JP2007271101A - 高周波加熱装置 - Google Patents

Abstract

【課題】結露による残水を安価かつ簡単な構成で処理できる高周波加熱装置の提供。
【解決手段】被加熱物を収納する加熱庫１と、前記加熱庫を開閉する扉６と、前記被加熱物を高周波電波によって加熱する高周波発生手段１４と、前記被加熱物を加熱する電熱手段２と、前記被加熱物を蒸気によって加熱する蒸気発生手段８とを備えた高周波加熱装置であって、前記蒸気発生手段８は加熱庫内に設けると共に、前記蒸気発生手段から前記扉で開閉される加熱庫の扉部側にかけて排水溝７aを設け、この排水溝の終端排水孔７bに対応させて水受けトレー５を設けた構成としてあり、加熱庫内で結露した水蒸気の残水が滞留することがなくなり、ドア開時装置本体外にこぼれ出すという、製品の品位の低下を防ぎ、被加熱物の水蒸気による加熱後のふき取り作業の低減が図れ、又、その水の浸入により製品の誤動作防止及び、感電事故から確実に防止できる。
【選択図】図２

Description

本発明は、高周波加熱と蒸気加熱とを組み合わせて被加熱物の加熱処理を行う高周波加熱装置の蒸気による残水処理に関するものである。

従来、この種の高周波加熱装置は、図８に示すように給水ノズル５１から出た水が加熱庫５２内の蒸発皿５３により加熱されて水蒸気となり、この水蒸気を含む空気が加熱庫５２内で結露し、加熱庫５２内において残水Ｆとなる。この残水は加熱庫５２内に滞留し、扉を開いた時に、セラミック製皿受け台５４から流れ出して床に滴下するため、これを防止する着脱可能な水受けトレーを扉の下に備えた構成が知られている。これにより、装置本体外にこぼれ出すという、製品の品位の低下を防いでいる。（例えば、特許文献１参照）。
特開２００３−３６４２５８号公報

しかしながら、前記従来の構成では、蒸気による加熱量を増す(蒸気量を増やす)と、加熱庫内に結露する量、すなわち加熱庫内の残水量Ｆがかなり多くなって、加熱庫内がベタベタになり、毎回加熱庫内のふき取り作業を必要とするうえ、水受け用仕切り部からの滴下が発生して、装置本体外にこぼれ出すという、懸念があった。すなわち、製品の品位の低下を防ぎ、水の浸入による製品の誤動作防止及び、感電事故からの防止等の安全性を向上させる事ができなくなる。

本発明は、前記従来の課題を解決するもので、扉を閉めたまま加熱庫内で結露した残水Ｆを排水できるようにして、加熱庫内に滞留する残水量を低減し、毎回のふき取作業の低減を図り、装置本体外にこぼれ出すという、製品の品位の低下を防ぎ、その水の浸入により製品の誤動作防止及び、感電事故から防止することを目的とした高周波加熱装置を提供することを目的とする。

前記従来の課題を解決するために、本発明の高周波加熱装置は、蒸気発生手段を加熱庫内に設けると共に、前記蒸気発生手段から扉で開閉される加熱庫の扉部側にかけて排水溝を設け、この排水溝の終端排水孔に対応させて水受けトレーを設けた構成としてある。

これによって、加熱庫内で結露した水蒸気の残水が滞留することがなくなり、ドア開時装置本体外にこぼれ出すという、製品の品位の低下を防ぎ、被加熱物の水蒸気による加熱後のふき取り作業の低減が図れ、又、その水の浸入により製品の誤動作防止及び、感電事故から確実に防止できる。

本発明の高周波加熱装置によれば、加熱庫内で結露した残水を効率よく装置本体外部に安全、かつ製品の品位を下げることなく排水処理できる。又、構成的にも特殊な装置を必要とせず、現行の構成部品を一部改造することで達成できるため、コスト的にも安価に提供できる。

