286000 A JP2007286000 A JP 2007286000A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- contrast
- value
- inspection
- unevenness
- luminance value
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
【解決手段】 本発明は、被検査体におけるムラを検査する検査装置であって、前記被検査体の表面を撮影した表面画像のデータを取得する画像取得手段と、前記表面画像上の複数の領域における輝度値を算出し、当該輝度値に基づいて、当該領域内におけるコントラストを表す値を算出するコントラスト算出手段と、前記コントラストを表す値を提示する提示手段と、を備えることを特徴とする。
【選択図】図3
Description
先ず、図3乃至図6等を参照して、露光ムラ判定処理について説明する。
かかる(1)式により算出されたコントラストを表す値Dは、0〜100の範囲内で変化するが、当該Dが「0」に近ければ近いほどムラがなく均一であると言え、当該Dが「100」に近ければ近いほどムラが強くなると言える。なお、かかる正規化方法は、0〜100に限定されるものではなく、0〜1であっても良い。また、「0」でムラが強く、「100」が均一な状態を表すように算出しても良い。
次に、図7乃至図11等を参照して、塗布ムラ判定処理について説明する。
y=rsinθ・・・(3)
実際の画像処理においては、入力された表面画像は、下記(4)、(5)式により極座標変換される。
y=y’sin(2πx’/W)+Cy・・・(5)
ここで、x,yは、元(変換前)画像の座標、x’, y’は、変換後の画像の座標、Wは変換後の画像の幅、Cx,Cyは、元画像上での極座標系の中心となる座標、を夫々示す。
2 表示部
3 光源
4 光ファイバ
5 照明部
6 感光波長カットフィルタ
7 ラインセンサカメラ
8 バンドパスフィルタ
9 ステージ
11 制御部
12 画像処理部
15 フィルタ切替部
S 検査システム
Claims (8)
- 被検査体におけるムラを検査する検査装置であって、
前記被検査体の表面を撮影した表面画像のデータを取得する画像取得手段と、
前記表面画像上の複数の領域における輝度値を算出し、当該輝度値に基づいて、当該領域内におけるコントラストを表す値を算出するコントラスト算出手段と、
前記コントラストを表す値を提示する提示手段と、
を備えることを特徴とする検査装置。 - 請求項1に記載の検査装置において、
前記コントラスト算出手段は、前記算出した複数の輝度値のうち、輝度最大値と輝度最小値から前記コントラストを表す値を算出することを特徴とする検査装置。 - 請求項2に記載の検査装置は、前記領域としてのチップが形成された前記被検査体としてのウェハの表面における露光ムラを検査する検査装置であって、
前記表面画像を、前記複数のチップを含む大領域であって露光単位毎の大領域に分割する領域分割手段を更に備え、
前記コントラスト算出手段は、前記分割された大領域毎に前記輝度最大値と輝度最小値を求め、当該輝度最大値と輝度最小値から前記大領域毎の前記コントラストを表す値を算出することを特徴とする検査装置。 - 請求項2に記載の検査装置は、前記被検査体としてのウェハの表面における塗布ムラを検査する検査装置であって、
前記表面画像を、前記複数の領域を含む大領域に分割する領域分割手段を更に備え、
前記コントラスト算出手段は、前記分割された大領域毎に前記輝度最大値と輝度最小値を求め、当該輝度最大値と輝度最小値から前記大領域毎の前記コントラストを表す値を算出することを特徴とする検査装置。 - 請求項3又は4に記載の検査装置において、
前記大領域毎の前記コントラストを表す値の平均値を算出するコントラスト平均値算出手段を更に備えることを特徴とする検査装置。 - 請求項3乃至5の何れか一項に記載の検査装置において、
前記コントラストを表す値、又はその平均値が閾値を越えたか否かを判定する不良判定手段を更に備え、
前記提示手段は、前記閾値を越えた場合には、不良である旨を提示することを特徴とする検査装置。 - コンピュータを、請求項1乃至6の何れか一項に記載の検査装置として機能させることを特徴とする検査処理プログラム。
- 被検査体におけるムラを検査する検査方法であって、
前記被検査体の表面を撮影した表面画像のデータを取得する工程と、
前記表面画像上の複数の領域における輝度値を算出し、当該輝度値に基づいて、当該領域内におけるコントラストを表す値を算出する工程と、
前記コントラストを表す値を提示する工程と、
を備えることを特徴とする検査方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006116693A JP4872438B2 (ja) | 2006-04-20 | 2006-04-20 | 検査装置、検査方法、及び検査処理プログラム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006116693A JP4872438B2 (ja) | 2006-04-20 | 2006-04-20 | 検査装置、検査方法、及び検査処理プログラム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007286000A true JP2007286000A (ja) | 2007-11-01 |
JP4872438B2 JP4872438B2 (ja) | 2012-02-08 |
Family
ID=38757898
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006116693A Expired - Fee Related JP4872438B2 (ja) | 2006-04-20 | 2006-04-20 | 検査装置、検査方法、及び検査処理プログラム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4872438B2 (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009198340A (ja) * | 2008-02-22 | 2009-09-03 | Hitachi High-Technologies Corp | 電子顕微鏡システム及びそれを用いたレジストパターンの膜厚減少量評価方法 |
