JP2007279459A - 屈折率制御薄膜 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】少なくとも天井温度が20℃より低い熱分解性ポリマーと軟化温度が60℃より高いマトリックスポリマーとを含むことを特徴とする屈折率制御薄膜。
【選択図】なし
Description
(1)少なくとも天井温度が20℃より低い熱分解性ポリマーと軟化温度が60℃より高いマトリックスポリマーとを含むことを特徴とする屈折率制御薄膜。
(2)さらに微粒子を含むことを特徴とする上記(1)記載の屈折率制御薄膜。
(3)微粒子が中空シリカ微粒子であることを特徴とする上記(2)記載の屈折率制御薄膜。
(4)微粒子が導電性微粒子であることを特徴とする上記(2)記載の屈折率制御薄膜。
(5)熱分解性ポリマーがポリオレフィンスルホンであることを特徴とする上記(1)〜(4)いずれかに記載の屈折率制御薄膜。
(6)熱分解性ポリマーがポリアルデヒドであることを特徴とする上記(1)〜(4)いずれかに記載の屈折率制御薄膜。
(7)さらに光酸発生剤を含むことを特徴とす上記(1)〜(6)いずれかに記載の屈折率制御膜。
(8)上記(1)〜(7)いずれかに記載の屈折率制御薄膜を用いて、屈折率制御薄膜を熱分解性ポリマーの天井温度よりも高く、且つ、マトリックスポリマーの軟化温度よりも低い温度で加熱する工程を含むことを特徴とする屈折率制御薄膜の低屈折率化方法。
(9)上記屈折率制御薄膜を熱分解性ポリマーの天井温度よりも高く、且つ、マトリックスポリマーの軟化温度よりも低い温度で加熱する工程の前に、及び/又は、その工程の中で、電磁波、及び/又は、電子線を照射することを特徴とする上記(8)記載の屈折率制御薄膜の低屈折率化方法。
(10)電磁波、及び/又は、電子線を照射する部分と照射しない部分とを設けることで、屈折率の高低パターンを導入することを特徴とする上記(9)記載の屈折率制御薄膜の低屈折率化方法。
(11)上記(8)〜(10)いずれかに記載の方法により得られる低屈折率薄膜。
(12)透明な光学基板上に、少なくとも上記(1)〜(7)いずれかに記載の屈折率制御薄膜が形成されて構成されることを特徴とする光学、及び/又は記録部材。
(13)透明な光学基板上に、少なくとも上記(11)記載の低屈折率薄膜層が形成されて構成されることを特徴とする光学、及び/又は記録部材。
である。
初めに本発明の屈折率制御薄膜を構成する成分について説明する。
これらのポリマーは公知の方法によって重合させて得られる。
まず、屈折率制御薄膜用塗布組成物の調製について説明する。
本発明のマトリックスポリマーは予め重合したものを添加しても良いが、モノマーの状態で添加して本発明の屈折率制御薄膜を成膜する際に重合させることが好ましい実施形態である。
次に、本発明の屈折率制御薄膜の成膜法について説明する。
次に本発明の低屈折率化方法について説明する。
本発明の屈折率制御薄膜及び低屈折率薄膜は、光学部材や記録部材として利用される。
また、本発明の低屈折率薄膜は独立気泡による空隙を有するため、層間絶縁膜や電気絶縁体、及び断熱材や緩衝材としても有用である。
(1)屈折率測定
FE−3000型反射分光計(大塚電子株式会社)を用いて、波長250〜800nmの範囲での反射スペクトルを測定し、該装置付属のソフトウェア「FE−Analysis」を用いて低屈折率層の屈折率を計算した。
表面特性試験機(株式会社井元製作所)を用いた。直径15mmのステンレス柱の片端にスチールウール(ボンスター(登録商標)#0000、日本スチールウール株式会社)を取り付け、50gの荷重をかけながら反射防止膜上を10回往復させた後、摩擦痕を目視で観察した。傷がほとんどみられなければ○、傷が多数みられれば×とした。
表面保護層上に黒色油性ペンで印を付け、すぐに紙ワイパーで拭き取りを行った。インクを完全に拭き取ることができれば○、拭き取れなければ×とした。
MTSシステムズ コープレーション社製ナノインデンター DCMで測定する。測定方法は、バーコビッチ型のダイヤモンド製圧子を試料に押し込み、一定荷重に対する応力を、試料温度を変えて測定することで、応力−温度曲線の変曲点を求め、軟化温度とした。
3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(商品名サイラエースS710、チッソ株式会社)1.0g、鎖状シリカ微粒子の20質量%MEK溶液(商品名スノーテックス(登録商標)MEK−OUP、日産化学株式会社)5.0g、0.1N−硝酸水溶液0.5g、エタノール10gを室温で1日攪拌した。
ポリアセトアルデヒドの代わりにポリ(2−メチル−1−ペンテンスルホン)を用い、低屈折率化処理する際に電子線照射装置を用いて約50kVの加速電圧で電子線を照射した後、加熱処理を行った以外は、実施例1と同様に実施した。得られた屈折率制御薄膜の屈折率は1.54で、光学的に透明であった。また得られた低屈折率薄膜の屈折率は1.32であり、光学的に透明であり、耐擦傷性と防汚性は○であった。
実施例1と同様に軟化温度測定を行った。低屈折率薄膜の軟化温度は150℃以上であった。
電子線を照射する際に薄膜上にパターン板をおいて、電子線が照射される場所と照射しない場所を設けた以外は実施例3と同様に実施した。得られた低屈折率薄膜には電子線照射パターンに応じて、屈折率高低パターンが形成された。また、光学的に透明であり、耐擦傷性と防汚性は○であった。
実施例1と同様に軟化温度測定を行った。低屈折率薄膜の軟化温度は150℃以上であった。
実施例1において、さらにトリフェニルスルホニウムのトリフルオロメタンスルホン酸塩0.6gを添加して屈折率制御薄膜を成膜した以外には同様に実施した。得られた屈折率制御薄膜の屈折率は1.52で、光学的に透明であった。また得られた低屈折率薄膜の屈折率は1.32であり、光学的に透明であり、耐擦傷性と防汚性は○であった。