第１の発明は、被加熱物を収納する加熱庫と、前記加熱庫を開閉する扉と、前記被加熱
物を高周波電波によって加熱する高周波発生手段と、前記被加熱物をヒーターによって加熱する電熱手段と、前記被加熱物を蒸気によって加熱する蒸気発生手段とを備えた高周波加熱装置であって、前記蒸気発生手段は加熱庫内に設けると共に、前記蒸気発生手段から前記扉で開閉される加熱庫の扉部側にかけて排水溝を設け、この排水溝の終端排水孔に対応させて水受けトレーを設けた構成としてあり、加熱庫内で結露した水蒸気の残水が滞留することがなくなり、ドア開時装置本体外にこぼれ出すという、製品の品位の低下を防ぎ、被加熱物の水蒸気による加熱後のふき取り作業の低減が図れ、又、その水の浸入により製品の誤動作防止及び、感電事故から確実に防止できる。

第２の発明は、特に、加熱庫の皿受け台下部に電熱手段を設けると共に、当該電熱手段の輻射熱を加熱庫内へと反射する反射板を備え、この反射板を介して加熱庫内の残水を水受けトレーに案内する構成としたことにより、残水が溜まりやすい加熱庫内壁面下部の残水を効果的に排水することができ、水蒸気による結露の残水のふき取り作業の低減がより促進できるとともに、加熱調理の作業性を向上させる事ができる。

第３の発明は、加熱庫の皿受け台下部に電熱手段を設けると共に、当該電熱手段の輻射熱を加熱庫内へと反射する反射板を備え、この反射板を介して加熱庫内の残水を水受けトレーに案内する構成としたことにより、加熱庫から流出した残水も効果的に排水することができる。

第４の発明は、皿受け台の排水溝終端に排水孔を設け、この排水孔を反射板に対向させるとともに当該排水孔と対応する反射板の扉側部分に水受けトレーと対向する第２排水孔を設けた構成としてあり、加熱庫内及び過熱庫から流出した残水を合理的な構成で排水することができる。

以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。なお、この実施の形態によって本発明が限定されるものではない。

（実施の形態１）
図１は本発明の実施の形態１における高周波加熱装置の断面図、図２は同排水の流れを説明するための斜視図、図３、図４は同様の拡大斜視図、図５，図６は同様の拡大断面図、図７は拡大斜視図である。

図１〜図７において、１は加熱庫で、その内底面には被加熱物を乗せるセラミック製皿受け台７，被加熱物を加熱するヒーター２、被加熱物を加熱する高周波を拡散する回転導波管１３が取り付けられ、水蒸気を発生させる蒸発皿８、加熱庫後面壁１１，加熱庫底面壁９がそれぞれカシメにより結合してある。そして、上記皿受け台７の加熱庫内壁と対向する周縁部には前記加熱庫１を開閉する扉６に向かって下り傾斜状に延びる排水溝７aが形成してあり、その終端には図５に示すように排水孔７bが形成してある。

また、前記加熱庫１の下部には、蒸発皿８の下の蒸発皿加熱ヒーターの下に蒸発皿８と加熱庫１との結合部１２からの漏水を受けるように水受け用仕切り部４が設置され、加熱庫底面壁９に取り付けられる電熱手段としてのヒーター２の輻射熱を加熱庫に反射するヒーター用反射板３が水受け用仕切り部４からの排水を装置本体外部へと排水する排水経路の役割もかねて扉６に接触し、図５に示す如く皿受け台７の排水孔７aと対応する部分に形成した第２排水孔３aから装置本体外部に設けた水受けトレー５へと排水し水受けトレー５に貯水する構成としてある。

上記構成において、加熱庫１内で結露した残水は加熱庫内壁に沿って流下すると共に、蒸発皿７部分で結露する残水は図２、図３に示すように皿受け台７の排水溝７aに集まり
、傾斜に沿って扉側の排水溝終端へと流れる。この排水溝終端に流れた残水は図４、図５、図６に示すように排水孔７bからヒーター用反射板３へと滴下し、ヒーター用反射板３に設けた第２排水孔３aから水受けトレー５に滴下し、貯水される。

一方、蒸発皿３と加熱庫１との結合部１２から漏水が生じてもこの漏水は水受け用仕切部４を介してヒーター用反射板３へと流れ、ヒーター用反射板３の扉側部分の第２排水孔３aへと案内され、前記皿受け台７の排水孔７aからの残水と共に水受けトレー５へと滴下し貯水される。

したがって、蒸気供給の多い調理を行っても、この蒸気によって生じる残水は調理中に水受けトレーへと貯水され、内部に滞留することがなくなり、扉を開けたときに装置本体外に流出したり、加熱庫外周の機械室などへの水の浸入による製品の誤動作及び感電事故等を確実に防止できると共に、被加熱物の水蒸気による加熱後のふき取り作業の低減も図ルことができる。
図２で示すのは排水経路の説明用の斜視図を表す
始めに加熱庫１内の蒸発皿８から発生した水蒸気が結露し、加熱庫１の残水Ｆになり蒸発皿８の上で結露し残水になり蒸発皿８上面に設けた排水誘導リブ、図３によりセラミック製皿受け台に流れ出した結露水をセラミック製皿受け台の排水溝１８、図４が排水穴１９図４へ誘導し排水穴１９から排水した結露水をヒーター用反射板３の上に滴下させ、扉板６とヒーター用反射板３の間の穴から水受けトレー５へと排水し、水受けトレー５へ貯水する排水経路と、着脱可能な水受けトレーに排水を貯水することにより容易に排水処理ができる

以上のように、本発明にかかる高周波加熱装置によれば、加熱庫内で結露した残水を効率よく装置本体外部に安全、かつ製品の品位を下げることなく排水処理できるとともに、構成的にも特殊な装置を必要とせず、現行の構成部品を一部改造することで達成できるため、安価に提供できる。

本発明の実施の形態１における高周波加熱装置の断面図 同高周波加熱装置の斜視図 同高周波加熱装置の拡大斜視図 同高周波加熱装置の拡大斜視図 同高周波加熱装置の拡大断面図 同高周波加熱装置の拡大断面図 同高周波加熱装置の拡大斜視図 従来の高周波加熱装置の断面図

符号の説明

１ 加熱庫
２ ヒーター(電熱手段)
３ ヒーター用反射板
３a 第２排水孔
４ 水受け用仕切り板
５ 水受けトレー
６ 扉

７ 皿受け台
７a 排水溝
７b 排水孔
８ 蒸発皿

Claims (4)

1. 被加熱物を収納する加熱庫と、前記加熱庫を開閉する扉と、前記被加熱物を高周波電波によって加熱する高周波発生手段と、前記被加熱物をヒーターによって加熱する電熱手段と、前記被加熱物を蒸気によって加熱する蒸気発生手段とを備えた高周波加熱装置であって、前記蒸気発生手段は加熱庫内に設けると共に、前記蒸気発生手段から前記扉で開閉される加熱庫の扉部側にかけて排水溝を設け、この排水溝の終端排水孔に対応させて水受けトレーを設けた高周波加熱装置。
2. 加熱庫の内底面に皿受け台を設け、この皿受け台の少なくとも加熱庫内壁の一つと対応する部分に排水溝を設けた請求項１記載の高周波加熱装置。
3. 加熱庫の皿受け台下部に電熱手段を設けると共に、当該電熱手段の輻射熱を加熱庫内へと反射する反射板を備え、この反射板を介して加熱庫内の残水を水受けトレーに案内する請求項２記載の高周波加熱装置。
4. 皿受け台の排水溝終端に排水孔を設け、この排水孔を反射板に対向させるとともに当該排水孔と対応する反射板の扉側部分に水受けトレーと対向する第２排水孔を設けた請求項３記載の高周波加熱装置。