JP2009290210A (ja) * | 2008-05-30 | 2009-12-10 | Asml Netherlands Bv | 基板内の欠陥を判定する方法およびリソグラフィプロセスにおいて基板を露光するための装置 |
CN101847585A (zh) * | 2009-03-24 | 2010-09-29 | 日本麦可罗尼克斯股份有限公司 | 配线描绘装置和配线描绘方法 |
KR101253551B1 (ko) * | 2011-05-30 | 2013-04-11 | 주식회사 효성 | 필름의 횡방향 라인 결점 평가 방법 |
JP2013172046A (ja) * | 2012-02-22 | 2013-09-02 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP2013213676A (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-17 | Dainippon Printing Co Ltd | 画像処理装置、画像処理プログラム及び画像処理方法 |
JP2014011240A (ja) * | 2012-06-28 | 2014-01-20 | Sharp Corp | 結晶膜の検査方法及び検査装置 |
JP6031697B1 (ja) * | 2015-08-24 | 2016-11-24 | レーザーテック株式会社 | 検査装置、検査方法及び半導体装置の製造方法 |
CN110024085A (zh) * | 2017-01-06 | 2019-07-16 | 株式会社富士 | 镜面裸片图像识别*** |
WO2023189753A1 (ja) * | 2022-03-30 | 2023-10-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布処理方法、記憶媒体、及び塗布処理装置 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1038753A (ja) * | 1996-07-26 | 1998-02-13 | Dainippon Printing Co Ltd | 透明膜の検査方法 |
JP2000113188A (ja) * | 1998-10-06 | 2000-04-21 | Toppan Printing Co Ltd | ムラ欠陥検査装置及び方法並びにムラ欠陥検査プログラムを記録した記録媒体 |
JP2001074600A (ja) * | 1999-09-06 | 2001-03-23 | Hitachi Ltd | 液晶基板の配向状態評価方法とその装置、並びに液晶基板製造モニタリング装置および液晶基板 |
JP2001202518A (ja) * | 2000-01-21 | 2001-07-27 | Nikon Corp | 外観検査装置および画像処理装置 |
JP2003271927A (ja) * | 2002-03-18 | 2003-09-26 | Hitachi High-Technologies Corp | 欠陥検査方法 |
JP2005114500A (ja) * | 2003-10-07 | 2005-04-28 | Dainippon Printing Co Ltd | 光学特性の不均一性測定方法および装置ならびにこれを利用した製品良否判定装置 |
JP2006058235A (ja) * | 2004-08-23 | 2006-03-02 | Nikon Corp | 液晶検査装置 |
-
2006
- 2006-04-20 JP JP2006116693A patent/JP4872438B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1038753A (ja) * | 1996-07-26 | 1998-02-13 | Dainippon Printing Co Ltd | 透明膜の検査方法 |
JP2000113188A (ja) * | 1998-10-06 | 2000-04-21 | Toppan Printing Co Ltd | ムラ欠陥検査装置及び方法並びにムラ欠陥検査プログラムを記録した記録媒体 |
JP2001074600A (ja) * | 1999-09-06 | 2001-03-23 | Hitachi Ltd | 液晶基板の配向状態評価方法とその装置、並びに液晶基板製造モニタリング装置および液晶基板 |
JP2001202518A (ja) * | 2000-01-21 | 2001-07-27 | Nikon Corp | 外観検査装置および画像処理装置 |
JP2003271927A (ja) * | 2002-03-18 | 2003-09-26 | Hitachi High-Technologies Corp | 欠陥検査方法 |
JP2005114500A (ja) * | 2003-10-07 | 2005-04-28 | Dainippon Printing Co Ltd | 光学特性の不均一性測定方法および装置ならびにこれを利用した製品良否判定装置 |
JP2006058235A (ja) * | 2004-08-23 | 2006-03-02 | Nikon Corp | 液晶検査装置 |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009198340A (ja) * | 2008-02-22 | 2009-09-03 | Hitachi High-Technologies Corp | 電子顕微鏡システム及びそれを用いたレジストパターンの膜厚減少量評価方法 |
JP2009290210A (ja) * | 2008-05-30 | 2009-12-10 | Asml Netherlands Bv | 基板内の欠陥を判定する方法およびリソグラフィプロセスにおいて基板を露光するための装置 |
