JP2007273893A - 回路基板および電子装置、その製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】回路基板は、複数の樹脂絶縁膜の積層よりなり、表面および内部に複数の配線層を有し、前記複数の樹脂絶縁膜の一つは、前記複数の配線層の一つを構成する第1の導体パターン上に、前記絶縁膜の下主面が前記第1の導体パターンの表面に接するように形成されており、前記樹脂絶縁膜は、前記下主面において前記第1の導体パターンを露出する、斜面で画成された開口部を含み、前記開口部の底部には、前記第1の導体パターンの表面に接して、セラミック高誘電体膜が形成されており、前記樹脂絶縁膜上には、前記複数の配線層の一つを構成する第2の導体パターンが、前記開口部の斜面を覆い、前記セラミック高誘電体膜の表面にコンタクトして形成されている。
【選択図】図4
Description
[第1の実施形態]
図3は、本発明の第1の実施形態による電子装置40の構成を示す。
[第2の実施形態]
図6は、本発明の第2の実施形態による電子装置60の構成を示す。ただし図中、先に説明した部分に対応する部分には同一の参照符号を付し、説明を省略する。
21 処理容器
21A ステージ
21B ノズル
21a,21b ステージ駆動機構
22,22A 真空ポンプ
23 原料容器
23A 振動台
24 高圧ガス源
40,60 電子装置
41 回路基板
41A コア
41B,41C,41BB,61B,61C 樹脂ビルドアップ層
41a,41b,41c,61b,61c Cu配線パターン
41d,61d 斜面
41t スルービア
43A〜43D 半導体素子
51,71 下部電極
52,72 セラミック公有で体膜
53,73 上部電極
411B,411C 無電解メッキ膜
412B,412C メッキレジストパターン
c1〜c6 開口部
C1〜C6,D1〜D6 キャパシタ
Claims (8)
- 複数の樹脂絶縁膜の積層よりなり、表面および内部に複数の配線層を有する回路基板であって、
前記複数の樹脂絶縁膜の一つは、前記複数の配線層の一つを構成する第1の導体パターン上に、前記絶縁膜の下主面が前記第1の導体パターンの表面に接するように形成されており、
前記樹脂絶縁膜は、前記下主面において前記第1の導体パターンを露出する、斜面で画成された開口部を含み、
前記開口部の底部には、前記第1の導体パターンの表面に接して、セラミック高誘電体膜が形成されており、
前記樹脂絶縁膜上には、前記複数の配線層の一つを構成する第2の導体パターンが、前記開口部の斜面を覆い、前記セラミック高誘電体膜の表面にコンタクトして形成されていることを特徴とする回路基板。 - 前記第2の導体パターンは、前記回路基板の表面に形成されており、前記第2の導体パターンには、半導体素子のバンプ電極が接合されることを特徴とする請求項1記載の回路基板。
- 回路基板と、
前記回路基板上に実装された半導体素子と、
よりなる電子装置であって、
前記回路基板は、複数の樹脂絶縁膜の積層よりなり、表面および内部に複数の配線層を有し、
前記複数の樹脂絶縁膜の一つは、前記複数の配線層の一つを構成する第1の導体パターン上に、前記絶縁膜の下主面が前記第1の導体パターンの表面に接するように形成されており、
前記樹脂絶縁膜は、前記下主面において前記第1の導体パターンを露出する、斜面で画成された開口部を含み、
前記開口部の底部には、前記第1の導体パターンの表面に接して、セラミック高誘電体膜が形成されており、
前記樹脂絶縁膜上には、前記複数の配線層の一つを構成する第2の導体パターンが、前記開口部の斜面を覆い、前記セラミック高誘電体膜の表面にコンタクトして形成されていることを特徴とする電子装置。 - 複数の樹脂絶縁膜の積層よりなり、表面および内部に複数の配線層を有する回路基板であって、
前記複数の樹脂絶縁膜の一つを構成する第1の樹脂絶縁膜は、前記複数の配線層の一つを構成する第1の導体パターン上に、前記絶縁膜の下主面が前記第1の導体パターンの表面に接するように形成されており、
前記第1の樹脂絶縁膜は、前記下主面において前記第1の導体パターンを露出する、斜面で画成された第1の開口部を含み、
前記第1の樹脂絶縁膜上には、前記第1の開口部の底部において前記第1の導体パターンの表面に接し、前記斜面形状に整合する形状を有し、前記第1の開口部に対応した凹面を形成する下部電極パターンが形成され、
前記第1の樹脂絶縁膜上には、前記下部電極パターンを覆うように、前記複数の樹脂絶縁膜の一つを構成する第2の樹脂絶縁膜が形成され、
前記第2の樹脂絶縁膜には、前記第1の開口部に対応して形成され前記下部電極パターンを露出する第2の開口部が形成され、
前記第2の開口部においては、前記下部電極パターンが形成する前記凹面に、前記凹面の形状に整合して、前記凹面の形状に対応する凹面を有するセラミック高誘電体膜が形成され、
さらに前記第2の樹脂絶縁膜上には、前記複数の配線層の一つを構成する第2の導体パターンが、前記第2の開口部において、前記セラミック高誘電体膜の表面にコンタクトして形成されていることを特徴とする回路基板。 - 前記第2の導体パターンは、前記回路基板の表面に形成されており、前記第2の導体パターンには、半導体素子のバンプ電極が接合されることを特徴とする請求項4記載の回路基板。
- 回路基板と、
前記回路基板上に実装された半導体素子と、
よりなる電子装置であって、
前記回路基板は、複数の樹脂絶縁膜の積層よりなり、表面および内部に複数の配線層を有し、
前記複数の樹脂絶縁膜の一つを構成する第1の樹脂絶縁膜は、前記複数の配線層の一つを構成する第1の導体パターン上に、前記絶縁膜の下主面が前記第1の導体パターンの表面に接するように形成されており、
前記第1の樹脂絶縁膜は、前記下主面において前記第1の導体パターンを露出する、斜面で画成された第1の開口部を含み、
前記第1の樹脂絶縁膜上には、前記第1の開口部の底部において前記第1の導体パターンの表面に接し、前記斜面形状に整合する形状を有し、前記第1の開口部に対応した凹面を形成する下部電極パターンが形成され、
前記第1の樹脂絶縁膜上には、前記下部電極パターンを覆うように、前記複数の樹脂絶縁膜の一つを構成する第2の樹脂絶縁膜が形成され、
前記第2の樹脂絶縁膜には、前記第1の開口部に対応して形成され前記下部電極パターンを露出する第2の開口部が形成され、
前記第2の開口部においては、前記下部電極パターンが形成する前記凹面に、前記凹面の形状に整合して、前記凹面の形状に対応する凹面を有するセラミック高誘電体膜が形成され、
さらに前記第2の樹脂絶縁膜上には、前記複数の配線層の一つを構成する第2の導体パターンが、前記第2の開口部において、前記セラミック高誘電体膜の表面にコンタクトして形成されていることを特徴とする電子装置。 - 複数の樹脂絶縁膜の積層よりなり、表面および内部に複数の配線層を有する回路基板の製造方法であって、
前記複数の樹脂絶縁膜の一つは、前記複数の配線層の一つを構成する第1の導体パターン上に、前記絶縁膜の下主面が前記第1の導体パターンの表面に接するように形成されており、
前記絶縁膜中に、前記第1の導体パターンが露出されるように、開口部をレーザ加工により形成する工程と、
前記開口部の底に、前記第1の導体パターンに接して、セラミック高誘電体膜を、エアロゾルデポジション法により、選択的に形成する工程と、
前記絶縁膜上に、第2の導電パターンを、前記開口部の底において前記高誘電体セラミック膜に接するように形成する工程と、
を含むことを特徴とする回路基板の製造方法。 - 複数の樹脂絶縁膜の積層よりなり、表面および内部に複数の配線層を有する回路基板の製造方法であって、
前記複数の樹脂絶縁膜の一つを構成する第1の絶縁膜を、前記複数の配線層の一つを構成する第1の導体パターン上に、前記絶縁膜の下主面が前記第1の導体パターンの表面に接するように形成する工程と、
前記第1の絶縁膜に、前記第1の導体パターンを露出する第1の開口部を、レーザ加工により形成する工程と、
前記第1の絶縁膜上に、前記第1の開口部の側壁面を覆い、前記開口部の底において前記第1の導体パターンと接するように、下部電極パターンを形成する工程と、
前記第1の絶縁膜上に、前記下部電極パターンを覆うように、前記複数の樹脂絶縁膜の一つを構成する第2の絶縁膜を形成する工程と、
前記第2の絶縁膜中に、前記第1の開口部に対応して、前記下部電極パターンを露出する第2の開口部を、レーザ加工により形成する工程と、
前記露出された下部電極パターン上に、セラミック高誘電体膜を、エアロゾルデポジション法により、選択的に形成する工程と、
前記第2の絶縁膜上に、前記第2の開口部において前記セラミック高誘電体膜を覆うように、上部電極パターンを形成する工程と、
よりなることを特徴とする回路基板の製造方法。
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