実施例1と同様に軟化温度測定を行った。低屈折率薄膜の軟化温度は150℃以上であった。
ポリアセトアルデヒドの代わりにポリテトラヒドロフラン(Tc=80℃)を用いた以外は実施例1と同様に実施した。しかし、低屈折率化処理によって屈折率が下がらなかった。
特許2913715号の実施例に従い、モノメチルトリエトキシシランを17g秤量し、これにエタノール14g、及び1−ブタノール22g添加混合し、均一溶液とした。この溶液に水を11g、燐酸を0.5g加え、さらに1時間撹拌した。この溶液に14gのエタノール、22gのブタノール及び3.3gのポリエチレングリコールを加えさらに10分間の撹拌を行ったものを塗布溶液とした。この塗布溶液中へ、厚さ1.1mm、直径50mmの円板状の石英ガラス板を浸漬した後ゆっくりと引き上げて、フロートガラス板上に塗布膜を形成した。その後この塗布膜をつけたガラス板を室温において5分間乾燥し、350℃に保ったオーブン中で15分間熱処理を行った。この熱処理により、塗布膜中に分散していたポリエチレングリコールは完全に分解、燃焼してしまい、塗布膜は透明な700nmの厚みの膜となった。得られたサンプルの分光反射特性を測定したところ350〜850nmの範囲で分光反射率が0.7%以下となる優れた反射防止特性を示した。しかしながら、表面に開孔が多いためか、耐擦傷性及び防汚性は共に×であった。
Claims (13)
- 少なくとも天井温度が20℃より低い熱分解性ポリマーと軟化温度が60℃より高いマトリックスポリマーとを含むことを特徴とする屈折率制御薄膜。
- さらに微粒子を含むことを特徴とする請求項1記載の屈折率制御薄膜。
- 微粒子が中空シリカ微粒子であることを特徴とする請求項2記載の屈折率制御薄膜。
- 微粒子が導電性微粒子であることを特徴とする請求項2記載の屈折率制御薄膜。
- 熱分解性ポリマーがポリオレフィンスルホンであることを特徴とする請求項1〜4いずれかに記載の屈折率制御薄膜。
- 熱分解性ポリマーがポリアルデヒドであることを特徴とする請求項1〜4いずれかに記載の屈折率制御薄膜。
- さらに光酸発生剤を含むことを特徴とする請求項1〜6いずれかに記載の屈折率制御薄膜。
- 請求項1〜7いずれかに記載の屈折率制御薄膜を用いて、屈折率制御薄膜を熱分解性ポリマーの天井温度よりも高く、且つ、マトリックスポリマーの軟化温度よりも低い温度で加熱する工程を含むことを特徴とする屈折率制御薄膜の低屈折率化方法。
- 前記屈折率制御薄膜を熱分解性ポリマーの天井温度よりも高く、且つ、マトリックスポリマーの軟化温度よりも低い温度で加熱する工程の前に、及び/又は、その工程の中で、電磁波、及び/又は、電子線を照射することを特徴とする請求項8記載の屈折率制御薄膜の低屈折率化方法。
- 電磁波、及び/又は、電子線を照射する部分と照射しない部分とを設けることで、屈折率の高低パターンを導入することを特徴とする請求項9記載の屈折率制御薄膜の低屈折率化方法。
- 請求項8〜10いずれかに記載の方法により得られる低屈折率薄膜。
- 透明な光学基板上に、少なくとも請求項1〜7いずれかに記載の屈折率制御薄膜が形成されて構成されることを特徴とする光学、及び/又は記録部材。
- 透明な光学基板上に、少なくとも請求項11記載の低屈折率薄膜層が形成されて構成されることを特徴とする光学、及び/又は記録部材。
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008078185A2 (en) * | 2006-12-20 | 2008-07-03 | Az Electronic Materials Usa Corp. | Antireflective coating compositions |
US7550249B2 (en) | 2006-03-10 | 2009-06-23 | Az Electronic Materials Usa Corp. | Base soluble polymers for photoresist compositions |
US8026040B2 (en) | 2007-02-20 | 2011-09-27 | Az Electronic Materials Usa Corp. | Silicone coating composition |
US8524441B2 (en) | 2007-02-27 | 2013-09-03 | Az Electronic Materials Usa Corp. | Silicon-based antireflective coating compositions |
WO2015064380A1 (ja) | 2013-10-29 | 2015-05-07 | 学校法人北里研究所 | 細胞または組織のガラス化凍結保存用治具 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6311932A (ja) * | 1986-04-11 | 1988-01-19 | ジエイムズ・シ−・ダブリユ・チエン | 自己現像する放射レジスト |
JPH04125562A (ja) * | 1990-09-03 | 1992-04-27 | Ind Technol Res Inst | エッチング耐性パターン形成方法 |
JPH10508773A (ja) * | 1994-11-16 | 1998-09-02 | ハーキュリーズ インコーポレイテッド | 低い天井温度を有するポリマーからなる医療用デバイス |
JP2001210142A (ja) * | 1999-10-01 | 2001-08-03 | Shipley Co Llc | 多孔性物質 |
JP2002037912A (ja) * | 2000-07-14 | 2002-02-06 | Shipley Co Llc | 多孔性物質 |
JP2003131001A (ja) * | 2001-05-25 | 2003-05-08 | Shipley Co Llc | 多孔性光学物質 |
JP2006018233A (ja) * | 2004-05-31 | 2006-01-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光学フイルム、偏光板、及びそれを用いた画像表示装置 |
JP2006049296A (ja) * | 2004-07-09 | 2006-02-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 中空導電性微粒子、光学機能フィルム、反射防止フィルム、その製造方法、偏光板、及び画像表示装置 |
-
2006
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Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6311932A (ja) * | 1986-04-11 | 1988-01-19 | ジエイムズ・シ−・ダブリユ・チエン | 自己現像する放射レジスト |
JPH04125562A (ja) * | 1990-09-03 | 1992-04-27 | Ind Technol Res Inst | エッチング耐性パターン形成方法 |
JPH10508773A (ja) * | 1994-11-16 | 1998-09-02 | ハーキュリーズ インコーポレイテッド | 低い天井温度を有するポリマーからなる医療用デバイス |
JP2001210142A (ja) * | 1999-10-01 | 2001-08-03 | Shipley Co Llc | 多孔性物質 |
JP2002037912A (ja) * | 2000-07-14 | 2002-02-06 | Shipley Co Llc | 多孔性物質 |
JP2003131001A (ja) * | 2001-05-25 | 2003-05-08 | Shipley Co Llc | 多孔性光学物質 |
JP2006018233A (ja) * | 2004-05-31 | 2006-01-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光学フイルム、偏光板、及びそれを用いた画像表示装置 |
JP2006049296A (ja) * | 2004-07-09 | 2006-02-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 中空導電性微粒子、光学機能フィルム、反射防止フィルム、その製造方法、偏光板、及び画像表示装置 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
CSNC200800705039; 高分子大辞典 MARUZEN , 19940920, 第1250ページ, 鈴木 信夫 深山 恒雄 丸善株式会社 * |
JPN6012028083; 高分子大辞典 MARUZEN , 19940920, 第1250ページ, 鈴木 信夫 深山 恒雄 丸善株式会社 * |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7550249B2 (en) | 2006-03-10 | 2009-06-23 | Az Electronic Materials Usa Corp. | Base soluble polymers for photoresist compositions |
WO2008078185A2 (en) * | 2006-12-20 | 2008-07-03 | Az Electronic Materials Usa Corp. | Antireflective coating compositions |
WO2008078185A3 (en) * | 2006-12-20 | 2008-08-28 | Az Electronic Coating Composit | Antireflective coating compositions |
JP2010513650A (ja) * | 2006-12-20 | 2010-04-30 | エイゼット・エレクトロニック・マテリアルズ・ユーエスエイ・コーポレイション | 反射防止膜組成物 |
US7759046B2 (en) | 2006-12-20 | 2010-07-20 | Az Electronic Materials Usa Corp. | Antireflective coating compositions |
US8026040B2 (en) | 2007-02-20 | 2011-09-27 | Az Electronic Materials Usa Corp. | Silicone coating composition |
US8524441B2 (en) | 2007-02-27 | 2013-09-03 | Az Electronic Materials Usa Corp. | Silicon-based antireflective coating compositions |
WO2015064380A1 (ja) | 2013-10-29 | 2015-05-07 | 学校法人北里研究所 | 細胞または組織のガラス化凍結保存用治具 |
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