JP2007281142A - 露光装置及び方法、並びに、デバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】EUV光を用いてマスク20を照明し、前記マスク20のパターンを投影光学系30を介して被処理体40に露光する露光装置1であって、前記投影光学系30を収納する第1の空間を形成する隔壁50と、前記第1の空間に第1のガスを供給する第1のガス供給手段60と、前記第1のガスを冷却する第1の冷却手段70とを有することを特徴とする露光装置1を提供する。
【選択図】図1
Description
一般的には、大気圧空間から真空中に導入された気体は断熱膨張により温度低下すると考えられるが、投影光学系空間に気体を供給すると、供給した気体の温度が上昇することがシミュレーションにより確認された。大気圧の状態から100Pa以下の投影光学系空間に気体を供給すると、オリフィスや絞りを用いたとしても、かなりの速度で気体が投影光学系空間に流入する。これにより、供給するガスの温度が上昇すると考えられる。
なお、本実施形態では、予め取得した上昇するガスの温度量に基づいて、投影光学系空間POSに供給するガスを冷却している。但し、投影光学系空間POSに供給されたガス(又は投影光学系空間POS)の温度を測定し、かかる測定結果をフィードバックさせながら、投影光学系空間POSに供給するガスを冷却してもよい。
ガス冷却手段130は、ガスの温度を0.01℃乃至10℃下げることができるため、ロードロック室100に供給するガスの温度を十分に冷却することができ、ロードロック室100に供給された際のガスの温度は、略基準温度となる。このように、大気開放時のロードロック室100の温度は略基準温度となるため、ロードロック室100において被処理体40が基準温度で安定するまで待つ時間が短くなり、スループットの低下を防止することができる。
10 照明装置
20 マスク
25 マスクステージ
30 投影光学系
40 被処理体
45 ウェハステージ
50 隔壁
60 ガス供給手段
62 供給配管
64 断熱部材
70 ガス冷却手段
80 制御部
1A 露光装置
100 ロードロック室
102及び104 ゲート弁
120 ガス供給手段
122 供給配管
130 ガス冷却手段
POS 投影光学系空間
STS ステージ空間
VC 真空チャンバー
Claims (10)
- EUV光を用いてマスクを照明し、前記マスクのパターンを投影光学系を介して被処理体に露光する露光装置であって、
前記投影光学系を収納する第1の空間を形成する隔壁と、
前記第1の空間に第1のガスを供給する第1のガス供給手段と、
前記第1のガスを冷却する第1の冷却手段とを有することを特徴とする露光装置。 - 前記第1の空間と前記第1のガス供給手段とを接続する第1の供給配管と、
前記第1の空間の維持される基準温度及び前記第1の供給配管の配管径と前記第一のガス供給手段のガス供給量に基づいて、前記第1のガスの温度を制御する制御部とを更に有することを特徴とする請求項1記載の露光装置。 - 前記基準温度をT0[℃]、前記第1のガスの温度をTg[℃]とすると、
前記制御部は、T0−0.01[℃]≦Tg≦T0−10℃を満足するように、前記ガスの温度を制御することを特徴とする請求項2記載の露光装置。 - 前記隔壁は、前記第1の空間と、前記マスク及び前記被処理体が収納された第2の空間とを隔離し、
前記第1の空間の圧力は、前記第2の空間の圧力よりも高いことを特徴とする請求項1記載の露光装置。 - 前記被処理体を搬送するためのロードロック室と、
前記ロードロック室に第2のガスを供給する第2のガス供給手段と、
前記第2のガスを冷却する第2の冷却手段とを更に有することを特徴とする請求項1記載の露光装置。 - EUV光を用いてマスクを照明し、前記マスクのパターンを投影光学系を介して被処理体に露光する露光装置であって、
前記被処理体を搬送するためのロードロック室と、
前記ロードロック室にガスを供給するガス供給手段と、
前記ガスを冷却する冷却手段とを有することを特徴とする露光装置。 - 前記ロードロック室と前記ガス供給手段とを接続する供給配管と、
前記ロードロック室の維持される基準温度及び前記供給配管の配管径と前記第一のガス供給手段のガス供給量に基づいて、前記ガスの温度を制御する制御部とを更に有することを特徴とする請求項6記載の露光装置。 - EUV光を用いてマスクを照明し、前記マスクのパターンを投影光学系を介して被処理体に露光する露光方法であって、
前記投影光学系が収納された空間にガスを供給するステップを有し、
前記供給ステップは、前記空間に前記ガスを供給した際に上昇する前記ガスの温度量を取得するステップと、
前記取得ステップで取得した温度量に基づいて、前記空間に供給する前記ガスの温度を冷却するステップとを有することを特徴とする露光方法。 - 前記取得ステップは、前記空間の維持される基準温度及び前記空間と前記空間にガスを供給するガス供給手段とを接続する供給配管の配管径と前記第一のガス供給手段のガス供給量に基づいて、前記温度量を算出することを特徴とする請求項8記載の露光方法。
- 請求項1乃至7のうちいずれか一項記載の露光装置を用いて被処理体を露光するステップと、
露光された前記被処理体を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
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