US8345231B2 (en) | 2008-05-30 | 2013-01-01 | Asml Netherlands B.V. | Method of determining defects in a substrate and apparatus for exposing a substrate in a lithographic process |
CN101847585A (zh) * | 2009-03-24 | 2010-09-29 | 日本麦可罗尼克斯股份有限公司 | 配线描绘装置和配线描绘方法 |
KR101253551B1 (ko) * | 2011-05-30 | 2013-04-11 | 주식회사 효성 | 필름의 횡방향 라인 결점 평가 방법 |
JP2013172046A (ja) * | 2012-02-22 | 2013-09-02 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP2013213676A (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-17 | Dainippon Printing Co Ltd | 画像処理装置、画像処理プログラム及び画像処理方法 |
JP2014011240A (ja) * | 2012-06-28 | 2014-01-20 | Sharp Corp | 結晶膜の検査方法及び検査装置 |
JP6031697B1 (ja) * | 2015-08-24 | 2016-11-24 | レーザーテック株式会社 | 検査装置、検査方法及び半導体装置の製造方法 |
CN110024085A (zh) * | 2017-01-06 | 2019-07-16 | 株式会社富士 | 镜面裸片图像识别*** |
CN110024085B (zh) * | 2017-01-06 | 2023-03-21 | 株式会社富士 | 镜面裸片图像识别*** |
WO2023189753A1 (ja) * | 2022-03-30 | 2023-10-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布処理方法、記憶媒体、及び塗布処理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4872438B2 (ja) | 2012-02-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4872438B2 (ja) | 検査装置、検査方法、及び検査処理プログラム | |
KR101849962B1 (ko) | 오버레이 계측 방법, 장치, 및 표시 장치 | |
CN108323179B (zh) | 检查***及检查方法 | |
JP2007172397A (ja) | エッジ勾配検出方法、シミ欠陥検出方法、エッジ勾配検出装置、シミ欠陥検出装置 | |
KR20130084617A (ko) | 솔더 검사를 위한 검사 기준 등록 방법 및 그 방법을 이용한 기판 검사 장치 | |
EP3764320B1 (en) | Substrate inspection method and system | |
TW201108125A (en) | Optical inspection optimization | |
JP2009036582A (ja) | 平面表示パネルの検査方法、検査装置及び検査プログラム | |
JP2006258713A (ja) | シミ欠陥検出方法及び装置 | |
WO2014208193A1 (ja) | ウエハ外観検査装置 | |
JP4513962B2 (ja) | 擬似欠陥画像作成方法及びこれを用いた装置 | |
JP2007155405A (ja) | 外観検査方法及び外観検査装置 | |
JP2006242759A (ja) | 周期性パターンのムラ検査方法 | |
JP6049052B2 (ja) | ウエハ外観検査装置及びウエハ外観検査装置における感度しきい値設定方法 | |
JP5326990B2 (ja) | 塗布状態検査装置及び方法並びにプログラム | |
JP2008070242A (ja) | ノイズ除去方法および装置、ムラ欠陥検査方法および装置 | |
JP5321939B2 (ja) | 画質検査装置および画質検査方法 | |
JP4678101B2 (ja) | 化合物半導体ウェーハの評価方法及び評価装置 | |
JP2005326323A (ja) | 画質検査装置 | |
JP5288154B2 (ja) | 画質検査装置 | |
JP2005140655A (ja) | シミ欠陥の検出方法及びその検出装置 | |
JP5163940B2 (ja) | 画質検査装置および画質検査方法 | |
JP2004219176A (ja) | 画素ムラ欠陥の検出方法及び装置 | |
JP3803677B2 (ja) | 欠陥分類装置及び欠陥分類方法 | |
JP6762614B2 (ja) | 基板検査装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090325 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090325 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110622 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110802 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111003 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111025 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111107 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141202 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |