JP2007279676A - 近赤外線吸収性組成物及び近赤外線吸収材 - Google Patents
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Abstract
【課題】近赤外線吸収色素を用いて、プラズマディスプレイ等の電子機器における近赤外線吸収層に要求される近赤外線吸収領域をすべて遮蔽できるとともに、近赤外線吸収色素の劣化を充分に抑制でき、耐久性や、可視光線波長領域の透過性に優れた近赤外線吸収層を形成し得る近赤外線吸収性組成物、及び、該組成物によって構成される近赤外線吸収材、並びに、このような近赤外線吸収材を用いた光学フィルターを提供する。
【解決手段】近赤外線吸収色素を含む近赤外線吸収性組成物であって、上記近赤外線吸収性組成物は、近赤外線吸収色素の吸収波長領域を拡張する化合物を含む近赤外線吸収性組成物である。
【選択図】なし
【解決手段】近赤外線吸収色素を含む近赤外線吸収性組成物であって、上記近赤外線吸収性組成物は、近赤外線吸収色素の吸収波長領域を拡張する化合物を含む近赤外線吸収性組成物である。
【選択図】なし
Description
本発明は、近赤外線吸収性組成物及び近赤外線吸収材に関する。より詳しくは、薄型ディスプレイ等の電子機器における近赤外線吸収層を形成することができる近赤外線吸収性組成物及びこれにより構成される近赤外線吸収材に関する。
近赤外線吸収性組成物は、熱線である近赤外線を吸収する性質を有するフィルムやコーティング膜を形成することができるものである。このようなフィルムやコーティング膜は、近年注目されている大型の薄型テレビ、薄型ディスプレイ等に広く用いられており、重要な機能を有している。すなわちプラズマディスプレイ等においては、画面から近赤外線が放射されることから、これが近赤外線を利用するリモコン機器等の周辺の電子機器に作用して誤作動を起こす原因となる。プラズマディスプレイは、多くの層状の材料により形成されているが、近赤外線を吸収し、可視光線を透過する近赤外線吸収層を近赤外線吸収性組成物により形成することにより、画面から放射される近赤外線が遮断されることになる。
このような近赤外線吸収性組成物には、近赤外線吸収色素が含まれている。従来より、近赤外吸収色素としては、シアニン系、ポリメチン系、スクアリリウム系、ポルフィリン系、ジチオール金属錯体系、フタロシアニン系、ジイモニウム系等の色素が用いられている。特に、ジイモイウム系色素は波長900nm以上の近赤外線の吸収能が高く、これは他の色素には見られない特徴であり、また、可視光線波長領域での透明性が高いことから広く用いられている。
しかしながら、ジイモニウム色素は、耐久性に劣ることが知られている。すなわち、プラズマディスプレイ等の電子機器等の用途においては、ジイモニウム系色素は、モジュールの前に設置されることから、熱、水分、光等の影響を受けやすく、変質してしまい、ジイモニウム系色素自身の近赤外線吸収能が低下する、黄色に着色する等の問題が生じることが知られている。このようなジイモニウム系色素の劣化は、ディスプレイとして使用する場合は、重大な問題となりうる。
これに対しては、ジイモニウム系色素の耐久性を向上し、近赤外線吸収性能を持続させるための技術が検討されてきた。このような技術としては、ジイモニウムカチオンに、シアノ置換アルキル基を有するアミノ基を置換基として導入したジイモニウム塩化合物が挙げられる(例えば、特許文献1参照。)。また、特定の化学構造式で示される少なくとも一種の化合物(ジイモニウム塩)を含有する近赤外線吸収フィルタが開示されている(例えば、特許文献2参照。)。これらは、ジイモニウム系色素が劣化することを抑制し、優れた耐熱性を発揮することができるようにしたものであるが、その耐久性向上の効果は、充分なものではなかった。
ところで、近赤外線吸収色素として、少なくともジイモニウム化合物、含フッ素フタロシアニン系化合物及びニッケル錯体系化合物のいずれか2種類以上の色素を含有し、更に、酸化防止剤としてヒンダードフェノール系一次酸化防止剤及び燐系2次酸化防止剤を含有するポリマー組成物を基材上に積層してなる赤外線吸収フィルタが開示されている(例えば、特許文献3参照。)。これは、少なくとも2種類以上の近赤外線吸収色素が混合されていることで近赤外線領域に広く吸収があり、可視光線領域でも高い透過率を有し、熱的に安定な近赤外線吸収フィルタを提供するものである。また、特許文献4には、特定の構造を有するジイモニウム塩を含む近赤外線吸収色素が開示されている。これには、従来のジイモニウム色素よりも近赤外線の短波長側を吸収することができるため、別種の近赤外線吸収色素を加える必要がない旨が記載されている。しかしながら、これのみでは、近赤外線吸収波長領域の800nm付近の吸収が充分ではなく、別の近赤外線吸収色素を複数添加することが必要であった。このように、近赤外線吸収色素の劣化を抑制して、プラズマディスプレイ等の電子機器における近赤外線吸収層に好適に適用することができ、他に添加する近赤外線吸収色素の種類や添加量を低減し、より安価に近赤外線吸収領域の遮蔽性能を持続するためには、未だ工夫の余地があった。
特開2000−80071号公報(第1−2頁)
特開2003−96040号公報(第1−2頁)
特開平11−231126号公報(第1−2頁)
特開2005−325292号公報(第1−2頁)
本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、近赤外線吸収色素を用いて、プラズマディスプレイ等の電子機器における近赤外線吸収層に要求される近赤外線吸収領域をすべて遮蔽できるとともに、近赤外線吸収色素の劣化を充分に抑制でき、耐久性や、可視光線波長領域の透過性に優れた近赤外線吸収層を形成し得る近赤外線吸収性組成物、及び、該組成物によって構成される近赤外線吸収材、並びに、このような近赤外線吸収材を用いた光学フィルターを提供することを目的とするものである。
本発明者等は、近赤外線吸収色素を含んでなり、プラズマディスプレイ等の電子機器等における近赤外線吸収層に適用することができる近赤外線吸収性組成物について種々検討したところ、プラズマディスプレイ等の電子機器からの熱や、近赤外線吸収性組成物中に含有される水分等が、近赤外線吸収層に含まれる近赤外線吸収色素を劣化させ、この近赤外線吸収色素の劣化により近赤外線の吸収能の低下や色素の着色等が生じること、及び、近赤外線の吸収能を防止するため複数の近赤外線吸収色素を用いると、経済上好ましいとはいえないことに着目した。そこで、このような問題を解決するために、近赤外線吸収色素に様々な化合物を加えた近赤外線吸収性組成物を調製し、近赤外線吸収色素の吸収能や該色素の耐久性、可視光線波長領域の透過率について検討したところ、特定の化合物と近赤外線吸収色素とを含む近赤外線吸収性組成物とすると、従来の近赤外線吸収色素よりも大幅に吸収領域が広いため、添加する他の近赤外線吸収色素の種類を減らすことができ、又は、近赤外線吸収色素の添加量を減らすことができることを見いだした。しかも、このような近赤外線吸収性組成物が耐久性等に優れることを見いだし、更に、この近赤外線吸収性組成物が、可視光線波長領域において高い透過率を有することも見いだした。すなわち、特定の化合物を含有することにより、近赤外線吸収性組成物中の近赤外線吸収色素の吸収波長領域を極めて拡張することができ、高い耐久性と可視光線領域での高い透過率とを両立することができることから、プラズマディスプレイ等の電子機器等における近赤外線吸収層に好適に適用することが可能であることを見いだし、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達したものである。
すなわち本発明は、近赤外線吸収色素を含む近赤外線吸収性組成物であって、上記近赤外線吸収性組成物は、近赤外線吸収色素の吸収波長領域を拡張する化合物を含む近赤外線吸収性組成物である。
本発明はまた、近赤外線吸収色素と有機カチオンを有する塩とを含んで構成される近赤外線吸収材組成物でもある。
以下に本発明を詳述する。
本発明はまた、近赤外線吸収色素と有機カチオンを有する塩とを含んで構成される近赤外線吸収材組成物でもある。
以下に本発明を詳述する。
本発明の近赤外線吸収性組成物は、近赤外線吸収色素と、近赤外線吸収色素の吸収波長領域を拡張する化合物又は有機カチオンを有する塩とを含んでなるものである。なお、これらの構成成分は、それぞれ、単独で使用されてもよいし、2種以上の混合物の形態で使用されてもよい。
上記近赤外線吸収性組成物において、上記近赤外線吸収色素の吸収波長領域を拡張する化合物(本明細書中、「吸収波長領域拡張化合物」又は「拡張化合物」ともいう。)は、近赤外線吸収色素の吸収波長領域を5%以上拡張する化合物であることが好ましい。吸収波長領域を5%以上拡張することにより、近赤外線吸収色素の添加量を削減することができ、また、複数の色素を用いることなく単独の色素で近赤外線吸収層を形成することができる。吸収波長領域を5%未満しか拡張できなければ、添加する色素の種類を減らすことができなかったり、色素の添加量を充分に削減することができず、コストダウンメリットが少ない。より好ましくは8%以上であり、更に好ましくは10%以上である。この場合は、近赤外線吸収色素の添加量を削減できたり、また、複数の色素を用いることなく単独の色素で形成された近赤外線吸収性組成物をプラズマディスプレイ等の電子機器の近赤外線吸収層とすることができるため、簡便で確実に近赤外線吸収層を形成することができる。
上記吸収波長領域の拡張割合(%)は、以下のように計算することが好ましい。
拡張割合(%)=(拡張化合物を添加した系の透過率35%以下の近赤外線の吸収波長領域−拡張化合物を添加しない系の透過率35%以下の近赤外線の吸収波長領域)/(拡張化合物を添加しない系の透過率35%以下の近赤外線の吸収波長領域)×100
拡張割合(%)=(拡張化合物を添加した系の透過率35%以下の近赤外線の吸収波長領域−拡張化合物を添加しない系の透過率35%以下の近赤外線の吸収波長領域)/(拡張化合物を添加しない系の透過率35%以下の近赤外線の吸収波長領域)×100
上記吸収波長領域拡張化合物としては、近赤外線吸収色素の吸収波長領域を拡張することができる物質であれば特に限定されないが、有機カチオンを有する塩であることが好ましい。中でも、このような有機カチオンが、電子吸引性基を有するものであることがより好適である。これらの場合、従来の近赤外線吸収色素よりも大幅に吸収領域を拡張する効果を有するため、添加する他の近赤外線吸収色素の種類を減らすことができ、また、近赤外線吸収色素の添加量を減らすことができる。なお、有機カチオンを有する塩については、後述するとおりである。
上記拡張化合物はまた、イオン性化合物であることが好ましい。イオン性化合物を構成するアニオンとしては特に限定されないが、例えば、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、過塩素酸イオン、硝酸イオン、ベンズスルホン酸イオン、P−トルエンスルホン酸イオン、メチル硫酸イオン、エチル硫酸イオン、プロピル硫酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、テトラフェニルホウ酸イオン、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸イオン、ビス(トリフルオロメタンスルホン)イミドイオン、ビス(ペンタフルオロエタンスルホン)イミドイオン、ペンタフルオロエタンスルホントリフルオロメタンスルホンイミドイオン、トリフルオロメタンスルホンヘブタフルオロプロパンスルホンイミドイオン、ノナフルオロブタンスルホントリフルオロメタンスルホンイミドイオン、1,3ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミドイオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ベンゼンスルフィン酸イオン、酢酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン、プロピオン酢酸イオン、安息香酸イオン、シュウ酸イオン、コハク酸イオン、マロン酸イオン、オレイン酸イオン、ステアリン酸イオン、クエン酸イオン、一水素二リン酸イオン、二水素一リン酸イオン、ペンタクロロスズ酸イオン、クロロスルホン酸イオン、フルオロスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、ヘキサフルオロヒ酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、モリブデン酸イオン、タングステン酸イオン、チタン酸イオン、ジルコン酸イオン、硫酸イオン、バナジン酸イオン、ホウ酸イオン等の1種又は2種以上が使用できる。好ましくは、ホウ酸イオンである。このように、上記吸収波長領域拡張化合物がホウ酸イオンを有する塩である形態もまた、本発明の好ましい形態の一つである。
上記ホウ酸イオンは、下記式(1);
〔BR1 mR2 4−m〕− (1)
(式中、R1は電子吸引性基を有するアリール基を表す。R2は有機基、ハロゲン基、又は、水酸基を表す。mは1〜4の整数を表す。)で表されるものであることが好ましい。
〔BR1 mR2 4−m〕− (1)
(式中、R1は電子吸引性基を有するアリール基を表す。R2は有機基、ハロゲン基、又は、水酸基を表す。mは1〜4の整数を表す。)で表されるものであることが好ましい。
上記ホウ酸イオンは、電子吸引性基を有するアリール基をホウ素原子に結合させることで、近赤外線吸収色素の耐久性を向上させることができる。
上記一般式(1)中のR1は、電子吸引性基を有するアリール基であれば、特に限定されるものではないが、炭素数6〜12のアリール基に電子吸引性基が結合したものであることが好ましく、例えば、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基に電子吸引性基が結合したもの等が挙げられる。より好ましくは、フェニル基に電子吸引性基が結合したもの(すなわち、R1が、電子吸引性基を有するフェニル基であること)である。好ましくは、R1は、ペンタフルオロフェニル基(−C6F5)、−C6HF4、−C6H2F3、−C6H3F2、−C6H4F、−C6F4CF3、−C6F3(CF3)2、−C6F2(CF3)3、−C6F(CF3)4、−C6(CF3)5等であり、ペンタフルオロフェニル基であることがより好ましい。
上記一般式(1)中のR1は、電子吸引性基を有するアリール基であれば、特に限定されるものではないが、炭素数6〜12のアリール基に電子吸引性基が結合したものであることが好ましく、例えば、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基に電子吸引性基が結合したもの等が挙げられる。より好ましくは、フェニル基に電子吸引性基が結合したもの(すなわち、R1が、電子吸引性基を有するフェニル基であること)である。好ましくは、R1は、ペンタフルオロフェニル基(−C6F5)、−C6HF4、−C6H2F3、−C6H3F2、−C6H4F、−C6F4CF3、−C6F3(CF3)2、−C6F2(CF3)3、−C6F(CF3)4、−C6(CF3)5等であり、ペンタフルオロフェニル基であることがより好ましい。
上記一般式(1)中のR2で示される置換基は、有機基、ハロゲン原子又は水酸基であればよく、該有機基としては電子吸引性基を有していてもよい。
上記有機基としては、例えば、炭素数6〜12のアリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基)、置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基等が挙げられるが、特に限定されるものではない。具体的には、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、1−メチルブチル基、1−エチルプロピル基、1,2−ジメチルプロピル基、1,1−ジメチルプロピル基、ネオペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基等の直鎖、分岐鎖、脂環式のアルキル基等が挙げられる。有機基がアルキル基である場合には、電子吸引性基を有していることが好ましく、水素原子の全部、又は、一部がフッ素原子で置換されていることがより好ましい。具体的には、トリフルオロメチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、4,4,4−トリフルオロブチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロブチル基等が挙げられる。ハロゲン原子としては、例えば、−F、−Cl、−Br、−I等が挙げられるが、−Fが好ましい。
上記有機基としては、例えば、炭素数6〜12のアリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基)、置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基等が挙げられるが、特に限定されるものではない。具体的には、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、1−メチルブチル基、1−エチルプロピル基、1,2−ジメチルプロピル基、1,1−ジメチルプロピル基、ネオペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基等の直鎖、分岐鎖、脂環式のアルキル基等が挙げられる。有機基がアルキル基である場合には、電子吸引性基を有していることが好ましく、水素原子の全部、又は、一部がフッ素原子で置換されていることがより好ましい。具体的には、トリフルオロメチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、4,4,4−トリフルオロブチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロブチル基等が挙げられる。ハロゲン原子としては、例えば、−F、−Cl、−Br、−I等が挙げられるが、−Fが好ましい。
上記一般式(1)中のmは、1〜4であれば特に制限はないが、好ましくは4、すなわち、[B(R1)4]−で表される構造を有するものである。なお、本発明においてmが2以上の場合には複数のR1がホウ酸イオンに含まれるが、この場合に複数のR1は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
上記ホウ酸イオンとしては、例えば、[B(C6F5)4]−(テトラキスペンタフルオロフェニルホウ酸イオン)、[B(C6F4CF3)4]−、[B(C6F5)3(C6H5)]−、[B(C6F5)2(C6H5)2]−、[B(C6F5)(C6H5)3]−、[B(C6F5)3F]−、[B(C6F5)2F2]−、[B(C6F5)F3]−、[B(C6F5)3(CF3)]−、[B(C6F5)2(CF3)2]−、[B(C6F5)(CF3)3]−、[B(C6F5)3(C6F4CF3)]−、[B(C6F5)2(C6F4CF3)2]−、[B(C6F5)(C6F4CF3)3]−、[B(C6F4CF3)3F]−、[B(C6F4CF3)2F2]−、[B(C6F4CF3)F3]−、[B(C6F4CF3)3(CF3)]−、[B(C6F4CF3)2(CF3)2]−、[B(C6F4CF3)(CF3)3]−、[B(C6F5)3(C6H13)]−、[B(C6F5)2(C6H13)2]−、[B(C6F5)(C6H13)3]−、[B(C6H4CF3)4]−、及び[B(C6H3F2)4]−等が挙げられる。本発明では上記例示のホウ酸イオンのうち、下記一般式(2);
で表される[B(C6F5)4]−がより好ましい。なお、本発明において、上記ホウ酸イオンは、1種を単独で使用されてもよいし、2種以上の混合物の形態で使用されてもよい。
上記吸収波長領域拡張化合物の添加量は特に限定されるものではないが、例えば、上記近赤外線吸収性組成物が樹脂を含む形態においては、該樹脂の固形分100質量部に対して、0.01質量部以上とすることが好ましく、また、30質量部以下とすることが好ましい。0.01質量部未満であると、波長拡張効果が充分に発現しないため、色素の添加量の削減効果が薄く、30質量部を超えると、添加に見合う効果が得られず経済的でないうえ、逆に可視領域での透明性が損なわれる可能性がある。より好ましくは、0.05質量部以上であり、また、25質量部以下であり、更に好ましくは、0.1質量部以上であり、また、20質量部以下である。
上記近赤外線吸収性組成物において、有機カチオンを有する塩としては、例えば、以下の塩等を使用することができる。
n−ブチルアンモニウム、ジメチルアンモニウム、トリメチルアンモニウム、トリエチルアンモニウム、トリイソプロピルアンモニウム、トリ−n−ブチルアンモニウム、テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、テトラ−n−ブチルアンモニウム、N,N−ジメチルシクロヘキシルアンモニウム等のアンモニウム塩;N−メチルアニリニウム、N,N−ジメチルアニリニウム、N,N−ジメチル−4−メチルアニリニウム、N,N−ジエチルアニリニウム、N,N−ジフェニルアニリニウム、N,N,N−トリメチルアニリニウム等のアニリニウム塩;ピリジニウム、N−メチルピリジニウム、N−ブチルピリジニウム、N−メチル−4−メチル−ピリジニウム、N−ベンジルピリジニウム、3−メチル−N−ブチルピリジニウム、2−メチルピリジニウム、3−メチルピリジニウム、4−メチルピリジニウム、2,3−ジメチルピリジニウム、2,4−ジメチルピリジニウム、2,6−ジメチルピリジニウム、3,4−ジメチルピリジニウム、3,5−ジメチルピリジニウム、2,4,6−トリメチルピリジニウム、2−ヒドロキシピリジニウム、3−ヒドロキシピリジニウム、4−ヒドロキシピリジニウム、2,3−ジヒドロキシピリジニウム、2,4−ジヒドロキシピリジニウム、2−メチル−5−エチルピリジニウム、2−クロロ−3−シアノピリジニウム、4−カルボキサミドピリジニウム、4−カルボキシアルデヒドピリジニウム、2−フェニルピリジニウム、3−フェニルピリジニウム、4−フェニルピリジニウム、2,6−ジフェニルピリジニウム、4−ニトロピリジニウム、4−メトキシピリジニウム、4−ビニルピリジニウム、4−メルカプトピリジニウム、4−t−ブチルピリジニウム、2,6−ジt−ブチルピリジニウム、2−ベンジルピリジニウム、3−アセチルピリジニウム、4−エチルピリジニウム、2−カルボン酸ピリジニウム、4−カルボン酸ピリジニウム、2−ベンゾイルピリジニウム等のピリジニウム塩;イミダゾリウム、1−メチル−イミダゾリウム、1−エチル−3−メチルイミダゾリウム、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウム、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウム、1−ヘキシル−3−メチルイミダゾリウム、1−メチル−3−オクチルイミダゾリウム、1−メチル−N−ベンジルイミダゾリウム、1−メチル−3−(3−フェニルプロピル)イミダゾリウム、1−ブチル−2,3−ジメチルイミダゾリウム、1−エチル−2,3−ジメチルイミダゾリウム等のイミダゾリウム塩;1−エチル−1−メチル−ピロリジニウム、1−ブチル−1−メチル−ピロリジニウム等のピロリジニウム塩;キノリニウム、イソキノリニウム等のキノリニウム塩、トリフェニルカルベニウム、トリ−4−メトキシフェニルカルベニウム等のカルベニウム塩;ジメチルフェニルフォスフォニウム、トリフェニルフォスフォニウム、テトラエチルフォスフォニウム、テトラフェニルフォスフォニウム等のフォスフォニウム塩;トリメチルスルフォニウム、トリフェニルスルフォニウム、等のスルフォニウム塩;ジフェニルヨードニウム、ジ−4−メトキシフェニルヨードニウム等のヨードニウム塩等が使用できる。なお、本発明において、上記有機カチオンを有する塩は、単独で使用されてもあるいは2種以上の混合物の形態で使用されてもよい。また、上記塩が有する有機カチオンは、1種のものを単独で使用してもよいし、2種以上のものを使用してもよい。
n−ブチルアンモニウム、ジメチルアンモニウム、トリメチルアンモニウム、トリエチルアンモニウム、トリイソプロピルアンモニウム、トリ−n−ブチルアンモニウム、テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、テトラ−n−ブチルアンモニウム、N,N−ジメチルシクロヘキシルアンモニウム等のアンモニウム塩;N−メチルアニリニウム、N,N−ジメチルアニリニウム、N,N−ジメチル−4−メチルアニリニウム、N,N−ジエチルアニリニウム、N,N−ジフェニルアニリニウム、N,N,N−トリメチルアニリニウム等のアニリニウム塩;ピリジニウム、N−メチルピリジニウム、N−ブチルピリジニウム、N−メチル−4−メチル−ピリジニウム、N−ベンジルピリジニウム、3−メチル−N−ブチルピリジニウム、2−メチルピリジニウム、3−メチルピリジニウム、4−メチルピリジニウム、2,3−ジメチルピリジニウム、2,4−ジメチルピリジニウム、2,6−ジメチルピリジニウム、3,4−ジメチルピリジニウム、3,5−ジメチルピリジニウム、2,4,6−トリメチルピリジニウム、2−ヒドロキシピリジニウム、3−ヒドロキシピリジニウム、4−ヒドロキシピリジニウム、2,3−ジヒドロキシピリジニウム、2,4−ジヒドロキシピリジニウム、2−メチル−5−エチルピリジニウム、2−クロロ−3−シアノピリジニウム、4−カルボキサミドピリジニウム、4−カルボキシアルデヒドピリジニウム、2−フェニルピリジニウム、3−フェニルピリジニウム、4−フェニルピリジニウム、2,6−ジフェニルピリジニウム、4−ニトロピリジニウム、4−メトキシピリジニウム、4−ビニルピリジニウム、4−メルカプトピリジニウム、4−t−ブチルピリジニウム、2,6−ジt−ブチルピリジニウム、2−ベンジルピリジニウム、3−アセチルピリジニウム、4−エチルピリジニウム、2−カルボン酸ピリジニウム、4−カルボン酸ピリジニウム、2−ベンゾイルピリジニウム等のピリジニウム塩;イミダゾリウム、1−メチル−イミダゾリウム、1−エチル−3−メチルイミダゾリウム、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウム、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウム、1−ヘキシル−3−メチルイミダゾリウム、1−メチル−3−オクチルイミダゾリウム、1−メチル−N−ベンジルイミダゾリウム、1−メチル−3−(3−フェニルプロピル)イミダゾリウム、1−ブチル−2,3−ジメチルイミダゾリウム、1−エチル−2,3−ジメチルイミダゾリウム等のイミダゾリウム塩;1−エチル−1−メチル−ピロリジニウム、1−ブチル−1−メチル−ピロリジニウム等のピロリジニウム塩;キノリニウム、イソキノリニウム等のキノリニウム塩、トリフェニルカルベニウム、トリ−4−メトキシフェニルカルベニウム等のカルベニウム塩;ジメチルフェニルフォスフォニウム、トリフェニルフォスフォニウム、テトラエチルフォスフォニウム、テトラフェニルフォスフォニウム等のフォスフォニウム塩;トリメチルスルフォニウム、トリフェニルスルフォニウム、等のスルフォニウム塩;ジフェニルヨードニウム、ジ−4−メトキシフェニルヨードニウム等のヨードニウム塩等が使用できる。なお、本発明において、上記有機カチオンを有する塩は、単独で使用されてもあるいは2種以上の混合物の形態で使用されてもよい。また、上記塩が有する有機カチオンは、1種のものを単独で使用してもよいし、2種以上のものを使用してもよい。
これらの中でも、上記有機カチオンを有する塩としては、有機アンモニウム塩、フェニル基を含有する塩、窒素を含有する塩、具体的には有機アンモニウム、ピリジニウム、アニリニウム、イミダゾリウム、キノリニウム及びカルベニウムからなる群より選択されるカチオンであることが好ましい。すなわち、上記有機カチオンは、有機アンモニウム、ピリジニウム、アニリニウム、イミダソリウム、キノリニウム、ピロリジニウム及びカルベニウムからなる群より選択されるカチオンであることが好ましい。特に好ましくは、N,N−ジメチルアニリニウム塩、N,N−ジメチル−4−メチルアニリニウム塩、トリフェニルカルベニウム塩である。
上記有機カチオンとしてはまた、電子吸引性基を有するものであることが好ましい。電子吸引性基としては特に限定されるものではないが、具体的には、−CpF2p+1(pは自然数)、−NO2、−CN、−F、−Cl及び−Brからなる群より選ばれる少なくとも一種の置換基であることがより好ましく、−CF3、−C2F5及び−Fからなる群より選ばれる少なくとも一種の置換基であることが更に好ましく、−Fであることが特に好ましい。
上記電子吸引性基を有する有機カチオンを有する塩としては、特に限定されないが、例えば、2−フルオロピリジニウム、3−フルオロピリジニウム、4−フルオロピリジニウム、2,6−ジフルオロピリジニウム、2,3,4,5,6―ペンタフルオロピリジニウム、2−クロロピリジニウム、3−クロロピリジニウム、4―クロロピリジニウム、2,3−ジクロロピリジニウム、2,5−ジクロロピリジニウム、2,6−ジクロロピリジニウム、3,5−ジクロロピリジニウム、3,5−ジクロロ−2,4,6−トリフルオロピリジニウム、2−ブロモピリジニウム、3−ブロモピリジニウム、4−ブロモピリジニウム、2,5−ジブロモピリジニウム、2,6−ジブロモピリジニウム、3,5−ジブロモピリジニウム、2−シアノピリジニウム、3−シアノピリジニウム、4−シアノピリジニウム、等が使用できる。好ましくは、2−クロロピリジニウム、2−フルオロピリジニウム塩、4−シアノピリジニウム塩等が挙げられる。
なお、本発明の近赤外線吸収性組成物が上記近赤外線吸収色素と上記有機カチオンを有する塩とを含んで構成されるものである場合には、プラズマディスプレイ等の電子機器における近赤外線吸収層に要求される近赤外線吸収領域をすべて遮蔽することができ、また、近赤外線吸収色素の劣化を抑制することにより、耐久性が優れ、しかも可視光線波長領域の透過率が高い近赤外線吸収層を形成することができることとなる。
上記近赤外線吸収性組成物において、近赤外線吸収色素としては、780〜1200nmに極大吸収波長を有する色素であることが好ましく、該近赤外線吸収色素の吸収波長領域は、波長が800〜1150nmであることがより好適である。この波長領域は、プラズマディスプレイ等において、プラズマ放電の際に発生する近赤外線領域と重複するため、この範囲内の波長を吸収する近赤外線吸収色素を用いると、プラズマディスプレイ等からの近赤外線を吸収することができ、家電用のリモコンの誤作動を誘発することを防止することができる。更に好ましくは、800〜1000nmである。
上記近赤外線吸収色素としてはまた、有機溶剤への溶解性を有する色素、すなわち有機溶剤可溶性の近赤外線吸収色素を用いることが好ましい。色素が有機溶剤に可溶であると、バインダー樹脂等の樹脂中へ容易に溶解することができるため、プラズマディスプレイ等の電子機器の近赤外線吸収層として近赤外線吸収性組成物を用いた場合に、該近赤外線吸収性組成物の作製が容易になる。一方、色素が溶解性に乏しいと樹脂への混合が難しくなるため、近赤外線吸収性組成物の作製も困難となる。本発明では、有機溶剤に対する溶解度として、有機溶剤を100質量%とした溶解度が0.01質量%以上である近赤外線吸収色素を用いることが好適である。有機溶剤可溶性における有機溶剤としては特に限定されず、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒;iso−プロピルアルコール、n−ブチルアルコール、プロピレングリコールメチルエーテル等のアルコール系溶媒;酢酸ブチル、酢酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒;ジメチルホルムアミド等の1種又は2種以上が挙げられる。
上記近赤外線吸収色素の種類としては、例えば、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、ニトロソ色素及びその金属錯塩、シアニン系色素、スクワリリウム系色素、チオールニッケル錯塩系色素、アミノチオールニッケル錯塩系色素、トリアリールメタン系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、アミノ色素等の有機物質;無機物質であるカーボンブラックや、酸化アンチモン又は酸化インジウムをドーブした酸化錫;周期表の4族、5族又は6族に属する金属の酸化物、炭化物又はホウ化物;イモニウム系色素;ジイモニウム系色素;アミニウム塩系色素等が挙げられる。これらの中でも、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、ジイモニウム系色素、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、及び、金属チオール系色素からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。より好ましくは、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、ジイモニウム系色素、又は、シアニン系色素である。フタロシアニン系色素は、耐久性に優れるものであり、ジイモニウム系色素及びシアニン系色素は、可視光線波長領域の透明性に優れている。
上記フタロシアニン系色素又はナフタロシアニン系色素としては、近赤外線吸収能に優れるものであれば特に制限されず、公知のフタロシアニン系化合物又はナフタロシアニン系化合物が使用できるが、下記一般式(3);
で表されるフタロシアニン系化合物、又は、下記式(4);
で表されるナフタロシアニン系化合物が好適に使用される。
上記一般式(3)において、A1〜A16は、官能基を表し、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ヒドロキシスルホニル基、カルボン酸基、チオール基、置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアルキル基、置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアルコキシ基、置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリール基、置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリールオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアラルキル基、置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアラルキルオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアルキルチオ基、置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリールチオ基、置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアラルキルチオ基、置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアルキルスルホニル基、置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリールスルホニル基、置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアラルキルスルホニル基、置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアシル基、置換されていてもよい炭素原子数2〜20個のアルコキシカルボニル基、置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリールオキシカルボニル基、置換されていてもよい炭素原子数2〜20個のアラルキルオキシカルボニル基、置換されていてもよい炭素原子数2〜20個のアルキルカルボニルオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリールカルボニルオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数8〜20個のアラルキルカルボニルオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数2〜20個の複素環基、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいアミノスルホニル基、置換されていてもよいアミノカルボニル基を表す。A1〜A16の官能基は、同種若しくは異種のいずれであってもよく、同種の場合においても同一若しくは異なっていてもよく、官能基同士が連結基を介して繋がっていてもよい。M1は、2個の水素原子、2価の金属原子、3価又は4価の置換金属原子又はオキシ金属を表す。
なお、本明細書において、「アシル基」とは、日刊工業新聞社発行の第三版科学技術用語大辞典の17頁に記載される定義と同様であり、具体的には、有機酸からヒドロキシル基が除去された基であり、式:RCO−(Rは、脂肪基、脂環基又は芳香族基である)で表される基である。
なお、本明細書において、「アシル基」とは、日刊工業新聞社発行の第三版科学技術用語大辞典の17頁に記載される定義と同様であり、具体的には、有機酸からヒドロキシル基が除去された基であり、式:RCO−(Rは、脂肪基、脂環基又は芳香族基である)で表される基である。
(末端がアミノ基以外の官能基の場合)
上記一般式(3)において、官能基A1〜A16としてのハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、等の直鎖、分岐又は環状のアルキル基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロピルオキシ基、iso−プロピルオキシ基、n−ブチルオキシ基、iso−ブチルオキシ基、sec−ブチルオキシ基、t−ブチルオキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、等の直鎖、分岐又は環状のアルコキシ基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
上記一般式(3)において、官能基A1〜A16としてのハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、等の直鎖、分岐又は環状のアルキル基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロピルオキシ基、iso−プロピルオキシ基、n−ブチルオキシ基、iso−ブチルオキシ基、sec−ブチルオキシ基、t−ブチルオキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、等の直鎖、分岐又は環状のアルコキシ基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリールオキシ基としては、フェノキシ基、ナフトキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、ジフェニルメチル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアラルキルオキシ基としては、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、ジフェニルメチルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、n−プロピルチオ基、iso−プロピルチオ基、n−ブチルチオ基、iso−ブチルチオ基、sec−ブチルチオ基、t−ブチルチオ基、n−ペンチルチオ基、n−ヘキシルチオ基、シクロヘキシルチオ基、n−ヘプチルチオ基、n−オクチルチオ基、2−エチルヘキシルチオ基等の直鎖、分岐又は環状のアルキルチオ基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリールチオ基としては、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアラルキルチオ基としては、ベンジルチオ基、フェネチルチオ基、ジフェニルメチルチオ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、ジフェニルメチル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアラルキルオキシ基としては、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、ジフェニルメチルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、n−プロピルチオ基、iso−プロピルチオ基、n−ブチルチオ基、iso−ブチルチオ基、sec−ブチルチオ基、t−ブチルチオ基、n−ペンチルチオ基、n−ヘキシルチオ基、シクロヘキシルチオ基、n−ヘプチルチオ基、n−オクチルチオ基、2−エチルヘキシルチオ基等の直鎖、分岐又は環状のアルキルチオ基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリールチオ基としては、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアラルキルチオ基としては、ベンジルチオ基、フェネチルチオ基、ジフェニルメチルチオ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアルキルスルホニル基としては、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、n−プロピルスルホニル基、iso−プロピルスルホニル基、n−ブチルスルホニル基、iso−ブチルスルホニル基、sec−ブチルスルホニル基、t−ブチルスルホニル基、n−ペンチルスルホニル基、n−ヘキシルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、n−ヘプチルスルホニル基、n−オクチルスルホニル基、2−エチルヘキシルスルホニル基、等の直鎖、分岐又は環状のアルキルスルホニル基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリールスルホニル基としては、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよいアラルキルスルホニル基としては、ベンジルスルホニル基、フェネチルスルホニル基、ジフェニルメチルスルホニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリールスルホニル基としては、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよいアラルキルスルホニル基としては、ベンジルスルホニル基、フェネチルスルホニル基、ジフェニルメチルスルホニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアシル基としては、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、n−プロピルカルボニル基、iso−プロピルカルボニル基、n−ブチルカルボニル基、iso−ブチルカルボニル基、sec−ブチルカルボニル基、t−ブチルカルボニル基、n−ペンチルカルボニル基、n−ヘキシルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、n−ヘプチルカルボニル基、n−オクチルカルボニル基、2−エチルヘキシルカルボニル基等の直鎖、分岐又は環状のアルキルカルボニル基、ベンジルカルボニル基、フェニルカルボニル基等のアリールカルボニル基、ベンゾイル基等のアラルキルカルボニル基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数2〜20個のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロピルオキシカルボニル基、iso−プロピルオキシカルボニル基、n−ブチルオキシカルボニル基、iso−ブチルオキシカルボニル基、sec−ブチルオキシカルボニル基、t−ブチルオキシカルボニル基、n−ペンチルオキシカルボニル基、n−ヘキシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、n−ヘプチルオキシカルボニル基、n−オクチルオキシカルボニル基、2−エチルヘキシルオキシカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアリールオキシカルボニル基としては、フェノキシカルボニル、ナフチルカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数8〜20個のアラルキルオキシカルボニル基としては、ベンジルオキシカルボニル基、フェネチルオキシカルボニル基、ジフェニルメチルオキシカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数2〜20個のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロピルオキシカルボニル基、iso−プロピルオキシカルボニル基、n−ブチルオキシカルボニル基、iso−ブチルオキシカルボニル基、sec−ブチルオキシカルボニル基、t−ブチルオキシカルボニル基、n−ペンチルオキシカルボニル基、n−ヘキシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、n−ヘプチルオキシカルボニル基、n−オクチルオキシカルボニル基、2−エチルヘキシルオキシカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアリールオキシカルボニル基としては、フェノキシカルボニル、ナフチルカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数8〜20個のアラルキルオキシカルボニル基としては、ベンジルオキシカルボニル基、フェネチルオキシカルボニル基、ジフェニルメチルオキシカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数2〜20個のアルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、n−プロピルカルボニルオキシ基、iso−プロピルカルボニルオキシ基、n−ブチルカルボニルオキシ基、iso−ブチルカルボニルオキシ基、sec−ブチルカルボニルオキシ基、t−ブチルカルボニルオキシ基、n−ペンチルカルボニルオキシ基、n−ヘキシルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、n−ヘプチルカルボニルオキシ基、3−ヘプチルカルボニルオキシ基、n−オクチルカルボニルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアリールカルボニルオキシ基としては、ベンゾイルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数8〜20個のアラルキルカルボニルオキシ基としては、ベンジルカルボニルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数2〜20個の複素環基としては、ピロール基、イミダゾール基、ピペリジン基、モルホリン基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアリールカルボニルオキシ基としては、ベンゾイルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数8〜20個のアラルキルカルボニルオキシ基としては、ベンジルカルボニルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数2〜20個の複素環基としては、ピロール基、イミダゾール基、ピペリジン基、モルホリン基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
また上記一般式(3)において、官能基A1〜A16のアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アラルキル基、アラルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アラルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アラルキルスルホニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、アラルキルカルボニルオキシ基、複素環基に場合によっては存在する置換基として、例えば、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、フェニル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシスルホニル基、アルキルチオ基、カルバモイル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、複素環基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの置換基は複数個存在していてもよく、複数個存在する場合には同種若しくは異種のいずれであってもよく、同種の場合においても同一若しくは異なっていてもよい。また、置換基同士が連結基を介して繋がっていてもよい。
(末端がアミノ基である官能基の場合)
上記一般式(3)において、官能基A1〜A16の置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいアミノスルホニル基、置換されていてもよいアミノカルボニル基への置換基としては、水素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、2−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基、等の直鎖、分岐又は環状のアルキル基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基、アセチル基、エチルカルボニル基、n−プロピルカルボニル基、iso−プロピルカルボニル基、n−ブチルカルボニル基、iso−ブチルカルボニル基、sec−ブチルカルボニル基、t−ブチルカルボニル基、n−ペンチルカルボニル基、n−ヘキシルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、n−ヘプチルカルボニル基、3−ヘプチルカルボニル基、n−オクチルカルボニル基等の直鎖、分岐又は環状のアルキルカルボニル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基等のアリールカルボニル基、ベンジルカルボニル基等のアラルキルカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではなく、これらの置換基は更に置換基で置換されていてもよい。これらの置換基は0個、1個、2個存在していてもよく、2個存在する場合にはお互いが同種若しくは異種のいずれであってもよく、同種の場合においても同一若しくは異なっていてもよい。また、置換基が2個の場合は連結基を介して繋がっていてもよい。
上記一般式(3)において、官能基A1〜A16の置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいアミノスルホニル基、置換されていてもよいアミノカルボニル基への置換基としては、水素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、2−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基、等の直鎖、分岐又は環状のアルキル基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基、アセチル基、エチルカルボニル基、n−プロピルカルボニル基、iso−プロピルカルボニル基、n−ブチルカルボニル基、iso−ブチルカルボニル基、sec−ブチルカルボニル基、t−ブチルカルボニル基、n−ペンチルカルボニル基、n−ヘキシルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、n−ヘプチルカルボニル基、3−ヘプチルカルボニル基、n−オクチルカルボニル基等の直鎖、分岐又は環状のアルキルカルボニル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基等のアリールカルボニル基、ベンジルカルボニル基等のアラルキルカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではなく、これらの置換基は更に置換基で置換されていてもよい。これらの置換基は0個、1個、2個存在していてもよく、2個存在する場合にはお互いが同種若しくは異種のいずれであってもよく、同種の場合においても同一若しくは異なっていてもよい。また、置換基が2個の場合は連結基を介して繋がっていてもよい。
上記置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいアミノスルホニル基、置換されていてもよいアミノカルボニル基への置換基であるアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アラルキルカルボニル基等に更に存在してもよい置換基として、例えば、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、フェニル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシスルホニル基、アルキルチオ基、カルバモイル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、複素環基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの置換基は複数個存在していてもよく、複数個存在する場合には同種若しくは異種のいずれであってもよく、同種の場合においても同一若しくは異なっていてもよい。また、置換基同士が連結基を介して繋がっていてもよい。
上記金属M1として2価の金属の例としては、Cu(II)、Co(II)、Zn(II)、Fe(II)、Ni(II)、Ru(II)、Rh(II)、Pd(II)、Pt(II)、Mn(II)、Mg(II)、Ti(II)、Be(II)、Ca(II)、Ba(II)、Cd(II)、Hg(II)、Pb(II)、Sn(II)等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
3価の置換金属原子の例としては、Al−F、Al−Cl、Al−Br、Al−I、Fe−Cl、Ga−F、Ga−Cl、Ga−I、Ga−Br、In−F、In−Cl、In−Br、In−I、Tl−F、Tl−Cl、Tl−Br、Tl−I、Al−C6H5、Al−C6H4(CH3)、In−C6H5、In−C6H4(CH3)、In−C6H5、Mn(OH)、Mn(OC6H5)、Mn〔OSi(CH3)3〕、Ru−Cl等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
3価の置換金属原子の例としては、Al−F、Al−Cl、Al−Br、Al−I、Fe−Cl、Ga−F、Ga−Cl、Ga−I、Ga−Br、In−F、In−Cl、In−Br、In−I、Tl−F、Tl−Cl、Tl−Br、Tl−I、Al−C6H5、Al−C6H4(CH3)、In−C6H5、In−C6H4(CH3)、In−C6H5、Mn(OH)、Mn(OC6H5)、Mn〔OSi(CH3)3〕、Ru−Cl等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
4価の置換金属原子の例としては、CrCl2、SiF2、SiCl2、SiBr2、SiI2、ZrCl2、GeF2、GeCl2、GeBr2、GeI2、SnF2、SnCl2、SnBr2、TiF2、TiCl2、TiBr2、Ge(OH)2、Mn(OH)2、Si(OH)2、Sn(OH)2、Zr(OH)2、Cr(R1)2、Ge(R1)2、Si(R1)2、Sn(R1)2、Ti(R1)2{R1は、アルキル基、フェニル基、ナフチル基、及び、その誘導体を表す}Cr(OR2)2、Ge(OR2)2、Si(OR2)2、Sn(OR2)2、Ti(OR2)2、{R2は、アルキル基、フェニル基、ナフチル基、トリアルキルシリル基、ジアルキルアルコキシシリル基、及び、その誘導体を表す}、Sn(SR3)2、Ge(SR3)2{R3は、アルキル基、フェニル基、ナフチル基、及び、その誘導体を表す}等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
オキシ金属の例としては、VO、MnO、TiO等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
オキシ金属の例としては、VO、MnO、TiO等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
上記一般式(4)において、B1〜B24は官能基を表し、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ヒドロキシスルホニル基、カルボン酸基、チオール基、置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアルキル基、置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアルコキシ基、置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリール基、置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリールオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアラルキル基、置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアラルキルオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアルキルチオ基、置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリールチオ基、置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアラルキルチオ基、置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアルキルスルホニル基、置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリールスルホニル基、置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアラルキルスルホニル基、置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアシル基、置換されていてもよい炭素原子数2〜20個のアルコキシカルボニル基、置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリールオキシカルボニル基、置換されていてもよい炭素原子数2〜20個のアラルキルオキシカルボニル基、置換されていてもよい炭素原子数2〜20個のアルキルカルボニルオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリールカルボニルオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数8〜20個のアラルキルカルボニルオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数2〜20個の複素環基、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいアミノスルホニル基、置換されていてもよいアミノカルボニル基を表す。B1〜B24の官能基は同種若しくは異種のいずれであってもよく、同種の場合においても同一若しくは異なっていてもよく、官能基同士が連結基を介して繋がっていてもよい。M2は2個の水素原子、2価の金属原子、3価又は4価の置換金属原子又はオキシ金属を表す。
(末端がアミノ基以外の官能基の場合)
上記一般式(4)において、官能基B1〜B24は官能基としてのハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、等の直鎖、分岐又は環状のアルキル基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロピルオキシ基、iso−プロピルオキシ基、n−ブチルオキシ基、iso−ブチルオキシ基、sec−ブチルオキシ基、t−ブチルオキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、等の直鎖、分岐又は環状のアルコキシ基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリールオキシ基としては、フェノキシ基、ナフトキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
上記一般式(4)において、官能基B1〜B24は官能基としてのハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、等の直鎖、分岐又は環状のアルキル基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロピルオキシ基、iso−プロピルオキシ基、n−ブチルオキシ基、iso−ブチルオキシ基、sec−ブチルオキシ基、t−ブチルオキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、等の直鎖、分岐又は環状のアルコキシ基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリールオキシ基としては、フェノキシ基、ナフトキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、ジフェニルメチル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアラルキルオキシ基としては、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、ジフェニルメチルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、n−プロピルチオ基、iso−プロピルチオ基、n−ブチルチオ基、iso−ブチルチオ基、sec−ブチルチオ基、t−ブチルチオ基、n−ペンチルチオ基、n−ヘキシルチオ基、シクロヘキシルチオ基、n−ヘプチルチオ基、n−オクチルチオ基、2−エチルヘキシルチオ基等の直鎖、分岐又は環状のアルキルチオ基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリールチオ基としては、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアラルキルチオ基としては、ベンジルチオ基、フェネチルチオ基、ジフェニルメチルチオ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアラルキルオキシ基としては、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、ジフェニルメチルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、n−プロピルチオ基、iso−プロピルチオ基、n−ブチルチオ基、iso−ブチルチオ基、sec−ブチルチオ基、t−ブチルチオ基、n−ペンチルチオ基、n−ヘキシルチオ基、シクロヘキシルチオ基、n−ヘプチルチオ基、n−オクチルチオ基、2−エチルヘキシルチオ基等の直鎖、分岐又は環状のアルキルチオ基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリールチオ基としては、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアラルキルチオ基としては、ベンジルチオ基、フェネチルチオ基、ジフェニルメチルチオ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアルキルスルホニル基としては、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、n−プロピルスルホニル基、iso−プロピルスルホニル基、n−ブチルスルホニル基、iso−ブチルスルホニル基、sec−ブチルスルホニル基、t−ブチルスルホニル基、n−ペンチルスルホニル基、n−ヘキシルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、n−ヘプチルスルホニル基、n−オクチルスルホニル基、2−エチルヘキシルスルホニル基、等の直鎖、分岐又は環状のアルキルスルホニル基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリールスルホニル基としては、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよいアラルキルスルホニル基としては、ベンジルスルホニル基、フェネチルスルホニル基、ジフェニルメチルスルホニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数6〜20個のアリールスルホニル基としては、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよいアラルキルスルホニル基としては、ベンジルスルホニル基、フェネチルスルホニル基、ジフェニルメチルスルホニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数1〜20個のアシル基としてはメチルカルボニル基、エチルカルボニル基、n−プロピルカルボニル基、iso−プロピルカルボニル基、n−ブチルカルボニル基、iso−ブチルカルボニル基、sec−ブチルカルボニル基、t−ブチルカルボニル基、n−ペンチルカルボニル基、n−ヘキシルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、n−ヘプチルカルボニル基、n−オクチルカルボニル基、2−エチルヘキシルカルボニル基等の直鎖、分岐又は環状のアルキルカルボニル基、ベンジルカルボニル基、フェニルカルボニル基等のアリールカルボニル基、ベンゾイル基等のアラルキルカルボニル基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数2〜20個のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロピルオキシカルボニル基、iso−プロピルオキシカルボニル基、n−ブチルオキシカルボニル基、iso−ブチルオキシカルボニル基、sec−ブチルオキシカルボニル基、t−ブチルオキシカルボニル基、n−ペンチルオキシカルボニル基、n−ヘキシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、n−ヘプチルオキシカルボニル基、n−オクチルオキシカルボニル基、2−エチルヘキシルオキシカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアリールオキシカルボニル基としては、フェノキシカルボニル、ナフチルカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数2〜20個のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロピルオキシカルボニル基、iso−プロピルオキシカルボニル基、n−ブチルオキシカルボニル基、iso−ブチルオキシカルボニル基、sec−ブチルオキシカルボニル基、t−ブチルオキシカルボニル基、n−ペンチルオキシカルボニル基、n−ヘキシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、n−ヘプチルオキシカルボニル基、n−オクチルオキシカルボニル基、2−エチルヘキシルオキシカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアリールオキシカルボニル基としては、フェノキシカルボニル、ナフチルカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数8〜20個のアラルキルオキシカルボニル基としては、ベンジルオキシカルボニル基、フェネチルオキシカルボニル基、ジフェニルメチルオキシカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数2〜20個のアルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、n−プロピルカルボニルオキシ基、iso−プロピルカルボニルオキシ基、n−ブチルカルボニルオキシ基、iso−ブチルカルボニルオキシ基、sec−ブチルカルボニルオキシ基、t−ブチルカルボニルオキシ基、n−ペンチルカルボニルオキシ基、n−ヘキシルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、n−ヘプチルカルボニルオキシ基、3−ヘプチルカルボニルオキシ基、n−オクチルカルボニルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアリールカルボニルオキシ基としては、ベンゾイルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数8〜20個のアラルキルカルボニルオキシ基としては、ベンジルカルボニルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数2〜20個の複素環基としては、ピロール基、イミダゾール基、ピペリジン基、モルホリン基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数2〜20個のアルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、n−プロピルカルボニルオキシ基、iso−プロピルカルボニルオキシ基、n−ブチルカルボニルオキシ基、iso−ブチルカルボニルオキシ基、sec−ブチルカルボニルオキシ基、t−ブチルカルボニルオキシ基、n−ペンチルカルボニルオキシ基、n−ヘキシルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、n−ヘプチルカルボニルオキシ基、3−ヘプチルカルボニルオキシ基、n−オクチルカルボニルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数7〜20個のアリールカルボニルオキシ基としては、ベンゾイルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数8〜20個のアラルキルカルボニルオキシ基としては、ベンジルカルボニルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数2〜20個の複素環基としては、ピロール基、イミダゾール基、ピペリジン基、モルホリン基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
上記一般式(4)において、官能基B1〜B24は官能基としてのアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アラルキル基、アラルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アラルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アラルキルスルホニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、アラルキルカルボニルオキシ基、複素環基に場合によっては存在する置換基として、例えば、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、フェニル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシスルホニル基、アルキルチオ基、カルバモイル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、複素環基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの置換基は複数個存在していてもよく、複数個存在する場合には同種若しくは異種のいずれであってもよく、同種の場合においても同一若しくは異なっていてもよい。また、置換基同士が連結基を介して繋がっていてもよい。
(末端がアミノ基である官能基の場合)
上記一般式(4)において、官能基B1〜B24は、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいアミノスルホニル基、置換されていてもよいアミノカルボニル基への置換基としては、水素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、2−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基、等の直鎖、分岐又は環状のアルキル基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基、アセチル基、エチルカルボニル基、n−プロピルカルボニル基、iso−プロピルカルボニル基、n−ブチルカルボニル基、iso−ブチルカルボニル基、sec−ブチルカルボニル基、t−ブチルカルボニル基、n−ペンチルカルボニル基、n−ヘキシルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、n−ヘプチルカルボニル基、3−ヘプチルカルボニル基、n−オクチルカルボニル基等の直鎖、分岐又は環状のアルキルカルボニル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基等のアリールカルボニル基、ベンジルカルボニル基等のアラルキルカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではなく、これらの置換基は更に置換基で置換されていてもよい。これらの置換基は0個、1個、2個存在していてもよく、2個存在する場合にはお互いが同種若しくは異種のいずれであってもよく、同種の場合においても同一若しくは異なっていてもよい。また、置換基が2個の場合は連結基を介して繋がっていてもよい。
上記一般式(4)において、官能基B1〜B24は、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいアミノスルホニル基、置換されていてもよいアミノカルボニル基への置換基としては、水素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、2−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基、等の直鎖、分岐又は環状のアルキル基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基、アセチル基、エチルカルボニル基、n−プロピルカルボニル基、iso−プロピルカルボニル基、n−ブチルカルボニル基、iso−ブチルカルボニル基、sec−ブチルカルボニル基、t−ブチルカルボニル基、n−ペンチルカルボニル基、n−ヘキシルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、n−ヘプチルカルボニル基、3−ヘプチルカルボニル基、n−オクチルカルボニル基等の直鎖、分岐又は環状のアルキルカルボニル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基等のアリールカルボニル基、ベンジルカルボニル基等のアラルキルカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではなく、これらの置換基は更に置換基で置換されていてもよい。これらの置換基は0個、1個、2個存在していてもよく、2個存在する場合にはお互いが同種若しくは異種のいずれであってもよく、同種の場合においても同一若しくは異なっていてもよい。また、置換基が2個の場合は連結基を介して繋がっていてもよい。
上記置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいアミノスルホニル基、置換されていてもよいアミノカルボニル基への置換基であるアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アラルキルカルボニル基等に更に存在してもよい置換基として、例えば、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、フェニル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシスルホニル基、アルキルチオ基、カルバモイル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、複素環基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの置換基は複数個存在していてもよく、複数個存在する場合には同種若しくは異種のいずれであってもよく、同種の場合においても同一若しくは異なっていてもよい。また、置換基同士が連結基を介して繋がっていてもよい。
上記金属M2として2価の金属の例としては、Cu(II)、Co(II)、Zn(II)、Fe(II)、Ni(II)、Ru(II)、Rh(II)、Pd(II)、Pt(II)、Mn(II)、Mg(II)、Ti(II)、Be(II)、Ca(II)、Ba(II)、Cd(II)、Hg(II)、Pb(II)、Sn(II)等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
3価の置換金属原子の例としては、Al−F、Al−Cl、Al−Br、Al−I、Fe−Cl、Ga−F、Ga−Cl、Ga−I、Ga−Br、In−F、In−Cl、In−Br、In−I、Tl−F、Tl−Cl、Tl−Br、Tl−I、Al−C6H5、Al−C6H4(CH3)、In−C6H5、In−C6H4(CH3)、In−C6H5、Mn(OH)、Mn(OC6H5)、Mn〔OSi(CH3)3〕、Ru−Cl等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
3価の置換金属原子の例としては、Al−F、Al−Cl、Al−Br、Al−I、Fe−Cl、Ga−F、Ga−Cl、Ga−I、Ga−Br、In−F、In−Cl、In−Br、In−I、Tl−F、Tl−Cl、Tl−Br、Tl−I、Al−C6H5、Al−C6H4(CH3)、In−C6H5、In−C6H4(CH3)、In−C6H5、Mn(OH)、Mn(OC6H5)、Mn〔OSi(CH3)3〕、Ru−Cl等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
4価の置換金属原子の例としては、CrCl2、SiF2、SiCl2、SiBr2、SiI2、ZrCl2、GeF2、GeCl2、GeBr2、GeI2、SnF2、SnCl2、SnBr2、TiF2、TiCl2、TiBr2、Ge(OH)2、Mn(OH)2、Si(OH)2、Sn(OH)2、Zr(OH)2、Cr(R1)2、Ge(R1)2、Si(R1)2、Sn(R1)2、Ti(R1)2{R1は、アルキル基、フェニル基、ナフチル基、及び、その誘導体を表す}、Cr(OR2)2、Ge(OR2)2、Si(OR2)2、Sn(OR2)2、Ti(OR2)2{R2は、アルキル基、フェニル基、ナフチル基、トリアルキルシリル基、ジアルキルアルコキシシリル基、及び、その誘導体を表す}、Sn(SR3)2、Ge(SR3)2{R3は、アルキル基、フェニル基、ナフチル基、又は、その誘導体を表す}等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
オキシ金属の例としては、VO、MnO、TiO等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
オキシ金属の例としては、VO、MnO、TiO等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
具体的には、(2,3,9,10,16,17,23,24−オクタチオフェノキシ−C,C,C,C−テトラ(2,6−ジメチルフェノキシ)−C,C,C,C−テトラヘキシルアミノ−29H,31H−フタロシアニナト(2−)−N29,N30,N31,N32)銅、(2,3,9,10,16,17,23,24−オクタ(2,5−ジクロロフェノキシ)−C,C,C,C−テトラ(2,6−ジメチルフェノキシ)−C,C,C,C−テトラ(ベンジルアミノ)−29H,31H−フタロシアニナト(2−)−N29,N30,N31,N32)銅、(2,3,9,10,16,17,23,24−オクタ(2,5−ジクロロフェノキシ)−C−フルオロ−C,C,C,C−テトラ(2,6−ジメチルフェノキシ)−C,C,C−トリ(1−フェニルエチルアミノ)−29H,31H−フタロシアニナト(2−)N29,N30,N31,N32)バナジウムオキサイド等が挙げられる。
上記ジイモニウム系色素とは、下記一般式(5);
で表されるジイモニウムカチオン及びカウンターアニオンを含む色素である。
上記一般式(5)において、R3〜R10で示す置換基としては、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基、又は、置換基を有する炭素数1〜10のアルキル基である。
上記ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
上記一般式(5)において、R3〜R10で示す置換基としては、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基、又は、置換基を有する炭素数1〜10のアルキル基である。
上記ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
上記炭素数1〜10のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、1−メチルブチル基、1−エチルプロピル基、1,2−ジメチルプロピル基、1,1−ジメチルプロピル基、ネオペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、等の直鎖、分岐状、脂環式アルキル基等が挙げられる。
上記置換基を有していてもよい炭素数1〜10のアルキル基に結合しうる置換基としては、シアノ基;ヒドロキシル基;フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、n−ブトキシ基等の炭素数1〜6のアルコキシ基;メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシプロポキシ基、メトキシブトキシ基、エトキシブトキシ基等の炭素数2〜8のアルコキシアルコキシ基;メトキシメトキシメトキシ基、メトキシメトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基等の炭素数3〜15のアルコキシアルコキシアルコキシ基;アリルオキシ基;フェノキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、ナフチルオキシ基等の炭素数6〜12のアリールオキシ基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、n−ブトキシカルボニル基等の炭素数2〜7のアルコキシカルボニル基;メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、n−プロピルカルボニルオキシ基、n−ブチルカルボニルオキシ基等の炭素数2〜7のアルキルカルボニルオキシ基;メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、n−プロポキシカルボニルオキシ基、n−ブトキシカルボニルオキシ基等の炭素数2〜7のアルコキシカルボニルオキシ基等がある。具体的にはR3〜R10はトリフルオロメチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、3,3,3,−トリフルオロプロピル基、4,4,4−トリフルオロブチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロブチル基等が挙げられる。
本発明では、R3〜R10は、同一であっても、異なるものであってもよいが、すべて同じであることが好ましい。また、ジアミンの結合位置は、フェニレンジアミン骨格に結合する窒素原子に対してp−位であるものが合成上は簡便であるが、特に限定されるものではない。
本発明では、R3〜R10は、同一であっても、異なるものであってもよいが、すべて同じであることが好ましい。また、ジアミンの結合位置は、フェニレンジアミン骨格に結合する窒素原子に対してp−位であるものが合成上は簡便であるが、特に限定されるものではない。
上記カウンターアニオンは、特に制限されないが、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、過塩素酸イオン、硝酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、P−トルエンスルホン酸イオン、メチル硫酸イオン、エチル硫酸イオン、プロピル硫酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、テトラフェニルホウ酸イオン、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸イオン、ビス(トリフルオロメタンスルホン)イミドイオン、ビス(ペンタフルオロエタンスルホン)イミドイオン、ペンタフルオロエタンスルホントリフルオロメタンスルホンイミドイオン、トリフルオロメタンスルホンヘプタフルオロプロパンスルホンイミドイオン、ノナフルオロブタンスルホントリフルオロメタンスルホンイミドイオン、1,3−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミドイオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ベンゼンスルフィン酸イオン、酢酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン、プロピオン酢酸イオン、安息香酸イオン、シュウ酸イオン、コハク酸イオン、マロン酸イオン、オレイン酸イオン、ステアリン酸イオン、クエン酸イオン、一水素二リン酸イオン、二水素一リン酸イオン、ペンタクロロスズ酸イオン、クロロスルホン酸イオン、フルオロスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、ヘキサフルオロヒ酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、モリブデン酸イオン、タングステン酸イオン、チタン酸イオン、ジルコン酸イオン、硫酸イオン、バナジン酸イオン、ホウ酸イオン等が使用できる。
なお、この際、ジイモニウムカチオンは、上記式(5)で示されるように、2価の陽イオンであるため、例えば、塩化物イオン等の1価のアニオンを使用する場合には、本発明によるジイモニウム系色素は、ジイモニウムカチオン1個に対して、2個のアニオンが結合する形態である。上記塩のうち、ジイモニウムカチオンと、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ビス(トリフルオロメタンスルホン)イミドイオン、及び/又は、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸イオンとの塩が本発明では好ましく使用される。
上記近赤外線吸収性組成物における近赤外線吸収色素の配合量は、用途によって適宜選択することができるが、例えば、上記近赤外線吸収性組成物が樹脂を含む形態においては、該樹脂の固形分100質量部に対して、0.1〜10質量部であることが好ましく、より好ましくは1〜8質量部である。この際、イオン性の近赤外線吸収色素の配合量が0.1質量部未満であると、色素の配合量が少なすぎて、充分な近赤外線吸収能が達成できなくなる可能性がある。逆に10質量部を超えると、添加に見合う効果が得られず経済的でない上、逆に可視領域での透明性が損なわれる可能性がある。
本発明の近赤外線吸収性組成物としてはまた、樹脂を含むことが好ましい。樹脂としては、一般に光学材料に使用しうるものであれば特に制限されないが、できるだけ透明性の高いものが好ましく、より具体的にはポリエチレン、ポリプロピレン、カルボキシル化ポリオレフィン、塩素化ポリオレフィン、シクロオレフィンポリマー等のポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン、アクリル酸エステル系ポリマー、メタクリル酸エステル系ポリマー、酢酸ビニル系ポリマー、ハロゲン化ビニル系ポリマー、ポバール等のビニル系ポリマー、ナイロン等のポリアミド系、ポリウレタン系、PET等のポリエステル系、ポリカーボネート系、エポキシ樹脂系、ブチラール樹脂等のポリビニルアセタール系等が挙げられる。
これらのうち、溶融又は溶液化が可能であるものが好ましく使用される。この際、溶融が可能な高Tgの樹脂を使用すると、成形加工が可能な近赤外線吸収性組成物が得られる。例えば、溶融が可能でTgが80℃以上の樹脂は、近赤外線吸収色素を練りこむことで成形材料とすることができる。このような樹脂として好適なものはポリメタクリル酸メチル、α−ヒドロキシメチルアクリル酸エステル共重合体等のメタクリル系ポリマー、ポリカーボネート、ブチラール樹脂、シクロポリオレフィンポリマー、アートン(日本合成ゴム製)、ゼオノア(日本ゼオン製)、O−PET(鐘紡製)、スミペックス(住友化学製)、オプトレックス(日立化成工業製)が挙げられる。
これらのうち、溶融又は溶液化が可能であるものが好ましく使用される。この際、溶融が可能な高Tgの樹脂を使用すると、成形加工が可能な近赤外線吸収性組成物が得られる。例えば、溶融が可能でTgが80℃以上の樹脂は、近赤外線吸収色素を練りこむことで成形材料とすることができる。このような樹脂として好適なものはポリメタクリル酸メチル、α−ヒドロキシメチルアクリル酸エステル共重合体等のメタクリル系ポリマー、ポリカーボネート、ブチラール樹脂、シクロポリオレフィンポリマー、アートン(日本合成ゴム製)、ゼオノア(日本ゼオン製)、O−PET(鐘紡製)、スミペックス(住友化学製)、オプトレックス(日立化成工業製)が挙げられる。
上記溶液化が可能な樹脂は、近赤外線吸収性組成物を溶液化することで、コーティング剤とすることができる。コーティング材用の樹脂として好適なものは、例えば、メタクリル酸エステル系ポリマー、アートン(日本合成ゴム製)、ゼオノア(日本ゼオン製)、O−PET(鐘紡製)が挙げられる。特に好ましくはメチルメタクリレート、tert−ブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート等の炭素数1〜10の直鎖状、分岐状、脂環式、多環性脂環式アルキル基を有するメタクリル酸エステルを共重合した重合体(ポリマー)である。これらは、1種のメタクリル酸エステル単量体からなるポリマーであってもよいし、複数のメタクリル酸エステル単量体からなる共重合体であってもよい。
上記ポリマーとしてはまた、上記のメタクリル酸エステル以外の単量体と共重合したポリマーであってもよい。他の単量体としてはスチレン、メチルスチレン等の芳香族系モノマー、フェニルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド等のマレイミド系単量体、メタクリル酸、アクリル酸等のカルボキシル基を有する単量体、炭素数1〜15のアルキル基を有するアクリル酸エステル、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート等のヒドロキシ基を有する単量体等も使用できる。上記のメタクリル酸エステル以外の単量体の使用量としては、全単量体成分100質量%中、好ましくは50質量%未満、より好ましくは30質量%未満、更に好ましくは10質量%未満である。具体的には、スミペックス(住友化学製)、オプトレックス(日立化成工業製)、ハルスハイブリッドIR(日本触媒製)等が挙げられる。また、ガラス転移温度(Tg)が85℃よりも高い樹脂は、熱や水分による色素の劣化を効果的に抑制することができるため、このような樹脂もまた好適である。また、樹脂の割れを充分に抑制するためには、ポリスチレン換算の重量平均分子量が5万以上であることが好ましい。より好ましくは、10万以上である。
本発明の近赤外線吸収性組成物は、Tgが85℃以下であっても耐久性は良好である。このようなTgを示す近赤外線吸収性組成物に好ましく含有される樹脂の種類は特に限定されず、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂等が使用できる。割れにくさと高い耐久性とを両立させるためには、樹脂のTgは65〜85℃であることが好ましく、70〜80℃であることがより好ましい。
なお、上記ガラス転移温度(Tg)としては、例えば、「POLYMER HANDBOOK 第3版」(John Wiley&Sons,Inc.発行)に記載された各ホモポリマーのTg(単位:K)を元にして、下記式で計算により簡単に求められる他、DSC(示差走査熱量測定装置)やDTA(示差熱分析装置)によって求めることができる。
なお、上記ガラス転移温度(Tg)としては、例えば、「POLYMER HANDBOOK 第3版」(John Wiley&Sons,Inc.発行)に記載された各ホモポリマーのTg(単位:K)を元にして、下記式で計算により簡単に求められる他、DSC(示差走査熱量測定装置)やDTA(示差熱分析装置)によって求めることができる。
上記樹脂としてはまた、粘着剤若しくは接着剤、又は、これらの混合物であってもよい。粘着剤や接着剤を用いた本発明の近赤外線吸収性組成物は、他の機能性フィルムと貼り合わせることができるため、簡便かつ経済的に光学フィルターを製造することが可能となる。
上記粘着剤として好適な樹脂としては、アクリル系、シリコン系、SBR系等が挙げられる。特に好ましくは、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、n−オクチルアクリレート等を主成分として重合したポリマーであり、具体的にはアクリセットAST(日本触媒社製)等が挙げられる。中でも、Tgが−80℃以上、0℃以下であることが好ましい。より好適な粘着剤としては、シクロヘキシル基、イソボルニル基等の脂環式アルキル基を有する(メタ)アクリル酸エステルを共重合したアクリル系粘着剤である。脂環式アルキル基を有する(メタ)アクリル酸エステルを共重合する際の当該エステルの使用量は特に制限されないが、粘着剤のTgが−80℃以上、0℃以下となるような量であることが好ましい。
上記粘着剤として好適な樹脂としてはまた、カルボキシル基等の酸性基を有する(メタ)アクリル酸エステルを共重合して得られるものであってもよいが、このような場合、耐湿性の向上を目的として、(メタ)アクリル酸エステルの共重合量は、樹脂の酸価が、好ましくは30以下、より好ましくは15以下、最も好ましくは5以下となるような量であることが好ましい。
なお、本明細書において、「酸価」とは、樹脂固形分1gを中和するのに要する水酸化カリウムのmg量をいう。
なお、本明細書において、「酸価」とは、樹脂固形分1gを中和するのに要する水酸化カリウムのmg量をいう。
上記接着剤として好適な樹脂としては、一般的なシリコン系、ウレタン系、アクリル系、エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化ポリオレフィン、塩素化ポリオレフィン等のポリオレフィン系が挙げられる。
上記近赤外線吸収性組成物にはまた、波長380〜780nmの可視域に極大吸収波長を有する色素を添加してもよい。このような色素としては、シアニン系、テトラアザポルフィリン系、アズレニウム系、スクアリリウム系、ジフェニルメタン系、トリフェニルメタン系、オキサジン系、アジン系、チオピリリウム系、ビオローゲン系、アゾ系、アゾ金属錯塩系、ビスアゾ系、アントラキノン系、ペリレン系、インダンスロン系、ニトロソ系、金属チオール錯体系、インジコ系、アゾメチン系、キサンテン系、オキサノール系、インドアニリン系、キノリン系等の従来公知の色素を広く使用することができる。例えば、旭電化工業社製、商品名アデカアークルズTW−1367、アデカアークルズSG−1574、アデカアークルズTW1317、アデカアークルズFD−3351、アデカアークルズY944、林原生物化学研究所製、商品名NK−5451、NK−5532、NK−5450等が挙げられる。
上記近赤外線吸収性組成物における上記色素の配合量は、用途によって適宜選択することができるが、例えば、上記近赤外線吸収性組成物が樹脂を含む形態においては、該樹脂の固形分100質量部に対して、好ましくは0.1〜10質量部、より好ましくは1〜8質量部である。
上記近赤外線吸収性組成物における上記色素の配合量は、用途によって適宜選択することができるが、例えば、上記近赤外線吸収性組成物が樹脂を含む形態においては、該樹脂の固形分100質量部に対して、好ましくは0.1〜10質量部、より好ましくは1〜8質量部である。
上記近赤外線吸収性組成物はまた、その性能を失わない範囲でイソシアネート化合物、チオール化合物、エポキシ化合物、アミン系化合物、イミン系化合物、オキサゾリン化合物、シランカップリング剤、UV硬化剤等の樹脂硬化剤を含んでいてもよい。ただし、硬化剤を使用しない近赤外線吸収性組成物の方が、コーティング液のポットライフが長くエージングが不要になるため、より好ましい。
上記近赤外線吸収性組成物は更に、フィルムやコーティング剤等に使用される公知の添加剤を含んでいてもよく、このような添加剤としては、例えば、分散剤、レベリング剤、消泡剤、粘性調整剤、つや消し剤、粘着付与剤、帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収材、光安定化剤、消光剤、硬化剤、ブロッキング防止剤、滑り剤等が挙げられる。
本発明はまた、上記近赤外線吸収性組成物によって構成される近赤外線吸収材でもある。このような近赤外線吸収材は、固体、液体、フィルム、積層膜等、いずれの形態を有していてもよい。以下、本発明の近赤外線吸収材の好ましい形態を説明する。
上記近赤外線吸収材としては、近赤外線吸収色素と吸収領域を拡張する化合物又は有機カチオンを有する塩とが、それぞれ、固体(例えば、粉末、ペレット)の形態で混合されたものであってもよい。上記近赤外線吸収材を構成する近赤外線吸収性組成物が溶融可能な樹脂を含む場合は、融点以上の温度に加熱することで、任意の形状に加工することができる。加工にはプレス機、押し出し成形機等が使用できる。
コーティング法により、基材上に、上記近赤外線吸収性組成物を含む近赤外線吸収層を形成させる場合は、溶媒を使用して上記近赤外線吸収性組成物を溶解、分散、懸濁させて液状にすることが好ましい。この際使用できる溶剤としては、例えばシクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂肪族系、トルエン、キシレン等の芳香族系、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系、アセトニトリル等のニトリル系、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール系、テトラヒドロフラン、ジブチルエーテル等のエーテル系、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールn−プロピルエーテル、プロピレングリコールn−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル系、ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド等のアミド系、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系が使用できる。これらを単独で使用しても混合して使用してもよい。色素の耐久性を向上させるためにはメチルエチルケトン、酢酸エチル等の沸点が100℃以下の溶媒が好適である。また、コーティング時の塗膜外観を向上させるためにはトルエン、メチルイソブチルケトン、酢酸ブチル等沸点が100〜150℃の溶媒が好適である。塗膜の耐クラック性を向上させるにはブチルセロソルブ、プロピレングリコールn−プロピルエーテル、プロピレングリコールn−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の沸点が150〜200℃の溶媒が好適である。
コーティング法により、基材上に、上記近赤外線吸収性組成物を含む近赤外線吸収層を形成させる場合は、溶媒を使用して上記近赤外線吸収性組成物を溶解、分散、懸濁させて液状にすることが好ましい。この際使用できる溶剤としては、例えばシクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂肪族系、トルエン、キシレン等の芳香族系、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系、アセトニトリル等のニトリル系、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール系、テトラヒドロフラン、ジブチルエーテル等のエーテル系、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールn−プロピルエーテル、プロピレングリコールn−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル系、ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド等のアミド系、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系が使用できる。これらを単独で使用しても混合して使用してもよい。色素の耐久性を向上させるためにはメチルエチルケトン、酢酸エチル等の沸点が100℃以下の溶媒が好適である。また、コーティング時の塗膜外観を向上させるためにはトルエン、メチルイソブチルケトン、酢酸ブチル等沸点が100〜150℃の溶媒が好適である。塗膜の耐クラック性を向上させるにはブチルセロソルブ、プロピレングリコールn−プロピルエーテル、プロピレングリコールn−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の沸点が150〜200℃の溶媒が好適である。
上記近赤外線吸収材は、上記近赤外線吸収性組成物をフィルム上に成形したものであってもよいし、透明基材上に上記近赤外線吸収性組成物を含む塗膜を積層したものであってもよい。透明基材としては、一般に光学材に使用し得るものであって、実質的に透明であれば特に制限はない。具体的な例としてはガラス、シクロポリオレフィン、非晶質ポリオレフィン等のオレフィン系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のメタクリル系ポリマー、酢酸ビニルやハロゲン化ビニル等のビニル系ポリマー、PET等のポリエステル、ポリカーボネート、ブチラール樹脂等のポリビニルアセタール、ポリアリールエーテル系樹脂等が挙げられる。また、上記透明基材は、コロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処理、グロー放電処理、粗面化処理、薬品処理等の従来公知の方法による表面処理や、アンカーコート剤やプライマー等のコーティングを施してもよい。上記基材樹脂は、公知の添加剤、耐熱老化防止剤、滑剤、帯電防止剤等を配合することができ、公知の射出成形、Tダイ成形、カレンダー成形、圧縮成形等の方法や、有機溶剤に溶融させてキャスティングする方法等を用い、フィルム又はシート状に成形される。かかる透明基板を構成する基材は、未延伸でも延伸されていてもよく、また他の基材と積層されていてもよい。
コーティング法で近赤外線吸収フィルム(フィルム状の近赤外線吸収材)を得る場合の透明基材としてはPETフィルムが好ましく、特に易接着処理をしたPETフィルムが好適である。具体的にはコスモシャインA4300(東洋紡績製)、ルミラーU34(東レ製)、メリネックス705(帝人デュポン製)等が挙げられる。また、TAC(トリアセチルセルロース)フィルム、反射防止フィルム、ぎらつき防止フィルム、衝撃吸収フィルム、電磁波シールドフィルム、紫外線吸収フィルム等の機能性フィルムも使用できる。これにより、簡便にプラズマディスプレー用や光半導体素子用の光学フィルターを作製することができる。フィルムを使用することが好ましい。これらのうち、ガラス、PETフィルム、易接着性PETフィルム、TACフィルム、反射防止フィルム及び電磁波シールドフィルムが透明基材として好ましく使用される。
上記透明基材として、ガラス等の無機基材を使用する場合には、近赤外線吸収色素の耐久性の観点から、アルカリ成分が少ないものが好ましい。
上記透明基材として、ガラス等の無機基材を使用する場合には、近赤外線吸収色素の耐久性の観点から、アルカリ成分が少ないものが好ましい。
上記近赤外線吸収材の厚みは、一般に0.1μm〜10mm程度であることが好ましいが、目的に応じて適宜決定される。また、上記近赤外線吸収性組成物に含まれる近赤外線吸収色素の含有量も目的に応じて、適宜決定される。
上記近赤外線吸収材は、例えば、光学用、農業用、建築用、車両用、画像記録用等のフィルムやシート、冷凍・冷蔵ショーケース、色素増感型太陽電池等太陽電池、半導体レーザー光等を光源とする感光材料、光ディスク用等の情報記録材料、眼精疲労防止材、感光紙等の光熱変換材、接着材等として使用できる。特に、PDP(プラズマディスプレイ)用、CCD(電荷結合素子)用等の光学フィルムやシート、光ディスク用等の情報記録材料、感光紙等の光熱変換材、粘接着材としての使用が好ましい。
上記近赤外線吸収材を作製する方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、次の方法が利用できる。すなわち、(ア)樹脂に本発明の近赤外線吸収性組成物を混練し、加熱成形して樹脂板又はフィルムを作製する方法;(イ)本発明の近赤外線吸収性組成物とモノマー又はオリゴマーとを重合触媒の存在下にキャスト重合し、樹脂板又はフィルムを作製する方法;(ウ)本発明の近赤外線吸収性組成物を上記の透明基材上にコーティングする方法;(エ)離型性のある基材上に本発明の近赤外線吸収性組成物を塗布した後に、上記の透明基材上へ張り合わせる方法;(オ)本発明の近赤外線吸収性組成物を透明基材上に塗布した後に、他の透明基材上に張り合わせ硬化させる方法等である。
上記(ア)の方法としては、用いる樹脂によって加工温度、フィルム化(樹脂板化)条件等が多少異なるが、通常、本発明の近赤外線吸収性組成物を基材樹脂の粉体又はペレットに添加し、150〜350℃に加熱、溶解させた後、成形して樹脂板を作製する方法、押し出し機によりフィルム化(樹脂板化)する方法等が挙げられる。本発明の近赤外線吸収性組成物の添加量は、作製する樹脂板又はフィルムの厚み、吸収強度、可視光透過率等によって異なるが、一般的にバインダー樹脂の質量100質量%に対して、0.01〜30質量%、好ましくは0.03〜15質量%の量で使用される。
上記(イ)の方法、すなわち、本発明の近赤外線吸収性組成物とモノマー又はオリゴマーとを重合触媒の存在下にキャスト重合し、作製する方法においては、これらの混合物を型内に注入し、反応させて硬化させるか、又は、金型に流し込んで型内で硬い製品となるまで固化させて成形する。多くの樹脂がこの過程で成形可能であり、その様な樹脂の具体例としてアクリル樹脂、ジエチレングリコールビス(アリルカーボネート)樹脂、エポキシ樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、ポリスチレン樹脂、シリコン樹脂等が挙げられる。その中でも、硬度、耐熱性、耐薬品性に優れたアクリルシートが得られるメタクリル酸メチルの塊状重合によるキャスティング法が好ましい。
上記重合触媒としては公知のラジカル熱重合開始剤が利用でき、例えばベンゾイルパーオキシド、p−クロロベンゾイルパーオキシド、ジイソプロピルパーオキシカーボネート等の過酸化物、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物が挙げられる。その使用量は混合物の総量100質量%に対して、一般的に0.01〜5質量%である。熱重合における加熱温度は、一般的に40〜200℃であり、重合時間は、一般的に30分〜8時間程度である。また、熱重合以外に、光重合開始剤や増感剤を添加して光重合する方法も利用できる。
上記(ウ)の方法としては、本発明の近赤外線吸収性組成物を透明基材上にコーティングする方法や、本発明の近赤外線吸収性組成物を微粒子に固定化し、該微粒子を分散させた塗料を透明基材上にコーティングする方法等がある。
上記基材に近赤外線吸収性組成物を塗布する際には公知の塗工機が使用できる。例えば、コンマコーター等のナイフコーター、スロットダイコーター、リップコーター等のファウンテンコーター、マイクログラビアコーター等のキスコーター、グラビアコーター、リバースロールコーター等のロールコーター、フローコーター、スプレーコーター、バーコーターが挙げられる。塗布前にコロナ放電処理、プラズマ処理等の公知の方法で基材の表面処理を行ってもよい。乾燥、硬化方法としては、熱風、遠赤外線、UV硬化等公知の方法が使用できる。乾燥、硬化後は公知の保護フィルムとともに巻き取ってもよい。
上記基材に近赤外線吸収性組成物を塗布する際には公知の塗工機が使用できる。例えば、コンマコーター等のナイフコーター、スロットダイコーター、リップコーター等のファウンテンコーター、マイクログラビアコーター等のキスコーター、グラビアコーター、リバースロールコーター等のロールコーター、フローコーター、スプレーコーター、バーコーターが挙げられる。塗布前にコロナ放電処理、プラズマ処理等の公知の方法で基材の表面処理を行ってもよい。乾燥、硬化方法としては、熱風、遠赤外線、UV硬化等公知の方法が使用できる。乾燥、硬化後は公知の保護フィルムとともに巻き取ってもよい。
上記(エ)の方法としては、本発明の近赤外線吸収性組成物を離型性の基材上にコーティングした後に、透明基材上へ張り合わせる方法や、本発明の近赤外線吸収性組成物を微粒子に固定化し、該微粒子を分散させた塗料を離型性の基材上にコーティングした後に、透明基材上へ張り合わせる方法等がある。
この方法で製造する場合は、樹脂として粘着剤を使用した近赤外線吸収性組成物を使用することが好ましい。必要に応じて、更に粘着付与剤、硬化剤を近赤外線吸収性組成物に配合してもよい。
上記離型性の基材としてはシリコン系、オレフィン系、オイル系、フッ素系等の離型剤を塗布した紙やフィルム、フッ素系基材、オレフィン系基材等が用いられる。また、透明基材や塗工機は上記のものが使用できる。
この方法で製造する場合は、樹脂として粘着剤を使用した近赤外線吸収性組成物を使用することが好ましい。必要に応じて、更に粘着付与剤、硬化剤を近赤外線吸収性組成物に配合してもよい。
上記離型性の基材としてはシリコン系、オレフィン系、オイル系、フッ素系等の離型剤を塗布した紙やフィルム、フッ素系基材、オレフィン系基材等が用いられる。また、透明基材や塗工機は上記のものが使用できる。
上記(オ)の方法としては、本発明の近赤外線吸収性組成物を透明基材上に塗布した後に、他の透明基材上に張り合わせ硬化させる方法等である。
この方法で製造する場合は、樹脂として接着剤を使用した近赤外線吸収性組成物を使用することが好ましい。必要に応じて、硬化剤を近赤外線吸収性組成物に配合してもよい。なお、透明基材や塗工機は上記のものが使用できる。
この方法で製造する場合は、樹脂として接着剤を使用した近赤外線吸収性組成物を使用することが好ましい。必要に応じて、硬化剤を近赤外線吸収性組成物に配合してもよい。なお、透明基材や塗工機は上記のものが使用できる。
また上記(ウ)〜(オ)の方法において、上記近赤外線吸収性組成物をコーティング剤又は塗料として使用する場合には、塗料中の本発明の近赤外線吸収性組成物の濃度は、作製するコーティングの厚み、吸収強度、可視光透過率によって異なるが、バインダー樹脂100質量%に対して一般的に0.1〜10質量%である。
本発明の近赤外線吸収材は、可視領域の透明性と近赤外線の吸収能が高い優れた光学フィルターの構成材料となりうる。従来の近赤外線吸収材と比べて耐久性、特に耐熱性と耐湿熱性が高いため、長期間の保管や使用でも外観と近赤外線吸収能が維持される。更に、シートやフィルム状にするのが容易なため、薄型ディスプレー用や光半導体素子用に有用である。その他、赤外線をカットする必要があるフィルターやフィルム、例えば断熱フィルム、サングラス、光記録材料等にも好適に使用することができる。中でも、光学フィルターに特に好適に用いることができる。
上記近赤外線吸収材を用いてなる光学フィルターは、可視領域の全光線透過率が40%以上であることが好適であり、より好ましくは50%以上、更に好ましくは60%以上である。また、波長800〜1000nmの近赤外線の透過率が30%以下であることが好適であり、より好ましくは15%以下、更に好ましくは5%以下である。
上記光学フィルターは、上記近赤外線吸収材からなる近赤外線吸収層の他に、電磁波遮蔽層、反射防止層、ぎらつき防止(アンチグレア)層、傷付き防止層、色調整層、ガラス等の支持体が設けられていてもよい。
上記光学フィルターの各層の構成は任意に選択すればよいが、好ましくは、反射防止層及びぎらつき防止層のうちどちらか一層と、上記近赤外線吸収材からなる近赤外線吸収層との少なくとも2層を組み合わせたものが好ましく、より好ましくは、更に電磁波遮蔽層を組み合わせた少なくとも3層を有する光学フィルターである。なお、このような少なくとも3層を有する光学フィルターである場合、反射防止層又はぎらつき防止層が人側の最表層となることが好ましく、また、近赤外線吸収層及び電磁波遮蔽層の組み合わせは任意である。また、少なくとも3つの層の間には、傷付き防止層、色調整層、衝撃吸収層、支持体、透明基材等の他の層が挿入されていてもよい。
上記光学フィルターの各層の構成は任意に選択すればよいが、好ましくは、反射防止層及びぎらつき防止層のうちどちらか一層と、上記近赤外線吸収材からなる近赤外線吸収層との少なくとも2層を組み合わせたものが好ましく、より好ましくは、更に電磁波遮蔽層を組み合わせた少なくとも3層を有する光学フィルターである。なお、このような少なくとも3層を有する光学フィルターである場合、反射防止層又はぎらつき防止層が人側の最表層となることが好ましく、また、近赤外線吸収層及び電磁波遮蔽層の組み合わせは任意である。また、少なくとも3つの層の間には、傷付き防止層、色調整層、衝撃吸収層、支持体、透明基材等の他の層が挿入されていてもよい。
上記光学フィルターにおいては、上記各層を粘着剤や接着剤を使用しても張り合わせてもよいし、近赤外線吸収層については層自体が粘着剤、接着剤であってもよい。特に、Tgが−80℃以上0℃以下の粘着剤や接着剤と混合して得た本発明の近赤外線吸収材は他の透明基材との接着性に優れるため、反射防止フィルム、ぎらつき防止フィルム、衝撃吸収フィルム、電磁波シールドフィルム等に、この近赤外線吸収材を介して他の層等を接着することで、容易に本発明の光学フィルター(好ましくはプラズマディスプレー用光学フィルター)を作製することができる。なお、各層を張り合わせる際には、コロナ処理、プラズマ処理等の物理的な処理をしてもよいし、ポリエチレンイミン、オキサゾリン系ポリマー、ポリエステル、セルロース等の公知の高極性ポリマーをアンカーコート剤として使用してもよい。
上記反射防止層は、表面の反射を抑えて、表面への蛍光灯等の外光の写り込みを防止するためのものである。反射防止層は、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物等の無機物の薄膜からなる場合と、アクリル樹脂、フッ素樹脂等の屈折率の異なる樹脂を単層又は多層に積層させたものからなる場合とがあり、前者の場合には、蒸着やスパッタリング法を用いて単層又は多層の形態で、透明基材上に形成させる方法がある。また、後者の場合は、透明フィルム上に、コンマコーター等のナイフコーター、スロットコーター、リップコーター等のファウンテンコーター、グラビアコーター、フローコーター、スプレーコーター、バーコーターを用いて透明基材の表面に反射防止コーティングを塗布する方法がある。
上記ぎらつき防止層は、シリカ、メラミン樹脂、アクリル樹脂等の微粉体をインキ化し、従来公知の塗布法で、本発明の光学フィルターのいずれかの層上に塗布し、熱又は光硬化させることにより形成される。また、アンチグレア処理したフィルムを該フィルター上に貼りつけてもよい。
上記電磁波遮蔽層は、エッチング、印刷等の手法で金属のメッシュをフィルム上にパターニングしたものを樹脂で平滑化したフィルムや、繊維メッシュの上に金属を蒸着させたものを樹脂中に抱埋したフィルムが好適に使用される。
上記傷付き防止層としては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、多官能アクリレート等のアクリレートと光重合開始剤を有機溶剤に溶解又は分散させた塗布液を従来公知の塗布法で、本発明のフィルターのいずれかの層上に、好ましくは、最外層に位置するように、塗布し、乾燥させ、光硬化させることにより形成される。
上記衝撃吸収層は、表示装置を外部からの衝撃から保護するためのものであり、支持体を使用しない光学フィルターで使用することが好適である。衝撃吸収材としては、例えば、特開2004−246365号公報、特開2004−264416号公報に示されているような、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アクリル系ポリマー、ポリ塩化ビニル、ウレタン系、シリコン系樹脂等が使用できるが、これらに限定されるものではない。
上記反射防止層又はぎらつき防止層と、上記近赤外線吸収材からなる近赤外線吸収層とを有する光学フィルターは、反射防止フィルム又はぎらつき防止フィルムの裏面に本発明の近赤外線吸収材からなる層を積層させることで得られる。積層させる方法としては、フィルム状にした本発明の近赤外線吸収材と反射又はぎらつき防止フィルムとを粘着剤で張り合わせてもよいし、溶液化した本発明の近赤外線吸収材を反射又はぎらつき防止フィルムの裏面に直接塗布してもよい。反射又はぎらつき防止フィルムの裏面に近赤外線吸収層を設ける場合には、紫外線による色素の劣化を抑えるために、透明基材として紫外線吸収フィルムを使用するのが好ましい。
上記電磁波遮蔽層と、上記近赤外線吸収材からなる近赤外線吸収層との2層を有する光学フィルターは、電磁波防止材料と近赤外線吸収材とを複合化することで得られる。複合化させる方法としては、フィルム状にした本発明の近赤外線吸収材と電磁波遮蔽フィルムとを粘着剤で張り合わせてもよいし、溶液化した本発明の近赤外線吸収材を電磁波遮蔽フィルムの裏面に直接塗布してもよい。また、フィルム上の金属のメッシュを平滑化する樹脂として近赤外線吸収材を使用することもできる。また、金属を蒸着した繊維を抱埋する樹脂として、本発明の近赤外線吸収性組成物を使用することもできる。
上記近赤外線吸収層、反射又はぎらつき防止層及び電磁波遮蔽層の3層を有する光学フィルターとしては、本発明の近赤外線吸収材からなる近赤外線吸収フィルム、反射又はぎらつき防止フィルム、及び、電磁波遮蔽フィルムの3枚を粘着剤で張り合わせたものが使用できる。必要に応じてガラス等の支持体や色調整フィルム等の機能性フィルムを張り合わせてもよい。
なお、光学フィルターの製造工程やフィルム構成を簡略化するためには、複数の機能を有する複合化フィルムを使用するのがよい。例えば、近赤外線吸収層と反射又はぎらつき防止層とを含む複合化フィルムを粘着剤で電磁波遮蔽フィルムに張り合わせた光学フィルターや、近赤外線吸収層と電磁波遮蔽層とを含む複合化フィルムを粘着剤で反射又はぎらつき防止フィルムに張り合わせた光学フィルター、電磁波遮蔽層と反射又はぎらつき防止層とを含む複合化フィルムを粘着剤で近赤外線吸収フィルムに張り合わせた光学フィルターが挙げられる。電磁波遮蔽層と反射又はぎらつき防止層とを含む複合化フィルムについては、近赤外線吸収材が粘着剤であってもよい。
上記光学フィルターとしては、薄型ディスプレー用光学フィルターであることが特に好適であり、このように、上記近赤外線吸収材を用いてなる薄型ディスプレー用光学フィルターもまた、本発明の1つである。中でも、特にプラズマディスプレー用光学フィルターであることが特に好適である。
上記プラズマディスプレー用光学フィルターには、画面を見やすくするために、反射防止層又はぎらつき防止層を人側の最表層に設けることが好ましく、また、パネルから発生する電磁波を除去するために、電磁波遮蔽層を設けることが好ましい。
上記プラズマディスプレー用光学フィルターには、画面を見やすくするために、反射防止層又はぎらつき防止層を人側の最表層に設けることが好ましく、また、パネルから発生する電磁波を除去するために、電磁波遮蔽層を設けることが好ましい。
上記プラズマディスプレー用光学フィルターは、表示装置から離して設置してもよいし、表示装置に直接貼り付けてもよい。表示装置から離して設置する場合は、支持体としてガラスを使用するのが好ましい。表示装置に直接張り合わせる場合には、ガラスを使用しない光学フィルターが好適である。
本発明の近赤外線吸収材を積層した光学フィルターをプラズマディスプレーに搭載することにより、長期間にわたり良好な画質が維持されることになる。したがって、上記近赤外線吸収材及び上記光学フィルターは、プラズマディスプレーの構成要素として用いる形態が特に好適である。このような形態においては、表示体に、直接、光学フィルターを張り合わせたプラズマディスプレーとすると、更に鮮明な画質が得られることになる。光学フィルターを直接張り合わせる場合は、表示体のガラスが強化ガラスを使用するか、衝撃吸収層を設けた光学フィルターを使用するのが好適である。
上記表示装置に貼り付ける際の粘着剤としては、例えば、スチレンブタジエンゴム、ポリイソプレンゴム、ポリイソブチレンゴム、天然ゴム、ネオプレンゴム、クロロプレンゴム、ブチルゴム等のゴム類やポリアクリル酸メチル、ボリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル等のポリアクリル酸アルキルエステル等が挙げられ、これらは単独に用いてもよいが、更に粘着付与剤としてピッコライト、ポリベール、ロジンエステル等を添加したものを用いてもよい。また、特開2004−263084号公報で示されているように衝撃吸収能を有する粘着剤を使用することができるが、これに限定されるものではない。
上記粘着層の厚みは、通常5〜2000μm、好ましくは10〜1000μmである。粘着剤層の表面に剥離フィルムを設け、粘着剤層にゴミ等が付着しないように、プラズマディスプレーの表面に張り付けるまで粘着剤層を保護するのもよい。この場合、フィルターの縁綾部の粘着剤層と剥離フィルムとの間に、粘着剤層を設けない部分を形成したり、非粘着性のフィルムを挟む等して非粘着部分を形成し、剥離開始部とすれば貼着時の作業が行いやすくなる。
上記粘着層の厚みは、通常5〜2000μm、好ましくは10〜1000μmである。粘着剤層の表面に剥離フィルムを設け、粘着剤層にゴミ等が付着しないように、プラズマディスプレーの表面に張り付けるまで粘着剤層を保護するのもよい。この場合、フィルターの縁綾部の粘着剤層と剥離フィルムとの間に、粘着剤層を設けない部分を形成したり、非粘着性のフィルムを挟む等して非粘着部分を形成し、剥離開始部とすれば貼着時の作業が行いやすくなる。
本発明の近赤外線吸収性組成物は、上述の構成よりなり、近赤外線吸収色素を用いて、プラズマディスプレイ等の電子機器における近赤外線吸収層に要求される近赤外線吸収領域をすべて遮蔽できるとともに、近赤外線吸収色素の劣化を充分に抑制でき、耐久性や、可視光線波長領域の透過性に優れた近赤外線吸収層を形成することができるものである。そして、このような近赤外線吸収性組成物により構成される近赤外線吸収材は、種々の用途に有用であり、特に、薄型ディスプレイ用、CCD用等の光学フィルムやシート、光ディスク用等の情報記録材料、感光紙等の光熱変換材、粘接着材に好適に適用できるものである。
以下に実施例を掲げて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「%」は「質量%」を意味するものとする。
(近赤外線吸収色素の合成)
合成例1
(2,3,9,10,16,17,23,24−オクタチオフェノキシ−C,C,C,C−テトラ(2,6−ジメチルフェノキシ)−C,C,C,C−テトラヘキシルアミノ−29H,31H−フタロシアニナト(2−)−N29,N30,N31,N32)銅(色素A)の合成
合成例1
(2,3,9,10,16,17,23,24−オクタチオフェノキシ−C,C,C,C−テトラ(2,6−ジメチルフェノキシ)−C,C,C,C−テトラヘキシルアミノ−29H,31H−フタロシアニナト(2−)−N29,N30,N31,N32)銅(色素A)の合成
窒素気流下で50mlの4ツ口フラスコに、4,5−ビス(チオフェノキシ)−3−(2,6−ジメチルフェノキシ)−6−フルオロフタリロニトリル10g(0.021モル)と塩化第一銅0.54g(0.0054モル)及びn−オクタノール15gを投入し、攪拌しながら150℃で約2.5時間反応させた。冷却後、ベンゾニトリル約5g投入し、吸引ろ過により析出物をろ過した。その後、ろ紙上の析出物を50mlの4ツ口フラスコに移し、ベンゾニトリル30gを加え攪拌しながら、一旦150℃に加熱後、80℃になるまで冷却し、ヘキシルアミン8.4g(0.083モル)を投入し、80℃で約2時間反応させた。
その後室温まで冷却し、約400mlのメタノール中に投入し結晶を析出させた。得られた結晶を吸引ろ過した後、再び約200mlのメタノール中で攪拌洗浄することで洗浄、精製を行った。その後再び、吸引ろ過で結晶を取り出し、取り出した結晶を約60℃で一晩、真空乾燥し(2,3,9,10,16,17,23,24−オクタチオフェノキシ−C,C,C,C−テトラ(2,6−ジメチルフェノキシ)−C,C,C,C−テトラヘキシルアミノ−29H,31H−フタロシアニナト(2−)−N29,N30,N31,N32)銅(色素A)6.3g{4,5−ビス(チオフェノキシ)−3−(2,6−ジメチルフェノキシ)−6−フルオロフタリロニトリルに対する収率約52モル%}が得られた。
合成例2
3−(2,6−ジメチルフェノキシ)−4,5−ビス(2,5−ジクロロフェノキシ)−6−フルオロフタリロニトリルの合成
3−(2,6−ジメチルフェノキシ)−4,5−ビス(2,5−ジクロロフェノキシ)−6−フルオロフタリロニトリルの合成
500mlの4ツ口セパラブルフラスコに、テトラフルオロフタロニトリル60g(0.30モル)、フッ化カリウム41.8g(0.72モル)及びアセトン160mlを仕込み、更に滴下ロートに2,5−ジクロロフェノール97.8g(0.60モル)及びアセトン110mlを仕込む。−1℃で攪拌しながら滴下ロートより2,5−ジクロロフェノール/アセトン混合溶液を約2時間かけて滴下した後、約2時間攪拌を続ける。その後、反応温度を室温までゆっくり上げながら、一晩中攪拌する。
次に、このフラスコに2,6−ジメチルフェノール36.6g(0.30モル)、フッ化カリウム20.9g(0.36モル)及びアセトン15.0mlを仕込み、40℃で攪拌下10時間を保った。冷却後、反応液をろ過し、ろ液をロータリーエバポレータでアセトンを留去し、メタノールを加えて再結晶を行った。得られた結晶をろ過し、真空乾燥により、3−(2,6−ジメチルフェノキシ)−4,5−ビス(2,5−ジクロロフェノキシ)−6−フルオロフタリロニトリル144.8g(収率82.1モル%)が得られた。
合成例3
(2,3,9,10,16,17,23,24−オクタ(2,5−ジクロロフェノキシ)−C,C,C,C−テトラ(2,6−ジメチルフェノキシ)−C,C,C,C−テトラ(ベンジルアミノ)−29H,31H−フタロシアニナト(2−)−N29,N30,N31,N32)銅(色素B)の合成
(2,3,9,10,16,17,23,24−オクタ(2,5−ジクロロフェノキシ)−C,C,C,C−テトラ(2,6−ジメチルフェノキシ)−C,C,C,C−テトラ(ベンジルアミノ)−29H,31H−フタロシアニナト(2−)−N29,N30,N31,N32)銅(色素B)の合成
300mlの4ツ口フラスコに合成例2で得られた3−(2,6−ジメチルフェノキシ)−4,5−ビス(2,5−ジクロロフェノキシ)−6−フルオロフタリロニトリル30g(51.0ミリモル)、塩化銅1.52g(15.3ミリモル)、及び、n−オクタノール45mlを仕込み、窒素バブリング下170℃攪拌下約4時間保った。その後空気雰囲気下とし、PhCH2NH221.9g(204.0ミリモル)とベンゾニトリル180mlを加え、次いで90℃で5時間保った。冷却後反応液をろ過し、ろ液をアセトニトリルと水の混合溶液中に滴下晶析させ、更にアセトニトリルと水の混合溶液で洗浄を行った。真空乾燥により、(2,3,9,10,16,17,23,24−オクタ(2,5−ジクロロフェノキシ)−C,C,C,C−テトラ(2,6−ジメチルフェノキシ)−C,C,C,C−テトラ(ベンジルアミノ)−29H,31H−フタロシアニナト(2−)−N29,N30,N31,N32)銅(色素B)22.6g{3−(2,6−ジメチルフェノキシ)−4,5−ビス(2,5−ジクロロフェノキシ)−6−フルオロフタロニトリルに対する収率64.2モル%}が得られた。
合成例4
(2,3,9,10,16,17,23,24−オクタ(2,5−ジクロロフェノキシ)−C−フルオロ−C,C,C,C−テトラ(2,6−ジメチルフェノキシ)−C,C,C−トリ(1−フェニルエチルアミノ)−29H,31H−フタロシアニナト(2−)N29,N30,N31,N32)バナジウムオキサイド(色素C)の合成
(2,3,9,10,16,17,23,24−オクタ(2,5−ジクロロフェノキシ)−C−フルオロ−C,C,C,C−テトラ(2,6−ジメチルフェノキシ)−C,C,C−トリ(1−フェニルエチルアミノ)−29H,31H−フタロシアニナト(2−)N29,N30,N31,N32)バナジウムオキサイド(色素C)の合成
300mlの4ツ口フラスコに三酸化二バナジウム1.43g(9.53ミリモル)、p−トルエンスルホン酸−水和物3.64g(19.1ミリモル)及びベンゾニトリル60mlを仕込み、次いで、170℃で攪拌下約3時間保った。その後、還流温度まで昇温し3−(2,6−ジメチルフェノキシ)−4,5−ビス(2,5−ジクロロフェノキシ)−6−フルオロフタロニトリル30g(51.0ミリモル)を追加し、窒素雰囲気下還流温度で4時間保った。その後冷却して空気雰囲気下として、D,L−1−フェニルエチルアミン12.4g(102.3ミリモル)とベンゾニトリル163mlを加え、ついで、60℃で6時間、70℃で2時間保った。冷却後、反応液をろ過し、ろ液をイソプロピルアルコールと水の混合溶液中に滴下晶析させ、更にイソプロピルアルコールと水の混合溶液で洗浄を行った。真空乾燥により、(2,3,9,10,16,23,24−オクタ(2,5−ジクロロフェノキシ)−C−フルオロ−C,C,C,C−テトラ(2,6−ジメチルフェノキシ)−C,C,C−トリ(1−フェニルエチルアミノ)−29H,31H−フタロシアニナト(2−)N29,N30,N31,N32)バナジウムオキサイド(色素C)を24.49g、{3−(2,6−ジメチルフェノキシ)4,5−ビス(2,5−ジクロロフェノキシ)−6−フルオロニトリルに対する収率70.5モル%}が得られた。
(近赤外線吸収色素溶液の調整)
合成例1で得られた色素A5部をメチルエチルケトン95部に溶解し、近赤外線吸収色素溶液1を調整した。
合成例3で得られた色素B3部をメチルエチルケトン97部に溶解し、近赤外線吸収色素溶液2を調整した。
合成例4で得られた色素C5部をメチルエチルケトン95部に溶解し、近赤外線吸収色素溶液3を調整した。
ジイモニウム色素 N,N,N´,N´−テトラキス(p‐ジブチルアミノフェニル)、p‐フェニレンジアミン‐ビス(ヘキサフルオロアンチモン酸)イモニウム塩5部をメチルエチルケトン95部に溶解し、近赤外線吸収色素溶液4を調整した。
ジイモニウム色素 N,N,N´,N´−テトラキス(p‐ジブチルアミノフェニル)、p‐フェニレンジアミン‐ビス(ヘキサフルオロアンチモン酸)イモニウム塩2.5部と合成例4で得られた色素C2.5部をメチルエチルケトン95部に溶解し、近赤外線吸収色素溶液5を調整した。
合成例1で得られた色素A5部をメチルエチルケトン95部に溶解し、近赤外線吸収色素溶液1を調整した。
合成例3で得られた色素B3部をメチルエチルケトン97部に溶解し、近赤外線吸収色素溶液2を調整した。
合成例4で得られた色素C5部をメチルエチルケトン95部に溶解し、近赤外線吸収色素溶液3を調整した。
ジイモニウム色素 N,N,N´,N´−テトラキス(p‐ジブチルアミノフェニル)、p‐フェニレンジアミン‐ビス(ヘキサフルオロアンチモン酸)イモニウム塩5部をメチルエチルケトン95部に溶解し、近赤外線吸収色素溶液4を調整した。
ジイモニウム色素 N,N,N´,N´−テトラキス(p‐ジブチルアミノフェニル)、p‐フェニレンジアミン‐ビス(ヘキサフルオロアンチモン酸)イモニウム塩2.5部と合成例4で得られた色素C2.5部をメチルエチルケトン95部に溶解し、近赤外線吸収色素溶液5を調整した。
(有機カチオン塩溶液の調整)
表1に示すように各種有機カチオン塩(有機カチオンを有する塩)10部をメチルエチルケトン90部に溶解し、有機カチオン塩溶液(1)〜(4)を調整した。表1において、有機カチオン塩は、カウンターアニオンにテトラキスペンタフルオロフェニルホウ酸イオンを有する塩である。
表1に示すように各種有機カチオン塩(有機カチオンを有する塩)10部をメチルエチルケトン90部に溶解し、有機カチオン塩溶液(1)〜(4)を調整した。表1において、有機カチオン塩は、カウンターアニオンにテトラキスペンタフルオロフェニルホウ酸イオンを有する塩である。
実施例1
バインダーとしてハルスハイブリッドIR−G205(日本触媒社製 固形分29%)を使用し、バインダー69部、近赤外線吸収色素溶液11.9部、有機カチオン塩溶液(1)6部、及び、メチルエチルケトン13.1部を混合し、塗料固形分21%の近赤外線吸収性組成物1(固形分比:バインダー/色素/有機カチオン塩=100/3/3)を得た。
得られた近赤外線吸収性組成物をバーコーター(No.34)で易接着処理PETフィルム(東洋紡績社製 コスモシャインA4300)上に塗工し150℃の熱風乾燥器中で3分間乾燥させ、近赤外線吸収材1を得た。これを5cm×5cmに切り出し、試験片とした。この試験片の可視−近赤外スペクトル及び色差の測定を行い、近赤外線吸収能を評価した。測定にはUV−3700(島津製作所製)を使用した。近赤外線吸収能の評価は、波長800nmから1000nmの透過率の最小値、最小値と最大値の差、及び、可視領域(500nm)の透過率を評価した。結果は表2に示す。
バインダーとしてハルスハイブリッドIR−G205(日本触媒社製 固形分29%)を使用し、バインダー69部、近赤外線吸収色素溶液11.9部、有機カチオン塩溶液(1)6部、及び、メチルエチルケトン13.1部を混合し、塗料固形分21%の近赤外線吸収性組成物1(固形分比:バインダー/色素/有機カチオン塩=100/3/3)を得た。
得られた近赤外線吸収性組成物をバーコーター(No.34)で易接着処理PETフィルム(東洋紡績社製 コスモシャインA4300)上に塗工し150℃の熱風乾燥器中で3分間乾燥させ、近赤外線吸収材1を得た。これを5cm×5cmに切り出し、試験片とした。この試験片の可視−近赤外スペクトル及び色差の測定を行い、近赤外線吸収能を評価した。測定にはUV−3700(島津製作所製)を使用した。近赤外線吸収能の評価は、波長800nmから1000nmの透過率の最小値、最小値と最大値の差、及び、可視領域(500nm)の透過率を評価した。結果は表2に示す。
実施例2、3
有機カチオン塩溶液を表2のように変更した以外は実施例1と同様にして近赤外線吸収材2〜3を作成し、試験片を切り出して、同様の評価を行った。図1及び2に、それぞれ実施例2で得られた初期及び耐久性試験5日後の可視−近赤外線吸収スペクトルを示す。
有機カチオン塩溶液を表2のように変更した以外は実施例1と同様にして近赤外線吸収材2〜3を作成し、試験片を切り出して、同様の評価を行った。図1及び2に、それぞれ実施例2で得られた初期及び耐久性試験5日後の可視−近赤外線吸収スペクトルを示す。
実施例4、5
ハルスハイブリッドIR−G205(日本触媒社製、固形分29%)を69.1部、近赤外線吸収色素溶液2を19.8部、有機カチオン塩溶液(1)を5.9部、メチルエチルケトン5.2部混合し、塗料固形分21%の近赤外線吸収性組成物4及び5(固形分比:バインダー/色素/有機カチオン塩=100/3/3)を得た。実施例1と同様にして近赤外線吸収材4、5を作成し、試験片を切り出して可視−近赤外スペクトル及び色素の測定を行い、近赤外線吸収能を評価した。
ハルスハイブリッドIR−G205(日本触媒社製、固形分29%)を69.1部、近赤外線吸収色素溶液2を19.8部、有機カチオン塩溶液(1)を5.9部、メチルエチルケトン5.2部混合し、塗料固形分21%の近赤外線吸収性組成物4及び5(固形分比:バインダー/色素/有機カチオン塩=100/3/3)を得た。実施例1と同様にして近赤外線吸収材4、5を作成し、試験片を切り出して可視−近赤外スペクトル及び色素の測定を行い、近赤外線吸収能を評価した。
実施例6
ハルスハイブリッドIR−G205(日本触媒社製 固形分29%)を67部、近赤外線吸収色素溶液3を9.6部、有機カチオン塩溶液(4)を5.8部、メチルエチルケトン17.6部混合し、塗料固形分21%の近赤外線吸収性組成物6(固形分比:バインダー/色素/有機カチオン塩=100/2.5/3)を得た。その後、実施例1と同様にして近赤外線吸収材6を作成し、試験片を切り出して可視−近赤外スペクトル及び色素の測定を行い、近赤外線吸収能を評価した。
ハルスハイブリッドIR−G205(日本触媒社製 固形分29%)を67部、近赤外線吸収色素溶液3を9.6部、有機カチオン塩溶液(4)を5.8部、メチルエチルケトン17.6部混合し、塗料固形分21%の近赤外線吸収性組成物6(固形分比:バインダー/色素/有機カチオン塩=100/2.5/3)を得た。その後、実施例1と同様にして近赤外線吸収材6を作成し、試験片を切り出して可視−近赤外スペクトル及び色素の測定を行い、近赤外線吸収能を評価した。
実施例7
ハルスハイブリッドIR−G205(日本触媒社製 固形分29%)を69.1部、近赤外線吸収色素溶液4を12.4部、有機カチオン塩溶液(4)を5部、メチルエチルケトン13.5部混合し、塗料固形分21%の近赤外線吸収性組成物1(固形分比:バインダー/色素/有機カチオン塩=100/3.75/2.5)を得た。実施例1と同様にして近赤外線吸収材7を作成し、試験片を切り出して可視−近赤外スペクトル及び色差の測定を行い、近赤外線吸収能を評価した。図3及び4に、それぞれ実施例7で得られた初期及び耐久性試験5日後の可視−近赤外線吸収スペクトルを示す。
ハルスハイブリッドIR−G205(日本触媒社製 固形分29%)を69.1部、近赤外線吸収色素溶液4を12.4部、有機カチオン塩溶液(4)を5部、メチルエチルケトン13.5部混合し、塗料固形分21%の近赤外線吸収性組成物1(固形分比:バインダー/色素/有機カチオン塩=100/3.75/2.5)を得た。実施例1と同様にして近赤外線吸収材7を作成し、試験片を切り出して可視−近赤外スペクトル及び色差の測定を行い、近赤外線吸収能を評価した。図3及び4に、それぞれ実施例7で得られた初期及び耐久性試験5日後の可視−近赤外線吸収スペクトルを示す。
実施例8
モノマーとして2−エチルヘキシルアクリレート(393.6部)、シクロヘキシルメタクリレート(204.6部)、ヒドロキシエチルアクリレート(1.8部)を秤量し、充分に混合し、モノマー混合物を得た。モノマー混合物(240部)と、酢酸エチル(167部)とを、温度計、攪拌機、不活性ガス導入管、還流冷却器、及び、滴下ロートを備えたフラスコに添加した。モノマー混合物(360部)、酢酸エチル(16部)、及び、重合開始剤であるナイパーBMT−K40(0.36部)からなる滴下用モノマー混合物を滴下ロートに入れ、よく混合した。窒素ガスを20ml/分で流通させながら、フラスコの内温を85℃まで上昇させ、重合開始剤であるナイパーBMT−K40(0.48部)をフラスコに投入し、重合反応を開始させた。
モノマーとして2−エチルヘキシルアクリレート(393.6部)、シクロヘキシルメタクリレート(204.6部)、ヒドロキシエチルアクリレート(1.8部)を秤量し、充分に混合し、モノマー混合物を得た。モノマー混合物(240部)と、酢酸エチル(167部)とを、温度計、攪拌機、不活性ガス導入管、還流冷却器、及び、滴下ロートを備えたフラスコに添加した。モノマー混合物(360部)、酢酸エチル(16部)、及び、重合開始剤であるナイパーBMT−K40(0.36部)からなる滴下用モノマー混合物を滴下ロートに入れ、よく混合した。窒素ガスを20ml/分で流通させながら、フラスコの内温を85℃まで上昇させ、重合開始剤であるナイパーBMT−K40(0.48部)をフラスコに投入し、重合反応を開始させた。
重合開始剤の投入から10分後に、滴下ロートに入れた滴下用モノマー混合物の滴下を開始した。滴下用モノマー混合物は、90分かけて、均等に滴下した。滴下終了後、酢酸エチル(74.6部)をフラスコに投入した。ABN−E(0.6部)と酢酸エチル(30部)とを混合してブースター溶液を調整し、滴下終了後90分後から30分毎に4回に分けて投入した後、5.3時間熟成した。
反応終了後、不揮発分が約49%になるように酢酸エチルで、反応液を希釈し、粘着剤Aを得た。粘着剤Aを57.9部、近赤外線吸収色素溶液1を1.4部、有機カチオン塩溶液(2)を9.4部、メチルエチルケトン21.3部を混合し、塗料固形分30%の近赤外線吸収性組成物6(固形分比:バインダー/色素/有機カチオン塩=100/2/3.3)を得た。
得られた近赤外線吸収性組成物をアプリケーターで易接着処理PETフィルム(東洋紡績社製 コスモシャインA4300)上に乾燥後の膜厚が20μmとなるように塗工し150℃の熱風乾燥器中で3分間乾燥させた。得られた塗工面をコスモシャインA4300で覆い、近赤外線吸収材7を得た。これを5cm×5cmに切り出し、試験片とした。この試験片について、可視−近赤外スペクトル及び色差の測定を行い、近赤外線吸収能を評価した。測定にはUV−3700(島津製作所製)を使用した。
実施例9〜11
近赤外線吸収溶液、有機カチオン塩溶液をそれぞれを表2のように使用すること以外は、実施例7と同様にして近赤外線吸収材9〜11を作成し、試験片を切り出して、同様の評価を行った。図5及び6に、それぞれ実施例11で得られた初期及び耐久性試験5日後の可視−近赤外線吸収スペクトルを示す。
近赤外線吸収溶液、有機カチオン塩溶液をそれぞれを表2のように使用すること以外は、実施例7と同様にして近赤外線吸収材9〜11を作成し、試験片を切り出して、同様の評価を行った。図5及び6に、それぞれ実施例11で得られた初期及び耐久性試験5日後の可視−近赤外線吸収スペクトルを示す。
比較例1
有機カチオン塩溶液を添加しないこと以外は実施例1と同様にして近赤外線吸収材12を作成し、試験片を切り出して、同様の評価を行った。
有機カチオン塩溶液を添加しないこと以外は実施例1と同様にして近赤外線吸収材12を作成し、試験片を切り出して、同様の評価を行った。
比較例2
有機カチオン塩溶液を添加しないこと以外は実施例4と同様にして近赤外線吸収材13を作成し、試験片を切り出して、同様の評価を行った。
有機カチオン塩溶液を添加しないこと以外は実施例4と同様にして近赤外線吸収材13を作成し、試験片を切り出して、同様の評価を行った。
比較例3
有機カチオン塩溶液を添加しないこと以外は実施例6と同様にして近赤外線吸収材14を作成し、試験片を切り出して、同様の評価を行った。
有機カチオン塩溶液を添加しないこと以外は実施例6と同様にして近赤外線吸収材14を作成し、試験片を切り出して、同様の評価を行った。
比較例4
有機カチオン塩溶液を添加しないこと以外は実施例7と同様にして近赤外線吸収材15を作成し、試験片を切り出して、同様の評価を行った。
有機カチオン塩溶液を添加しないこと以外は実施例7と同様にして近赤外線吸収材15を作成し、試験片を切り出して、同様の評価を行った。
比較例5
近赤外線吸収色素溶液5を使用し、有機カチオン塩溶液を添加しないこと以外は実施例6と同様にして近赤外線吸収材16を作成し、試験片を切り出して、同様の評価を行った。
近赤外線吸収色素溶液5を使用し、有機カチオン塩溶液を添加しないこと以外は実施例6と同様にして近赤外線吸収材16を作成し、試験片を切り出して、同様の評価を行った。
比較例6
粘着剤A59.5部、近赤外線吸収色素溶液5を14.7部、メチルエチルケトン25.0部混合し、塗料固形分30%の近赤外線吸収性組成物17を得た。実施例8と同様にして近赤外線吸収材17を作成し、試験片を切り出して、同様の評価を行った。
図7〜11に、比較例1〜4及び6で得られた初期の可視−近赤外線吸収スペクトルを示す。
粘着剤A59.5部、近赤外線吸収色素溶液5を14.7部、メチルエチルケトン25.0部混合し、塗料固形分30%の近赤外線吸収性組成物17を得た。実施例8と同様にして近赤外線吸収材17を作成し、試験片を切り出して、同様の評価を行った。
図7〜11に、比較例1〜4及び6で得られた初期の可視−近赤外線吸収スペクトルを示す。
実施例及び比較例で得た試験片について、以下のようにして、吸収波長領域の拡張割合及び耐久性を評価した。結果を表2に示す。
<拡張割合>
吸収波長領域の拡張割合は、上述した計算式に基づいて計算した。
<耐久性>
試験体を100℃で120時間オーブンに静置し、試験前後での可視−近赤外スペクトルと色差(C光源2°視野でのΔb*)を測定した。測定にはUV−3700(島津製作所製)を使用した。なお、耐久性試験後の透過率、色差の変化は小さいほど良く、好ましくはΔb*<3である。
<拡張割合>
吸収波長領域の拡張割合は、上述した計算式に基づいて計算した。
<耐久性>
試験体を100℃で120時間オーブンに静置し、試験前後での可視−近赤外スペクトルと色差(C光源2°視野でのΔb*)を測定した。測定にはUV−3700(島津製作所製)を使用した。なお、耐久性試験後の透過率、色差の変化は小さいほど良く、好ましくはΔb*<3である。
実施例1〜11の800−1000nmの透過率の最大値と最小値の差は、4.5〜19.6の範囲内にあり、一方、有機カチオン塩溶液を添加していない比較例1〜6の800−1000nmの透過率の最大値と最小値の差は、比較例5を除いて、40.2〜66.9の範囲内にある。このことから、近赤外線吸収性組成物に有機カチオン塩を添加すると、近赤外線吸収色素の吸収波長領域(800−1000nm)を拡張する効果を有することを確認することができた。
また、本発明の近赤外線吸収組成物は、粘着剤を含む近赤外線吸収組成物であっても吸収波長領域を拡張する効果の耐久性が高いことがわかる。通常、色素の耐久性は樹脂のTgに依存するため、樹脂に粘着剤を用いた比較例6は初期(耐久性試験前)からジイモニウム色素が劣化してしまい、長波長側の近赤外線を充分には吸収できないのに対し、実施例8では耐久性試験を行った後でも充分に近赤外線を吸収しており、また色の変化(Δb*)も小さいことがわかる。
また、本発明の近赤外線吸収組成物は、粘着剤を含む近赤外線吸収組成物であっても吸収波長領域を拡張する効果の耐久性が高いことがわかる。通常、色素の耐久性は樹脂のTgに依存するため、樹脂に粘着剤を用いた比較例6は初期(耐久性試験前)からジイモニウム色素が劣化してしまい、長波長側の近赤外線を充分には吸収できないのに対し、実施例8では耐久性試験を行った後でも充分に近赤外線を吸収しており、また色の変化(Δb*)も小さいことがわかる。
表2の結果より、本発明の構成のように有機カチオン塩等の近赤外線吸収色素の吸収波長領域拡張領域を拡張する化合物を含む近赤外線吸収性組成物は、近赤外線吸収波長色素の吸収波長領域を拡張するのみならず、優れた耐久性を有することを確認することができた。
本発明の近赤外線吸収性組成物及びこれから構成される近赤外線吸収材は、近赤外線吸収能と可視領域の透明性が高く、耐熱性、耐湿熱性に優れることから、薄型ディスプレー用の光学フィルター、光半導体素子用光学フィルターとして有用である。また、光情報記録材料としても使用することができる。
Claims (11)
- 近赤外線吸収色素を含む近赤外線吸収性組成物であって、
該近赤外線吸収性組成物は、近赤外線吸収色素の吸収波長領域を拡張する化合物を含むことを特徴とする近赤外線吸収性組成物。 - 前記吸収波長領域拡張化合物は、近赤外線吸収色素の吸収波長領域を5%以上拡張する化合物であることを特徴とする請求項1記載の近赤外線吸収性組成物。
- 前記吸収波長領域拡張化合物は、イオン性化合物であることを特徴とする請求項1又は2記載の近赤外線吸収性組成物。
- 前記吸収波長領域拡張化合物は、ホウ酸イオンを有する塩であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の近赤外線吸収性組成物。
- 前記吸収波長領域拡張化合物は、有機カチオンを有する塩であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の近赤外線吸収性組成物。
- 近赤外線吸収色素と有機カチオンを有する塩とを含んで構成されることを特徴とする近赤外線吸収性組成物。
- 前記有機カチオンは、有機アンモニウム、ピリジニウム、アニリニウム、イミダソリウム、キノリニウム、ピロリジニウム及びカルベニウムからなる群より選択されるカチオンであることを特徴とする請求項5又は6記載の近赤外線吸収性組成物。
- 前記有機カチオンは、電子吸引性基を有することを特徴とする請求項5〜7のいずれかに記載の近赤外線吸収性組成物。
- 前記近赤外線吸収性組成物は、樹脂を含むことを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の近赤外線吸収性組成物。
- 請求項1〜9のいずれかに記載の近赤外線吸収性組成物によって構成されることを特徴とする近赤外線吸収材。
- 請求項10記載の近赤外線吸収材を用いてなることを特徴とする薄型ディスプレー用光学フィルター。
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WO2008072537A1 (ja) * | 2006-12-15 | 2008-06-19 | Adeka Corporation | 光学フィルター |
JP2012507058A (ja) * | 2008-10-28 | 2012-03-22 | オプトドット コーポレイション | 結晶性赤外線反射フィルム |
CN112601763A (zh) * | 2018-09-20 | 2021-04-02 | 富士胶片株式会社 | 固化性组合物、固化膜、红外线透射滤波器、层叠体、固体摄像元件、传感器及图案形成方法 |
US10975250B2 (en) | 2014-09-01 | 2021-04-13 | Fujifilm Corporation | Infrared shielding composition, infrared cut filter, and solid-state imaging device |
-
2006
- 2006-11-20 JP JP2006312940A patent/JP2007279676A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008072537A1 (ja) * | 2006-12-15 | 2008-06-19 | Adeka Corporation | 光学フィルター |
JP5020258B2 (ja) * | 2006-12-15 | 2012-09-05 | 株式会社Adeka | 光学フィルター |
US8337728B2 (en) | 2006-12-15 | 2012-12-25 | Adeka Corporation | Method for producing an optical filter |
JP2012507058A (ja) * | 2008-10-28 | 2012-03-22 | オプトドット コーポレイション | 結晶性赤外線反射フィルム |
US10975250B2 (en) | 2014-09-01 | 2021-04-13 | Fujifilm Corporation | Infrared shielding composition, infrared cut filter, and solid-state imaging device |
CN112601763A (zh) * | 2018-09-20 | 2021-04-02 | 富士胶片株式会社 | 固化性组合物、固化膜、红外线透射滤波器、层叠体、固体摄像元件、传感器及图案形成方法 |
JPWO2020059509A1 (ja) * | 2018-09-20 | 2021-08-30 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、硬化膜、赤外線透過フィルタ、積層体、固体撮像素子、センサ、及び、パターン形成方法 |
JP7114724B2 (ja) | 2018-09-20 | 2022-08-08 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、硬化膜、赤外線透過フィルタ、積層体、固体撮像素子、センサ、及び、パターン形成方法 |
CN112601763B (zh) * | 2018-09-20 | 2024-03-19 | 富士胶片株式会社 | 固化性组合物、固化膜、红外线透射滤波器、层叠体、固体摄像元件、传感器及图案形成方法 |
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